TWI386642B - 玻璃基板、使用該玻璃基板的檢測方法、以及製作該玻璃基板的矩陣光罩 - Google Patents

Description

玻璃基板、使用該玻璃基板的檢測方法、以及製作該 玻璃基板的矩陣光罩

本發明是涉及一種玻璃基板及其檢驗方法，特別是關於在玻璃基板上製作特殊缺陷，以使檢驗機台之掃描體對玻璃基板進行監督檢驗及檢測檢驗機台之掃描體的方法。

為因應現代產品高速度、高效能、且輕薄短小的要求，各電子零件皆積極地朝體積小型化發展。各種攜帶式電子裝置也已漸成主流，例如：筆記型電腦(Note Book)、行動電話(Cell Phone)、電子辭典、個人數位助理器(Personal Digital Assistant，P)、上網機(web pad)及平板型電腦(Tablet PC)等。對於攜帶式電子裝置的影像顯示面板而言，為了符合產品趨向小型化之需求，具有空間利用效率佳、高畫質、低消耗功率、無輻射等優越特性之液晶顯示面板(liquid crystal display，簡稱LCD)，目前已被廣為使用。

一般而言，在液晶顯示面板的製程當中可概分為前段(Array)、中段(Color Filter)、中後段(Cell)、後段(Module Assembly)。其中，在中段製程中通過多道製程以製成彩色濾光基板，包括黑色矩陣製程、紅色濾光膜製程、綠色濾光膜製程以及藍色濾光膜製程。在量產的過程中，為了兼顧產品的良率以及產出率，除了上述的製程外，必須在各製程之間適當地設置檢驗站別，以即時反應生產線上的不良並加以補正、或者即時找出問題機台加以維護以避免更多的半成品報廢，藉此控制生產成本並掌握產品的生產狀況以及產出良率。

近年來，業界在中段製程中採用自動光學檢查機(AOI)來對生產過程中的半成品(例如玻璃基板)進行的品質檢驗，並依賴自動光學檢查機(AOI)來即時反應生產線上的生產狀況。然而，當自動光學檢測機的檢驗能力失效時，玻璃基板將無法得到即時的補正，如此將使生產成本以及產品良率遭受極大的損害。

圖1為習知一種自動光學檢查機檢驗時機的示意圖，圖2為使用自動光學檢查機與否之產品良率示意圖。請參照圖1與圖2，在自動光學檢查機的檢測時間線102上，為了確保產品的產出量，是以每月或每季等依預定時間執行自動光學檢查機檢驗能力的確認作業，換言之，此次確認點B到前次確認點A之間為一固定檢驗週期，若此次確認點B到前次確認點A之間，自動光學檢查機若發生異常，則在此次確認點B之前的這一段自動光學檢查機檢驗能力的異常區間100內，自動光學檢查機將無法正常檢驗出玻璃基板上的缺陷，致使生產線無法發現產品異常並即時作處置，導致不良品大量增加，造成生產成本大幅的損失。

請繼續參照圖1與圖2，當自動光學檢查機在確認點B被檢驗出異常時，檢驗人員將依據檢驗結果於自動光學檢查機之異常區間101內對缺陷作處置以及機台的修復。如此一來，由圖2中的分析結果可知，使用自動光學檢查機在生產線上作玻璃基板的全檢106時，由於能夠即時發現產品的致命缺陷與共通缺陷，並立即作製程改善，因此，產品的良率可以維持一定的水準。反之，若於生產線上不使用自動光學檢查機作玻璃基板的檢驗107時，則產品良率則會隨時間變動而無法獲得一致的高水準。因此，自動光學檢查機的檢驗能力對製程良率的提升十分的重要，因此，如何妥善維護自動光學檢查機的檢驗能力以確保製程良率、並兼顧產出率成為液晶顯示面板產業發展的一大重要課題。

本發明提供一種玻璃基板，其可以使得生產線兼顧產品產出率以及產品量率。

本發明提供一種用以製造上述玻璃基板的矩陣光罩，利用局部修改佈局在產品中同時製作檢測元件，以兼顧產品產出率以及產品量率。

本發明提供一種使用上述玻璃基板的檢測方法，其可以利用自動光學檢查機的掃描體影像擷取的方式來維護檢驗能力，以維持產品量率。

本發明提出一種玻璃基板，此玻璃基板包括多個面板結構以及多個測試元件。面板結構彼此分離，其中每一面板結構包括黑色矩陣與彩色濾光層。其中，黑色矩陣於玻璃基板上定義出多個畫素單元。彩色濾光層配置於畫素單元上。多個測試元件位於面板結構的外圍，測試元件具有多個擬畫素單元，擬畫素單元的圖案與畫素單元的圖案不盡相同，且擬畫素單元中具有一標準缺陷圖案。

在本發明之一實施例中，上述之標準缺陷圖案為一標準點缺陷圖案。其中，標準點缺陷可以是一黑色矩陣點缺陷，且黑色矩陣點缺陷例如為在其中之一擬畫素單元中具有一與周圍圖案分離的黑色矩陣圖案殘留。此時，標準點缺陷例如具有多種標準尺寸，且標準缺陷的尺寸分佈為5微米至30微米。或者，上述之標準點缺陷也可以是一彩色濾光層點缺陷，且彩色濾光層點缺陷例如為在其中之一擬畫素單元的彩色濾光層中具有一表面凹陷的凹槽。

在本發明之一實施例中，上述之擬畫素單元包括黑色矩陣與彩色濾光層，以在測試元件中定義出擬畫素單元。彩色濾光層位於擬畫素單元中，其中擬畫素單元中之黑色矩陣的圖案或彩色濾光層的圖案與畫素單元不同，以構成標準缺陷圖案。

在本發明之一實施例中，上述之標準缺陷圖案包括一標準斷線缺陷。此時，標準斷線缺陷為一黑色矩陣斷線缺陷，黑色矩陣斷線缺陷為兩相鄰之擬畫素單元之間的黑色矩陣分為彼此分離的兩部分。

在本發明之一實施例中，上述之測試元件中的擬畫素單元在基板上呈多數行的條狀佈局。

在本發明之一實施例中，上述之測試元件位於兩相鄰面板結構的間隔位置。

在本發明之一實施例中，上述之每一面板結構更包括保護層以及透明導電層。保護層覆蓋黑色矩陣以及彩色濾光層。透明導電層覆蓋保護層上。

本發明另提出一種矩陣光罩，用於製作出上述之玻璃基板，其中矩陣光罩具有至少20組標準檢測圖案，標準檢測圖案的尺寸和位置對應於標準缺陷圖案的尺寸和位置。

在本發明之一實施例中，上述之矩陣光罩例如為黑色矩陣光罩或彩色濾光層矩陣光罩。

本發明另提出一種檢測方法，其適於在一連續提供多個上述之玻璃基板的一自動光學檢查機中，同時對自動光學檢查機進行檢驗能力的檢測，其中自動光學檢查機包括一傳送玻璃基板的輸送帶以及一位於輸送帶上下兩側的影像擷取部，其中影像擷取部包括一第一掃描體以及一第二掃描體，且第一掃描體與第二掃描體分別在玻璃基板的上表面與下表面掃描影像，此檢測方法包括下列步驟。首先，將多個玻璃基板依序且連續輸送至自動光學檢查機的輸送帶上，其中這些玻璃基板中具有一上述之玻璃基板，且此玻璃基板具有多種標準缺陷圖案。之後，玻璃基板在自動光學檢查機的輸送帶上同時進行掃描分析。繼之，藉由該些標準缺陷圖案對第一掃描體及第二掃描體執行良率檢測。

在本發明之一實施例中，上述之進行掃描分析的方法包括自動檢查機之第一掃描體與第二掃描體分別對玻璃基板作相對位移，以同時對玻璃基板的上表面以及下表面進行檢測，其中第一掃描體的掃描方向與第二掃描體的掃描方向相對。

在本發明之一實施例中，在上述之藉由該些標準缺陷圖案對第一掃描體及第二掃描體執行良率檢測的步驟之後，當檢測結果為自動檢查機之檢驗能力缺失時，更包括執行一檢驗能力修補機制，而當檢測結果為自動檢查機之檢驗能力正常時，則執行繼續掃描機制。

基於上述，本發明之玻璃基板利用在產品之面板結構的外圍上佈局測試元件，因此利用此玻璃基板的適當佈局，可以在進行面板結構的檢測時，同時利用測試元件來檢測自動光學檢查機的檢驗能力，不僅使玻璃基板上之面板結構可以連續地被檢測以確保產品良率，更可以在量產的檢測製程中，直接利用量產的玻璃基板來進行自動光學檢查機之檢驗能力的檢測，以解決自動光學檢查機在習知技術中需耗費長時間、以及解決習知用以檢測自動光學檢查機之檢驗能力的標準缺陷片在製作的困難。

本發明提供一種玻璃基板，其在玻璃基板之面板結構的外圍適當佈局測試元件，使得自動光學檢查機可以直接依據玻璃基板上的測試元件作其檢驗能力的維護，藉此，可以使自動光學檢查機直接使用量產品之玻璃基板作在線(In-line)的驗證，而無須特別將機台先切換為自生產線上排除，換言之將其切換為離線(Off-line)狀態，而單獨地對該機台作檢驗能力的定期檢測，另一方面，更可以解決用以檢測自動光學檢查機之檢測標準片在製作上的困難。以下將列舉具體實施例詳加說明。

圖3為本發明一實施例中玻璃基板之俯視示意圖。請參照圖3，玻璃基板200包括多個面板結構210以及多個測試元件220，其中面板結構210在完成預定的後續製程後，經玻璃基板200的切裂製程後可製作出液晶顯示面板。換言之，此面板結構210包括液晶顯示面板的預定顯示區以及預定周邊電路區，而測試元件220則位於面板結構210的外圍，在本實施例中，測試元件220可以分佈於相鄰之面板結構210的間隔位置202，也可以分佈於玻璃基板200上面板結構210以外的邊緣部分204，設計者可依據待檢測裝置之影像擷取鏡頭的裝設位置、掃描方向等機台參數配合面板結構210在玻璃基板200上佈局來適當設計測試元件220的分佈位置，本發明並不以此為限。

如圖3所示，具體而言，玻璃基板200例如為彩色濾光基板。面板結構210在玻璃基板200上呈彼此分離的佈局(layout)，其中每一面板結構210包括黑色矩陣230與彩色濾光層240。黑色矩陣230於玻璃基板200上定義出多個畫素單元250。彩色濾光層240配置於畫素單元250上。特別的是，測試元件220具有多個擬畫素單元260，而擬畫素單元260的圖案與畫素單元250的圖案不盡相同，換言之，擬畫素單元260的圖案與畫素單元250的圖案相似，但僅有些微的不同，關於擬畫素單元260的圖案將詳述於後。特別的是，擬畫素單元260中具有一標準缺陷圖案270，此標準缺陷圖案270可作為檢查機台(例如：自動光學檢測機)之校驗能力的標準片。值得注意的是，測試元件上之標準缺陷圖案270為製程上刻意製作出來用以校驗檢測機台之標準片上的缺陷圖案，因此有別於一般製程誤差所導致之缺陷圖案。

進一步而言，在本實施例中，擬畫素單元260包括黑色矩陣230與彩色濾光層240，以在測試元件220中定義出擬畫素單元260。彩色濾光層240則位於擬畫素單元260中。值得注意的是。在玻璃基板200之測試元件220中，將擬畫素單元260之黑色矩陣230的圖案或彩色濾光層240的圖案設計成特定圖案，使其與畫素單元250不同，以構成標準缺陷圖案270。

詳細而言，標準缺陷圖案270可以是如圖3中繪示於玻璃基板200上部之標準缺陷圖案270A之型態的局部放大圖所示，其例如是一標準點缺陷圖案272，且標準點缺陷可以包括一黑色矩陣點缺陷的形態，其中標準點缺陷圖案272例如具有多種標準尺寸，例如標準缺陷尺寸的分佈可以是由5微米至30微米。更詳細而言，黑色矩陣點缺陷的形態例如為在其中之一擬畫素單元260中具有一與周圍圖案分離的黑色矩陣圖案殘留。當然，標準點缺陷的形態也可以是彩色濾光層點缺陷，如圖3中繪示於玻璃基板200右側之標準缺陷圖案270B的局部放大圖所示，其例如是一標準點缺陷圖案272，且此標準點缺陷圖案272是由彩色濾光層的點缺陷所構成，舉例而言，由彩色濾光層的點缺陷例如是在其中之一擬畫素單元260的彩色濾光層240中具有一表面凹陷的凹槽，如圖中標示C處。

當然，標準缺陷圖案270也可以包括一標準斷線缺陷274的形態，如圖3中繪示於玻璃基板200上部以及右側之標準缺陷圖案270A、270B中的斷線缺陷圖案274所示。如圖3所示，標準斷線缺陷274的形態例如是黑色矩陣斷線缺陷，換言之，黑色矩陣斷線缺陷為兩相鄰之擬畫素單元260之間的黑色矩陣230具有一開口H，而使位於兩相鄰之擬畫素單元260之間的黑色矩陣230分為彼此分離的兩部分230A、230B。

當然，設計者亦可視自動光學檢查機之分辨能力、實際的製程條件以及產品需求等因素來決定標準缺陷圖案的種類、形態、構成膜層。舉例而言，本實施例中，標準缺陷圖案270中的標準點缺陷圖案272可以單獨由黑色矩陣230所構成、或是由黑色矩陣230與彩色濾光層240所共同構成，在其他實施例中，標準點缺陷圖案272也可以在黑色矩陣230與彩色濾光層240上進一步覆蓋保護層280或是保護層280與透明導電層290的疊層(繪示於圖5F)，當然，標準缺陷圖案270亦可以是其他形態的佈局，本發明並不以此為限。此外，實務上為了判別自動光學檢查機的分辨能力、並藉由判別面板結構210上之缺陷的尺寸來判定該玻璃基板200是否繼續進行後續製程的等級，如續流(OK grade)、重工(Rework grade)或報廢(NG grade)等，可以進一步將標準缺陷圖案270的尺寸設計為多種尺寸，如此，可以維持進一步控管生產線上產品的良率與產出品質。

圖4繪示本發明之玻璃基板在一自動光學檢查機中運作的立體組合示意圖。請參照圖4，自動光學檢查機300包括一用以連續傳輸玻璃基板200的輸送帶302以及一位於輸送帶302上下兩側的影像擷取部310。影像擷取部310包括一位於輸送帶302上側且用以掃描輸送帶302上之玻璃基板200上表面200U的影像上擷取部320以及一位於輸送帶302下側且用以掃描輸送帶302上之玻璃基板200下表面200B的影像下擷取部330。影像上擷取部320包括一第一掃描體322以及一與其連接的上伸縮杆324，而影像下擷取部330包括一第二掃描體332以及一與其連接的下伸縮杆334。

在實際運作時，第一掃描體322與玻璃基板200作相對運動，換言之，第一掃描體322沿著一第一掃描方向D1對玻璃基板200作相對位移。第二掃描體332之第二掃描方向D2與第一掃描體322之第一掃描方向D1相對，易言之，對於輸送帶302上的玻璃基板200而言，第一掃描體322與第二掃描體332同時進行相對應的位移運動並同時進行玻璃基板200上表面200U與下表面200B的高分辨光學檢驗。詳細的檢測方法將於後說明。

以圖3為例，在此列舉一種玻璃基板200的製作方法，請參照圖5A至圖5F，下文將一併說明。圖5A至圖5F為本發明一實施例中玻璃基板的製作方法流程示意圖，為方便說明，圖5A至圖5F中與圖3相同之構件則以相同符號表示，不再贅述。

首先，請先參照圖5A，提供一玻璃基板200，並於玻璃基板200上形成一黑色矩陣材料層232，其中黑色矩陣材料層232之材質例如為感光性樹脂。接著，如圖5B所示，經由一黑色矩陣光罩230M進行曝光製程L，以使該黑色矩陣材料層232圖案化。並經由顯影、烘烤等程序，如圖5C所示，於基板上形成黑色矩陣230，其中黑色矩陣230於玻璃基板200之面板結構210中定義出多個畫素單元250，並且於玻璃基板200之測試元件220中定義出多個擬畫素單元260。

之後，如圖5D所示，於黑色矩陣230上形成特定顏色的彩色濾光材料層242，如紅色濾光材料層，如圖5E所示，經由一彩色濾光層矩陣光罩240M進行曝光製程L，以使該紅色濾光材料層圖案化，經由顯影、烘烤等程序後則可於預定區域中形成紅色濾光層240R。重複上述5D、5E之步驟，以於其他預定區域中分別形成綠色濾光材料層以及藍色濾光材料層。如此，即可製作出如圖5F所示之由紅色濾光層240R、綠色濾光層240G以及藍色濾光240B層所構成之彩色濾光層240。並且，在本實施例中，於彩色濾光層240上更可以進一步覆蓋保護層280以及透明導電層290，其中保護層280覆蓋黑色矩陣230以及彩色濾光層240，且透明導電層290覆蓋保護層280上。在本實施例中，玻璃基板200經由上述製程可製為彩色濾光基板。

圖6A與圖6B分別為本發明一實施例之玻璃基板上利用黑色矩陣或是黑色矩陣與彩色濾光層疊層所製作之標準缺陷圖案的示意圖。請參照圖6A，標準缺陷圖案270中的標準點缺陷圖案272與標準斷線缺陷274例如是由黑色矩陣230所構成，換言之，測試元件220之擬畫素單元260中的標準點缺陷圖案272與標準斷線缺陷274可以與面板結構210中之黑色矩陣230同時形成。此外，標準點缺陷圖案272相較於畫素單元250圖案，除了在擬畫素單元260的中央處具有一黑色矩陣的殘留272外，其餘圖案如周圍之黑色矩陣230圖案的開口尺寸、形狀皆與畫素單元250相同。同理，標準斷線缺陷圖案274相較於畫素單元250圖案，除了在二擬畫素單元260之間的一黑色矩陣230具有一開口H，而使位於兩相鄰之擬畫素單元260之間的黑色矩陣230分為彼此分離的兩部分230A、230B外，其餘圖案皆與面板結構210中之二畫素單元250相同。

請參照圖6B，標準缺陷圖案270中的標準點缺陷圖案272與標準斷線缺陷274是由黑色矩陣230與彩色濾光層240的疊層所構成。在實施例中，於標準點缺陷圖案272上更覆蓋有彩色濾光層240，如圖中之藍色濾光層240B處。當然，彩色濾光層點缺陷也可以是在一擬畫素單元260中，彩色濾光層240中具有一表面凹陷的凹槽，如圖中之綠色濾光層240G處的凹陷C所示，亦或者是彩色濾光層240中具有一類似針孔(pin hole)的氣泡P，如圖中之藍色濾光層240B處，致使在該擬畫素單元260中特定顏色濾光層呈現不均一的色度。

圖7為本發明之一種用以製作上述玻璃基板的矩陣光罩示意圖。請參照圖7，矩陣光罩400上具有陣列排列之光罩圖案，其中光罩圖案包括一欲佈局在面板結構210中之畫素單元250的畫素單元圖案、以及欲佈局在測試元件220中之擬畫素單元260的擬畫素單元圖案，在本實施例中，矩陣光罩400例如是前述的黑色矩陣光罩230M，並以矩陣光罩400為黑色矩陣光罩230M為例作說明，當然矩陣光罩400在其他實施例中亦可以是彩色濾光層矩陣光罩240M，本發明並不以此為限。

詳言之，如圖7中標示為M1處的圖案所示，矩陣光罩400中的一組標準檢測圖案410，而此標準檢測圖案410的尺寸和位置對應於標準缺陷圖案270的尺寸和位置。基於製程或管理上的考量，實務上用以佈局上述標準檢測圖案410的光罩可以是另一測試光罩，亦即有別於量產的製程光罩，以避免將標準缺陷圖案270直接誤曝於量產產品中。當然，標準檢測圖案410亦可以是與畫素單元圖案共同製作於另一測試光罩中，在實際的應用層面上，利用曝光機台控制光罩上所欲曝光區域的開口位置及大小來製作出同時具有面板結構210以及測試元件220的玻璃基板200，因此本發明並不用以限定矩陣光罩400的種類，端視產品需求以及生產流程管控而定。此外，此標準檢測圖案410的尺寸和位置也可以是對應於標準斷線缺陷274圖案274的尺寸和位置，此時標準檢測圖案410的型態為如圖7中標示為M2處的圖案所示。

請繼續參照圖7，在本實施例中，黑色矩陣材料層232是以負型的感光性樹脂為例進行說明。請同時參照圖6A與圖7，為了製作出圖6A所示之標準缺陷圖案270，矩陣光罩400上的標準檢測圖案410中，對應於欲形成測試元件220之擬畫素單元260處為遮光區S，而對應於擬畫素單元260中欲形成黑色矩陣230殘留處設置一透光區T。由於黑色矩陣材料層232例如負型的感光性樹脂，因此當光線經由透光區T照射玻璃基板200上時，黑色矩陣材料層232的受光部位會產生如交鏈(cross linking)等化學反應，使該部位在經由顯影的製程時可以不受顯影液的影響而保留於玻璃基板200上。另一方面，黑色矩陣材料層232中未受到光照的部位在經由顯影的製程時則受到顯影液的剝蝕而去除，因此即可製得如圖6A中所繪示之標準缺陷圖案270。

另外，矩陣光罩400上一組標準檢測圖案410的尺寸例如是由尺寸5微米以5微米的尺寸遞增至30微米，如圖中所示之5微米、10微米、15微米、20微米、25微米、300微米，而兩相鄰之標準檢測圖案410之間例如間隔10個對應畫素單元250的光罩圖案，實務上在一矩陣光罩400中可以設計至少20組的標準檢測圖案410，在本實施例中，矩陣光罩400中例如設計110組的標準檢測圖案410，但本發明並不以此為限。

為了詳細地描述整個裝置的檢測方法的流程，以圖4為例，在此列舉一種利用上述玻璃基板200對自動光學檢查機300作檢驗能力的檢測方法，請參照圖8，下文將一併說明。圖8為圖4之自動光學檢查機利用圖3之玻璃基板作檢驗能力的檢測方法流程示意圖。為方便說明，請同時參照圖4與圖8。

在利用上述玻璃基板200以對自動光學檢查機300作檢驗能力的檢測方法中，此自動光學檢查機300於連續處理玻璃基板200的檢測，並且在其執行生產線上檢測作業的同時，進行自身檢驗能力的檢測，本發明提出一種自動光學檢查機300在執行生產線上檢測作業時，同時進行自身檢驗能力之檢測的方法。

請同時參照圖4與圖8，首先，請參照步驟S10，將多個玻璃基板200依序且連續輸送至自動光學檢查機300的輸送帶302上，其中這些輸送至輸送帶302上的玻璃基板200包括至少一上述具有多種標準缺陷圖案270的玻璃基板200。詳言之，該玻璃基板200包括多個測試元件220以及多個面板結構210，測試元件220之擬畫素單元260中可提供多種標準缺陷圖案270，包括前述之黑色矩陣230殘留或黑色矩陣斷線缺陷等。

之後，請參照步驟S20，玻璃基板200在自動光學檢查機300的輸送帶302上同時進行掃描分析。值得注意的是，自動光學檢查機300在利用玻璃基板200上之標準缺陷圖案270作自身檢驗能力之檢測時，機台的狀態仍維持在線(In-line)狀態，並無須將機台切換為離線(Off-line)狀態以特別將其自生產線上獨立出來，因此可以大幅增加機台的稼動率以及生產效率。

接著，請參照步驟S30，自動檢查機之第一掃描體322與第二掃描體332分別對玻璃基板200作相對位移，以同時對玻璃基板200的上表面200U以及下表面200B進行檢測，其中第一掃描體322的掃描方向與第二掃描體332的掃描方向相對。詳言之，該玻璃基板200在自動光學檢查機300的輸送帶302上進行連續性地傳輸，第一掃描體322在玻璃基板200的上表面200U沿著第一掃描方向D1位移並進行影像擷取程序，而第二掃描體332在玻璃基板200的下面沿著相對於第一掃描方向D1之第二掃描方向D2位移並進行影像擷取程序。

繼之，請參照步驟S30，藉由玻璃基板200上之標準缺陷圖案270對第一掃描體322及第二掃描體332執行良率檢測。詳言之，所謂良率檢測為泛指第一掃描體322與第二掃描體332利用其所擷取之標準缺陷圖案270的影像來對其本身掃描體之影像進行檢驗能力分辨檢測。在藉由玻璃基板200上之標準缺陷圖案270對第一掃描體322及第二掃描體332執行良率檢測的步驟之後，進行步驟40，執行自動光學檢查機之檢驗能力的判斷，依據判斷選擇執行步驟S41或步驟S42。請參照步驟S41，當檢測結果為自動檢查機之檢驗能力缺失時，更包括執行一檢驗能力修補機制，或者，請參照步驟S42當檢測結果為自動檢查機之檢驗能力正常時，則執行繼續掃描機制。

由上述可知，本發明之玻璃基板及利用此玻璃基板之自動光學檢查機的檢測方式可以直接利用產品的非利用區來進行標準缺陷圖案的佈局，並且直接利用產品進行在線的檢測，不但可以確保自動光學檢查機之檢驗能力，更可以兼顧產品之產量與良率，有效降低成本並克服自動光學檢查機因檢驗能力喪失所造成大量產品報廢的問題。本發明亦提供一種用於製造上述玻璃基板的矩陣光罩，可以提昇玻璃基板的量產性以及解決自動光學檢查機之標準校驗片在製作以及取得不易的窘境。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，故本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100、101．．．異常區間

102．．．檢測時間線

106．．．玻璃基板的全檢

107．．．玻璃基板的檢驗

200．．．玻璃基板

210．．．面板結構

220．．．測試元件

202．．．間隔位置

204．．．邊緣部分

230．．．黑色矩陣

232．．．黑色矩陣材料層

230A、230B．．．黑色矩陣部分

230M．．．黑色矩陣光罩

240．．．彩色濾光層

242．．．彩色濾光材料層

240M．．．彩色濾光層矩陣光罩

240R．．．紅色濾光層

240G．．．綠色濾光層

240B．．．藍色濾光層

250．．．畫素單元

260．．．擬畫素單元

270．．．標準缺陷圖案

272．．．標準點缺陷圖案

274．．．標準斷線缺陷

280．．．保護層

290．．．透明導電層

300．．．自動光學檢查機

302．．．輸送帶

310．．．影像擷取部

200U．．．上表面

200B．．．下表面

320．．．影像上擷取部

322．．．第一掃描體

324．．．上伸縮杆

330．．．影像下擷取部

332．．．第二掃描體

334．．．下伸縮杆

400．．．矩陣光罩

410．．．標準檢測圖案

C．．．凹槽

D1．．．第一掃描方向

D2．．．第二掃描方向

H．．．開口

L．．．曝光製程

S．．．遮光區

T．．．透光區

P．．．類似針孔的氣泡

圖1為習知一種自動光學檢查機檢驗時機的示意圖。

圖2為使用自動光學檢查機與否之產品良率示意圖。

圖3為本發明一實施例中玻璃基板之俯視示意圖。

圖4繪示本發明之玻璃基板在一自動光學檢查機中運作的立體組合示意圖。

圖5A至圖5F為本發明一實施例中玻璃基板的製作方法流程示意圖。

圖6A與圖6B分別為本發明一實施例之玻璃基板上利用黑色矩陣或是黑色矩陣與彩色濾光層疊層所製作之標準缺陷圖案的示意圖。

圖7為本發明之一種用以製作上述玻璃基板的矩陣光罩示意圖。

圖8為圖4之自動光學檢查機利用圖3之玻璃基板作檢驗能力的檢測方法流程示意圖。

200‧‧‧玻璃基板

202‧‧‧間隔位置

204‧‧‧邊緣部分

210‧‧‧面板結構

220‧‧‧測試元件

230‧‧‧黑色矩陣

230A、230B‧‧‧黑色矩陣部分

240‧‧‧彩色濾光層

250‧‧‧畫素單元

260‧‧‧擬畫素單元

270A、270B‧‧‧標準缺陷圖案

272‧‧‧標準點缺陷圖案

274‧‧‧標準斷線缺陷

C‧‧‧凹槽

H‧‧‧開口

P‧‧‧氣泡

Claims (16)

1. 一種玻璃基板，包括：多個面板結構，該些面板結構彼此分離，其中每一面板結構包括：一黑色矩陣，於該玻璃基板上定義出多個畫素單元；一彩色濾光層，配置於該些畫素單元上；以及多個測試元件，位於該些面板結構的外圍，該些測試元件具有多個擬畫素單元，該些擬畫素單元的圖案與該些畫素單元的圖案不盡相同，且該些擬畫素單元中具有一標準缺陷圖案。
2. 如申請專利範圍第1項所述之一種玻璃基板，其中該標準缺陷圖案為一標準點缺陷圖案。
3. 如申請專利範圍第2項所述之一種玻璃基板，其中該標準點缺陷為一黑色矩陣點缺陷，且該黑色矩陣點缺陷為在其中之一該些擬畫素單元中具有一與周圍圖案分離的黑色矩陣圖案殘留。
4. 如申請專利範圍第2項所述之一種玻璃基板，其中該標準點缺陷具有多種標準尺寸，且該標準缺陷的尺寸分佈為5微米至30微米。
5. 如申請專利範圍第2項所述之一種玻璃基板，其中該標準點缺陷為一彩色濾光層點缺陷，且該彩色濾光層點缺陷為在其中之一該些擬畫素單元的該彩色濾光層中具有一表面凹陷的凹槽。
6. 如申請專利範圍第1項所述之一種玻璃基板，其中該些擬畫素單元包括：該黑色矩陣，以在該些測試元件中定義出該些擬畫素單元；該彩色濾光層，位於該擬畫素單元中，其中，該些擬畫素單元中之該黑色矩陣的圖案或該彩色濾光層的圖案與該些畫素單元不同，以構成該標準缺陷圖案。
7. 如申請專利範圍第1項所述之一種玻璃基板，其中該標準缺陷圖案包括一標準斷線缺陷274。
8. 如申請專利範圍第7項所述之一種玻璃基板，其中該標準斷線缺陷274為一黑色矩陣斷線缺陷，該黑色矩陣斷線缺陷為兩相鄰之擬畫素單元之間的黑色矩陣分為彼此分離的兩部分。
9. 如申請專利範圍第1項所述之一種玻璃基板，其中該測試元件中的該些擬畫素單元在該基板上呈多數行的條狀佈局。
10. 如申請專利範圍第1項所述之一種玻璃基板，其中該些測試元件位於兩相鄰面板結構的間隔位置。
11. 如申請專利範圍第1項所述之一種玻璃基板，其中每一面板結構更包括：一保護層，覆蓋該黑色矩陣以及該彩色濾光層；以及一透明導電層，覆蓋該保護層上。
12. 一種矩陣光罩，用於製作出如申請專利範圍第1項所述之玻璃基板，其中該矩陣光罩具有至少20組標準檢測圖案，該些標準檢測圖案的尺寸和位置對應於該些標準缺陷圖案的尺寸和位置。
13. 如申請專利範圍第12項所述之一種矩陣光罩，其中該矩陣光罩為黑色矩陣光罩或彩色濾光層矩陣光罩。
14. 一種檢測方法，其適於檢測一檢測裝置的檢驗能力，在一連續提供多個如申請專利範圍第1項所述之玻璃基板的一自動光學檢查機中，同時對該自動光學檢查機進行檢驗能力的檢測，其中該自動光學檢查機包括一傳送該玻璃基板的輸送帶以及一位於該輸送帶上下兩側的影像擷取部，其中該影像擷取部包括一第一掃描體以及一第二掃描體，且該第一掃描體與該第二掃描體分別在該玻璃基板的上表面與下表面掃描影像，該檢測方法包括：將多個玻璃基板依序且連續輸送至該自動光學檢查機的輸送帶上，其中該些玻璃基板中具有一如申請專利範圍第1項所述之玻璃基板，且該如申請專利範圍第1項所述之玻璃基板具有多種標準缺陷圖案；該些玻璃基板在該自動光學檢查機的該輸送帶上同時進行掃描分析；以及藉由該些標準缺陷圖案對該第一掃描體及該第二掃描體執行良率檢測。
15. 如申請專利範圍第14項所述之檢測方法，其中進行掃描分析的方法包括：自動檢查機之該第一掃描體與該第二掃描體分別對該玻璃基板作相對位移，以同時對該玻璃基板的上表面以及下表面進行檢測，其中該第一掃描體的掃描方向與該第二掃描體的掃描方向相對。
16. 如申請專利範圍第14項所述之檢測方法，在藉由該些標準缺陷圖案對該第一掃描體及該第二掃描體執行良率檢測的步驟之後，當檢測結果為自動檢查機之檢驗能力缺失時，更包括執行一檢驗能力修補機制，而當檢測結果為自動檢查機之檢驗能力正常時，則執行繼續掃描機制。