CN101666926A - 光学各向异性参数测定方法及测定装置 - Google Patents

光学各向异性参数测定方法及测定装置 Download PDF

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Abstract

本发明“光学各向异性参数测定方法及测定装置”发展了差动SMP法,能够在短时间内测定不同的三种偏振状态的复振幅反射率比的相位差及大小。根据A~D中3种偏振状态合计12种光强度来测定相位差及大小:(A)对于在P±αA方向上的偏振光,以偏振光间相位被调整为γA1及γA2的合计4种偏振光作为入射光,其反射光所包含的合计4种S偏振光;(B)以P偏振光作为入射光时,其反射光P偏振光与S偏振光的偏振光间相位差被调整为γB1及γB2的偏振光中,在S±αB方向上振动的合计4种偏振光;(C)对于S±αC方向上的偏振光,以偏振光间相位被调整为γC1及γC2的合计4种偏振光作为入射光,其反射光所包含的合计4种P偏振光;(D)以S偏振光为入射光时,其反射光P偏振光与S偏振光的偏振光间相位差被调整为γD1及γD2的偏振光中,在P±αD方向上振动的合计4种偏振光。

Description

光学各向异性参数测定方法及测定装置
技术领域
【0001】
本发明涉及对测定对象面上形成的光学各向异性膜复振幅反射率比的相位差进行测定的光学各向异性参数测定方法及测定装置,尤其适用于液晶配向膜检查等。
背景技术
【0002】
液晶显示器由其表面层叠有透明电极及配向膜的后侧玻璃基板和其表面层叠有彩色滤光片、透明电极及配向膜而形成的前侧玻璃基板隔着间隔物且配向膜相向地拼合而成,在该配向膜间隙中封入液晶的状态下密封,并在其前后两侧层叠偏振滤光片。
【0003】
这里,为了让液晶显示器正常工作,液晶分子须均匀地同向排列,液晶分子方向性由配向膜确定。
该配向膜能够使液晶分子整齐排列,因为它具有单轴性光学各向异性,如果配向膜整个面上具有均匀的单轴性光学各向异性,液晶显示器就不容易出现缺陷,若存在光学各向异性不均匀的部分,则会由于液晶分子方向紊乱而给液晶显示器带来缺陷。
即,配向膜品质直接影响到液晶显示器质量。配向膜的缺陷会导致液晶分子方向性的紊乱,液晶显示器上就会产生缺陷。
【0004】
因而,液晶显示器装配时,如果通过预先检查配向膜有无缺陷而只使用品质稳定的配向膜,就可提高液晶显示器合格率和生产效率。
作为配向膜检查方法,迄今所知的有普通的椭圆计法(非专利文献1)。
【非专利文献1】R.M.A.Azzam and N.M.Bashara:Ellipsometry and Polarized Light(North-Holland,Amsterdam,1986)
【0005】
该方法是对3个以上多个入射偏振状态分别测定反射偏振状态,并测定复振幅反射率比RPP≡rPP/rSS、Rps≡rps/rSS、RSP≡rSP/rSS测定方位方向依存性。
这里,Rχ(χ是偏振状态)分别由照射测定点的入射光复振幅反射率定义,具体而言,由入射P偏振光时P偏振光复振幅反射率rPP、入射S偏振光时S偏振光复振幅反射率rSS、入射S偏振光时P偏振光复振幅反射率rps、入射P偏振光时S偏振光复振幅反射率rSP之比定义。
将入射光测定方位围绕竖立于测定点的法线而旋转360度进行测定,能够测定复振幅反射率比的测定方位方向依存性,因此能够详细评价配向膜分子配向,但是,问题在于测定很耗费时间。另外,如果膜厚薄,各向异性检测能力就会降低,因此有时不能测出各向异性这样的性质。
【0006】
因而,本申请人提出了差动SMP法,一种高速测定基于分子配向的光学各向异性的方法。
【专利文献1】日本特开2008-76324号公报
【0007】
在该方法中,将P偏振光或S偏振光中任一方对于测定对象物的方向作为基准方向,将入射光和测定光之一方设为在基准方向振动的直线偏振光,将入射光和测定光之另一方设为在相对于基准方向的π/2±α(0<α<π/2)方向上振动的一对直线偏振光,测定与该一对偏振光对应的二种测定光光强度,基于表示所得到的两个光强度数据差分的差分数据来测定光学各向异性参数,能够以短时间测定作为光学各向异性参数的测定对象物配向方位、光轴倾斜角及配向大小。
【0008】
但是问题在于,差动SPM法不能测定最代表光学各向异性物质特性的复振幅反射率比的相位差及大小,必须同时使用椭圆计法等其他方法。
而且,只要能够测定与测定方位对应的复振幅反射率比的相位差及大小,就能根据该测定结果用公知的传统方法测定全部总共7个光学各向异性参数(配向方位、光轴倾斜角、常光折射率、异常光折射率、配向层膜厚、配向层折射率、无配向层膜厚)。
发明内容
【0009】
因而,本发明的技术课题是,进一步发展差动SMP法,使之首先能够测定3种不同的偏振状态中的复振幅反射率比的相位差,第二能够测定各偏振状态下的复振幅反射率比。
【0010】
为了解决该课题,本申请第1发明的光学各向异性参数测定方法中,使入射光从规定的测定方位以一定入射角度照射测定对象面上的测定点,根据由测定其反射光所包含的特定方向的偏振光分量的光强度所获得的光强度数据,测定成为光学各向异性参数的复振幅反射率比的相位差Δχ(χ是偏振状态),其特征在于,
使上述入射光偏振化,以预先设定的测定方位照射测定点而进行测定的情况下,以测定对象面作为基准,将在与其正交的面内振动的直线偏振光设为P偏振光,在与该P偏振光正交的方向上振动的直线偏振光设为S偏振光时,以下的A~D的四个偏振状态中,根据对至少三个偏振状态各4种合计12种反射光测定的光强度数据,按照预先设定的程序,从按各偏振状态赋予的偏振光间相位差相等的反射光强度数据之间的二个差算出二个光强度差数据,通过将这二个光强度差数据相除,算出该入射光的测定方位上的复振幅反射率比的相位差Δχ
A:对于在P偏振光的振动方向的±αA(0<αA<π/2)的方向上振动的一对偏振光,以各自的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γA1及γA2的合计4种偏振光作为入射光在测定对象面反射时,各反射光所包含的合计4种S偏振光;
B:P偏振光作为入射光在测定对象面反射时,反射光的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γB1及γB2的2种光所包含的偏振光中,在S偏振光的振动方向的±αB(0<αB<π/2)的方向上振动的合计4种偏振光;
C:对于在S偏振光的振动方向的±αC(0<αC<π/2)的方向上振动的一对偏振光,以各自的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γC1及γC2的合计4种偏振光作为入射光在测定对象面反射时,各反射光所包含的合计4种P偏振光;
D:S偏振光作为入射光在测定对象面反射时,反射光的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γD1及γD2的2种光所包含的偏振光中,在P偏振光的振动方向的±αD(0<αD<π/2)的方向上振动的合计4种偏振光。
【0011】
本申请第2发明之特征在于,使上述测定方位围绕竖立于测定点的法线变化,同时根据对于在至少3种偏振状态各4种合计12种反射光测定的测定方位-光强度数据,按照预先设定的程序,算出与入射光测定方位对应的复振幅反射率比的相位差Δχ
【0012】
本申请第3发明的光学各向异性参数测定装置,具备:将偏振化为规定的偏振状态的光从规定的测定方位以一定入射角度照射测定对象面上的测定点的发光光学系统;检测其反射光被偏振化为规定的偏振状态的光的光强度的受光光学系统;以及根据测定的光强度算出成为光学各向异性参数的复振幅反射率比的相位差Δχ(χ是偏振状态)的运算装置,其特征在于:
上述发光光学系统中,依次安装照射单色光的光源、可调节偏振方向的起偏器以及可调节相位的发光侧相位补偿器,并且,
上述受光光学系统中,依次安装可调节相位的受光侧相位补偿器、可调节偏振方向的检偏器以及测定透过检偏器的偏振光的光强度的光传感器,
以测定对象面作为基准,将在与其正交的面内振动的直线偏振光设为P偏振光,在与该P偏振光正交的方向上振动的直线偏振光设为S偏振光时,上述运算装置,根据对以下的A~D的四个偏振状态中至少三个偏振状态的各4种合计12种反射光测定的光强度数据,按照预先设定的程序,从按各偏振状态赋予的偏振光间相位差相等的反射光强度数据之间的二个差算出二个光强度差数据,根据这二个光强度差数据相除算出该入射光的测定方位上的复振幅反射率比的相位差Δχ
【0013】
本申请第4发明之特征在于,发光光学系统与受光光学系统配置成可围绕竖立于测定点的法线相对旋转或被放射状地布置,并设有根据与入射光测定方位对应的光强度算出作为光学各向异性参数的复振幅反射率比的相位差Δχ(χ是偏振状态)的运算装置,该运算装置中,根据对于4种偏振状态A~D中的至少3种偏振状态各4种合计12种反射光测定的测定方位-光强度数据,按照预先设定的程序,从按各偏振状态赋予的偏振光间相位差相等的反射光强度数据之间2个差值算出2个测定方位-光强度差数据,并通过将这2个光强度差数据相除而算出与入射光测定方位对应的复振幅反射率比的相位差Δχ
【0014】
并且,在第5~第8发明中,按每种偏振状态将相位相等的一组反射光强度数据之和作为光强度和数据算出,由上述光强度差数据的一方与光强度和数据之比算出该入射光测定方位上的/所对应的复振幅反射率比的大小|Rχ|。
【0015】
依据本申请的第1与第3发明,将入射光从规定的测定方位照射测定点而测定其反射光光强度时,通过在预先设定的3种偏振状态下测定并算出光强度差数据之比,能够测定关于该测定方位方向上各自的偏振状态下该复振幅反射率比的相位差Δχ(χ是偏振状态)。
这里,如本申请的第5与第7发明那样,如果算出光强度差数据与光强度和数据之比,就能够在其测定方位方向上测定各自的偏振状态下其复振幅反射率比的大小|Rχ|(χ是偏振状态)。
【0016】
另外,如本申请的第2与第4发明那样,例如,发光光学系统与受光光学系统布置成可围绕竖立于测定点的法线相对地转动或放射状,能够一边使测定方位连续地或分级地改变一边进行测定,若如此,就能够测定与入射光测定方位对应的复振幅反射率比的相位差Δχ(χ是偏振状态),因此,能够将相位差Δχ作为测定方位函数来测定。
这里,本申请的第6与第8发明那样,如果算出光强度差数据与光强度和数据之比,就能够对于变化的测定方位方向测定各自的偏振状态下其复振幅反射率比的大小|Rχ|(χ是偏振状态),因此,能够将复振幅反射率比的大小作为测定方位函数来测定。
附图说明
图1是表示本发明的光学各向异性参数测定装置的一例的说明图。
图2是表示运算装置的主例程的处理顺序的流程图。
图3是表示子例程的处理顺序的流程图。
图4是表示偏振状态A中的光强度差数据、光强度和数据的曲线图。
图5是表示偏振状态B中的光强度差数据、光强度和数据的曲线图。
图6是表示偏振状态C中的光强度差数据、光强度和数据的曲线图。
图7是表示偏振状态D中的光强度差数据、光强度和数据的曲线图。
图8是表示算出的复振幅反射率比的相位差的曲线图。
图9是表示算出的复振幅反射率比的大小的曲线图。
【符号的说明】
1 光学各向异性参数测定装置
2 载物台
3 样品的表面(测定对象面)
4 测定点
5 法线
10 发光光学系统
11 光源
12 起偏器
13 发光侧相位补偿器
20 受光光学系统
21 受光侧相位补偿器
22 检偏器
23 光传感器
30 计算机(运算装置)
具体实施方式
【0017】
为了进一步发展差动SMP法而实现测定不同的3种偏振状态的复振幅反射率比的相位差之目的,在本发明的光学各向异性参数测定方法中,使入射光以一定入射角度照射测定对象面上的测定点,根据由测定其反射光所包含的特定方向的偏振光分量的光强度所获得的光强度数据,测定成为光学各向异性参数的复振幅反射率比的相位差Δχ(χ是偏振状态),其特征在于,
使上述入射光偏振化,以预先设定的测定方位照射测定点而进行测定的情况下,以测定对象面作为基准,将在与其正交的面内振动的直线偏振光设为P偏振光,在与该P偏振光正交的方向上振动的直线偏振光设为S偏振光时,以下的A~D的四个偏振状态中,根据对至少三个偏振状态各4种合计12种反射光测定的光强度数据,按照预先设定的程序,从按各偏振状态赋予的偏振光间相位差相等的反射光强度数据之间的二个差算出二个光强度差数据,通过将这二个光强度差数据相除,算出该入射光的测定方位上的复振幅反射率比的相位差Δχ
A:对于在P偏振光的振动方向的±αA(0<αA<π/2)的方向上振动的一对偏振光,以各自的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γA1及γA2的合计4种偏振光作为入射光在测定对象面反射时,各反射光所包含的合计4种S偏振光;
B:P偏振光作为入射光在测定对象面反射时,反射光的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γB1及γB2的2种光所包含的偏振光中,在S偏振光的振动方向的±αB(0<αB<π/2)的方向上振动的合计4种偏振光;
C:对于在S偏振光的振动方向的±αC(0<αC<π/2)的方向上振动的一对偏振光,以各自的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γC1及γC2的合计4种偏振光作为入射光在测定对象面反射时,各反射光所包含的合计4种P偏振光;
D:S偏振光作为入射光在测定对象面反射时,反射光的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γD1及γD2的2种光所包含的偏振光中,在P偏振光的振动方向的±αD(0<αD<π/2)的方向上振动的合计4种偏振光。
【0018】
图1是表示本发明的光学各向异性参数测定装置的一例的说明图,图2是表示运算装置的主例程的处理顺序的流程图,图3是表示子例程的处理顺序的流程图,图4是表示偏振状态A中的光强度差数据、光强度和数据的曲线图,图5是表示偏振状态B中的光强度差数据、光强度和数据的曲线图,图6是表示偏振状态C中的光强度差数据、光强度和数据的曲线图,图7是表示偏振状态D中的光强度差数据、光强度和数据的曲线图,图8是表示算出的复振幅反射率比的相位差的曲线图,图9是表示算出的复振幅反射率比的大小的曲线图。
【0019】
首先,说明本发明的复振幅反射率及其相位差的测定理论。
若考虑偏振光的反射,则复振幅反射率rχ(χ是偏振状态)表示为:
rχ=|rχ|exp[iδχ]
rPP:P偏振光入射时的反射光的P偏振光的复振幅反射率
rSP:P偏振光入射时的反射光的S偏振光的复振幅反射率
rPS:S偏振光入射时的反射光的P偏振光的复振幅反射率
rSS:S偏振光入射时的反射光的S偏振光的复振幅反射率
δPP:反射光的P偏振光的相位对入射光的P偏振光的相位的跃变
δSP:反射光的S偏振光的相位对入射光的P偏振光的相位的跃变
δPS:反射光的P偏振光的相位对入射光的S偏振光的相位的跃变
δSS:反射光的S偏振光的相位对入射光的S偏振光的相位的跃变
【0020】
此时,复振幅反射率比Rχ由下式定义为:
Rχ=rχ/rSS
=(|rχ|exp[iδχ])/(|rSS|exp[iδSS])
=(|rχ|/|rSS|)exp[i(δχSS)]
=|Rχ|exp[iΔχ]
复振幅反射率比Rχ的相位差Δχ表示为:
Δχ=δχSS
【0021】
这样定义的复振幅反射率比Rχ的三种相位差ΔPP、ΔSP、ΔPS和三种的大小|RPP|、|RSP|、|RPS|作为配向膜等的光学各向异性材料的物性参数是重要的,特别地,知道相位差ΔPP、ΔSP、ΔPS对于进行该光学各向异性材料的评价是重要的。
【0022】
在各偏振状态测定的反射光强度的理论式如下。
[偏振状态A]
对于相对于P偏振光的振动方向在±αA(0<αA<π/2)的方向上振动的一对偏振光,将各自的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差分别调节为γA1及γA2后的合计4种偏振光作为入射光在测定对象面反射时的反射光的光强度用琼斯矩阵表示如下。
【式1】
IA=|Eout|2=I0{MR(-θA)·MA·MRA)·MS·Qγ·MR(-θp)·MP·MRp)·Ein}
这里,I0是装置常数,Ein、Eout是入射光及测定光的偏振光矢量,MP、Q、MS、MA、MR分别是起偏器、相位板、试料、检偏器、坐标旋转的琼斯矩阵,分别表示为以下的形态。
【式2】
E = E x E y
M R ( θ ) = cos θ sin θ - sin θ cos θ
M P = 1 0 0 0
Q γ = 1 0 0 e - iγ
M S = r pp r ps r sp r ss
M A = 1 0 0 0
γ:偏振光间相位差
θp:起偏器的偏向角
θA:检偏器的偏向角
若入射光的偏振光的偏向角设为θ,则光强度IA(θ,γ)由次式算出。
【式3】
IA(θ,γ)=I0{|rsp|2cos2θ+|rss|2sin2θ+|rsp||rss|sin(2θ)cos(δspss+γ)}
偏振状态A中,以下的各条件下,进行光强度的测定。
测定1:[γ,θp,θA]=[γA1,+αA,90°]
测定2:[γ,θp,θA]=[γA1,-αA,90°]
测定3:[γ,θp,θA]=[γA2,+αA,90°]
测定4:[γ,θp,θA]=[γA1,-αA,90°]
将该值代入上式,分别求出
IA11=IAA,γA1)
IA12=IAA,γA2)
IA21=IA(-αA,γA1)
IA22=IA(-αA,γA2)
若取得其差值、和值,则他们表示如下。
【式4】
DIA1=2I0 sin(2αA)|rsp||rss|cos(δspssA1)
DIA2=2I0 sin(2αA)||rsp|rss|cos(δspssA2)
SIA=2I0(|rsp|2cos2αA+|rss|2sin2αA)
DIA1:IA11与IA21之差
DIA2:IA12与IA22之差
SIA:IA11与IA21,或,IA12与IA22之和
【0023】
[偏振状态B]
P偏振光作为入射光在测定对象面反射时,将反射光的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γB1及γB2的2种光所包含的偏振光中,相对于S偏振光的振动方向在±αB(0<αB<π/2)的方向上振动的合计4种偏振光的光强度由次式算出。
【式5】
IB=|Eout|2=I0{MR(-θA)·MA·MRA)·Qγ·MS·MR(-θp)·MP·MRp)·Ein}
若反射光的偏振光的偏向角设为θ,则光强度IB(θ,γ)由次式算出。
【式6】
IB(θ,γ)=I0{|rpp|2sin2θ+|rsp|2cos2θ+|rpp||rsp|sin(2θ)cos(δppsp+γ)}
偏振状态B中,在以下的各条件下,进行光强度的测定。
测定1:[γ,θp,θA]=[γB1,0°,90°+αB]
测定2:[γ,θp,θA]=[γB1,0°,90°-αB]
测定3:[γ,θp,θA]=[γB2,0°,90°+αB]
测定4:[γ,θp,θA]=[γB1,0°,90°-αB]
将该值代入上式,分别求出
IB11=IBB,γB1)
IB12=IBB,γB2)
IB21=IB(-αB,γB1)
IB22=IB(-αB,γB2)
若取得其差值、和值,则他们表示如下。
【式7】
DIB1=2I0 sin(2αB)|rpp||rsp|cos(δppspB1)
DIB2=2I0 sin(2αB)|rpp||rsp|cos(δppspB2)
SIB=2I0(|rpp|2sin2αB+|rsp|2cos2αB)
DIB1:IB11与IB21之差
DIB2:IB12与IB22之差
SIB:IB11与IB21,或,IB12与IB22之和
【0024】
[偏振状态C]
对于相对于S偏振光的振动方向在±αC(0<αC<π/2)的方向上振动的一对偏振光,将各自的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差分别调节为γC1及γC2后的合计4种偏振光作为入射光在测定对象面反射时的反射光的光强度由次式表示。
【式8】
IC=|Eout|2=I0{MR(-θA)·MA·MRA)·MS·Qγ·MR(-θp)·MP·MRp)·Ein}
若偏振光的偏向角设为θ,则光强度IC(θ,γ)由次式算出。
【式9】
IC(θ,γ)=I0{|rpp|2sin2θ+|rps|2cos2θ+|rpp||rps|sin(2θ)cos(δppps+γ)}
偏振状态C中,在以下的各条件下,进行光强度的测定。
测定1:[γ,θp,θA]=[γC1,90°+αC,0°
测定2:[γ,θp,θA]=[γC1,90°-αC,0°]
测定3:[γ,θp,θA]=[γC2,90°+αC,0°]
测定4:[γ,θp,θA]=[γC1,90°-αC,0°]
将该值代入上式,分别求出
IC11=ICC,γC1)
IC12=ICC,γC2)
IC21=IC(-αC,γC1)
IC22=IC(-αC,γC2)
若取得其差值、和值,则他们表示如下。
【式10】
DIC1=2I0 sin(2αC)|rpp||rps|cos(δpppsC1)
DIC2=2I0 sin(2αC)|rpp||rps|cos(δpppsC2)
SIC=2I0(|rpp|2sin2θ+|rps|2cos2θ)
DIC1:IC11与IC21之差
DIC2:IC12与IC22之差
SIC:IC11与IC21,或,IC12与IC22之和
【0025】
[偏振状态D]
S偏振光作为入射光在测定对象面反射时,在将反射光的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γD1及γD2后的2种光所包含的偏振光中,相对于P偏振光的振动方向在±αD(0<αD<π/2)的方向上振动的合计4种偏振光的光强度由下式表示。
【式11】
ID=|Eout|2=I0{MR(-θA)·MA·MRA)·Qγ·MS·MR(-θp)·MP·MRp)·Ein}
若偏振光的偏向角设为θ,则光强度ID(θ,γ)由次式算出。
【式12】
ID(θ,γ)=I0{|rps|2cos2θ+|rss|2sin2θ+|rps||rss|sin(2θ)cos(δpsss+γ)}
偏振状态D中,在以下的各条件下,进行光强度的测定。
测定1:[γ,θp,θA]=[γD1,90°,0°+αD]
测定2:[γ,θp,θA]=[γD1,90°,0°-αD]
测定3:[γ,θp,θA]=[γD2,90°,0°+αD]
测定4:[γ,θp,θA]=[γD1,90°,0°-αD]
将该值代入上式,分别求出
ID11=IDD,γD1)
ID12=IDD,γD2)
ID21=ID(-αD,γD1)
ID22=ID(-αD,γD2)
若取得其差值、和值,则他们表示如下。
【式13】
DID1=2I0 sin(2αD)|rps||rss|cos(δpsssD1)
DID2=2I0 sin(2αD)|rps||rss|cos(δpsssD2)
SIS=2I0(|rps|2cos2θ+|rss|2sin2θ)
【0026】
若求出在偏振状态A~D测定的反射光强度的差彼此之比及差与和之比,则导出以下式。
[偏振状态A]
(1)差之比
DIA1/DIA2=cos(ΔSPA1)/cos(ΔSPA2)
(2)差与和之比
DIA1/SIA=sin(2αA)|RSP|cos(ΔSPA1)
/{2(|RSP|2cos2αA+sin2αA)}
[偏振状态B]
(1)差之比
DIB1/DIB2=cos(ΔPPSPB1)/cos(ΔPPSPB2)
(2)差与和之比
DIB1/SIB=sin(2αB)|RPP||RSP|cos(ΔPPSPB1)
/{2(|RPP|2cos2αB+|RSP|2sin2αB)}
[偏振状态C]
(1)差之比
DIC1/DIC2=cos(ΔPPPSC1)/cos(ΔPPPSC2)
(2)差与和之比
DIC1/SIC=sin(2αC)|RPP||RPS|cos(ΔPPPSC1))
/{2(|RPP|2cos2αC+|RPS|2sin2αC)}
[偏振状态D]
(1)差之比
DID1/DID2=cos(ΔPSD1)/cos(ΔPSD2)
(2)差与和之比
DID1/SID=sin(2αD)|RPS|cos(ΔPSD1)
/{2(|RPS|2cos2αD+sin2αD)}
【0027】
上式中,光强度差数据DIA1、DIA2、DIB1、DIB2、DIC1、DIC2、DID1、DID2是可以从测定的反射光强度算出的已知值,由偏振光的偏向角αA~αD、相位补偿器等赋予的偏振光间相位差γA1、γA2、γB1、γB2、γC1、γC2、γD1、γD2也是已知的设定值。
然后,由于三个复振幅反射率比的相位差ΔPP、ΔSP、ΔPS和三个复振幅反射率的大小|RPP|、|RSP|、|RPS|是未知数,通过代入各值,可以算出这些未知数。
【0028】
另外,若使在测定点竖立的法线的周围朝向测定点的入射光的测定方位变化的同时测定反射光强度,则可以测定相对于反射光强度、光强度差数据、光强度和数据的测定方位的变化,可以根据光强度差数据的变化求出配向方向,另外,对于相位差ΔPP、ΔSP、ΔPS及复振幅反射率比的大小|RPP|、|RSP|、|RPS|,也可以测定相对于测定方位的变化。
该场合,复振幅反射率比的相位差Δχ及大小|Rχ|可以表示为配向方位、光轴的倾斜角、常光折射率、异常光折射率、配向层膜厚、配向层折射率、无配向层膜厚的七个参数的函数,因此根据这六个值,通过用计算机进行拟合的传统公知的手法,可以求出上述七个光学各向异性参数。
【实施例】
【0029】
图1所示光学各向异性参数测定装置1具备将偏振化为规定的偏振状态的光从规定的测定方位以一定入射角度照射置于载物台2的样品的表面(测定对象面)3上的测定点4的发光光学系统10和检测将其反射光偏振化为规定的偏振状态后的光的光强度的受光光学系统20,它们在上述测定点4竖立的法线5的周围配置成可相对旋转或放射状,同时,还具备根据与入射光的测定方位相应的光强度算出成为光学各向异性参数的复振幅反射率比的相位差Δχ(χ是偏振状态)及大小|Rχ|的计算机(运算装置)30。
另外,在载物台2的上方配置摇动量检测用的自准直仪6,载物台2安装到摇动调节台7、高度调节台8、旋转台9。
【0030】
发光光学系统10中,按照顺序安装了照射单色光的光源11、偏振方向可调节的起偏器12、相位可调节的发光侧相位补偿器13。
本例中,光源11使用发射波长532nm半导体激励SHG激光器,起偏器使用消光比10-6格兰-汤姆逊棱镜,相位补偿器13使用巴俾涅-索累补偿板。
【0031】
受光光学系统20中,按照顺序安装了P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差可调节的受光侧相位补偿器21、偏振方向可调节的检偏器22、测定透过检偏器22的偏振光的光强度的光传感器23。
本例中,相位补偿器21使用巴俾涅-索累补偿板,检偏器22使用消光比10-6格兰-汤姆逊棱镜,光传感器23使用光电子增倍管,该光传感器23检测的光强度通过装入计算机30的A-D变换器成为数字化数据后读取。
【0032】
另外,本例中,一对发光光学系统10及受光光学系统20配置成相对于放置样品的载物台2可旋转,使得入射角的测定方位可以连续地变化,具体地说,载物台2由被水平旋转驱动的旋转台形成。
该场合,可以固定载物台2,使发光光学系统10及受光光学系统20配置成可旋转,另外,例如也可以使多对的发光光学系统10及受光光学系统20配置成等角的放射状。
而且,仅仅对于特定的测定方位测定复振幅反射率比的相位差Δχ及大小|Rχ|的场合,不需要将发光光学系统10及受光光学系统20配置成相对于载物台2可旋转或呈放射状多对设置等的测定方位可变机构。
【0033】
然后,一边使载物台旋转使入射光的测定方位变化,一边对以下的A~D的四个偏振状态中至少三个偏振状态的各4种合计12种反射光,进行测定方位-光强度数据的测定。
A:对于在P偏振光的振动方向的±αA(0<αA<π/2)的方向上振动的一对偏振光,以各自的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γA1及γA2的合计4种偏振光作为入射光在测定对象面反射时,各反射光所包含的合计4种S偏振光;
B:P偏振光作为入射光在测定对象面反射时,反射光的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γB1及γB2的2种光所包含的偏振光中,在S偏振光的振动方向的±αB(0<αB<π/2)的方向上振动的合计4种偏振光;
C:对于在S偏振光的振动方向的±αC(0<αC<π/2)的方向上振动的一对偏振光,以各自的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γC1及γC2的合计4种偏振光作为入射光在测定对象面反射时,各反射光所包含的合计4种P偏振光;
D:S偏振光作为入射光在测定对象面反射时,反射光的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γD1及γD2的2种光所包含的偏振光中,在P偏振光的振动方向的±αD(0<αD<π/2)的方向上振动的合计4种偏振光。
【0034】
计算机30的输入侧与驱动载物台2的旋转台9的旋转角传感器9s、光传感器23连接,输出侧与光源11、旋转台9的驱动机构9d、起偏器12的驱动机构12d、发光侧相位补偿器13的驱动机构13d、受光侧相位补偿器21的驱动机构21d、检偏器22的驱动机构22d连接。
从而,可以调节起偏器12、发光侧相位补偿器13、受光侧相位补偿器21、检偏器22,设定成偏振状态A~D,另外,各个偏振状态A~D中由光传感器23检测光强度的同时,被输入该检测时刻的入射光的测定方位。
【0035】
然后,计算机30中,按照预先设定的程序,按偏振状态从相位相等的反射光强度数据之间的二个差算出二个测定方位-光强度差数据,从这二个光强度差数据之比算出与入射光的测定方位相应的复振幅反射率比的相位差Δχ及大小|Rχ|。
【0036】
图2及图3是表示计算机的处理顺序的流程图。
首先,步骤STP1进行初始设定。
在偏振状态A~D中根据在哪种偏振状态下测定来设定3种偏振状态,同时根据这里设定的偏振状态,设定用起偏器13设定的相对于P偏振光及S偏振光的偏向角αA及αC,设定用检偏器14设定的相对于S偏振光及P偏振光的偏向角αB及αD,并设定用发光侧相位补偿器13及受光侧相位补偿器21设定的相位差。
本例中,设定偏振状态A~C,起偏器13或检偏器设定的偏向角设定成
αA=αB=αC=αD=10°
由发光侧相位补偿器13及受光侧相位补偿器21赋予的偏振光间相位差设定成
γA1=γB1=γC1=γD1=0°
γA2=γB2=γC2=γD2=90°
【0037】
步骤STP2中,待机到规定的启动开关被按下,按下时在步骤STP3中光源11及光传感器23导通,对放置在载物台2上的样品开始光学各向异性参数的测定。
首先,步骤STP4中,判断是否选择了偏振状态A,在选择时进行子例程A的处理,在未选择时或该处理结束的时刻进入步骤STP5。
步骤STP5中,判断是否选择了偏振状态B,在选择时进行子例程B的处理,在未选择时或该处理结束的时刻进入步骤STP6。
步骤STP6中,判断是否选择了偏振状态C,在选择时进行子例程C的处理,在未选择时或该处理结束的时刻进入步骤STP7。
步骤STP7中,判断是否选择了偏振状态D,在选择时进行子例程D的处理,在未选择时或该处理结束的时刻进入步骤STP8。
【0038】
为了方便,对于起偏器及检偏器的角度,P偏振方向设为0°,S偏振方向设为90°,起偏器12的角度设为θp,由发光侧相位补偿器13赋予的偏振光间相位差设为λin,由受光侧相位补偿器14赋予的偏振光间相位差设为λout,检偏器12的角度设为θA
图3(a)所示子例程A的步骤STP11中,启动各驱动机构12d、13d、21d、22d,调节发光光学系统10及受光光学系统20使得[θp,λin,λout,θA]=[0+αA,0,0,90],在步骤12中一边使载物台2旋转360°一边按规定角度间隔读入光强度IA11
步骤STP13中,调节发光光学系统10及受光光学系统20使得[θp,λin,λout,θA]=[0-αA,0,0,90],在步骤STP14一边使载物台2旋转360°一边按规定角度间隔读入光强度IA21
步骤STP15中,调节发光光学系统10及受光光学系统20使得[θp,λin,λout,θA]=[0+αA,90,0,90],在步骤STP16中一边使载物台2旋转360°一边按规定角度间隔读入光强度IA12
步骤STP17中,调节发光光学系统10及受光光学系统20使得[θp,λin,λout,θA]=[0-αA,90,0,90],在步骤STP18中一边使载物台2旋转360°一边按规定角度间隔读入光强度IA22
【0039】
以下同样,在图3(b)所示子例程B的步骤STP21中,设[θp,λin,λout,θA]=[0,0,0,90+αB],在步骤22读入光强度IB11
步骤STP23中,设[θp,λin,λout,θA]=[0,0,0,90-αB],在步骤STP24读入光强度IB21
步骤STP25中,设[θp,λin,λout,θA]=[0,0,90,90+αB],在步骤STP26读入光强度IB12
步骤STP27中,设[θp,λin,λout,θA]=[0,90,0,90-αB],在步骤STP28读入光强度IB22
【0040】
图3(c)所示子例程C的步骤STP31中,设[θp,λin,λout,θA]=[90+αC,0,0,0],在步骤22读入光强度IC11
步骤STP23中,设[θp,λin,λout,θA]=[90-αC,0,0,0],在步骤STP23读入光强度IC21
步骤STP25中,设[θp,λin,λout,θA]=[90+αC,90,0,0],在步骤STP26读入光强度IC12
步骤STP27中,设[θp,λin,λout,θA]=[90-αC,90,0,0],在步骤STP28读入光强度IC22
【0041】
图3(d)所示子例程D的步骤STP41中,设[θp,λin,λout,θA]=[0,0,0,90+αB],在步骤42读入光强度ID11
步骤STP43中,设[θp,λin,λout,θA]=[0-αB,0,0,90],在步骤STP44读入光强度ID21
步骤STP45中,设[θp,λin,λout,θA]=[0+αB,90,0,90],在步骤STP46读入光强度ID12
步骤STP47中,设[θp,λin,λout,θA]=[0-αB,90,0,90],在步骤STP48读入光强度ID22
【0042】
各子例程A~D的测定结束后,进入步骤STP8,根据测定结果,算出复振幅反射率比的相位差Δχ及大小|Rχ|。
步骤STP8中,根据在各偏振状态A~D测定的光强度,按偏振状态从相位相等的反射光强度数据之间的二个差算出二个测定方位-光强度差数据,算出相位相等的反射光强度数据的和,作为测定方位-光强度和数据。
图4(a)~(c)是偏振状态A中的反射光强度差DIA1=IA11-IA21、反射光强度差DIA2=IA12-IA22、反射光强度和SIA=IA11+IA21的测定结果。
图5(a)~(c)是偏振状态B中的反射光强度差DIB1=IB11-IB21、反射光强度差DIB2=IB12-IB22、反射光强度和SIB=IB11+IB21的测定结果。
图6(a)~(c)是偏振状态C中的反射光强度差DIC1=IC11-IC21、反射光强度差DIC2=IC12-IC22、反射光强度和SIC=IC11+IC21的测定结果。
图7(a)~(c)是偏振状态D中的反射光强度差DID1=ID11-ID21、反射光强度差DID2=ID12-ID22、反射光强度和SID=ID11+ID21的测定结果。
在步骤STP9中,按偏振状态算出二个光强度差数据之比,并算出光强度差数据的一方与光强度和数据之比。
【0043】
然后,步骤STP10中,算出复振幅反射率比的相位差ΔPP、ΔSP、ΔPS及大小|RPP|、|RSP|、|RPS|。
此时,表示光强度差数据之比的理论式和表示光强度差数据的一方与光强度和数据之比的理论式,通过步骤STP1设定的参数改写为次式。
[偏振状态A]
(1)差之比
DIA1/DIA2=cot(ΔSP)
(2)差与和之比
DIA1/SIA=cos(ΔSP)/{tan10/|RSP|+|RSP|/tan10}
DIA1、DIA2、SIA是可从测定值算出的已知值,因此可根据这些式算出ΔSP及|RSP|。
[偏振状态B]
(1)差之比
DIB1/DIB2=cot(ΔPPSP)
(2)差与和之比
DIB1/SIB=cos(ΔPPSP)
/{|RSP|tan10/|RPP|+|RPP|/tan10}
DIB1、DIB2、SIB是可从测定值算出的已知值,ΔSP及|RSP|通过偏振状态A的测定结果已知,因此可根据这些式算出ΔPP及|RPP|。
[偏振状态C]
(1)差之比
DIC1/DIC2=cot(ΔPPPS)
(2)差与和之比
DIC1/SIC=cos(ΔPPPS)
/{|RSP|tan10/|RPP|+|RPP|/tan10}
DIC1、DIC2、SIC是可从测定值算出的已知值,ΔPP及|RPP|通过偏振状态B的测定结果已知,因此根据这些式可算出ΔPS及|RPS|。
[偏振状态D]
(1)差之比
DID1/DID2=cot(ΔPS)
(2)差与和之比
DID1/SID=cos(ΔPS)/{tan10/|RPS|+|RPS|/tan10}
DID1、DID2、SID是可从测定值算出的已知值,因此可根据这些式算出ΔPS及|RPS|。
【0044】
这样,关于复振幅反射率比的三种相位差ΔPP、ΔSP、ΔPS,以它们为未知数的合计4种光强度差数据之比的理论式成立,因此通过从偏振状态A~D采用其中三种可以算出相位差ΔPP、ΔSP、ΔPS,从而,对三种偏振状态测定反射光强度足矣。
同样,关于复振幅反射率比的三种大小|RPP|、|RSP|、|RPS|,以它们为未知数的合计4种光强度差数据之比的理论式成立,因此通过从偏振状态A~D采用其中三种可以算出相位差ΔPP、ΔSP、ΔPS,从而,对三种偏振状态测定反射光强度足矣。
【0045】
图8(a)~(c)是表示算出的复振幅反射率比的相位差ΔPP、ΔSP、ΔPS的曲线图,图9(a)~(c)是表示算出的复振幅反射率比的大小|RPP|、|RSP|、|RPS|的曲线图。
【0046】
另外,这样算出的复振幅反射率比的相位差ΔPP、ΔSP、ΔPS及大小|RPP|、|RSP|、|RPS|可以分别表示为配向方位、光轴的倾斜角、常光折射率、异常光折射率、配向层膜厚、配向层折射率、无配向层膜厚这七个参数的函数,因此根据这六个值,通过采用计算机进行拟合的传统公知的手法,可以求出上述七个光学各向异性参数。
【0047】
根据以液晶配向膜为样品而测定的复振幅反射率比的相位差及大小,使用Berreman的4×4矩阵,通过拟合求出上述参数时,配向方位为90.3°,光轴的倾斜角为24.6°,常光折射率为1.76,异常光折射率为1.79,配向层膜厚为6.0nm,配向层折射率为1.77,无配向层膜厚为94.1nm,与一般的椭圆计法的测定结果一致。
【0048】
而且,测定时,需要一边调节发光光学系统10及受光光学系统20一边使载物台2旋转合计12次,但即使如此合计测定时间为20~30秒左右,与一般的椭圆计法的测定相比,可以用1/10的极短时间进行测定,可应用到工厂的生产线的制品检查等。
【0049】
另外,虽然说明了发光侧及受光侧的相位补偿器12、21采用巴俾涅-索累相位板的情况,但是不限于此,也可以采用相位差固定的相位板配置成可相对于光路进退的相位补偿器。
【产业上的利用可能性】
【0050】
本发明可以适用于具有光学各向异性的制品特别是液晶配向膜的品质检查等。

Claims (8)

1.一种光学各向异性参数测定方法,使入射光从规定的测定方位以一定入射角度照射测定对象面上的测定点,根据由测定其反射光所包含的特定方向的偏振光分量的光强度所获得的光强度数据,测定成为光学各向异性参数的复振幅反射率比的相位差Δχ(χ是偏振状态),其特征在于,
使上述入射光偏振化,以预先设定的测定方位照射测定点而进行测定的情况下,以测定对象面作为基准,将在与其正交的面内振动的直线偏振光设为P偏振光,在与该P偏振光正交的方向上振动的直线偏振光设为S偏振光时,根据对以下的A~D的四个偏振状态中至少三个偏振状态各4种合计12种反射光测定的光强度数据,按照预先设定的程序,从按各偏振状态赋予的偏振光间相位差相等的反射光强度数据之间的二个差算出二个光强度差数据,通过将这二个光强度差数据相除,算出该入射光的测定方位上的复振幅反射率比的相位差Δχ
A:对于在P偏振光的振动方向的±αA(0<αA<π/2)的方向上振动的一对偏振光,以各自的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γA1及γA2的合计4种偏振光作为入射光在测定对象面反射时,各反射光所包含的合计4种S偏振光;
B:P偏振光作为入射光在测定对象面反射时,反射光的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γB1及γB2的2种光所包含的偏振光中,在S偏振光的振动方向的±αB(0<αB<π/2)的方向上振动的合计4种偏振光;
C:对于在S偏振光的振动方向的±αC(0<αC<π/2)的方向上振动的一对偏振光,以各自的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γC1及γC2的合计4种偏振光作为入射光在测定对象面反射时,各反射光所包含的合计4种P偏振光;
D:S偏振光作为入射光在测定对象面反射时,反射光的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γD1及γD2的2种光所包含的偏振光中,在P偏振光的振动方向的±αD(0<αD<π/2)的方向上振动的合计4种偏振光。
2.一种光学各向异性参数测定方法,使入射光从规定的测定方位以一定入射角度照射测定对象面上的测定点,根据由测定其反射光所包含的特定方向的偏振光分量的光强度所获得的光强度数据,测定成为光学各向异性参数的复振幅反射率比的相位差Δχ(χ是偏振状态),其特征在于,
以测定对象面作为基准,将在与其正交的面内振动的直线偏振光设为P偏振光,在与该P偏振光正交的方向上振动的直线偏振光设为S偏振光时,使上述测定方位围绕竖立于测定点的法线而变化的同时,根据对以下的A~D的四个偏振状态中至少三个偏振状态各4种合计12种反射光测定的测定方位-光强度数据,按照预先设定的程序,从按各偏振状态赋予的偏振光间相位差相等的反射光强度数据之间的差算出二个测定方位-光强度差数据,根据这二个光强度差数据之比算出与入射光的测定方位对应的复振幅反射率比的相位差Δχ
A:对于在P偏振光的振动方向的±αA(0<αA<π/2)的方向上振动的一对偏振光,以各自的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γA1及γA2的合计4种偏振光作为入射光在测定对象面反射时,各反射光所包含的合计4种S偏振光;
B:P偏振光作为入射光在测定对象面反射时,反射光的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γB1及γB2的2种光所包含的偏振光中,在S偏振光的振动方向的±αB(0<αB<π/2)的方向上振动的合计4种偏振光;
C:对于在S偏振光的振动方向的±αC(0<αC<π/2)的方向上振动的一对偏振光,以各自的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γC1及γC2的合计4种偏振光作为入射光在测定对象面反射时,各反射光所包含的合计4种P偏振光;
D:S偏振光作为入射光在测定对象面反射时,反射光的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γD1及γD2的2种光所包含的偏振光中,在P偏振光的振动方向的±αD(0<αD<π/2)的方向上振动的合计4种偏振光。
3.一种光学各向异性参数测定装置,具备:将偏振化为规定的偏振状态的光从规定的测定方位以一定入射角度照射测定对象面上的测定点的发光光学系统;检测其反射光被偏振化为规定的偏振状态的光的光强度的受光光学系统;以及根据测定的光强度算出成为光学各向异性参数的复振幅反射率比的相位差Δχ(χ是偏振状态)的运算装置,其特征在于:
上述发光光学系统中,依次安装照射单色光的光源、可调节偏振方向的起偏器以及可调节相位的发光侧相位补偿器,并且,
上述受光光学系统中,依次安装可调节相位的受光侧相位补偿器、可调节偏振方向的检偏器以及测定透过检偏器的偏振光的光强度的光传感器,
以测定对象面作为基准,将在与其正交的面内振动的直线偏振光设为P偏振光,在与该P偏振光正交的方向上振动的直线偏振光设为S偏振光时,上述运算装置,根据对以下的A~D的四个偏振状态中至少三个偏振状态的各4种合计12种反射光测定的光强度数据,按照预先设定的程序,从按各偏振状态赋予的偏振光间相位差相等的反射光强度数据之间的二个差算出二个光强度差数据,根据这二个光强度差数据之比算出该入射光的测定方位上的复振幅反射率比的相位差Δχ
A:对于在P偏振光的振动方向的±αA(0<αA<π/2)的方向上振动的一对偏振光,以各自的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γA1及γA2的合计4种偏振光作为入射光在测定对象面反射时,各反射光所包含的合计4种S偏振光;
B:P偏振光作为入射光在测定对象面反射时,反射光的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γB1及γB2的2种光所包含的偏振光中,在S偏振光的振动方向的±αB(0<αB<π/2)的方向上振动的合计4种偏振光;
C:对于在S偏振光的振动方向的±αC(0<αC<π/2)的方向上振动的一对偏振光,以各自的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γC1及γC2的合计4种偏振光作为入射光在测定对象面反射时,各反射光所包含的合计4种P偏振光;
D:S偏振光作为入射光在测定对象面反射时,反射光的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γD1及γD2的2种光所包含的偏振光中,在P偏振光的振动方向的±αD(0<αD<π/2)的方向上振动的合计4种偏振光。
4.一种光学各向异性参数测定装置,具备:将偏振化为规定的偏振状态的光从规定的测定方位以一定入射角度照射测定对象面上的测定点的发光光学系统;检测其反射光被偏振化为规定的偏振状态的光的光强度的受光光学系统;以及根据与入射光的测定方位对应的光强度算出成为光学各向异性参数的复振幅反射率比的相位差Δχ(χ是偏振状态)的运算装置,上述发光光学系统和上述受光光学系统配置成可围绕竖立于上述测定点的法线相对旋转或放射状,其特征在于:
上述发光光学系统中,依次安装照射单色光的光源、可调节偏振方向的起偏器以及可调节相位的发光侧相位补偿器,并且,
上述受光光学系统中,依次安装可调节相位的受光侧相位补偿器、可调节偏振方向的检偏器以及测定透过检偏器的偏振光的光强度的光传感器,
以测定对象面作为基准,将在与其正交的面内振动的直线偏振光设为P偏振光,在与该P偏振光正交的方向上振动的直线偏振光设为S偏振光时,使测定方位变化的同时,根据对以下的A~D的四个偏振状态中至少三个偏振状态的各4种合计12种反射光测定的测定方位-光强度数据,上述运算装置按照预先设定的程序,从按各偏振状态赋予的偏振光间相位差相等的反射光强度数据之间的二个差算出二个测定方位-光强度差数据,根据这二个光强度差数据之比算出与入射光的测定方位对应的复振幅反射率比的相位差Δχ
A:对于在P偏振光的振动方向的±αA(0<αA<π/2)的方向上振动的一对偏振光,以各自的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γA1及γA2的合计4种偏振光作为入射光在测定对象面反射时,各反射光所包含的合计4种S偏振光;
B:P偏振光作为入射光在测定对象面反射时,反射光的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γB1及γB2的2种光所包含的偏振光中,在S偏振光的振动方向的±αB(0<αB<π/2)的方向上振动的合计4种偏振光;
C:对于在S偏振光的振动方向的±αC(0<αC<π/2)的方向上振动的一对偏振光,以各自的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γC1及γC2的合计4种偏振光作为入射光在测定对象面反射时,各反射光所包含的合计4种P偏振光;
D:S偏振光作为入射光在测定对象面反射时,反射光的P偏振光分量和S偏振光分量的偏振光间相位差调节为γD1及γD2的2种光所包含的偏振光中,在P偏振光的振动方向的±αD(0<αD<π/2)的方向上振动的合计4种偏振光。
5.权利要求1所述的光学各向异性参数测定方法,其特征在于,
根据对上述三个偏振状态各4种合计12种反射光测定的光强度数据,按照预先设定的程序,算出按各偏振状态赋予的偏振光间相位差相等的反射光强度数据的和作为光强度和数据,根据上述光强度差数据的一方与光强度和数据之比,算出该入射光的测定方位上的复振幅反射率比的大小|Rχ|(χ是偏振状态)。
6.权利要求2所述的光学各向异性参数测定方法,其特征在于,
根据对上述三个偏振状态各4种合计12种反射光测定的测定方位-光强度数据,按照预先设定的程序,算出按各偏振状态赋予的偏振光间相位差相等的反射光强度数据的和作为测定方位-光强度和数据,根据上述光强度差数据的一方与光强度和数据之比,算出与入射光的测定方位对应的复振幅反射率比的大小|Rχ|(χ是偏振状态)。
7.权利要求3所述的光学各向异性参数测定装置,其特征在于,
上述运算装置,根据对三个偏振状态的各4种合计12种反射光测定的光强度数据,按照预先设定的程序,算出按各偏振状态赋予的偏振光间相位差相等的反射光强度数据的和作为光强度和数据,根据上述光强度差数据的一方与光强度和数据之比,算出该入射光的测定方位上的复振幅反射率比的大小|Rχ|(χ是偏振状态)。
8.权利要求4所述的光学各向异性参数测定装置,其特征在于,
上述运算装置,根据对三个偏振状态的各4种合计12种反射光测定的测定方位-光强度数据,按照预先设定的程序,算出按各偏振状态赋予的偏振光间相位差相等的反射光强度数据的和作为测定方位-光强度和数据,根据上述光强度差数据的一方与光强度和数据之比,算出与入射光的测定方位对应的复振幅反射率比的大小|Rχ|(χ是偏振状态)。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103415803A (zh) * 2011-03-11 2013-11-27 西铁城控股株式会社 光调制元件以及具备光调制元件的显微镜装置
CN103477206A (zh) * 2011-04-11 2013-12-25 肖特茉丽特株式会社 光学异向性参数测量装置、测量方法及测量用程序
CN104280211A (zh) * 2013-07-05 2015-01-14 肖特茉丽特株式会社 光学各向异性参数测定装置、测定方法以及测定用程序
CN104919301A (zh) * 2012-10-25 2015-09-16 康宁股份有限公司 测量玻璃样品的分布特征的系统和方法
CN105783723A (zh) * 2016-04-26 2016-07-20 广东技术师范学院 基于机器视觉的精密模具表面加工精度检测装置及方法
CN105842889A (zh) * 2016-06-21 2016-08-10 京东方科技集团股份有限公司 光配向基板的检测装置和方法
CN106919005A (zh) * 2015-12-25 2017-07-04 佳能株式会社 检测设备、曝光设备和制造设备的方法
CN111895923A (zh) * 2020-07-07 2020-11-06 上海辰慧源科技发展有限公司 一种拟合测量薄膜厚度的方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019142569A1 (ja) * 2018-01-18 2019-07-25 Jfeスチール株式会社 分光分析装置、分光分析方法、鋼帯の製造方法、及び鋼帯の品質保証方法
KR102550690B1 (ko) * 2018-05-28 2023-07-04 삼성디스플레이 주식회사 타원해석기
CN111818251B (zh) * 2020-08-12 2021-07-20 中国海洋大学 旋转偏振距离选通摄像装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004279286A (ja) * 2003-03-18 2004-10-07 Nippon Laser & Electronics Lab 光学的異方性薄膜評価方法及び評価装置
CN1752799A (zh) * 2004-09-22 2006-03-29 名菱泰科尼卡株式会社 检出对象的参数检出方法以及检出装置
CN1847816A (zh) * 2005-01-24 2006-10-18 株式会社茉莉特斯 光学各向异性参数测定方法及测定装置
CN101153965A (zh) * 2006-09-25 2008-04-02 株式会社茉莉特斯 光学各向异性参数测定装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0781837B2 (ja) * 1986-12-10 1995-09-06 日本分光工業株式会社 エリプソメ−タ
JPH05133810A (ja) * 1991-11-13 1993-05-28 Nkk Corp エリプソパラメータ測定方法及びエリプソメータ
JP3311497B2 (ja) * 1994-06-29 2002-08-05 日本電子株式会社 フーリエ変換分光位相変調偏光解析法
JP2007285926A (ja) * 2006-04-18 2007-11-01 Omron Corp 光学系、異方性薄膜評価装置および異方性薄膜評価方法
JP4692892B2 (ja) * 2006-06-01 2011-06-01 株式会社ニコン 表面検査装置
JP2008122405A (ja) * 2007-12-25 2008-05-29 Olympus Corp 反応解析方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004279286A (ja) * 2003-03-18 2004-10-07 Nippon Laser & Electronics Lab 光学的異方性薄膜評価方法及び評価装置
CN1752799A (zh) * 2004-09-22 2006-03-29 名菱泰科尼卡株式会社 检出对象的参数检出方法以及检出装置
CN1847816A (zh) * 2005-01-24 2006-10-18 株式会社茉莉特斯 光学各向异性参数测定方法及测定装置
CN101153965A (zh) * 2006-09-25 2008-04-02 株式会社茉莉特斯 光学各向异性参数测定装置

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103415803B (zh) * 2011-03-11 2016-08-10 西铁城控股株式会社 光调制元件以及具备光调制元件的显微镜装置
CN103415803A (zh) * 2011-03-11 2013-11-27 西铁城控股株式会社 光调制元件以及具备光调制元件的显微镜装置
CN103477206B (zh) * 2011-04-11 2015-11-25 肖特茉丽特株式会社 光学异向性参数测量装置、测量方法及测量用系统
CN103477206A (zh) * 2011-04-11 2013-12-25 肖特茉丽特株式会社 光学异向性参数测量装置、测量方法及测量用程序
CN104919301A (zh) * 2012-10-25 2015-09-16 康宁股份有限公司 测量玻璃样品的分布特征的系统和方法
CN104280211A (zh) * 2013-07-05 2015-01-14 肖特茉丽特株式会社 光学各向异性参数测定装置、测定方法以及测定用程序
CN106919005A (zh) * 2015-12-25 2017-07-04 佳能株式会社 检测设备、曝光设备和制造设备的方法
CN106919005B (zh) * 2015-12-25 2020-04-07 佳能株式会社 检测设备、曝光设备和制造设备的方法
CN105783723A (zh) * 2016-04-26 2016-07-20 广东技术师范学院 基于机器视觉的精密模具表面加工精度检测装置及方法
CN105783723B (zh) * 2016-04-26 2018-07-10 广东技术师范学院 基于机器视觉的精密模具表面加工精度检测装置及方法
CN105842889A (zh) * 2016-06-21 2016-08-10 京东方科技集团股份有限公司 光配向基板的检测装置和方法
CN105842889B (zh) * 2016-06-21 2019-09-06 京东方科技集团股份有限公司 光配向基板的检测装置和方法
CN111895923A (zh) * 2020-07-07 2020-11-06 上海辰慧源科技发展有限公司 一种拟合测量薄膜厚度的方法

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