CN101699332A - 玻璃基板、使用该玻璃基板的检测方法以及矩阵掩模 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种玻璃基板，其包括多个面板结构以及多个测试元件。面板结构彼此分离，其中每一个面板结构包括黑矩阵以及彩色滤光层。黑矩阵在玻璃基板上定义出多个像素单元。彩色滤光层配置在像素单元上。多个测试元件位于面板结构的外围，测试元件具有多个虚拟像素单元，虚拟像素单元的图案区别于像素单元的图案，且虚拟像素单元中具有标准缺陷图案。另外，本发明还提出一种使用上述玻璃基板的检测方法以及制作该玻璃基板的矩阵掩模。

Description

玻璃基板、使用该玻璃基板的检测方法以及矩阵掩模

【技术领域】

本发明涉及一种玻璃基板及其检验方法，特别是涉及在玻璃基板上制作特殊缺陷，以使检验机台的扫描体对玻璃基板进行监督检验及检测检验机台的扫描体的方法。

【背景技术】

为了应对现代产品高速度、高效能、且轻薄短小的要求，各种电子零件均积极地朝体积小型化发展。各种便携式电子装置也已渐成主流，例如：笔记本电脑(Note Book)、移动电话(Cell Phone)、电子辞典、个人数字助理器(PersonalDigital Assistant，PDA)、上网机(Web Pad)及平板型计算机(Tablet PC)等。对于便携式电子装置的图像显示面板而言，为了符合产品趋向小型化的需求，具有空间利用效率佳、高画质、低消耗功率、无辐射等优越特性的液晶显示面板(Liquid Crystal Display，简称LCD)，目前已被广为使用。

一般而言，在液晶显示面板的制程当中可概分为前段(Array)、中段(ColorFilter)、中后段(Cell)、后段(Module Assembly)。其中，在中段制程中通过多道制程来制成彩色滤光基板，包括黑矩阵制程、红色滤光膜制程、绿色滤光膜制程以及蓝色滤光膜制程。在量产的过程中，为了兼顾产品的良率以及产出率，除了上述的制程外，必须在各制程之间适当地设置检验站，以实时反应生产线的不良并加以补正、或者实时找出问题机台加以维护以避免更多的半成品报废，借此控制生产成本并掌握产品的生产状况以及产出良率。

近年来，业界在中段制程中采用自动光学检查机(AOI)来对生产过程中的半成品(例如玻璃基板)进行的质量检验，并依赖自动光学检查机(AOI)来实时反应生产线的生产状况。然而，当自动光学检测机的检验能力失效时，玻璃基板将无法得到实时的补正，如此将使生产成本以及产品良率遭受极大的损害。

图1是现有的一种自动光学检查机检验时机的示意图，图2是使用自动光学检查机与否的产品良率示意图。请参照图1和图2，在自动光学检查机的检测时间线102上，为了确保产品的产出量，是以每月或每季等依预定时间执行自动光学检查机检验能力的确认作业，换句话说，此次确认点B到前次确认点A之间是一固定检验周期，若此次确认点B到前次确认点A之间，自动光学检查机若发生异常，则在此次确认点B之前的这一段自动光学检查机检验能力的异常区间100内，自动光学检查机将无法正常检验出玻璃基板上的缺陷，致使生产线无法发现产品异常并实时作处置，导致不良品大量增加，造成生产成本大幅的损失。

请继续参照图1和图2，当自动光学检查机在确认点B被检验出异常时，检验人员将依据检验结果在自动光学检查机的异常区间101内对缺陷作处置以及机台的修复。如此一来，由图2中的分析结果可知，使用自动光学检查机在生产线作玻璃基板的全检106时，由于能够实时发现产品的致命缺陷和共通缺陷，并立即作制程改善，因此，产品的良率可以维持一定的水平。反之，若在生产线不使用自动光学检查机作玻璃基板的检验107时，则产品良率则会随时间变动而无法获得一致的高水平。因此，自动光学检查机的检验能力对制程良率的提升十分的重要。

因此，如何妥善维护自动光学检查机的检验能力以确保制程良率、并兼顾产出率成为液晶显示面板产业发展的一大重要课题。

【发明内容】

本发明要解决的技术问题是提供一种玻璃基板，其可以使得生产线兼顾产品产出率以及产品良率。

本发明要解决的技术问题是提供一种用于制造上述玻璃基板的矩阵掩模，其利用局部修改布局在产品中同时制作检测组件，以兼顾产品产出率以及产品量率。

本发明要解决的技术问题是提供一种使用上述玻璃基板的检测方法，其可以利用自动光学检查机的扫描体图像撷取的方式来维护检验能力，以维持产品良率。

为解决上述技术问题，本发明采用了以下的技术方案：本发明提出一种玻璃基板，此玻璃基板包括多个面板结构以及多个测试元件。面板结构彼此分离，其中每一个面板结构包括黑矩阵和彩色滤光层。其中，黑矩阵在玻璃基板上定义出多个像素单元。彩色滤光层配置在像素单元上。多个测试元件位于面板结构的外围，测试元件具有多个虚拟像素单元，虚拟像素单元的图案区别于像素单元的图案，且虚拟像素单元中具有标准缺陷图案。

在本发明的一个实施方式中，上述的标准缺陷图案是标准点缺陷图案。其中，标准点缺陷可以是黑矩阵点缺陷，且黑矩阵点缺陷例如是在多个虚拟像素单元之一中具有和周围图案分离的黑矩阵图案残留。此时，标准点缺陷例如具有多种标准尺寸，且标准缺陷的尺寸分布是5微米至30微米。或者，上述的标准点缺陷也可以是彩色滤光层点缺陷，且彩色滤光层点缺陷例如是在多个虚拟像素单元之一的彩色滤光层中具有表面凹陷的凹槽。

在本发明的一个实施方式中，上述的虚拟像素单元包括黑矩阵和彩色滤光层，以在测试元件中定义出虚拟像素单元。彩色滤光层位于虚拟像素单元中，其中虚拟像素单元中的黑矩阵的图案或彩色滤光层的图案和像素单元不同，以构成标准缺陷图案。

在本发明的一个实施方式中，上述的标准缺陷图案包括标准断线缺陷。此时，标准断线缺陷是黑矩阵断线缺陷，黑矩阵断线缺陷是两相邻的虚拟像素单元之间的黑矩阵分为彼此分离的两部分。

在本发明的一个实施方式中，上述的测试元件中的虚拟像素单元在基板上呈多行的条状布局。

在本发明的一个实施方式中，上述的测试元件位于两相邻面板结构的间隔位置。

在本发明的一个实施方式中，上述的每一个面板结构还包括保护层以及透明导电层。保护层覆盖黑矩阵以及彩色滤光层。透明导电层覆盖保护层上。

本发明另提出一种矩阵掩模，用于制作出上述的玻璃基板，其中矩阵掩模具有至少20组标准检测图案，标准检测图案的尺寸和位置对应于标准缺陷图案的尺寸和位置。

在本发明的一个实施方式中，上述的矩阵掩模例如是黑矩阵掩模或彩色滤光层矩阵掩模。

本发明另提出一种检测方法，其适于在连续提供多个上述的玻璃基板的自动光学检查机中，同时对自动光学检查机进行检验能力的检测，其中自动光学检查机包括传送玻璃基板的输送带以及位于输送带上下两侧的图像撷取部，其中图像撷取部包括第一扫描体以及第二扫描体，且第一扫描体和第二扫描体分别在玻璃基板的上表面和下表面扫描图像，此检测方法包括下列步骤。首先，将多个玻璃基板依序且连续输送至自动光学检查机的输送带上，其中这些玻璃基板中具有上述的玻璃基板，且此玻璃基板具有多种标准缺陷图案。之后，玻璃基板在自动光学检查机的输送带上同时进行扫描分析。然后，通过该多个标准缺陷图案对第一扫描体及第二扫描体执行良率检测。

在本发明的一个实施方式中，上述的进行扫描分析的方法包括自动检查机的第一扫描体和第二扫描体分别对玻璃基板作相对位移，以同时对玻璃基板的上表面以及下表面进行检测，其中第一扫描体的扫描方向和第二扫描体的扫描方向相对。

在本发明的一个实施方式中，在上述的通过该多个标准缺陷图案对第一扫描体及第二扫描体执行良率检测的步骤之后，当检测结果是自动检查机的检验能力缺失时，还包括执行检验能力修补机制，而当检测结果是自动检查机的检验能力正常时，则执行继续扫描机制。

基于上述，本发明的玻璃基板利用在产品的面板结构的外围上布局测试元件，因此利用此玻璃基板的适当布局，可以在进行面板结构的检测时，同时利用测试元件来检测自动光学检查机的检验能力，不仅使玻璃基板上的面板结构可以连续地被检测以确保产品良率，还可以在量产的检测制程中，直接利用量产的玻璃基板来进行自动光学检查机的检验能力的检测，以解决自动光学检查机在现有技术中需耗费长时间、以及解决现有用于检测自动光学检查机的检验能力的标准缺陷片在制作的困难。

【附图说明】

图1是现有的一种自动光学检查机检验时机的示意图。

图2是使用自动光学检查机与否的产品良率示意图。

图3是本发明一个实施方式中玻璃基板的俯视示意图。

图4是本发明的玻璃基板在自动光学检查机中操作的立体组合示意图。

图5A至图5F是本发明一个实施方式中玻璃基板的制作方法的流程示意图。

图6A和图6B分别是本发明一个实施方式的玻璃基板上利用黑矩阵或是黑矩阵和彩色滤光层叠层所制作的标准缺陷图案的示意图。

图7是本发明的一种用于制作上述玻璃基板的矩阵掩模示意图。

图8是图4的自动光学检查机利用图3的玻璃基板作检验能力的检测方法流程示意图。

【具体实施方式】

本发明提供一种玻璃基板，其中在玻璃基板的面板结构的外围适当布局测试元件，使得自动光学检查机可以直接依据玻璃基板上的测试元件作其检验能力的维护，借此，可以使自动光学检查机直接使用量产品的玻璃基板作在线(In-line)的验证，而无须特别将机台先切换为自生产线上排除，换句话说将其切换为脱机(Off-line)状态，而单独地对该机台作检验能力的定期检测，另一方面，还可以解决用于检测自动光学检查机的检测标准片在制作上的困难。以下将列举具体实施方式详加说明。

图3是本发明一个实施方式中玻璃基板的俯视示意图。请参照图3，玻璃基板200包括多个面板结构210以及多个测试元件220，其中面板结构210在完成预定的后续制程后，经玻璃基板200的切裂制程后可制作出液晶显示面板。换句话说，此面板结构210包括液晶显示面板的预定显示区以及预定周边电路区，而测试元件220则位于面板结构210的外围，在本实施方式中，测试元件220可以分布在相邻的面板结构210的间隔位置202，也可以分布在玻璃基板200上面板结构210以外的边缘部分204，设计者可依据待检测装置的图像撷取镜头的装设位置、扫描方向等机台参数配合面板结构210在玻璃基板200上布局来适当设计测试元件220的分布位置，本发明并不以此为限。

如图3所示，具体而言，玻璃基板200例如是彩色滤光基板。面板结构210在玻璃基板200上呈彼此分离的布局(layout)，其中每一个面板结构210包括黑矩阵230和彩色滤光层240。黑矩阵230在玻璃基板200上定义出多个像素单元250。彩色滤光层240配置在像素单元250上。特别的是，测试元件220具有多个虚拟像素单元260，而虚拟像素单元260的图案和像素单元250的图案不尽相同，换句话说，虚拟像素单元260的图案和像素单元250的图案相似，但仅有些微的不同，关于虚拟像素单元260的图案将在之后详细描述。特别的是，虚拟像素单元260中具有标准缺陷图案270，此标准缺陷图案270可作为检查机台(例如：自动光学检测机)的校验能力的标准片。值得注意的是，测试元件上的标准缺陷图案270是制程上刻意制作出来用于校验检测机台的标准片上的缺陷图案，因此有别于一般制程误差所导致的缺陷图案。

进一步而言，在本实施方式中，虚拟像素单元260包括黑矩阵230和彩色滤光层240，以在测试元件220中定义出虚拟像素单元260。彩色滤光层240则位于虚拟像素单元260中。值得注意的是。在玻璃基板200的测试元件220中，将虚拟像素单元260的黑矩阵230的图案或彩色滤光层240的图案设计成特定图案，使其和像素单元250不同，以构成标准缺陷图案270。

详细来说，标准缺陷图案270可以是如图3中绘示于玻璃基板200上部的标准缺陷图案270A的形态的局部放大图所示，其例如是标准点缺陷图案272，且标准点缺陷可以包括黑矩阵点缺陷的形态，其中标准点缺陷图案272例如具有多种标准尺寸，例如标准缺陷尺寸的分布可以是由5微米至30微米。更详细来说，黑矩阵点缺陷的形态例如是在其中之一虚拟像素单元260中具有和周围图案分离的黑矩阵图案残留。当然，标准点缺陷的形态也可以是彩色滤光层点缺陷，如图3中绘示于玻璃基板200右侧的标准缺陷图案270B的局部放大图所示，其例如是标准点缺陷图案272，且此标准点缺陷图案272是由彩色滤光层的点缺陷所构成，举例而言，由彩色滤光层的点缺陷例如是在其中之一虚拟像素单元260的彩色滤光层240中具有表面凹陷的凹槽，如图中标示C处。

当然，标准缺陷图案270也可以包括标准断线缺陷274的形态，如图3中绘示于玻璃基板200上部以及右侧的标准缺陷图案270A、270B中的断线缺陷图案274所示。如图3所示，标准断线缺陷274的形态例如是黑矩阵断线缺陷，换句话说，黑矩阵断线缺陷是两相邻的虚拟像素单元260之间的黑矩阵230具有开口H，而使位于两相邻的虚拟像素单元260之间的黑矩阵230分为彼此分离的两部分230A、230B。

当然，设计者还可视自动光学检查机的分辨能力、实际的制程条件以及产品需求等因素来决定标准缺陷图案的种类、形态、构成膜层。举例来说，本实施方式中，标准缺陷图案270中的标准点缺陷图案272可以单独由黑矩阵230所构成、或是由黑矩阵230和彩色滤光层240所共同构成，在其他实施方式中，标准点缺陷图案272也可以在黑矩阵230和彩色滤光层240上进一步覆盖保护层280或是保护层280和透明导电层290的叠层(绘示于图5F)，当然，标准缺陷图案270还可以是其他形态的布局，本发明并不以此为限。此外，实务上为了判别自动光学检查机的分辨能力、并通过判别面板结构210上的缺陷的尺寸来判定该玻璃基板200是否继续进行后续制程的等级，如续流(OK grade)、重工(Rework grade)或报废(NG grade)等，可以进一步将标准缺陷图案270的尺寸设计为多种尺寸，如此，可以维持进一步控管生产线产品的良率和产出质量。

图4绘示本发明的玻璃基板在自动光学检查机中操作的立体组合示意图。请参照图4，自动光学检查机300包括用于连续传输玻璃基板200的输送带302以及位于输送带302上下两侧的图像撷取部310。图像撷取部310包括位于输送带302上侧且用于扫描输送带302上的玻璃基板200上表面200U的图像上撷取部320以及位于输送带302下侧且用于扫描输送带302上的玻璃基板200下表面200B的图像下撷取部330。图像上撷取部320包括第一扫描体322以及和其连接的上伸缩杆324，而图像下撷取部330包括第二扫描体332以及和其连接的下伸缩杆334。

在实际运作时，第一扫描体322和玻璃基板200作相对运动，换句话说，第一扫描体322沿着第一扫描方向D1对玻璃基板200作相对位移。第二扫描体332的第二扫描方向D2和第一扫描体322的第一扫描方向D1相对，简单来说，对于输送带302上的玻璃基板200而言，第一扫描体322和第二扫描体332同时进行相对应的位移运动并同时进行玻璃基板200上表面200U和下表面200B的高分辨光学检验。详细的检测方法将在之后说明。

以图3为例，在此列举一种玻璃基板200的制作方法，请参照图5A至图5F，下文将一并说明。图5A至图5F是本发明一个实施方式中玻璃基板的制作方法流程示意图，为方便说明，图5A至图5F中和图3相同的构件则以相同符号表示，不再赘述。

首先，请先参照图5A，提供玻璃基板200，并在玻璃基板200上形成黑矩阵材料层232，其中黑矩阵材料层232的材质例如是感光性树脂。接着，如图5B所示，通过黑矩阵掩模230M进行曝光制程L，以使该黑矩阵材料层232图案化。并通过显影、烘烤等程序，如图5C所示，在基板上形成黑矩阵230，其中黑矩阵230在玻璃基板200的面板结构210中定义出多个像素单元250，并且在玻璃基板200的测试元件220中定义出多个虚拟像素单元260。

之后，如图5D所示，在黑矩阵230上形成特定颜色的彩色滤光材料层242，如红色滤光材料层，如图5E所示，通过彩色滤光层矩阵掩模240M进行曝光制程L，以使该红色滤光材料层图案化，通过显影、烘烤等程序后则可在预定区域中形成红色滤光层240R。重复上述5D、5E的步骤，以在其他预定区域中分别形成绿色滤光材料层以及蓝色滤光材料层。如此，即可制作出如图5F所示的由红色滤光层240R、绿色滤光层240G以及蓝色滤光层240B所构成的彩色滤光层240。并且，在本实施方式中，在彩色滤光层240上还可以进一步覆盖保护层280以及透明导电层290，其中保护层280覆盖黑矩阵230以及彩色滤光层240，且透明导电层290覆盖保护层280上。在本实施方式中，玻璃基板200通过上述制程可制为彩色滤光基板。

图6A和图6B分别是本发明一个实施方式的玻璃基板上利用黑矩阵或是黑矩阵和彩色滤光层叠层所制作的标准缺陷图案的示意图。请参照图6A，标准缺陷图案270中的标准点缺陷图案272和标准断线缺陷274例如是由黑矩阵230所构成，换句话说，测试元件220的虚拟像素单元260中的标准点缺陷图案272和标准断线缺陷274可以和面板结构210中的黑矩阵230同时形成。此外，标准点缺陷图案272相较于像素单元250图案，除了在虚拟像素单元260的中央处具有黑矩阵的残留272外，其余图案如周围的黑矩阵230图案的开口尺寸、形状均和像素单元250相同。同理，标准断线缺陷图案274相较于像素单元250图案，除了在两个虚拟像素单元260之间的黑矩阵230具有开口H，而使位于两相邻的虚拟像素单元260之间的黑矩阵230分为彼此分离的两部分230A、230B外，其余图案均和面板结构210中的二像素单元250相同。

请参照图6B，标准缺陷图案270中的标准点缺陷图案272和标准断线缺陷274是由黑矩阵230和彩色滤光层240的叠层所构成。在实施方式中，在标准点缺陷图案272上还覆盖有彩色滤光层240，如图中的蓝色滤光层240B处。当然，彩色滤光层点缺陷也可以是在虚拟像素单元260中，彩色滤光层240中具有表面凹陷的凹槽，如图中的绿色滤光层240G处的凹陷C所示，也或者是彩色滤光层240中具有类似针孔(pin hole)的气泡P，如图中的蓝色滤光层240B处，致使在该虚拟像素单元260中特定颜色滤光层呈现不均一的色度。

图7是本发明的一种用于制作上述玻璃基板的矩阵掩模示意图。请参照图7，矩阵掩模400上具有矩阵排列的掩模图案，其中掩模图案包括要布局在面板结构210中的像素单元250的像素单元图案、以及要布局在测试元件220中的虚拟像素单元260的虚拟像素单元图案，在本实施方式中，矩阵掩模400例如是前述的黑矩阵掩模230M，并以矩阵掩模400是黑矩阵掩模230M为例作说明，当然矩阵掩模400在其他实施方式中还可以是彩色滤光层矩阵掩模240M，本发明并不以此为限。

详细来说，如图7中标示为M1处的图案所示，矩阵掩模400中的一组标准检测图案410，而此标准检测图案410的尺寸和位置对应于标准缺陷图案270的尺寸和位置。基于制程或管理上的考虑，实务上用于布局上述标准检测图案410的掩模可以是另一测试掩模，也就是有别于量产的制程掩模，以避免将标准缺陷图案270直接误曝于量产产品中。当然，标准检测图案410还可以是和像素单元图案共同制作在另一测试掩模中，在实际的应用层面上，利用曝光机台控制掩模上所要曝光区域的开口位置及大小来制作出同时具有面板结构210以及测试元件220的玻璃基板200，因此本发明并不用来限定矩阵掩模400的种类，而可视产品需求以及生产流程管控而定。此外，此标准检测图案410的尺寸和位置也可以是对应于标准断线缺陷274图案274的尺寸和位置，此时标准检测图案410的形态是如图7中标示为M2处的图案所示。

请继续参照图7，在本实施方式中，黑矩阵材料层232是以负型的感光性树脂为例进行说明。请同时参照图6A和图7，为了制作出图6A所示的标准缺陷图案270，矩阵掩模400上的标准检测图案410中，对应于要形成测试元件220的虚拟像素单元260处是遮光区S，而对应于虚拟像素单元260中要形成黑矩阵230残留处设置透光区T。由于黑矩阵材料层232例如负型的感光性树脂，因此当光线经过透光区T照射玻璃基板200上时，黑矩阵材料层232的受光部位会产生如交链(cross linking)等化学反应，使该部位在经过显影的制程时可以不受显影液的影响而保留于玻璃基板200上。另一方面，黑矩阵材料层232中未受到光照的部位在通过显影的制程时则受到显影液的剥蚀而去除，因此即可制得如图6A中所绘示的标准缺陷图案270。

另外，矩阵掩模400上一组标准检测图案410的尺寸例如是由尺寸5微米以5微米的尺寸递增至30微米，如图中所示的5微米、10微米、15微米、20微米、25微米、30微米，而两相邻的标准检测图案410之间例如间隔10个对应像素单元250的掩模图案，实务上在矩阵掩模400中可以设计至少20组的标准检测图案410，在本实施方式中，矩阵掩模400中例如设计110组的标准检测图案410，但本发明并不以此为限。

为了详细地描述整个装置的检测方法的流程，以图4为例，在此列举一种利用上述玻璃基板200对自动光学检查机300作检验能力的检测方法，请参照图8，下文将一并说明。图8是图4的自动光学检查机利用图3的玻璃基板作检验能力的检测方法流程示意图。为方便说明，请同时参照图4和图8。

在利用上述玻璃基板200以对自动光学检查机300作检验能力的检测方法中，此自动光学检查机300在连续处理玻璃基板200的检测，并且在其执行生产线上检测作业的同时，进行自身检验能力的检测，本发明提出一种自动光学检查机300在执行生产线上检测作业时，同时进行自身检验能力的检测的方法。

请同时参照图4和图8，首先，请参照步骤S10，将多个玻璃基板200依序且连续输送至自动光学检查机300的输送带302上，其中这些输送至输送带302上的玻璃基板200包括至少一个上述具有多种标准缺陷图案270的玻璃基板200。详细来说，该玻璃基板200包括多个测试元件220以及多个面板结构210，测试元件220的虚拟像素单元260中可提供多种标准缺陷图案270，包括前述的黑矩阵230残留或黑矩阵断线缺陷等。

之后，请参照步骤S20，玻璃基板200在自动光学检查机300的输送带302上同时进行扫描分析。值得注意的是，自动光学检查机300在利用玻璃基板200上的标准缺陷图案270作自身检验能力的检测时，机台的状态仍维持在线(In-line)状态，并无须将机台切换为脱机(Off-line)状态以特别将其自生产线上独立出来，因此可以大幅增加机台的稼动率以及生产效率。

接着，请参照步骤S30，自动检查机的第一扫描体322和第二扫描体332分别对玻璃基板200作相对位移，以同时对玻璃基板200的上表面200U以及下表面200B进行检测，其中第一扫描体322的扫描方向和第二扫描体332的扫描方向相对。详细来说，该玻璃基板200在自动光学检查机300的输送带302上进行连续性地传输，第一扫描体322在玻璃基板200的上表面200U沿着第一扫描方向D1位移并进行图像撷取程序，而第二扫描体332在玻璃基板200的下面沿着相对于第一扫描方向D1的第二扫描方向D2位移并进行图像撷取程序。

然后，请参照步骤S30，通过玻璃基板200上的标准缺陷图案270对第一扫描体322及第二扫描体332执行良率检测。详细而言，所谓良率检测是泛指第一扫描体322和第二扫描体332利用其所撷取的标准缺陷图案270的图像来对其本身扫描体的图像进行检测能力分辨检测。在通过玻璃基板200上的标准缺陷图案270对第一扫描体322及第二扫描体332执行良率检测的步骤之后，进行步骤S40，执行自动光学检查机的检验能力的判断，依据判断选择执行步骤S41或步骤S42。请参照步骤S41，当检测结果是自动检查机的检验能力缺失时，还包括执行检验能力修补机制，或者，请参照步骤S42当检测结果是自动检查机的检验能力正常时，则执行继续扫描机制。

由上述可知，本发明的玻璃基板及利用此玻璃基板的自动光学检查机的检测方式可以直接利用产品的非利用区来进行标准缺陷图案的布局，并且直接利用产品进行在线的检测，不但可以确保自动光学检查机的检验能力，还可以兼顾产品的产量和良率，有效降低成本并克服自动光学检查机因检验能力丧失所造成大量产品报废的问题。本发明还提供一种用于制造上述玻璃基板的矩阵掩模，可以提升玻璃基板的量产性以及解决自动光学检查机的标准校验片在制作以及取得不易的窘境。

在上述实施例中，仅对本发明进行了示范性描述，但是本领域技术人员在阅读本专利申请后可以在不脱离本发明的精神和范围的情况下对本发明进行各种修改。

Claims (16)

1.一种玻璃基板，其特征在于，包括：

多个面板结构，该多个面板结构彼此分离，其中每一个面板结构包括：

黑矩阵，在该玻璃基板上定义出多个像素单元；

彩色滤光层，配置在该多个像素单元上；以及

多个测试元件，位于该多个面板结构的外围，该多个测试元件具有多个虚拟像素单元，该多个虚拟像素单元的图案区别于该多个像素单元的图案，且该多个虚拟像素单元中具有标准缺陷图案。

2.根据权利要求1所述的玻璃基板，其特征在于，该标准缺陷图案是标准点缺陷图案。

3.根据权利要求2所述的玻璃基板，其特征在于，该标准点缺陷是黑矩阵点缺陷，且该黑矩阵点缺陷是在该多个虚拟像素单元之一中具有和周围图案分离的黑矩阵图案残留。

4.根据权利要求2所述的玻璃基板，其特征在于，该标准点缺陷具有多种标准尺寸，且该标准缺陷的尺寸分布是5微米至30微米。

5.根据权利要求2所述的玻璃基板，其特征在于，该标准点缺陷是彩色滤光层点缺陷，且该彩色滤光层点缺陷是在该多个虚拟像素单元之一的该彩色滤光层中具有表面凹陷的凹槽。

6.根据权利要求1所述的玻璃基板，其特征在于，该多个虚拟像素单元包括：

该黑矩阵，以在该多个测试元件中定义出该多个虚拟像素单元；

该彩色滤光层，位于该虚拟像素单元中，

其中，该多个虚拟像素单元中的该黑矩阵的图案或该彩色滤光层的图案和该多个像素单元不同，以构成该标准缺陷图案。

7.根据权利要求1所述的玻璃基板，其特征在于，该标准缺陷图案包括标准断线缺陷。

8.根据权利要求7所述的玻璃基板，其特征在于，该标准断线缺陷是黑矩阵断线缺陷，该黑矩阵断线缺陷是两相邻的虚拟像素单元之间的黑矩阵分为彼此分离的两部分。

9.根据权利要求1所述的玻璃基板，其特征在于，该测试元件中的该多个虚拟像素单元在该基板上呈多行的条状布局。

10.根据权利要求1所述的玻璃基板，其特征在于，该多个测试元件位于两相邻面板结构的间隔位置。

11.根据权利要求1所述的玻璃基板，其特征在于，每一个面板结构还包括：

保护层，覆盖该黑矩阵以及该彩色滤光层；以及

透明导电层，覆盖该保护层上。

12.一种矩阵掩模，用于制作出根据权利要求1所述的玻璃基板，其特征在于，该矩阵掩模具有至少20组标准检测图案，该多个标准检测图案的尺寸和位置对应于该多个标准缺陷图案的尺寸和位置。

13.根据权利要求12所述的矩阵掩模，其特征在于，该矩阵掩模是黑矩阵掩模或彩色滤光层矩阵掩模。

14.一种检测方法，其适于检测检测装置的检验能力，在连续提供多个根据权利要求1所述的玻璃基板的自动光学检查机中，同时对该自动光学检查机进行检验能力的检测，其中该自动光学检查机包括传送该玻璃基板的输送带以及位于该输送带上下两侧的图像撷取部，该图像撷取部包括第一扫描体以及第二扫描体，且该第一扫描体和该第二扫描体分别在该玻璃基板的上表面和下表面扫描图像，其特征在于，该检测方法包括：

将多个玻璃基板依序且连续输送至该自动光学检查机的输送带上，其中该多个玻璃基板中具有根据权利要求1所述的玻璃基板，且该根据权利要求1所述的玻璃基板具有多种标准缺陷图案；

该多个玻璃基板在该自动光学检查机的该输送带上同时进行扫描分析；以及

通过该多个标准缺陷图案对该第一扫描体及该第二扫描体执行良率检测。

15.根据权利要求14所述的检测方法，其特征在于，进行扫描分析的方法包括：

自动检查机的该第一扫描体和该第二扫描体分别对该玻璃基板作相对位移，以同时对该玻璃基板的上表面以及下表面进行检测，其中该第一扫描体的扫描方向和该第二扫描体的扫描方向相对。

16.根据权利要求14所述的检测方法，其特征在于，在通过该多个标准缺陷图案对该第一扫描体及该第二扫描体执行良率检测的步骤之后，当检测结果是自动检查机的检验能力缺失时，还包括执行检验能力修补机制，而当检测结果是自动检查机的检验能力正常时，则执行继续扫描机制。

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