CN102240626A - 反作用力抵消设备及具有该设备的涂胶机 - Google Patents

Abstract

本发明是一种反作用力抵消设备及具有该设备的涂胶机。于此公开的是一种反作用力抵消设备。在该设备中，由传送系统的移动元件的运动所产生的反作用力被传递至在与支承元件的移动方向垂直的方向上移动的质量元件，并且转化为用于移动质量元件的能量以由此抵消该反作用力。因此，实现了一种反作用力系统的简单结构。即使在传送系统在与移动元件的移动方向不同的方向上移动时也可以抵消由移动元件的运动所产生的反作用力。

Description

反作用力抵消设备及具有该设备的涂胶机

技术领域

本发明涉及一种应用于传送系统、从而抵消由移动元件的运动所产生的反作用力的设备。

背景技术

诸如机器人或起重机之类的传送系统已经应用于用以制造包括液晶显示器(LCD)在内的多种平板显示器(FPD)的工艺，以传送诸如基板、排液喷嘴或喷嘴座之类的物体。

这种传送系统包括框架、支承在该框架上的支承元件、以及安装在该支承元件上并在一个方向上运动的移动元件，并且该传送系统出于预定的目的来移动该移动元件。

在传送系统的操作期间，该传送系统由因移动元件的运动所产生的反作用力而振动。由于存在反作用力所引起的振动，因此降低了工作精度。

为了减小振动，已经将反作用力抵消设备应用于传送系统。例如，在题为“反作用力传送系统”的韩国专利公开文献No.10-2005-0003426中就公开了这种设备。

但是，包括所引用的发明在内的常规反作用力抵消设备是有问题的，该问题在于，该设备与传送系统以分开的方式放置和紧固，以致将该反作用力抵消设备应用于这样一种情形是不可能的，即，应用于包括移动元件在内的传送系统在与移动元件的移动方向不同的方向上移动的情形是不可能的。

另外，常规反作用力抵消设备是有问题的，该问题在于，该设备与传送系统以分开的方式放置，从而使得构造和安装非常复杂。

发明内容

因此，已经考虑到现有技术中出现的上述问题而产生了本发明，而且本发明的目的是提供一种反作用力抵消设备，其中，由传送系统的移动元件的运动所产生的反作用力被传递至连接于该传送系统的质量元件并且转化为用于移动质量元件的能量以由此被抵消，从而简化了用于抵消由移动元件的运动所产生的反作用力的结构，并且即使在传送系统在与移动元件的移动方向不同的方向上移动时也可以抵消由移动元件的运动所产生的反作用力。

本发明的另一目的是提供一种具有如上所述构造的反作用力抵消设备的涂胶机。

为了实现上述目的，本发明提供了一种反作用力抵消设备，该设备安装于传送系统，该传送系统包括支承元件、在支承元件上移动的移动元件、以及以可滑动的方式支承该支承元件的框架，并且该设备包括质量元件，该质量元件连接于支承元件并且通过由移动元件的运动所产生的反作用力在与支承元件的移动方向垂直的方向上移动。

这里，为了将由移动元件的运动所产生并传递至支承元件的力传递至在与支承元件的移动方向垂直的方向上移动的质量元件，该设备还可以包括以可旋转的方式连接于框架的旋转元件。该旋转元件相对于旋转中心的第一端连接于支承元件，而第二端连接于质量元件。

旋转元件的旋转中心与使旋转元件和支承元件彼此相连的接触点之间的距离可以短于旋转元件的旋转中心与使旋转元件和质量元件彼此相连的接触点之间的距离。

同时，在使质量元件通过由移动元件的运动所产生的反作用力在与支承元件的移动方向垂直的方向上移动后，质量元件可以通过其自身的重量回复至其初始位置。为了使质量元件快速而精准地回复至其初始位置，该设备还可以包括复位元件，该复位元件在该质量元件在其被回复至其初始位置时所行进的方向上向质量元件提供辅助力。

另外，可以在质量元件与框架之间设置抗摩擦装置，以防止力从质量元件传递至框架，并且允许质量元件以可滑动的方式连接于框架。

为了实现上述目的，本发明提供了一种涂胶机，该涂胶机包括：涂布头单元支承件；涂布头单元，该涂布头单元以可移动的方式安装于涂布头单元支承件；头移动单元，该头移动单元包括以可滑动的方式连接于涂布头单元支承件的支承元件；和移动元件，该移动元件安装于涂布头单元，使得头移动单元在涂布头单元支承件的纵向方向上移动涂布头单元；和反作用力抵消设备，该反作用力抵消设备包括质量元件，该质量元件连接于支承元件并且通过由涂布头单元和移动元件的运动所产生的反作用力在与支承元件的移动方向垂直的方向上移动。

这里，为了将由涂布头单元和移动元件的运动所产生并传递至支承元件的力传递至在与支承元件的移动方向垂直的方向上移动的质量元件，该反作用力抵消设备还可以包括以可旋转的方式连接于涂布头单元支承件的旋转元件，该旋转元件相对于旋转中心的第一端连接于支承元件，而第二端连接于质量元件。

旋转元件的旋转中心与使旋转元件和支承元件彼此相连的接触点之间的距离可以短于旋转元件的旋转中心与使旋转元件和质量元件彼此相连的接触点之间的距离。另外，可以在质量元件与涂布头单元支承件之间设置抗摩擦装置，以防止力从质量元件传递至涂布头单元支承件，并且允许质量元件以可滑动的方式连接于涂布头单元支承件。

同时，还可以设置复位元件以帮助质量元件通过其自身的重量从移动位置回复至其初始位置。

另外，本发明提供了一种涂胶机，该涂胶机包括：支承框架，该支承框架支承其上安装有涂布头单元的涂布头单元支承件；支承件移动单元，该支承件移动单元包括以可滑动的方式连接于支承框架的支承元件；和移动元件，该移动元件安装于涂布头单元支承件，使得支承件移动单元在支承框架的纵向方向上移动涂布头单元支承件；以及反作用力抵消设备，其包括质量元件，该质量元件连接于支承元件并且通过由涂布头单元支承件和移动元件的运动所产生的反作用力在与支承元件的移动方向垂直的方向上移动。

这里，为了将由涂布头单元支承件和移动元件的运动所产生并且传递至支承元件的力传递至在与支承元件的移动方向垂直的方向上移动的质量元件，反作用力抵消设备还可以包括以可旋转的方式连接于支承框架的旋转元件，并且该旋转元件相对于旋转中心的第一端连接于支承框架，而第二端连接于质量元件。

旋转元件的旋转中心与使旋转元件和支承元件彼此相连的接触点之间的距离可以短于旋转元件的旋转中心与使旋转元件和质量元件彼此相连的接触点之间的距离。

另外，可以在质量元件与支承框架之间设置抗摩擦装置，以防止力从质量元件传递至支承框架，并且允许质量元件以可滑动的方式连接于支承框架。

同时，还可以设置复位元件以帮助质量元件通过其自身的重量从移动位置回复至其初始位置。

附图说明

从下面结合附图进行的详细描述中，将会更加清楚地理解本发明的上述和其它目的、特征和优点，其中：

图1是示出了根据本发明的第一实施方式的反作用力抵消设备的示意图；

图2和3是示出了图1的反作用力抵消设备的操作的视图；

图4是示出了根据本发明的第二实施方式的反作用力抵消设备的示意图；

图5是示出了根据本发明的第三实施方式的反作用力抵消设备的示意图；

图6是示出了根据本发明的第四实施方式的反作用力抵消设备的示意图；

图7是示出了装配有根据本发明的反作用力抵消设备的涂胶机的立体图；

图8是示出了图7的涂胶机的涂布头单元的立体图；

图9和10是示出了装配有根据本发明的反作用力抵消设备的涂胶机的涂布头单元支承件的截面图；

图11和12是示出了装配有根据本发明的反作用力抵消设备的涂胶机的支承框架的截面图。

具体实施方式

在下文中，将参照附图对根据本发明的优选实施方式的反作用力抵消设备进行描述。

如图1到3中所示，根据本发明的第一实施方式的反作用力抵消设备80可包括安装于传送系统90、由此抵消由移动元件93的运动所产生的反作用力的反作用力抵消单元81，其中，该传送系统90出于预定目的以可移动的方式安装有移动元件93。这里，传送系统90可以包括以可移动的方式支承移动元件93的支承元件92和以可滑动的方式支承该支承元件92的框架91。移动元件93由支承元件92支承，使得该移动元件93可以在支承元件92的纵向方向上移动。支承元件92可以通过由移动元件93的运动所产生的反作用力以这样一种方式在框架91的纵向方向上移动，从而使其移动方向与移动元件93的移动方向相反。

该反作用力抵消单元81可以包括旋转元件811和质量元件812。旋转元件811连接于支承元件92并且通过由移动元件93的运动所产生的反作用力而旋转。质量元件812连接于旋转元件811并且通过旋转元件811的旋转而在与支承元件92的移动方向垂直的方向上移动。

还可以在支承元件92与旋转元件811之间设置联接构件82以将支承元件92与旋转元件811联接。

旋转元件811起到将由移动元件93的运动所产生并传递至支承元件92的反作用力传递至质量元件812的作用。旋转元件811可以可旋转的方式连接于框架91。为此，框架91可以设置有连接于旋转元件811的旋转中心C的铰链单元94。这里，铰链单元94可以包括：支承构件95，该支承构件95从框架91上伸出；和铰轴96，该铰轴96以穿过该旋转元件811或从该旋转元件811上伸出的方式紧固于支承构件95。同时，本发明的实施方式提出了该旋转元件811以可旋转的方式直接连接于框架91的结构，但是本发明并不限于该结构。即，旋转元件811可以由除框架91之外的部件以可旋转的方式支承，以将由移动元件93的运动所产生并传递至支承元件92的力传递至质量元件812。当将旋转元件811直接连接于框架91的结构与旋转元件811连接于除框架91之外的部件的结构相比较时，前者实现了简化的结构。

同时，根据本发明的实施方式，为了改变由移动元件93的运动所产生并传递至支承元件92的力的方向并且随后将该力传递至在与支承元件92的移动方向垂直的方向上移动的质量元件812，使用了由框架91以可旋转的方式支承的旋转元件811。但是，在不限于该实施方式的情况下，本发明可以应用诸如多个连杆之类的多种结构，这些结构改变力的方向从而将力从支承元件92传递至在与支承元件92的移动方向垂直的方向上移动的质量元件812。

质量元件812通过由移动元件93的运动所产生的反作用力在与重力方向相反的方向、即垂直于支承元件92的移动方向移动，从而抵消由移动元件93的运动所产生的反作用力。质量元件812的质量可以大于支承元件92和/或移动元件93的质量。但是，本发明并不限于该结构。在质量元件812的质量大于支承元件92和/或移动元件93的质量的情况下，当由移动元件93的运动所产生的反作用力通过支承元件92和旋转元件811被传递至质量元件812以移动该质量元件812时，仅通过质量元件812的小规模运动就可以充分抵消由移动元件93的运动所产生的反作用力。

质量元件812与框架91之间可以设置有抗摩擦装置97以防止力从质量元件812传递至框架91并且将质量元件812以可滑动的方式连接于框架91。抗摩擦装置97可以是滚珠轴承、滚柱轴承、滚子、其中包含有润滑油的卡箍以及防止质量元件812与框架91之间传递振动和摩擦力的其它结构。同时，根据本发明的该实施方式，质量元件812以可滑动的方式连接于框架91。但是，在不限于该结构的情况下，质量元件812可以由除框架91之外的部件以可滑动的方式支承以便因由移动元件93的运动所产生的反作用力而移动。

由于这种结构，当移动元件93在支承元件92上移动时，产生了在与移动元件93的移动方向相反的方向上存在的反作用力。由移动元件93的运动所产生的反作用力的一部分被传递至支承元件92，并转化成用于移动该支承元件92的能量且由此被消除。该反作用力的另一部分通过支承元件92传递至旋转元件811，并转化成用于旋转该旋转元件811的力且由此被消除。另外，该反作用力的其它部分通过旋转元件811传递至质量元件812，并转化成用于移动质量元件812的能量且由此消除。同时，质量元件812通过由移动元件93的运动所产生的反作用力在与重力方向相反的方向上，即垂直于支承元件92的移动方向移动。在通过质量元件812的运动抵消由移动元件93的运动所产生的反作用力之后，质量元件812可以依靠其自身的重量回复至其初始位置。

根据本发明的反作用力抵消设备80在将力传递至质量元件812之前旋转该旋转元件811，从而改变由移动元件93的运动所产生的反作用力的方向，并且使质量元件812在与支承元件92的移动方向垂直的方向上移动，从而抵消该反作用力。这能够简化反作用力系统的结构。另外，由移动元件93的运动所产生的反作用力可以被转化成用于移动支承元件92的能量且由此消除，可以被转化成用于旋转该旋转元件811的能量且由此被消除，并且可以被转化成用于移动质量元件812的能量且由此被消除。多个反作用力抵消操作有效地抵消了该反作用力。另外，当旋转元件811和质量元件812都连接于框架91时，即使在装配有反作用力抵消单元81的传送系统90在与移动元件93的移动方向不同的方向上移动的情况下也可以抵消由移动元件93的运动所产生的反作用力。另外，由于质量元件812可以在由质量元件812的运动抵消由移动元件93的运动所产生的反作用力之后，通过其自身的重量回复至其初始位置，因此不需要用于使质量元件812回复至其初始位置的额外部件。结果，可以简化该反作用力抵消设备80的结构。

在下文中，将参照图4对根据本发明的第二实施方式的反作用力抵消设备进行描述。将使用相同的附图标记来表示为第一实施方式和第二实施方式所共有的那些部件，并且将不会详细描述这种部件。

根据本发明的第二实施方式的反作用力抵消设备80可以构造成使旋转元件811的旋转中心C与使旋转元件811和支承元件92相连的接触点之间的距离D1小于旋转元件811的旋转中心C与使旋转元件811和质量元件812相连的接触点之间的距离D2。即，根据杠杆原理：使旋转元件811和支承元件92相连的接触点成为施力点(effort)，使旋转元件811和质量元件812相连的接触点成为受力点(load)，而旋转元件811的旋转中心C成为支点。这里，由于支点与受力点之间的距离D2大于施力点与支点之间的距离D1，因此可以将大小比由移动元件93的运动所产生并传递至支承元件92的力小的力传递至质量元件812。

当将上述情况与其中旋转元件811的旋转中心C与使旋转元件811和支承元件92相连的接触点之间的距离D1等于或大于旋转元件811的旋转中心C与使旋转元件811和质量元件812相连的接触点之间的距离D2的情况相比较时，可以减小质量元件812的位移。因此，可以防止在用于确保质量元件812的移动距离的传送系统90的高度方面的过度增大。

在下文中，将参照图5对根据本发明的第三实施方式的反作用力抵消设备80进行描述。为第一实施方式、第二实施方式和第三实施方式所共有的那些部件将由相同的附图标记来表示，并且将不会对其进行详细描述。

如图5中所示，根据本发明的第三实施方式的反作用力抵消设备80可以包括复位元件813，该复位元件813设置在质量元件812的周围的适当位置处，以连接于质量元件812并且将因由移动元件93的运动所产生的反作用力而移动的质量元件812回复至其初始位置。

复位元件813起到在质量元件812因由移动元件93的运动所产生的反作用力而移动时将质量元件812回复到其初始位置的作用。复位元件813可以包括多种用于向质量元件812提供预定的回复力的结构，例如，弹性盘簧、板簧、液压阻尼器或气压阻尼器、或利用电磁体的线性电机，这些结构都连接于质量元件812。

复位元件813用以在质量元件812已移动并随后通过其自身的重量返回至其初始位置的同时，在质量元件812返回至其初始位置的方向上向质量元件812提供辅助力。由于该反作用力抵消设备还包括复位元件813，因此它使质量元件812能够快速而精准地返回至其初始位置。

在下文中，将参照图6对根据本发明的第四实施方式的反作用力抵消设备80进行描述。为第一实施方式、第二实施方式和第四实施方式所共有的那些部件将由相同的附图标记来表示，并且将不会对其进行详细描述。

如图6所示，根据本发明的第四实施方式的反作用力抵消设备80可以包括位于框架91与抗摩擦装置97之间的隔振器99，以防止由质量元件812的运动所产生的振动通过抗摩擦装置97而被传递至框架91。

这种隔振器99可以包括多种能够吸收由质量元件812的运动所引起并通过抗摩擦装置97传递的振动的结构，例如，抗振橡胶、防振合成树脂、其中保持有流体的密封管、其中形成真空的密封管、包括有弹簧的弹性构件、或液压阻尼器。

根据本发明的第四实施方式的反作用力抵消设备80包括位于框架91与抗摩擦装置97之间的隔振器99，从而使抵消由移动元件93的运动所产生的反作用力的效果最大化，并且防止由质量元件812的运动所产生的振动被传递至框架91。

根据本发明的具有上述结构和操作效果的反作用力抵消设备90可以应用于包括起重机、机器人、FPD制造装置、或者LCD制造和/或检测设备在内的多种传送系统。在下文中，将对根据本发明的反作用力抵消设备80应用于涂胶机的实施方式进行描述。

如图7所示，根据本发明的涂胶机包括：基座框架10；托台11，该托台11紧固于该基座框架10从而将基板20安置于其上；一对支承框架40，该对支承框架40以在Y轴方向上延伸的方式设置在托台11的相对两侧上；涂布头单元支承件50，该涂布头单元支承件50被安装成由该对支承框架40以在X轴方向上延伸的方式支承；多个涂布头单元60，这些涂布头单元60安装于涂布头单元支承件50；头移动单元70，该头移动单元70将每个涂布头单元60连接于涂布头单元支承件50并且在X轴方向上水平移动涂布头单元60；以及控制单元(未示出)，该控制单元控制涂布头单元60和头移动单元70的操作。

基座框架10可以设置有托台驱动单元(未示出)，该托台驱动单元使托台11相对于基座框架10前后(Y轴方向)移动。涂布头单元支承件50可设置有支承件移动单元30，该支承件移动单元30使涂布头单元支承件50沿支承框架40移动。在基板20被形成为具有大面积的情况下，可安装多个涂布头单元支承件50以提高形成密封胶图案的生产率。

如图8所示，每个涂布头单元60都包括：注射器60，该注射器60装有密封胶；喷嘴62，该喷嘴62与注射器61连通并排出密封胶；激光距离传感器63，该激光距离传感器63邻近喷嘴62并且测量喷嘴62与基板20之间的间隙；Y轴驱动单元64，该Y轴驱动单元64在Y轴方向上移动喷嘴62和激光距离传感器63；和Z轴驱动单元65，该Z轴驱动单元65在Z轴方向上移动喷嘴62和激光距离传感器63。这里，激光距离传感器63包括发射元件631和接收元件632，该发射元件631发射激光束，该接收元件632与发射元件631间隔开预定距离并接收从基板20上反射的激光束。激光距离传感器63将电信号对应于从发射元件631发射并从基板20上反射的激光束的成像位置输出至控制单元，从而测量基板20与喷嘴62之间的间隙数据。

另外，涂布头单元60可以装配有横截面面积传感器66，该横截面面积传感器66测量施加至基板的密封胶图案P的横截面面积。这种横截面面积传感器66将激光束持续发射至基板20并且扫描该密封胶图案P，从而测量密封胶图案P的横截面面积。利用由横截面面积传感器66测量到的有关密封胶图案P的横截面面积的数据来确定该密封胶图案P是否具有缺陷。

在下文中，将对将根据本发明的反作用力抵消设备80应用于涂胶机的涂布头单元支承件50的实施方式进行描述。

图9和10是示出了根据本发明的涂胶机的涂布头单元支承件50的截面图，其中，反作用力抵消设备80应用于涂布头单元支承件50。

如图9所示，每个涂布头单元60都经由头移动单元70连接于涂布头单元支承件50。头移动单元70包括在涂布头单元支承件50的纵向方向上延伸的支承元件71和安装于涂布头单元60的移动元件72。由此，由于支承元件71和移动元件72之间存在相互作用，因此涂布头单元60可以在X轴方向上、即在涂布头单元支承件50的纵向方向上移动。这里，头移动单元70可以包括线性电机。在该情况下，支承元件71包括定子而移动元件72包括动子，从而使得涂布头单元60由支承元件71与移动元件72之间的电磁作用而在X轴方向上移动。另外，头移动单元70可以包括滚珠丝杠装置，该滚珠丝杠装置被构造成使得支承元件71包括滚珠丝杠而移动元件72包括滚珠丝杠螺母。此外，头移动单元70可以包括传送装置，该传送装置被构造成使得支承元件71包括利用液压或气压来移动该移动元件72的气缸。这样，头移动单元70可以包括多种用于在X轴方向上移动涂布头单元60的结构。

反作用力抵消设备80可以安装于涂布头单元支承件50的相对两端中的任一端，或者安装于涂布头单元支承件50的相对两端。

反作用力抵消设备80包括反作用力抵消单元81。反作用力抵消单元81改变由涂布头单元60和移动元件72的运动所产生并施加在支承元件71上的力的方向，将该力传递至在与支承元件71的移动方向垂直的方向上移动的质量元件812，并且将该力转化成用于移动质量元件812的能量，由此消除该力。反作用力抵消单元81可以包括旋转元件811和质量元件812。旋转元件811连接于支承元件71并且通过由涂布头单元60和移动元件72的运动所产生的反作用力而旋转。质量元件812连接于旋转元件811并且通过旋转元件811的旋转而在与重力相反的方向上、即垂直于支承元件71的移动方向移动。

这里，在支承元件71与旋转元件811之间可以设置有额外的联接构件82，以使支承元件71与旋转元件811联接。

旋转元件811的旋转中心C连接于其上的铰链单元94可以设置在涂布头单元支承件50上，从而使得旋转元件811以可旋转的方式连接于涂布头单元支承件50。这里，铰链单元94包括：支承构件95，该支承构件95从涂布头单元支承件50上伸出；和铰轴96，该铰轴96紧固于支承构件95并且穿过旋转元件811或者从旋转元件811上伸出。在该情况下，由于旋转元件811以可旋转的方式直接连接于涂布头单元支承件50，因此可以简化该结构。同时，根据本发明的实施方式，旋转元件811以可旋转的方式连接于涂布头单元支承件50。但是，在不限于该结构的情况下，旋转元件811可以由除涂布头单元支承件50之外的部件支承，从而在旋转元件811旋转的同时将支承元件71的反作用力传递至质量元件812。

优选地，旋转元件811的旋转中心C与使旋转元件811和支承元件71相连的接触点之间的距离D1小于旋转元件811的旋转中心C与使旋转元件811和质量元件812相连的接触点之间的距离D2。因此，与其中旋转元件811的旋转中心C与使旋转元件811和支承元件71相连的接触点之间的距离D1等于或大于旋转元件811的旋转中心C与使旋转元件811和质量元件812相连的接触点之间的距离D2的情况相比，这减小了质量元件812的位移。

质量元件812的质量远大于涂布头单元60、支承元件71或移动元件72的质量。因此，当由涂布头单元60和移动元件72的运动所产生的反作用力通过支承元件71和旋转元件811传递至质量元件812，从而移动质量元件812时，可以仅通过质量元件812的小规模运动充分抵消由移动元件72的运动所产生的反作用力。

在质量元件812与涂布头单元支承件50之间可以设置有抗摩擦装置97，以防止力从质量元件812传递至涂布头单元支承件50并且将质量元件812以可滑动的方式联接至涂布头单元支承件50。抗摩擦装置97可以是滚珠轴承、滚柱轴承、滚子、其中包含有润滑油的卡箍或防止质量元件812与涂布头单元支承件50之间传递振动和摩擦的其它结构。同时，根据本发明的该实施方式，质量元件812以可滑动的方式连接于涂布头单元支承件50。但是，在不限于该结构的情况下，质量元件812可以由除涂布头单元支承件50之外的部件支承，以通过由涂布头单元60和移动元件72的运动所产生的反作用力移动。另外，根据本发明的实施方式，质量元件812放置在涂布头单元支承件50的一侧上。但是，质量元件812可以放置在涂布头单元支承件50的内部空间中。

当使移动元件72和涂布头单元60在支承元件71上移动时，在与移动元件72的移动方向相反的方向上产生反作用力。该反作用力的一部分被传递至支承元件71，转化成用于移动支承元件71的能量且由此被消除。反作用力的另一部分通过支承元件71传递至旋转元件811，转化成用于旋转该旋转元件811的能量且由此被消除。反作用力的其它部分经由旋转元件811的旋转而被传递至质量元件812，转化成用于移动质量元件812的能量且由此被消除。在该情况下，由于质量元件812的质量远大于支承元件71、移动元件72或涂布头单元60的质量，因此质量元件812的移动量是很小的。同时，在已通过传递至质量元件812的力使质量元件812移动后，质量元件812可以通过其自身的重量返回到其初始位置。

同时，如在本发明的第三实施方式中那样，反作用力抵消设备还可以包括复位元件813，该复位元件813连接于质量元件812以帮助质量元件812通过该质量元件812自身的重量而从其移动位置回复到其初始位置。复位元件813可以包括多种用于向质量元件812提供预定回复力的结构，例如，弹性盘簧、板簧、或者液压阻尼器或气压阻尼器，这些结构都连接至质量元件812。

另外，如图10中所示，在本发明的第四实施方式中所述的隔振器99可以安装在涂布头单元支承件50与抗摩擦装置97之间，从而防止由质量元件812的运动所引起的振动被传递至涂布头单元支承件50。

根据本发明的涂胶机在以可移动的方式支承每个涂布头单元60的涂布头单元支承件50上具有反作用力抵消设备80，该反作用力抵消设备80旋转该旋转元件811，从而在将由涂布头单元60和移动元件72的运动所产生的反作用力传递至质量元件812之前改变该力的方向，并且使质量元件812在与支承元件71的移动方向垂直的方向上移动，从而抵消该反作用力。这能够简化该结构并且即使在涂布头单元支承件50在Y轴方向上移动时，也能抵消由涂布头单元60和移动元件72的运动所产生的反作用力。另外，由涂布头单元60和移动元件72的运动所产生的反作用力可以转化成用于移动支承元件71的能量且由此被消除，可以转化成用于旋转该旋转元件811的能量且由此被消除，并且可以转化成用于移动质量元件812的能量且由此被消除。利用多个反作用力抵消操作显著提高了抵消反作用力的性能。

在根据本发明的涂胶机中，反作用力抵消设备80可以设置在涂布头单元支承件50的相对两端中的至少一端或者设置在涂布头单元支承件50的相对两端上。

在下文中，将对根据本发明的反作用力抵消设备80应用于涂胶机的支承框架40的实施方式进行描述。

图11和12是示出了根据本发明的涂胶机的支承框架40的截面图，其示出了将反作用力抵消设备80应用于支承框架40的结构。

如图11中所示，涂布头单元支承件50经由支承件移动单元30连接于支承框架40。支承件移动单元30包括支承元件31和移动元件32，该支承元件31在支承框架40的纵向方向上延伸，该移动元件32安装于涂布头单元支承件50。因此，支承元件31与移动元件32之间的相互作用允许涂布头单元支承件50在Y轴方向上、即在支承框架40的纵向方向上移动。这里，支承件移动单元30可以包括线性电机。在该情况下，支承元件31包括定子而移动元件32包括动子，从而使涂布头单元支承件50通过支承元件31与移动元件32之间的电磁相互作用而在Y轴方向上移动。另外，支承件移动单元30可以包括滚珠丝杠装置，该滚珠丝杠装置被构造成使支承元件31包括滚珠丝杠而移动元件32包括滚珠丝杠螺母。此外，支承件移动单元30可以包括传送装置，该传送装置被构造成使支承元件31包括利用气压或液压来移动该移动元件32的气缸。这样，支承件移动单元30可以包括多种用于在Y轴方向上移动涂布头单元支承件50的结构。

反作用力抵消设备80可包括反作用力抵消单元81。该反作用力抵消单元81改变由涂布头单元支承件50和移动元件32的运动所产生并施加在支承元件31上的力的方向，将该力传递至在与支承元件31的移动方向垂直的方向上移动的质量元件812，并且将该力转化成用于移动质量元件812的能量，由此消除该力。该反作用力抵消单元81可以包括旋转元件811和质量元件812。旋转元件811连接于支承元件31并且通过由涂布头单元支承件50和移动元件32的运动所产生的反作用力旋转。质量元件812连接于旋转元件811并且通过旋转元件811的旋转而在与重力相反的方向上、即垂直于支承元件31的移动方向移动。

这里，可以在支承元件31与旋转元件811之间设置额外的联接构件82，以将支承元件31与旋转元件811联接。

旋转元件811的旋转中心C连接于其上的铰链单元94可以设置在支承框架40上，使得旋转元件811以可旋转的方式连接于支承框架40。这里，该铰链单元94包括：支承构件95，该支承构件95从支承框架40上伸出；和铰轴96，该铰轴96紧固于该支承构件95并且穿过旋转元件811或者从旋转元件811上伸出。在该情况下，由于旋转元件811以可旋转的方式直接连接于支承框架40，因此可以简化该结构。同时，根据本发明的实施方式，旋转元件811以可旋转的方式连接于支承框架40。但是，在不限于该结构的情况下，旋转元件811可以由除支承框架40之外的部件支承，从而在旋转元件811旋转的同时将支承元件31的反作用力传递至质量元件812。

优选地，旋转元件811的旋转中心C与使旋转元件811和支承元件31相连的接触点之间的距离D1小于旋转元件811的旋转中心C与使旋转元件811和质量元件812相连的接触点之间的距离D2。因此，与其中旋转元件811的旋转中心C与使旋转元件811和支承元件31相连的接触点之间的距离D1等于或大于旋转元件811的旋转中心C与使旋转元件811和质量元件812相连的接触点之间的距离D2的情况相比，这减小了质量元件812的位移。

质量元件812的质量远大于涂布头单元支承件50、支承元件31或移动元件32的质量。因此，当由涂布头单元支承件50和移动元件32的运动所产生的反作用力通过支承元件31和旋转元件811传递至质量元件812，从而移动质量元件812时，可以仅通过质量元件812的小规模运动充分抵消由移动元件32的运动所产生的反作用力。

抗摩擦装置97可以设置在质量元件812与支承框架40之间，以防止力从质量元件812传递至支承框架40并且将质量元件812以可滑动的方式联接于支承框架40。抗摩擦装置97可以是滚珠轴承、滚柱轴承、滚子、其中包含有润滑油的卡箍或防止质量元件812与支承框架40之间传递振动和摩擦的其它结构。同时，根据本发明的该实施方式，质量元件812以可滑动的方式连接于支承框架40。但是，在不限于该结构的情况下，质量元件812可以由除支承框架40之外的部件支承，以通过由涂布头单元支承件50和移动元件32的运动所产生的反作用力移动。另外，根据本发明的实施方式，质量元件812放置在支承框架40的一侧。但是，质量元件812可以放置在支承框架40的内部空间中。

当使移动元件32和涂布头单元支承件50在支承元件31上移动时，在与移动元件32的移动方向相反的方向上产生了反作用力。该反作用力的一部分被传递至支承元件31，转化成用于移动支承元件31的能量且由此被消除。反作用力的另一部分通过支承元件31传递至旋转元件811，转化成用于旋转该旋转元件811的能量且由此被消除。该反作用力的另一部分经由旋转元件811的旋转被传递至质量元件812，转化成用于移动质量元件812的能量且由此被消除。在该情况下，由于质量元件812的质量远大于支承元件31、移动元件32或涂布头单元支承件50的质量，因此质量元件812的移动量是很小的。同时，在已由传递至质量元件812的力使质量元件812移动后，质量元件812可以通过其自身的重量返回到其初始位置。

同时，如在本发明的第三实施方式中那样，反作用力抵消设备还可以包括复位元件813，该复位元件813连接于质量元件812以帮助该质量元件812通过该质量元件812自身的重量从其移动位置回复至其初始位置。复位元件813可以包括多种用于向质量元件812提供预定回复力的结构，例如，弹性盘簧、板簧、或者液压阻尼器或气压阻尼器，这些结构都连接于质量元件812。

另外，如图12中所示，在本发明的第四实施方式中所述的隔振器99可以安装在支承框架40与抗摩擦装置97之间，从而防止由质量元件812的运动所引起的振动被传递至支承框架40。

根据本发明的涂胶机在以可移动的方式支承每个涂布头单元支承件50的支承框架40上具有反作用力抵消设备80，该反作用力抵消设备80旋转该旋转元件811，从而在将由涂布头单元支承件50和移动元件32的运动所产生的反作用力传递至质量元件812之前改变该力的方向，并且使质量元件812在与支承元件31的移动方向垂直的方向上移动，从而抵消该反作用力。这能够简化该结构。另外，由涂布头单元支承件50和移动元件32的运动所产生的反作用力可以转化成用于移动支承元件31的能量且由此被消除，可以转化成用于旋转该旋转元件811的能量且由此被消除，并且可以转化成用于移动质量元件812的能量且由此被消除。利用多个反作用力抵消操作显著提高了抵消反作用力的性能。

在根据本发明的涂胶机中，反作用力抵消设备80可以设置在支承框架40的相对两端中的至少一端或者设置在支承框架40的相对两端上。

本发明的前述实施方式可以单独实施，而且这些实施方式的结合也是可能的。

另外，根据本发明的反作用力抵消设备80可以应用于多种用于移动涂胶机中的部件的装置，例如，用于移动托台11的托台驱动单元。

如上所述，本发明提供了一种反作用力抵消设备，其中，在传送系统上设置有能够消除由传送系统的移动元件的运动所产生的反作用力的质量元件，从而简化用于抵消由移动元件的运动所产生的反作用力的结构。

另外，由移动元件的运动所产生的反作用力可以通过将该力转化成用于移动该移动元件的能量，转化成用于旋转该旋转元件的能量，并转化成用于移动质量元件的能量而被抵消。这多个反作用力抵消效果允许有效展现抵消反作用力的性能。另外，在旋转元件、质量元件和复位元件中的所有元件都联接于框架的情况下，即使在传送系统在与移动元件的移动方向不同的方向上移动时，也可以抵消由移动元件的运动所产生的反作用力。

此外，本发明提供一种反作用力抵消设备，该设备被构造成使得质量元件通过由移动元件的运动所产生的反作用力在与重力方向相反的方向上、即垂直于支承元件的移动方向移动，并且质量元件通过其自身的重量从其移动位置回复至其初始位置，从而不需要用于将质量元件回复至其初始位置的额外部件，并且因此能够简化该反作用力抵消设备的结构。

另外，当将该反作用力抵消设备应用于涂胶机的涂布头单元支承件时，由涂布头单元和移动元件的运动所产生的反作用力被传递至在与支承元件的移动方向垂直的方向上移动的质量元件，并且转化成用于移动质量元件的能量，以使得该反作用力被抵消，从而获得简单的结构，并且由涂布头单元的运动所产生的反作用力即使在涂布头单元支承件在与涂布头单元的移动方向垂直的方向上移动时也可以被抵消。另外，由涂布头单元和移动元件的运动所产生的反作用力可以通过将该力转化为用于旋转旋转元件的能量和转化为用于移动质量元件的能量而被抵消。这种多个反作用力抵消效果允许有效展现抵消反作用力的性能。

另外，当反作用力抵消设备应用于涂胶机的支承框架时，由涂布头单元支承件和移动元件的运动所产生的反作用力传递至在与支承元件的移动方向垂直的方向上移动的质量元件并且被转化成用于移动质量元件的能量，从而抵消该反作用力并且获得了简单的结构。另外，由涂布头单元支承件和移动元件的运动所产生的反作用力可以通过将该力转化为用于旋转旋转元件的能量和转化为用于移动质量元件的能量而被抵消。这种多个反作用力抵消效果允许有效展现出抵消反作用力的性能。

Claims (16)

1.一种反作用力抵消设备，所述设备安装于传送系统，所述传送系统包括支承元件、在所述支承元件上移动的移动元件、以及以可滑动的方式支承所述支承元件的框架，所述设备包括：

质量元件，所述质量元件连接于所述支承元件，并且通过由所述移动元件的运动所产生的反作用力在与所述支承元件的移动方向垂直的方向上移动。

2.如权利要求1中所述的设备，所述设备进一步包括：

旋转元件，所述旋转元件以可旋转的方式连接于所述框架，所述旋转元件相对于旋转中心的第一端连接于所述支承元件而第二端连接于所述质量元件。

3.如权利要求2中所述的设备，其中，所述旋转元件的所述旋转中心与使所述旋转元件和所述支承元件彼此相连的接触点之间的距离短于所述旋转元件的所述旋转中心与使所述旋转元件和所述质量元件彼此相连的接触点之间的距离。

4.如权利要求1中所述的设备，所述设备进一步包括：

复位元件，所述复位元件将已经被移动过的所述质量元件回复至其初始位置。

5.如权利要求1到4中任一项所述的设备，其中，在所述质量元件与所述框架之间设置有抗摩擦装置。

6.如权利要求5中所述的设备，其中，在所述框架与所述抗摩擦装置之间设置有隔振器。

7.一种涂胶机，所述涂胶机包括：

涂布头单元支承件；

涂布头单元，所述涂布头单元以可移动的方式安装于所述涂布头单元支承件；

头移动单元，包括：

支承元件，所述支承元件以可滑动的方式连接于所述涂布头单元支承件；和

移动元件，所述移动元件安装于所述涂布头单元，使得所述头移动单元在所述涂布头单元支承件的纵向方向上移动所述涂布头单元；以及

反作用力抵消设备，所述反作用力抵消设备包括：

质量元件，所述质量元件连接于所述支承元件并且通过由所述涂布头单元和所述移动元件的运动所产生的反作用力在与所述支承元件的移动方向垂直的方向上移动。

8.如权利要求7中所述的涂胶机，其中，所述反作用力抵消设备进一步包括：

旋转元件，所述旋转元件以可旋转的方式连接于所述涂布头单元支承件，所述旋转元件相对于旋转中心的第一端连接于所述支承元件而第二端连接于所述质量元件。

9.如权利要求8中所述的涂胶机，其中，所述旋转元件的所述旋转中心与使所述旋转元件和所述支承元件彼此相连的接触点之间的距离短于所述旋转元件的旋转中心与使所述旋转元件和所述质量元件彼此相连的接触点之间的距离。

10.如权利要求7中所述的涂胶机，其中，所述反作用力抵消设备进一步包括：

复位元件，所述复位元件连接于所述质量元件，并且将已经移动过的所述质量元件回复到其初始位置。

11.如权利要求7到10中任一项所述的涂胶机，其中，在所述质量元件与所述涂布头单元支承件之间设置有抗摩擦装置。

12.一种涂胶机，所述涂胶机包括：

支承框架，所述支承框架支承其上安装有涂布头单元的涂布头单元支承件；

支承件移动单元，所述支承件移动单元包括：

支承元件，所述支承元件以可滑动的方式连接于所述支承框架；和

移动元件，所述移动元件安装于所述涂布头单元支承件，使得所述支承件移动单元在所述支承框架的纵向方向上移动所述涂布头单元支承件；以及

反作用力抵消设备，所述反作用力抵消设备包括：

质量元件，所述质量元件连接于所述支承元件并且通过由所述涂布头单元支承件和所述移动元件的运动所产生的反作用力在与所述支承元件的移动方向垂直的方向上移动。

13.如权利要求12中所述的涂胶机，其中，所述反作用力抵消设备还包括：

旋转元件，所述旋转元件以可旋转的方式连接于所述支承框架，并且所述旋转元件相对于旋转中心的第一端连接于所述支承元件而第二端连接于所述质量元件。

14.如权利要求13中所述的涂胶机，其中，所述旋转元件的旋转中心与使所述旋转元件和所述支承元件彼此相连的接触点之间的距离短于所述旋转元件的旋转中心与使所述旋转元件和所述质量元件彼此相连的接触点之间的距离。

15.如权利要求12中所述的涂胶机，其中，所述反作用力抵消设备进一步包括：

复位元件，所述复位元件连接于所述质量元件，并且将已经移动过的所述质量元件回复到其初始位置。

16.如权利要求12到15中任一项所述的涂胶机，其中，在所述质量元件与所述支承框架之间设置有抗摩擦装置。

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