CN101663362A - 酞菁颜料纳米粒子分散物的制造方法及含有该分散物的滤色器用喷墨油墨的制造方法、以及含有该分散物的着色感光性树脂组合物、感光性转印材料、及滤色器、使用它们的液晶显示装置及ccd设备 - Google Patents

Abstract

本发明的酞菁颜料纳米粒子分散物的制造方法在将使酞菁化合物溶解于酸或含有酸的良溶剂中而成的酞菁化合物溶液与相对于该酞菁化合物为不良溶剂的有机溶剂混合来调制生成有酞菁化合物晶体的混合液时，将具有选自α、β、γ、ε、δ、π、ρ、A、B、X、Y以及R中的一种晶形的酞菁化合物晶体添加到所述有机不良溶剂或所述混合液中，使所述生成的酞菁化合物晶体生成为与所述添加的晶体相同的晶形，且该混合液含有质均分子量为1000以上的添加剂。

Description

酞菁颜料纳米粒子分散物的制造方法及含有该分散物的滤色器用喷墨油墨的制造方法、以及含有该分散物的着色感光性树脂组合物、感光性转印材料、及滤色器、使用它们的液晶显示装置及CCD设备

技术领域

本发明涉及酞菁颜料纳米粒子分散物的制造方法及含有该分散物的滤色器用喷墨油墨的制造方法、以及含有该分散物的着色感光性树脂组合物、感光性转印材料、及滤色器、使用它们的液晶显示装置。

背景技术

作为决定有机颜料性质的特有的主要原因，可以举出其晶形。例如，即使是相同的化学结构的颜料，根据晶形的不同，色调和坚牢性等物性有很大不同，因此，有时分别作为独立的材料而分开进行处理。因此，例如，为了使由酞菁化合物形成的颜料也具有与使用目的相符的性质，正在尝试开发出使晶形转化成所希望的晶形的控制晶形的方法。

例如，记载有通过将α型铜酞菁在碘等路易斯酸的共存下在溶剂中在80～250℃下进行处理而形成ε型铜酞菁的方法(参照日本特开2005-272760号公报)。但是，该方法中需要进行上述加热，必须添加路易斯酸等。而且，是将α型变更为ε型的方法，对于β型等其他的晶形没有记载。

此外，已经提出了通过使难溶性的有机物溶解在超临界流体中并再沉淀的条件来控制晶形的方法(参照Jpn.J.Appl.Phys，38，L81-L83(1999))。但是，在该方法中，为了生成超临界状态，需要极大的能量。此外，在工业规模的生产性方面存在问题。

发明内容

根据本发明，可以提供如下手段。

(1)一种酞菁颜料纳米粒子分散物的制造方法，其特征在于，在将使酞菁化合物溶解于酸或含有酸的良溶剂中而成的酞菁化合物溶液与相对于该酞菁化合物为不良溶剂的有机溶剂混合来调制生成有酞菁化合物晶体的混合液时，将具有选自α、β、γ、ε、δ、π、ρ、A、B、X、Y以及R中的一种晶形的酞菁化合物晶体添加到所述有机不良溶剂或所述混合液中，使所述生成的酞菁化合物晶体生成为与所述添加的晶体相同的晶形，且该混合液含有质均分子量为1000以上的添加剂。

(2)根据上述(1)所述的酞菁颜料纳米粒子分散物的制造方法，其特征在于，所述质均分子量为1000以上的添加剂中的至少一种为下述通式(1)表示的高分子化合物，

通式(1)

(通式(1)中，R¹表示(m+n)价的连接基团，R²表示单键或2价的连接基团；A¹表示具有选自酸性基团、具有氮原子的碱性基团、脲基、尿烷基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基以及羟基中的基团的1价有机基团，或者含有可以具有取代基的有机色素结构或杂环的1价有机基团；其中，n个A¹互相相同或不同；m表示1～8的数，n表示2～9的数，m+n满足3～10，P¹表示高分子化合物残基。)

(3)根据上述(1)或(2)所述的酞菁颜料纳米粒子分散物的制造方法，其特征在于，将所述混合液的溶剂成分除去而进行浓缩。

(4)根据上述(1)～(3)中任一项所述的酞菁颜料纳米粒子分散物的制造方法，其特征在于，在所述浓缩后，添加与所述良溶剂及所述有机不良溶剂的任一者均不同的再分散溶剂来进行再分散。

(5)一种滤色器用喷墨油墨的制造方法，其特征在于，将上述(1)～(4)中任一项所述的分散物形成为滤色器用喷墨油墨。

(6)一种着色感光性树脂组合物，其特征在于，至少包含由上述(1)～(4)中任一项所述的方法制作的分散物、粘合剂、多官能单体、和光聚合引发剂或光聚合引发剂系。

(7)一种感光性转印材料，其特征在于，在临时支撑体上至少设置包含上述(6)所述的着色感光性树脂组合物的感光性树脂层。

(8)一种滤色器，其特征在于，使用上述(6)所述的着色感光性树脂组合物或上述(7)所述的感光性转印材料而制得。

(9)一种液晶显示装置，其特征在于，具备上述(8)所述的滤色器。

(10)根据上述(9)所述的液晶显示装置，其特征在于，所述液晶显示装置为VA方式。

(11)一种CCD设备，其特征在于，具备上述(8)所述的滤色器。

本发明的上述以及其它特征以及优点通过结合后附的附图一起考虑，按照如下所述，变得更为明确。

附图说明

图1是表示分散物样品1的吸收光谱的图。

图2是表示晶体样品1的X射线衍射测定结果的图。

图3是表示分散物样品2的吸收光谱的图。

图4是表示晶体样品2的X射线衍射测定结果的图。

图5是表示分散物样品3的吸收光谱的图。

图6是表示晶体样品3的X射线衍射测定结果的图。

具体实施方式

下面对本发明作详细说明。

在本发明的制造方法中，将使酞菁化合物溶解于酸或含有酸的良溶剂(以下也称为酸溶剂)而成的酞菁化合物溶液与作为不良溶剂的有机溶剂(以下也称为有机不良溶剂)混合，从而形成在该混合液中生成有酞菁化合物晶体的颜料纳米粒子分散物。在本发明的制造方法中，此时通过(i)使在有机不良溶剂中含有具有特定的晶形的酞菁化合物晶体的实施方式、或者(ii)在所述混合液中添加具有特定的晶形的酞菁化合物晶体的实施方式，使上述生成的酞菁化合物晶体与上述特定的晶形相同地生成。另外，在本发明中，有时将有机不良溶剂或混合液中所含的上述具有特定的晶形的酞菁化合物称为“特定晶体化酞菁化合物”，与通过酞菁溶液与有机不良溶剂的混合而生成的“生成的酞菁化合物晶体”相区别，此外有时也将两者总称为酞菁化合物晶体。此外，在本发明中，所谓的使上述生成的酞菁化合物晶体的晶形与上述特定的晶形相同是指，不生成其它的晶形而生成相同的晶形。

上述特定的晶形是指选自α、β、γ、ε、δ、π、ρ、A、B、X、Y、以及R中的1种的晶形。对于酞菁晶体的各型的晶形，例如，在田中正夫著：フタロシァニン-基礎物性と昨日材料ヘ的応用-，有机ェレクトロニクス研究会(編)，ぶんしん出版(1991)中有详细记载。

作为在本发明的制造方法中使用的酞菁化合物，可以使用无金属酞菁以及各种金属酞菁。作为金属酞菁的金属，可以举出例如Cu、Ti、V、Cr、Fe、Co、Ni、Zn、Mg、Na、K、Be、Ca、Ba、Cd、Hg、Pt、Pd、Li、Sn、Mn等。还可以像氧钒酞菁或氧钛酞菁那样在金属上配位氧等。这些金属酞菁也可以是将其氢原子用氯等卤原子取代而得到的卤化物。此外，也可以是导入了磺酸基、-SH基等取代基的金属酞菁。另外，酞菁化合物在溶解于良溶剂的溶液中不会晶体化。

在本发明中，良溶剂定义为可溶解酞菁化合物的良溶剂，优选溶解0.1质量％以上，更优选溶解0.5质量％以上，特别优选溶解1％质量以上。

将酞菁化合物溶解的酸或者在酸中含有其它溶剂的溶剂只要能将酞菁化合物溶解即可，没有特别的限定，但是优选为硫酸等无机酸或有机酸，更优选烷基磺酸、烷基羧酸、卤化烷基磺酸、卤化烷基羧酸、芳香族磺酸、芳香族羧酸、或者它们的2种以上的混合溶剂，特别优选烷基磺酸或芳香族磺酸。

作为与酸组合的溶剂，可以举出例如醇化合物溶剂、酰胺化合物溶剂、酮化合物溶剂、醚化合物溶剂、芳香族化合物溶剂、二硫化碳溶剂、脂肪族化合物溶剂、硝基化合物溶剂、亚砜化合物溶剂、卤素化合物溶剂、酯化合物溶剂、离子性液体、它们的混合溶剂等，优选为醇化合物溶剂、酰胺化合物溶剂、酮化合物溶剂、芳香族化合物溶剂、酯化合物溶剂等。优选在酸溶剂中除不可避免的水之外不含有水。

作为亚砜化合物溶剂，可以举出例如二甲基亚砜、二乙基亚砜、六亚甲基亚砜、环丁砜等。作为酰胺化合物溶剂，可以举出例如N，N-二甲基甲酰胺、1-甲基-2-吡咯烷酮、2-吡咯烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮、2-吡咯烷酮、ε-己内酯、甲酰胺、N-甲基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基丙酰胺、六甲基磷酰三酰胺等。

此外，作为酞菁化合物相对于酸溶剂的浓度，优选为0.1～50质量％，更优选为1～10质量％。

对于酞菁化合物溶液的调制条件没有特别的限定，但是优选在常压下的温度为5～150℃，更优选为20～80℃。此外，压力一般是在常压下进行，但是可以在例如100kPa～3000kPa(1atm～30atm)的范围的压力下进行调整。

在本发明中，不良溶剂定义为酞菁化合物难以溶解的溶剂，其溶解度优选为0.01质量％以下，更优选为0.005质量％以下，特别优选为0.001质量％以下。

在本发明中，作为不良溶剂使用的上述的有机溶剂(以下也称为有机不良溶剂)优选选自醇系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、芳香族系溶剂、二硫化碳、脂肪族系溶剂、硝基系溶剂、亚砜系溶剂、卤素系溶剂、酯系溶剂、离子性溶液、或它们中的2种以上的混合溶剂。

作为醇化合物溶剂，可以举出例如甲醇、乙醇、异丙醇、正丙醇、1-甲氧基-2-丙醇等。

作为酮化合物溶剂，可以举出例如丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮。

作为醚化合物溶剂，可以举出例如二甲基醚、二乙基醚、四氢呋喃等。

作为脂肪族系溶剂，可以举出例如碳酸亚烷基酯。

作为芳香族化合物溶剂，可以举出例如苯、甲苯等。作为脂肪族化合物溶剂，可以举出例如己烷等。

作为硝基化合物溶剂，可以举出例如乙腈等。作为卤素化合物溶剂，可以举出例如二氯甲烷、三氯乙烯等。

作为亚砜化合物溶剂，可以举出例如二甲基亚砜、二乙基亚砜、六亚甲基亚砜、环丁砜等。

作为酯化合物溶剂，可以举出例如乙酸乙酯、乳酸乙酯、乙酸2-(1-甲氧基)丙酯等。

作为离子性液体，可以举出例如1-丁基-3-甲基咪唑鎓与PF₆ ^-的盐等。

有机不良溶剂优选是介电常数为20以上的溶剂，可以举出例如醇化合物、碳酸亚烷基酯化合物、硝基化合物、亚砜化合物等。更优选为碳酸亚烷基酯(例如，碳酸亚丙酯、碳酸亚乙酯)。

在本发明的制造方法中，使在上述有机不良溶剂或者将酞菁化合物溶液与有机不良溶剂混合得到的混合液中含有选自α、β、γ、ε、δ、π、ρ、A、B、X、Y以及R中的1种晶形的特定晶体化酞菁化合物，由此来控制晶形。该特定晶体化酞菁化合物优选为与溶解于上述良溶剂中的酞菁化合物相同的化合物。使在有机不良溶剂中含有特定晶体化酞菁化合物时，其含有率优选为0.1～50质量％，更优选为0.5～10质量％。

为了进行晶体化控制，在有机不良溶剂或者混合液中含有的酞菁化合物的平均粒径(长径)优选为5～1000nm，更优选为10～100nm。

在使有机不良溶剂中含有上述特定晶体化酞菁化合物时，优选以分散状态含有。作为分散的手段，可以使用例如，超声波洗涤器、超声波均质器、珠磨机或辊磨机等。

作为酞菁化合物溶液与有机不良溶剂的混合条件，压力优选为10kPa～1000kPa(0.1atm～10atm)、更优选为50kPa～500kPa(0.5atm～5atm)。常压下的温度优选为0～150℃、更优选为25～85℃。

酞菁化合物溶液与含有特定晶体化酞菁化合物的有机不良溶剂的混合比(有机酸溶剂/有机溶剂的比)以体积比计优选为1/2～1/200、更优选为1/5～1/50。此外，在酞菁化合物溶液与有机溶剂的混合液中，优选除了不可避免的水之外不混合多余的水。

调制后的混合液(分散物)中的酞菁化合物晶体(包含上述生成的酞菁化合物晶体以及特定晶体化酞菁化合物两者)的浓度没有特别的限定，但是优选相对于混合液1000ml，酞菁化合物晶体为1～50g的范围，更优选为25～300g的范围。

在本发明的制造方法中，如上所述，也可以通过首先将酞菁化合物溶液与有机不良溶剂混合得到混合液、然后在该混合液中添加特定晶体化酞菁化合物的实施方式(ii)，从而形成晶形一致的酞菁化合物晶体。

在该实施方式(ii)中，使酞菁化合物溶解于酸溶剂的浓度优选为0.5～50质量％，更优选为0.5～25质量％。酞菁化合物溶液与有机不良溶剂的混合比以体积比(酸溶剂/有机不良溶剂的比)计优选为1/1～1/500，更优选为1/4～1/50。特定晶体化酞菁化合物的添加量相对于混合液1000ml，优选为1～500g，更优选为10～100g。

作为能与酞菁化合物颜料组合的化合物，优选为喹吖啶酮化合物颜料、氨基蒽醌化合物颜料、偶氮化合物颜料、偶氮系金属络合物化合物颜料、萘酚化合物颜料、多环式化合物颜料、异吲哚啉酮化合物颜料、异吲哚啉化合物颜料、二噁烷化合物颜料、硫靛化合物颜料、蒽醌化合物颜料、喹酞酮化合物颜料、金属络合物化合物颜料、二酮基吡咯并吡咯化合物颜料等。

通过本发明的制造方法得到的酞菁颜料纳米粒子分散物例如能够通过通常的过滤器过滤而容易地进行过滤，从而将该分散物中的颜料纳米粒子分离。此时，优选上述分散物中所含的酞菁颜料纳米粒子的晶形实质上完全一致。另外，在本发明中，所谓的分散物用于包含液体组合物(分散液)、固体组合物、以及浆糊状的半固体化组合物的意思。

关于有机粒子的粒径，有通过计量法进行数值化来表现集团的平均大小的方法，作为经常使用的方法，有表示分布的最大值的众数直径(modediameter)、与积分分布曲线的中间值相当的中值粒径、各种平均粒径(数平均、长度平均、面积平均、重量平均、体积平均等)等。在本发明中，所谓的平均粒径只要没有特别说明，是指数平均粒径。颜料纳米粒子(一次粒子)的平均粒径为纳米尺寸。

在本发明中，作为表示粒子的单分散性的指标，只要没有特别说明，则使用体积平均粒径(Mv)与数平均粒径(Mn)的比(Mv/Mn)。

作为颜料粒子的粒径的测定方法，可以举出显微镜法、重量法、光散射法、光阻断法、电阻法、声波法、动态光散射法，特别优选显微镜法、动态光散射法。作为在显微镜法中使用的显微镜，可以举出例如扫描型电子显微镜、透射型电子显微镜等。作为利用动态光散射法的粒子测定装置，可以举出例如日机装公司制的Nanotrack UPA-EX150、大冢电子公司制的动态光散射光度计DLS-7000系列等。

在本发明的制造方法中，可以使上述酞菁化合物溶液或有机不良溶剂中含有分散剂，其中优选在有机不良溶剂中含有分散剂。作为分散剂，可以使用聚乙烯基吡咯烷酮等高分子分散剂或十二烷基硫酸钠等低分子分散剂。此时，分散剂的浓度优选为0.1～50质量％，更优选为0.5～10质量％。

对分散剂作进一步详细说明，则可以使用例如阴离子性、阳离子性、两性离子、非离子性或者颜料衍生物的低分子或高分子分散剂。另外，高分子分散剂的分子量只要使用能均匀地溶解于溶液的分子量即可，没有特别的限定，优选分子量为1,000～2,000,000，更优选为5,000～1,000,000，进一步优选为10,000～500,000，特别优选为10,000～100,000。作为高分子分散剂，具体而言，可以举出聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯醇、聚乙烯基甲基醚、聚乙二醇、聚丙二醇、聚丙烯酰胺、乙烯醇-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯醇-部分甲缩醛化物、聚乙烯醇-部分丁缩醛化物、乙烯吡咯烷酮-乙酸乙烯酯共聚物、聚氧化乙烯/氧化丙烯嵌段共聚物、聚丙烯酸盐、聚乙烯基硫酸盐、聚(4-乙烯基吡啶)盐、聚酰胺、聚烯丙基胺盐、缩合萘磺酸盐、纤维素衍生物、淀粉衍生物等。其它，也可以使用海藻酸盐、明胶、白蛋白、酪蛋白、阿拉伯胶、黄蓍胶(トンガントゴム，tragacanth gum)、木素磺酸盐等天然高分子类。其中，优选为聚乙烯基吡咯烷酮。这些高分子可以单独使用1种或者将2种以上组合使用。这些分散剂可以单独使用或并用。关于在颜料的分散中使用的分散剂，详细记载在“颜料分散安定化と表面処理技術·評价”(化学情報協会，2001年12月发行)的第29～46页中。

作为阴离子性分散剂(阴离子性表面活性剂)，可以举出N-酰基-N-烷基牛磺酸盐、脂肪酸盐、烷基硫酸酯盐、烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、二烷基磺基琥珀酸盐、烷基磷酸酯盐、萘磺酸甲醛缩合物、聚氧化乙烯烷基硫酸酯盐等。其中，优选为N-酰基-N-烷基牛磺酸盐。作为N-酰基-N-烷基牛磺酸盐，优选为日本特开平3-273067号说明书中记载的N-酰基-N-烷基牛磺酸盐。这些阴离子性分散剂可以单独使用或者组合2种以上使用。

作为阳离子性分散剂(阳离子性表面活性剂)，包含季铵盐、烷氧基化聚胺、脂肪族胺聚乙二醇醚、脂肪族胺、由脂肪族胺和脂肪族醇衍生的二胺以及聚胺、由脂肪酸衍生的咪唑啉以及它们的阳离子性物质的盐。这些阳离子性分散剂可以单独使用或者组合2种以上使用。

两性离子分散剂是在分子内同时包含上述阴离子性分散剂的分子内所具有的阴离子基部分与阳离子性分散剂的分子内所具有的阳离子基部分的分散剂。

作为非离子性分散剂(非离子性表面活性剂)，可以举出聚氧化乙烯烷基醚、聚氧化乙烯烷基芳基醚、聚氧化乙烯脂肪酸酯、脱水山梨糖醇脂肪酸酯、聚氧化乙烯脱水山梨糖醇脂肪酸酯、聚氧化乙烯烷基胺、甘油脂肪酸酯等。其中，优选为聚氧化乙烯烷基芳基醚。这些非离子性分散剂可以单独使用或者组合2种以上使用。

所谓的颜料衍生物型分散剂定义为，通过由作为母体物质的有机颜料衍生、并对其母体结构进行化学修饰而制造的颜料衍生物型分散剂、或者通过由化学修饰得到的颜料前体的颜料化反应而得到的颜料衍生物型分散剂。包括例如：含糖颜料衍生物型分散剂、含哌啶颜料衍生物型分散剂、萘或苝衍生颜料衍生物型分散剂、具有介由亚甲基与颜料母体结构连接的官能团的颜料衍生物型分散剂、用聚合物进行了化学修饰的颜料母体结构、具有磺酸基的颜料衍生物型分散剂、具有磺酰胺基的颜料衍生物型分散剂、具有醚基的颜料衍生物型分散剂、或者具有羧酸基、羧酸酯基或酰胺基的颜料衍生物型分散剂等。

在本发明的制造方法中，优选使含有氨基的颜料分散剂共存。这里，所谓的氨基包含伯氨基、仲氨基、叔氨基，氨基数可以为一个或多个。可以是在颜料骨架中导入了具有氨基的取代基的颜料衍生物化合物，也可以是将具有氨基的单体作为聚合成分的聚合物化合物。作为它们的例子，可以举出例如日本特开2000-239554号公报、2003-96329号公报、2001-31885号公报、日本特开平10-339949号公报、特公平5-72943号公报中记载的化合物等，但是，并不限定于这些。

在本发明的制造方法中，优选将上述含有酞菁化合物晶体的混合液的溶剂成分除去而进行浓缩，还优选用再分散溶剂进行再分散。

再分散溶剂(第3溶剂)为与在颜料纳米粒子的生成中所用的良溶剂(第1溶剂)和有机不良溶剂(第2溶剂)不同的溶剂，且与第1溶剂以及第2溶剂的任一种溶剂均相溶的溶剂。具体而言，可以举出例如水性溶剂、醇化合物溶剂、酮化合物溶剂、醚化合物溶剂、芳香族化合物溶剂、二硫化碳溶剂、脂肪族化合物溶剂、硝基化合物溶剂、卤素化合物溶剂、酯化合物溶剂、离子性液体、以及它们的混合溶剂等。其中，优选为水性溶剂、醇化合物溶剂、酮化合物溶剂、醚化合物溶剂、脂肪族化合物溶剂、酯化合物溶剂、以及它们的混合溶剂，更优选为水性溶剂、醇化合物溶剂、酮化合物溶剂、酯化合物溶剂、以及它们的混合溶剂。关于具体的例子，作为酯化合物溶剂，可以举出例如乙酸2-(1-甲氧基)丙酯、乙酸乙酯、乳酸乙酯等。作为醇化合物溶剂，可以举出例如甲醇、乙醇、正丁醇、异丁醇等。作为芳香族化合物溶剂，可以举出例如苯、甲苯、二甲苯等。作为脂肪族化合物溶剂，可以举出例如正己烷、环己烷等。作为酮化合物溶剂，可以举出例如甲基乙基酮、丙酮、环己酮等。在这些溶剂中，优选为乳酸乙酯、乙酸乙酯、丙酮、乙醇，特别优选为乳酸乙酯。

在使用混合溶剂作为第3溶剂的情况下，溶剂的种数以及它们的混合比没有特别的限定，可以根据颜料种类、溶剂种类、高分子化合物种类来选择适当的混合溶剂。

第3溶剂的添加量没有特别的限定，但是，相对于酞菁化合物100质量份，优选为100～30,000质量份，更优选为500～10,000质量份。另外，在使用后述的第4溶剂时，作为第3溶剂，优选选择使用与第4溶剂具有相溶性的溶剂。

对除去溶剂成分的量没有特别的限定，但是在使溶剂成分减少的程度的方式中，优选除去总溶剂成分的50质量％以上，更优选除去75质量％以上。在进一步除去溶剂成分来进行粉末化的方式中，优选除去总溶剂成分的80质量％以上，更优选除去90质量％以上。

对除去了溶剂成分的分散物中的含水率没有特别的限定，但是优选为0.01～3质量％，更优选为0.01～1质量％。此时，优选例如通过干燥法等除去溶剂成分来制成粉末，优选例如将固体成分的含有率设定为50～100质量％，更优选设定为70～100质量％。

在本发明的制造方法中，将质均分子量为1000以上的高分子化合物作为添加剂，使其在含酞菁化合物晶体的混合液中含有。添加上述高分子化合物的工序没有特别的限定，可以是生成酞菁化合物晶体的前后的任何时间。

对于上述高分子化合物的添加量，根据酞菁化合物的量，只要是用于将该颜料分散的充分的量以上即可。但是，如果添加量过多，则有时难以进行后续的分散，优选相对于酞菁化合物100质量份为5～1000质量份，更优选为10～500质量份，特别优选为10～250质量份。另外，这里添加的高分子化合物在使用后述的第4溶剂时，优选使用能在第4溶剂中发挥颜料分散功能的高分子化合物。

作为上述质均分子量为1000以上的高分子化合物，优选使用下述通式(1)表示的高分子化合物。

通式(1)

上述通式(1)中，A¹表示具有选自酸性基团、具有氮原子的碱性基团、脲基、尿烷基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基以及羟基中的基团的1价有机基团，或者含有可以具有取代基的有机色素结构或杂环的1价有机基团。n个A¹可以互相相同，也可以不同。

具体而言，A¹没有特别的限定，作为上述“具有酸性基团的1价有机基团”，可以举出例如具有羧酸基、磺酸基、单硫酸酯基、磷酸基、单磷酸酯基、硼酸基等的1价有机基团。此外，作为上述“包含具有氮原子的碱性基团的1价有机基团”，可以举出例如具有氨基(-NH₂)的1价有机基团、具有取代亚氨基(-NHR⁸、-NR⁹R¹⁰)的1价有机基团(这里R⁸、R⁹、以及R¹⁰分别独立地表示碳原子数为1以上且20以下的烷基、碳原子数为6以上且20以下的芳基、或者碳原子数为7以上且30以下的芳烷基。)、下述通式(a1)表示的具有胍基的1价有机基团〔通式(a1)中，R^a1以及R^a2各自独立地表示碳原子数为1以上且20以下的烷基、碳原子数为6以上且20以下的芳基、或者碳原子数为7以上且30以下的芳烷基。〕、下述通式(a2)表示的具有脒基(amidinyl)的1价有机基团〔通式(a2)中，R^a3以及R^a4各自独立地表示碳原子数为1以上且20以下的烷基、碳原子数为6以上且20以下的芳基、或者碳原子数为7以上且30以下的芳烷基。〕等。

作为上述“具有脲基的1价有机基团”，可以举出例如-NHCONHR¹⁵(这里，R¹⁵表示氢原子、碳原子数为1以上且20以下的烷基、碳原子数为6以上且20以下的芳基、或者碳原子数为7以上且30以下的芳烷基。)等。

作为上述“具有尿烷基的1价有机基团”，可以举出例如-NHCOOR¹⁶、-OCONHR¹⁷(这里，R¹⁶以及R¹⁷各自独立地表示碳原子数为1以上且20以下的烷基、碳原子数为6以上且20以下的芳基、或者碳原子数为7以上且30以下的芳烷基。)等。

作为上述“包含‘具有配位性氧原子的基团’的1价有机基团”，可以举出例如具有乙酰丙酮根合基的基团、具有冠醚的基团等。

作为上述“具有碳原子数为4以上的烃基的1价有机基团”，可以举出碳原子数为4以上的烷基(例如，辛基、十二烷基等)、碳原子数为6以上的芳基(例如，苯基、萘基等)、碳原子数为7以上的芳烷基(例如苄基等)等。此时，碳原子数没有上限，但是优选为30以下。

作为上述“烷氧基甲硅烷基的1价有机基团”，可以举出例如具有三甲氧基甲硅烷基、三乙氧基甲硅烷基等的基团。

作为上述“具有环氧基的1价有机基团”，可以举出例如具有缩水甘油基等的基团。

作为上述“具有异氰酸酯基的1价有机基团”，可以举出例如3-异氰酸丙酯基等。

作为上述“具有羟基的1价有机基团”，可以举出例如3-羟基丙基等。

作为上述A¹，优选为包含酸性基团、具有氮原子的碱性基团、脲基、或者碳原子数为4以上的烃基的1价有机基团。

此外，作为上述有机色素结构或杂环，没有特别的限定，但是更具体而言，作为有机色素结构，可以举出例如酞菁化合物、不溶性偶氮化合物、偶氮色淀化合物、蒽醌化合物、喹吖啶酮化合物、二噁嗪化合物、二酮基吡咯并吡咯化合物、蒽基吡啶化合物、二苯并[cd，jk]芘-5，10-二酮化合物、阴丹酮化合物、黄烷士酮化合物、紫环酮(perinone)化合物、苝化合物、硫靛化合物等。此外，作为杂环，可以举出例如噻吩、呋喃、呫吨、吡咯、吡咯啉、吡咯烷、二氧戊环、吡唑、吡唑啉、吡唑烷、咪唑、唑、噻唑、噁二唑、三唑、噻二唑、吡喃、吡啶、哌啶、二噁烷、吗啉、哒嗪、嘧啶、哌嗪、三嗪、三噻烷、异吲哚啉、异吲哚啉酮、苯并咪唑酮、丁二酰亚胺、邻苯二甲酰亚胺、萘二甲酰亚胺、乙内酰脲、吲哚、喹啉、咔唑、吖啶、吖啶酮、蒽醌等。

此外，上述有机色素结构或杂环可以具有取代基T，作为该取代基T，可以举出例如甲基、乙基等碳原子数为1～20的烷基、苯基、萘基等碳原子数为6～16的芳基、乙酰氧基等碳原子数为1～6的酰氧基、甲氧基、乙氧基等碳原子数为1～6的烷氧基、氯、溴等卤素原子、甲氧基羰基、乙氧基羰基、环己基氧基羰基等碳原子数为2～7的烷氧基羰基、氰基、叔丁基碳酸酯等碳酸酯基、羟基、氨基、羧基、磺酰胺基、N-磺酰胺基等。

此外，上述A¹可以由下述通式(4)表示。

通式(4)

在上述通式(4)中，B¹表示选自酸性基团、具有氮原子的碱性基团、脲基、尿烷基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基以及羟基中的基团、或者可以具有取代基的有机色素结构或杂环，R¹⁸表示单键或a1价的有机或无机的连接基团。a1表示1～5，a1个B¹可以相同，也可以不同。通式(4)表示的基团的优选的方式与上述A¹同义。

R¹⁸表示单键或a1+1价的连接基团，a1表示1～5。作为连接基团R¹⁸，包含由1～100个碳原子、0～10个氮原子、0～50个氧原子、1～200个氢原子、以及0～20个硫原子构成的基团，可以无取代基，也可以具有取代基。R¹⁸优选为有机连接基团。

作为R¹⁸的具体的例子，可以举出下述结构单元或将该结构单元组合而构成的基团。另外，该连接基团R¹⁸也可以具有上述取代基T。

在上述通式(1)中，R¹表示(m+n)价的连接基团。m+n满足3～10。

作为上述R¹表示的(m+n)价的连接基团，包含由1～100个碳原子、0～10个氮原子、0～50个氧原子、1～200个氢原子、以及0～20个硫原子构成的基团，可以无取代基，也可以具有取代基。R¹优选为有机连接基团。

作为R¹的具体的例子，可以举出上述(t-1)～(t-34)的基团或者将它们的多个组合而构成的基团(也可以形成环结构)。上述的连接基团R¹具有取代基的情况下，作为该取代基，可以举出上述的取代基T。

R²表示单键或2价的连接基团。作为R²，包含由1～100个碳原子、0～10个氮原子、0～50个氧原子、1～200个氢原子、以及0～20个硫原子构成的基团，可以无取代基，也可以具有取代基。作为R²的具体的例子，可以举出上述t-3～5、7～18、22～26、32、34的基团或将它们的多个组合而构成的基团。R²优选在与R¹的连接位置上具有硫原子。在上述R²具有取代基的情况下，作为该取代基，可以举出上述取代基T。

上述通式(1)中，m表示1～8。作为m，优选为1～5，更优选为1～3，特别优选为1～2。

此外，n表示2～9。作为n，优选为2～8，更优选为2～7，特别优选为3～6。

在上述通式(1)中，P¹表示高分子化合物残基(高分子骨架)，可以从通常的聚合物等中适当地选择。

在聚合物中，为了构成高分子骨架，优选为选自乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯化合物聚合物、醚化合物聚合物、氨基甲酸酯化合物聚合物、酰胺化合物聚合物、环氧化合物聚合物、硅酮化合物聚合物、以及它们的改性物或共聚物〔例如，包含聚醚/聚氨酯共聚物、聚醚/乙烯基单体的聚合物的共聚物等(可以是无规共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物中的任意一种)〕中的至少一种，更优选为乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯化合物聚合物、醚化合物聚合物、氨基甲酸酯化合物聚合物、以及它们的改性物或共聚物中的至少一种，特别优选为乙烯基单体的聚合物或共聚物。

而且，上述聚合物优选在有机溶剂中可溶。如果与有机溶剂的亲和性低，则例如在用作颜料分散剂的情况下，与分散介质的亲和性变弱，有时难以确保对于分散稳定化来说充分的吸附层。

此外，P¹优选在与R¹的连接位置上具有硫原子。

在由上述通式(1)表示的高分子化合物中，更优选下述通式(2)表示的高分子化合物。

通式(2)

在上述通式(2)中，A²与上述通式(1)中的A¹同义，其具体的优选方式也相同。此外，A²也可以具有取代基，可以举出上述取代基T。

在上述通式(2)中，R³表示(x+y)价的连接基团。R³与R¹同义，优选的范围也相同。此时，R³为x+y价的连接基团，但是，该x值及其优选的范围与通式(1)的n相同，y值及其优选的范围与m相同，x+y的值及其优选的范围与m+n相同。

R³表示的连接基团优选为有机连接基团，该有机连接基团的优选的具体例如下所示。但是，本发明并不限定于这些。

在上述的基团中，从原料的获得性、合成的容易性、在各种溶剂中的溶解性的观点考虑，优选为上述(r-1)、(r-2)、(r-10)、(r-11)、(r-16)、(r-17)的基团。

此外，在上述的R³具有取代基的情况下，作为该取代基，可以举出上述取代基T。

在上述通式(2)中，R⁴以及R⁵各自独立地表示单键或2价的连接基团。

作为由上述R⁴、R⁵表示的“2价的连接基团”，优选为可以具有取代基的为直链、支链者环状的亚烷基、亚芳基、或者亚芳烷基、-O-、-S-、-C(＝O)-、-N(R¹⁹)-、-SO-、-SO₂-、-CO₂-、或-N(R²⁰)SO₂-、或者将2个以上的这些基团组合而成的2价基团(上述R¹⁹以及R²⁰分别独立地表示氢原子或碳原子数为1～4的烷基)。其中，优选为有机连接基团。

作为上述R⁴，更优选为直链或支链的亚烷基或亚芳烷基、-O-、-C(＝O)-、-N(R¹⁹)-、-SO₂-、-CO₂-、或-N(R²⁰)SO₂-、或者将2个以上的这些基团组合而成的2价基团，特别优选为直链或支链的亚烷基或亚芳烷基、-O-、-C(＝O)-、-N(R¹⁹)-、或-CO₂-、或者将2个以上的这些基团组合而成的2价基团。

作为上述R⁵，更优选为单键、直链或支链的亚烷基、亚芳烷基、-O-、-C(＝O)-、-N(R¹⁹)-、-SO₂-、-CO₂-、或-N(R²⁰)SO₂-、或者将2个以上的这些基团组合而成的2价基团，特别优选直链或支链的亚烷基、亚芳烷基、-O-、-C(＝O)-、-N(R¹⁹)-、或-CO₂-、或者将2个以上的这些基团组合而成的2价基团。

此外，在上述R⁴、R⁵具有取代基的情况下，作为该取代基，可以举出上述取代基T。

此外，通式(2)中的P²表示高分子骨架，可以从通常的聚合物等中适当地选择。对于聚合物的优选的方式，与上述通式(1)中的P¹同义，其优选的方式也同样。

在上述通式(2)表示的高分子化合物中，特别优选如下的高分子化合物：该高分子化合物中，R³为上述具体例(r-1)、(r-2)、(r-10)、(r-11)、(r-16)、或(r-17)，R⁴为单键、直链或支链的亚烷基或亚芳烷基、-O-、-C(＝O)-、-N(R¹⁹)-、或-CO₂-或者将2个以上的这些基团组合而成的2价基团，R⁵为单键、乙烯基、丙烯基、或者下述通式(s-a)或(s-b)表示的连接基团，P²为乙烯基单体的聚合物或共聚物、酯化合物聚合物、醚化合物聚合物、氨基甲酸酯系聚合物、或它们的改性物，y为1～2、x为3～6。另外，下述基团中，R²¹表示氢原子或甲基，1表示1或2。

在本发明的制造方法中使用的高分子化合物的质均分子量为1000以上，但是以质均分子量计优选为3000～100000，更优选为5000～80000，特别优选为7000～60000。如果质均分子量在上述范围内，则可充分发挥在聚合物的末端导入的多个官能团的效果，能发挥在固体表面的吸附性、胶束形成能力、表面活性优良的性能，实现良好的分散性和分散稳定性。另外，在本发明的制造方法中，所谓的分子量只要没有特别的说明，就为质均分子量。作为分子量的测定方法，可以举出色谱法、粘度法、光散射法、沉淀速度法等，但是在本发明中只要没有特别的说明，则使用由凝胶渗透色谱法(载体：四氢呋喃)测定得到的以聚苯乙烯换算的质均分子量。

在本发明的制造方法中优选使用的由通式(1)表示的化合物的具体例如下所示。但是，本发明并不限定于这些具体例。

上述由通式(1)或(2)表示的高分子化合物例如可以通过下述的各种方法来合成。

1、使在末端导入了选自羧基、羟基、氨基等的官能团的聚合物、与具有多个官能团(上述通式中的A¹或A²)的酰卤、或具有多个官能团(上述通式中的A¹或A²)的烷基卤、或具有多个官能团(上述通式中的A¹或A²)的异氰酸酯等进行高分子反应的方法。

2、使在末端导入了碳-碳双键的聚合物、与具有多个官能团(上述通式中的A¹或A²)的硫醇进行麦克尔(Michael)加成反应的方法。

3、使在末端导入了碳-碳双键的聚合物、与具有多个官能团(上述通式中的A¹或A²)的硫醇在自由基引发剂的存在下进行反应的方法。

4、使在末端导入了多个硫醇的聚合物、与导入了碳-碳双键的官能团(上述通式中的A¹或A²)在自由基引发剂的存在下进行反应的方法。

5、将具有多个官能团(上述通式中的A¹或A²)的硫醇化合物作为链转移剂来对乙烯基单体进行自由基聚合的方法。

其中，从合成上的容易性考虑，优选为2、3、4、5，更优选为3、4、5，特别优选为5。另外，对于这些合成方法，可以参考日本特愿2006-129714号说明书的段落0184～0216中记载的内容。

作为质均分子量为1000以上的高分子化合物，可以使用以下的具有酸性基团的高分子化合物(以下，有时也将该化合物称为“含酸性基团的高分子化合物”)，作为该高分子化合物，优选为具有羧基的高分子化合物，更优选为含有(A)从具有羧基的化合物导出的重复单元的至少1种以及(B)从具有羧酸酯基的化合物导出的重复单元的至少1种的共聚化合物。

作为上述(A)从具有羧基的化合物导出的重复单元，优选为下述通式(I)表示的重复单元，更优选为从丙烯酸或甲基丙烯酸导出的重复单元，上述(B)从具有羧酸酯基的化合物导出的重复单元，优选为下述通式(II)表示的重复单元，更优选为下述通式(IV)表示的重复单元，特别优选为从丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸苄酯、丙烯酸苯乙酯、甲基丙烯酸苯乙酯、丙烯酸3-苯基丙酯、或甲基丙烯酸3-苯基丙酯导出的重复单元。

通式(I)

通式(III)

通式(II)通式(IV)

通式(V)

式中，R₁表示氢原子或碳原子数为1～5的烷基。R₂表示氢原子或碳原子数为1～5的烷基。R₃表示由下述通式(III)所示的基团。R₄表示氢原子、碳原子数为1～5的烷基、羟基、碳原子数为1～5的羟基烷基、或碳原子数为6～20的芳基。R₅及R₆分别表示氢原子或碳原子数为1～5的烷基。i表示1～5的数。R₇表示氢原子或碳原子数为1～5的烷基。R₈表示由下述通式(V)所示的基团。R₉表示碳原子数为2～5的烷基或碳原子数为6～20的芳基。R₁₀以及R₁₁表示氢原子或碳原子数为1～5的烷基。j表示1～5的数。

此外，作为(A)从具有羧基的化合物导出的重复单元与上述(B)从具有羧酸酯基的化合物导出的重复单元的聚合比例，重复单元(A)相对于总重复单元数的数量比％优选为3～40，更优选为5～35。

作为具有羧基的高分子化合物，可以举出例如聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、在侧链具有羧基的纤维素衍生物等。可以举出在日本特开昭59-44615号公报、日本特公昭54-34327号公报、日本特公昭58-12577号公报、日本特公昭54-25957号公报、日本特开昭59-53836号公报以及日本特开昭59-71048号公报中记载的甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、马来酸共聚物、部分酯化马来酸共聚物等。此外，作为特别优选的例子，可以举出在美国专利第4139391号说明书中记载的丙烯酸-丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸-丙烯酸酯共聚物、丙烯酸-甲基丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸-甲基丙烯酸酯共聚物、或者丙烯酸或甲基丙烯酸与丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯、其它的乙烯基化合物的多元共聚物。

作为乙烯基化合物的例子，可以举出苯乙烯或被取代了的苯乙烯(例如乙烯基甲苯、乙烯基乙苯)、乙烯基萘或被取代了的乙烯基萘、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、丙烯腈、甲基丙烯腈等，优选为苯乙烯。

作为质均分子量为1000以上的高分子化合物，除了上述化合物之外，还可以举出例如聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯醇、聚乙烯基甲基醚、聚氧化乙烯、聚乙二醇、聚丙二醇、聚丙烯酰胺、乙烯醇-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯醇-部分甲缩醛化物、聚乙烯醇-部分丁缩醛化物、乙烯基吡咯烷酮-乙酸乙烯酯共聚物、聚氧化乙烯/氧化丙烯嵌段共聚物、聚酰胺、纤维素衍生物、淀粉衍生物等。其它，还可以使用海藻酸盐、明胶、白蛋白、酪蛋白、阿拉伯胶、黄蓍胶、木素磺酸盐等天然高分子化合物。此外，作为具有酸性基团的高分子化合物，可以举出聚乙烯基硫酸、缩合萘磺酸等。

此外，可以举出：酞菁衍生物(市售品EFKA-6745(Efka公司制))、SOLSPERSE 5000(Zeneca株式会社制)；有机硅氧烷聚合物KP341(信越化学工业株式会社制)、(甲基)丙烯酸系(共)聚合物Polyflow No.75、No.90、No.95(共荣社油脂化学工业株式会社制)、W001(裕商公司制)等阳离子系表面活性剂；聚氧化乙烯月桂基醚、聚氧化乙烯硬脂基醚、聚氧化乙烯油烯基醚、聚氧化乙烯辛基苯基醚、聚氧化乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脱水山梨糖醇脂肪酸酯等非离子系表面活性剂；W004、W005、W017(裕商公司制)等阴离子系表面活性剂；EFKA-46、EFKA-47、EFKA-47EA、EFKA聚合物100、EFKA聚合物400、EFKA聚合物401、EFKA聚合物450(以上森下产业株式会社制)、DISPERSE AID 6、DISPERSE AID 8、DISPERSE AID 15、DISPERSE AID 9100(San Nopco公司制)等高分子分散剂；SOLSPERSE 3000、5000、9000、12000、13240、13940、17000、24000、26000、28000等各种SOLSPERSE分散剂(Zeneca株式会社制)；Adeka Pluronic L31、F38、L42、L44、L61、L64、F68、L72、P95、F77、P84、F87、P94、L101、P103、F108、L121、P-123(旭电化株式会社制)以及ISONET S-20(三洋化成株式会社制)。此外，也可以适当使用2000-239554号公报中记载的颜料分散剂或、日本特公平5-72943号公报中记载的化合物(C)或、日本特开2001-31885号公报中记载的合成例1的化合物等。

分子量为1000以上的高分子化合物可以使用1种，也可以将2种以上组合使用，也可以与分子量低于1000的化合物并用。

然后，对除去混合液中的溶剂成分进行浓缩的优选的方式进行说明。

浓缩方式没有特别的限定，例如，通过与间歇式或连续式的过滤、离心分离、压榨脱水、蒸发干燥、溶剂提取、或者沉淀分离相类似的固液分离法能够浓缩到所希望的浓度，在不使颜料粒子改性的方面考虑特别优选。浓缩不必通过一次操作来结束，可以将相同的方法重复多次，或者将多种方法组合分阶段地进行浓缩。此外，可以对暂时浓缩(第1浓缩)了的颜料分散物按照上述的溶剂置换的方式进行再稀释，然后通过再浓缩(第2浓缩)来得到具有目的的颜料浓度的分散物。

作为过滤，除了使用了一般的滤纸的抽滤之外，也可以是加压过滤、真空过滤、交叉流过滤等。对于使用的过滤器，可以根据目的使用以纸、布、高分子、无纺布、陶瓷、金属等为材质的、盘型、筒型等的各种过滤器元件。在这些方法中，从能高速地将更微细的粒子过滤的方面考虑，优选为使用了超滤膜或精密过滤膜的加压过滤、或使用了膜滤器的交叉流过滤。

在利用超滤过滤的情况下，可以应用在例如卤化银乳剂的脱盐/浓缩中使用的方法。公知有リサ一チ·ディスクロ一ジャ一(ResearchDisclosure)No.10208(1972)、No.13122(1975)以及No.16351(1977)。作为操作条件重要的压力差和流量，可以选定在大矢春彦著“膜利用技術ハンドブック”幸書房出版(1978)、p275中记载的特性曲线作为参考，在对目的的纳米颜料粒子分散物进行处理的方面，为了抑制粒子的凝聚，优选找出最佳条件。此外，在对因膜透过损失的溶剂进行补充的方法中，有连续添加溶剂的定容式和断续地分次添加的间歇式，但是，优选为脱盐处理时间相对较短的定容式。作为这样进行补充的溶剂，使用经通常的离子交换或蒸馏得到的纯水，但是，可以在纯水中混合分散剂、分散剂的不良溶剂，也可以直接添加到纳米粒子分散物中。

作为超滤膜，可以从旭化成株式会社、Daicel化学株式会社、株式会社Toray公司、株式会社日东电工公司等购得已经作为模块被组装了的平板型、螺旋型、圆筒型、中空丝型、中空纤维型等，但是，从总膜面积和洗涤性的观点考虑，优选为螺旋型或中空丝型。此外，作为能够透过膜的成分的阈值的指标的截留分子量(分画分子量，fractional molecular weight)需要根据使用的分散剂的分子量来确定，但是优选为5,000以上且50,000以下，更优选为5,000以上且15,000以下。

作为离心分离，除了一般的使用了离心机的离心沉淀分离之外，也可以使用利用有孔壁的离心过滤、利用过滤器的离心过滤、利用无孔壁的离心脱水、撇蒸等。其中，从能将更微细的粒子过滤的方面考虑，优选为利用过滤器的离心过滤。

对于离心分离，可以使用任意的装置，但是，例如，除了广泛使用的装置(例如，株式会社Kokusan制H130A型离心分离机)之外，还可以举出具有撇蒸功能(在旋转中吸引上清液层并将其排出到体系外的功能)的装置、或者连续地将固体物排出的连续离心分离机等。

离心分离条件以离心力(表示施加的离心加速度为重力加速度的多少倍的值)计优选为50～10000，更优选为100～8000，特别优选为150～6000。离心分离时的温度虽然取决于分散液的溶剂种类，但是优选为-10～80℃，更优选为-5～70℃，特别优选为0～60℃。

作为压榨脱水，除了使用了将分散物填充在滤布内进行压榨的压榨机(例如、株式会社栗田机械制作所制的KM73型脱水机)或压滤机的脱水法之外，只要是不损害生成的颜料分散物的性状的方法，也可以是将滤室内的分散物直接压榨的方法。

关于压榨条件没有特别的限定，但是，从防止颜料的过度干燥的观点考虑，操作温度优选为0℃～80℃，特别优选为10℃～30℃。对于压榨压，只要相对于所使用的设备适当即可，没有特别的限定。

作为干燥，可以是冷冻干燥、减压干燥、加热干燥，或者将它们组合来进行干燥。

冷冻干燥的方法没有特别的限定，只要是本领域技术人员可以利用的方法，均可以采用。例如，可以举出冷冻剂直接膨胀的方法(coolant directexpansion method)、重复冷冻的方法、热媒循环的方法(heating mediumcirculation method)、三重热交换的方法、间接加热冷冻的方法(indirectheating freezing method)，但是，优选使用冷冻剂直接膨胀的方法、间接加热冷冻的方法，更优选使用间接加热冷冻的方法。在任意的方法中，优选在进行了预备冷冻后进行冷冻干燥。预备冷冻的条件没有特别的限定，但是，必须将进行冷冻干燥的样品均匀地冷冻。

作为间接加热冷冻的方法的装置，可以举出小型冷冻干燥机、FTS冷冻干燥机、LYOVAC冷冻干燥机、实验用冷冻干燥机、研究用冷冻干燥机、三重热交换真空冷冻干燥机、单冷冻(monocooling)式冷冻干燥机、HULL冷冻干燥机，但是优选使用小型冷冻干燥机、实验用冷冻干燥机、研究用冷冻干燥机、物质冷却式冷冻干燥机，更优选使用小型冷冻干燥机、物质冷却式冷冻干燥机。

冷冻干燥的温度没有特别的限定，但是，例如可以为-190～-4℃，优选为-120～-20℃，更优选为-80～-60℃左右。冷冻干燥的压力没有特别的限定，本领域技术人员可以适当选择，但是，例如可以为0.1～35Pa，优选为1～15Pa，更优选为5～10Pa左右。冷冻干燥时间例如可以为2～48小时，优选为6～36小时，更优选为16～26小时左右。但是，本领域技术人员可以适当选择这些条件。对于冷冻干燥方法，例如可以参考“制剤機械技術ハンドブック”：制剤機械技術研究会編、地人書館、p.120-129(2000年9月)；“真空ハンドブック”：日本真空技術株式会社編、ォ一ム社、p.328-331(1992年)；“冷冻及び干燥研究会会誌”：伊藤孝治等、No.15、p.82(1965)等。

减压干燥装置没有特别的限定，可以举出例如广泛使用的真空干燥器以及旋转泵、或能边搅拌液体并进行加热减压干燥的装置、通过使液体通过经加热减压了的管中来连续地进行干燥的装置等。

加热减压干燥温度优选为30～230℃，更优选为35～200℃，特别优选为40～180℃。减压时的压力优选为100～100000Pa，更优选为300～90000Pa，特别优选为500～80000Pa。

作为加热干燥的装置，可以将通常的装置单独使用或组合使用。例如，作为使用热风的干燥机，可以适当使用棚型干燥机(shelf-type drier)、带式干燥机(band dryer)、搅拌干燥机、流动层干燥机、喷雾干燥机、气流干燥机，作为利用热传导的干燥机，可以适当使用鼓式干燥机、多重管干燥机、圆筒干燥机、螺旋干燥机等。此外，根据溶剂的组成，也可以使用冷冻干燥机或红外线干燥机。在这些装置中，优选使用搅拌干燥机、圆筒干燥机、螺旋干燥机等。

对于干燥条件，只要是能使溶剂蒸发、且不会使颜料和分散剂等的材料改性的范围，就没有特别的限定。但是，考虑到根据使用的溶剂种类，在允许的温度范围中，干燥速度变慢，因此，此时为了增加干燥速度，可以根据干燥机的种类将减压、搅拌混合、多段化等手段组合使用。

上述的装置可以单独使用，为了提高效率，也可以将多个装置组合。

在溶剂提取中使用的溶剂没有特别的限定，只要是与分散物的相溶性低、且相对于颜料粒子具有适当的亲和性的溶剂即可。优选为静置后形成明显的界面的溶剂。对于使用该溶剂进行提取时的使用量、添加条件没有特别的限定。

浓缩提取中使用的提取溶剂没有特别的限定，但是与分散溶剂(例如、水性溶剂)实质上不混合(在本发明中，所谓的实质上不混合是指，相溶性低)，溶解量优选为50质量％以下，更优选为30质量％以下。该溶解量没有特定的下限，但是如果考虑到通常的溶剂的溶解性，则实际上溶解量为1质量％以上。该提取溶剂优选为在混合后进行静置时形成界面的溶剂。此外，该提取溶剂优选为粒子可在提取溶剂中再分散的产生弱的凝聚(即使不施加研磨或者高速搅拌等的高剪切力也能进行再分散的絮凝体)的溶剂。若在该状态下，不会发生使粒子尺寸变化的牢固的凝聚，能用提取溶剂将目的颜料粒子润湿，另一方面，能通过过滤器过滤而容易地将水等分散溶剂除去，从这些方面考虑是优选的。作为提取溶剂，优选为酯化合物溶剂、醇化合物溶剂、芳香族化合物溶剂、脂肪族化合物溶剂，更优选为酯化合物溶剂、芳香族化合物溶剂或脂肪族化合物溶剂，特别优选为酯化合物溶剂。

作为酯化合物溶剂，可以举出例如乙酸2-(1-甲氧基)丙酯、乙酸乙酯、乳酸乙酯等。作为醇化合物溶剂，可以举出例如正丁醇、异丁醇等。作为芳香族化合物溶剂，可以举出例如苯、甲苯、二甲苯等。作为脂肪族化合物溶剂，可以举出例如正己烷、环己烷等。此外，提取溶剂可以是由上述优选的溶剂形成的纯溶剂，也可以是由多种溶剂形成的混合溶剂。

提取溶剂的量只要能提取粒子，就没有特别的限定，但是考虑到浓缩提取，优选粒子分散液的量较少。如果以体积比来表示提取溶剂的量，则以粒子分散液为100时，添加的提取溶剂优选为1～100的范围，更优选为10～90的范围，特别优选为20～80的范围。过多时，浓缩化需要大量的时间，过少时，提取不充分，在分散溶剂中残存粒子。

优选在添加提取溶剂后进行搅拌混合，以使其与分散液充分接触。搅拌混合可以使用通常的方法。添加混合提取溶剂时的温度没有特别的限定，但是优选为1～100℃，更优选为5～60℃。提取溶剂的添加、混合只要能良好地实施各自的工序，就可以使用任意的装置，例如，可以使用分液漏斗型的装置来实施。

为了将上述分散溶剂与浓缩提取液分离，优选进行过滤器过滤。过滤器过滤的装置可以使用例如加压过滤的装置。作为优选的过滤器，可以举出纳米过滤器、超滤器等。优选通过过滤器过滤，将残留的分散溶剂除去，将浓缩提取液中的粒子进一步浓缩来制成浓缩粒子液。

作为沉淀分离，除了倾析、利用分液漏斗的分离之外，只要是利用重力使粒子沉淀，仅使浓厚部分分离取出，则没有特别的限定。

根据本发明的制造方法，如上所述，根据需要，优选通过浓缩使处于凝聚状态的有机粒子再分散。

通过上述的提取溶剂、离心分离、干燥等浓缩化而得到的有机颜料粒子液中所含的有机颜料粒子通常通过该浓缩化而发生凝聚。此时，为了再次得到良好的分散状态，优选得到可再分散的程度地凝聚的絮凝体。

为此，有时在使用通常的分散化方法进行分散化的程度的情况下，微粒子化不充分，需要微细化效率更高的方法。在这样的情况下，由于含有上述质均分子量为1000以上的高分子化合物，因此能通过例如后述的第4溶剂使有机颜料粒子适当地再分散。

浓缩后的颜料分散物中的颜料浓度优选为1质量％以上，更优选为5质量％以上，进一步优选为10质量％以上。这与上面所述的第1浓缩以及第2浓缩同样。对于浓度的上限没有特别的限定，但是由于随着浓缩度增高，除了颜料粒子容易发生凝聚之外，浓缩所需的时间增加，因此，实际使用中优选为90质量％以下。

在本发明的制造方法中，在利用第3溶剂的溶剂置换之后，将该溶剂成分除去进行浓缩，优选在该浓缩液中导入第4溶剂。作为第4溶剂的例子，没有特别的限定，但是可以举出酯类、醚类、酮类。在这些溶剂中，优选使用3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙二醇单乙醚乙酸酯、乳酸乙酯、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、环己酮、二甘醇一乙醚乙酸酯、二甘醇一丁醚乙酸酯、丙二醇甲基醚乙酸酯等作为溶剂。这些溶剂可以单独使用，也可以2种以上组合使用。此外，作为该第4溶剂，可以使用上述高沸点有机溶剂，例如可以根据需要使用沸点为180℃～250℃的溶剂。第4溶剂的含量相对于树脂组合物总量优选为10～95质量％。

在添加第4溶剂进行再分散时，即，在需要使通过前一工序浓缩得到的纳米颜料粒子再分散的情况下，可以使用例如利用超声波的分散机、或通过物理剪切力进行分散的分散机。

所使用的超声波照射装置优选具有能施加10kHz以上的超声波的功能，可以举出例如超声波均质器、超声波洗涤机等。如果在超声波照射中液温上升，则发生纳米粒子的热凝聚(参照“颜料分散技術-表面処理と分散剤的使ぃ方ぉょび分散性評价”-技術情報協会1999)，因此，优选将液温设定为1～100℃，更优选为5～60℃，特别优选为5～30℃。温度的控制方法可以通过分散液温度的控制、对分散液进行温度控制的温度调整层的温度控制等来进行。

作为在施加剪切力使浓缩的颜料纳米粒子分散时所使用的分散机，没有特别的限定，可以举出例如捏合机、辊磨机、磨碎机(attritor)、超细磨机(super mill)、高速分散机(dissolver)、混匀器(homomixer)、砂磨机等分散机。此外，作为适当的方法，还可以举出高压分散法、或通过使用微小珠粒的分散方法。关于液温的调节，可以使用与通过超声波照射的方式相同的方法，优选的温度也相同。

可以将这些设备单独使用，也可以将它们组合使用，例如可以是用高速分散机进行暂时分散、再用珠磨机进行微分散的使用方法。可以根据对于由前一工序制作的浓缩物的分散的难易度、和分散后所要求的粒径来选定使用的设备。

作为形成本发明的滤色器的透明基板，可以使用在表面具有氧化硅皮膜的钠玻璃板、低膨胀玻璃、石英玻璃板等的公知的玻璃板。此外，也可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、三乙酸纤维素、聚苯乙烯、聚碳酸酯等公知的树脂薄膜。

上述基板通过预先实施偶联处理，能使与着色感光性树脂组合物或感光性树脂转印材料的密合变得良好。作为该偶联处理，可以适当使用日本特开2000-39033号公报中记载的方法。另外，虽然么有特别的限定，但是，作为基板的膜厚，一般优选为700～1200μm，特别优选为500～1100μm。

作为在基板上形成着色层的方式，只要是作为滤色器的制作方法的通常的方式，就没有特别的限定。通过使用例如旋涂机或狭缝涂布机、辊涂机、或者与它们类似的装置进行涂布，在基板上形成感光性树脂层，然后进行曝光/显影，按照颜色的种数来重复上述工序，由此能得到滤色器(具体而言，可以适当使用日本特开2004-89851号公报、日本特开2004-17043号公报、日本特开2003-170098号公报、日本特开2003-164787号公报、日本特开2003-10767号公报、日本特开2002-79163号公报、日本特开2001-310147号公报等中记载的狭缝状喷嘴、以及狭缝涂布机)。而且，也可以适当使用通过上述着色感光性树脂组合物暂时在临时支持体上形成感光性树脂层、并通过层压将其转印到基板上后进行曝光/显影而形成着色层的方法、或者通过所谓的喷墨方式在基板上形成着色层的手段。

作为在形成着色感光性树脂组合物时使用的单体或低聚物，优选为具有2个以上的烯键式不饱和双键、通过光的照射进行加成聚合的单体或低聚物。作为这样的单体或低聚物，可以举出在分子中具有至少1个可加成聚合的烯键式不饱和基团、沸点在常压下为100℃以上的化合物。作为其例子，可以举出聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯以及苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯等单官能丙烯酸酯或单官能甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧丙基)醚、三(丙烯酰氧乙基)异氰脲酸酯、三(丙烯酰氧乙基)氰脲酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯；在三羟甲基丙烷或甘油等多官能醇中加成环氧乙烷或环氧丙烷后进行(甲基)丙烯酸酯化而得到的物质等多官能丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯。

还可以举出在日本特公昭48-41708号公报、日本特公昭50-6034号公报以及日本特开昭51-37193号公报中记载的氨基甲酸酯丙烯酸酯类；日本特开昭48-64183号公报、日本特公昭49-43191号公报以及日本特公昭52-30490号公报中记载的聚酯丙烯酸酯类；作为环氧树脂与(甲基)丙烯酸的反应产物的环氧丙烯酸酯类等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。

其中，优选为三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。

此外，其它还可以举出日本特开平11-133600号公报中记载的“聚合性化合物B”作为适当的化合物。

这些单体或低聚物(作为单体或低聚物，优选分子量为200～1,000)可以单独使用，也可以两种以上混合使用。

本发明的滤色器只要是使用上述酞菁化合物晶体而成的滤色器即可，根据用途，可以是只具有单一色调的滤色器，或者也可以是例如具有黑色、红色、蓝色、绿色这4种不同的色调的滤色器。此外，对于形成过滤器时的基板上的着色层的图案也没有限定，例如可以设定成用由黑色层形成的黑色矩阵将红色、蓝色、绿色的图案划分而成的图案。对于该着色层的形成，可以使用在光中所述的方式中适于得到所希望的图案的任意的方式。

本发明的滤色器的特征在于，具有高对比度，对于具备该滤色器的液晶显示装置没有特别的方式的限定，可以设定为VA方式、IPS方式等显示形式的显示装置，其中优选设定为VA方式。

根据本发明的制造方法，能够高效地纯度良好地根据需要以工业的生产规模来生产酞菁纳米粒子分散物，该酞菁纳米粒子分散物不需要特别的加热或不必要的物质的添加或者施加机械力，就能控制成所希望的晶形，能够适用于滤色器等中，且分散安定性高。此外，本发明的滤色器、液晶显示装置以及CCD设备使用了含有上述具有所希望的晶形的酞菁颜料纳米粒子分散物的滤色器用喷墨油墨、着色感光性树脂组合物、以及感光性转印材料，可发挥高性能。

实施例

基于实施例对本发明作更详细地说明，但是，本发明并不限定于这些实施例。

(参考例1)

将铜酞菁粉末15g溶解到100ml的甲磺酸中，制成铜酞菁溶液。另外，将α型铜酞菁25g用超声波洗涤器以平均粒径0.1μm分散到1L的碳酸亚丙酯中，制成α型铜酞菁分散液。然后在激烈搅拌的α型铜酞菁分散液中，注入并混合铜酞菁溶液，制成生成了铜酞菁晶体的分散物样品1。

分散物样品1的吸收光谱如图1所示。吸收测定后，通过对分散物样品1进行过滤器过滤，从而得到35g的酞菁晶体样品1(平均粒径为150nm)。晶体样品1的X射线衍射测定结果如图2所示。可知生成了纯度高的α型铜酞菁晶体。

(参考例2)

将铜酞菁粉末15g溶解到100ml的甲磺酸中，制成铜酞菁溶液。另外，将β型铜酞菁25g用超声波洗涤器以平均粒径0.1μm分散到1L的碳酸亚丙酯中，制成β型铜酞菁分散液。然后在激烈搅拌的β型铜酞菁分散液中混合铜酞菁溶液，制成生成了铜酞菁晶体的分散物样品2。

分散物样品2的吸收光谱如图3所示。吸收测定后、通过对分散物样品2进行过滤器过滤，从而得到36g的晶体样品2(平均粒径为200nm)。晶体样品2的X射线衍射测定结果如图4所示。可知生成了纯度高的β型铜酞菁晶体。

(参考例3)

将铜酞菁粉末15g溶解到100ml的甲磺酸中，制成铜酞菁溶液。另外，将ε型铜酞菁25g用超声波洗涤器以平均粒径0.05μm分散到1L的碳酸亚丙酯中，制成ε型铜酞菁分散液。然后在激烈搅拌的ε型铜酞菁分散液中混合铜酞菁溶液，制成生成了铜酞菁晶体的分散物样品3。

分散物样品3的吸收光谱如图5所示。吸收测定后，通过对分散物样品3进行过滤器过滤，从而得到34g的晶体样品3(平均粒径为100nm)。晶体样品3的X射线衍射测定结果如图6所示。可知生成了纯度高的ε型铜酞菁晶体。

(参考例4)

将氧钛酞菁粉末11.5g溶解到100ml的甲磺酸中，制成氧钛酞菁溶液。另外，将Y型氧钛酞菁1g用超声波洗涤器以平均粒径0.08μm分散到1L的1-丙醇中，制成Y型氧钛酞菁分散液。然后在激烈搅拌的Y型氧钛酞菁分散液中混合氧钛酞菁溶液，制成生成了酞菁晶体的分散物样品4。

从分散物样品4的吸收光谱和与参考例1同样地得到的晶体样品4(平均粒径为130nm)的X射线衍射测定结果可知，生成了Y型氧钛酞菁晶体。

(参考例5)

将氧钛酞菁粉末11.5g溶解到100ml的甲磺酸中，制成氧钛酞菁溶液。另外，将β型氧钛酞菁1g用超声波洗涤器以平均粒径0.08μm分散到1L的1-丙醇中，制成β型氧钛酞菁分散液。然后在激烈搅拌的β型氧钛酞菁分散液中混合氧钛酞菁溶液，制成生成了酞菁晶体的分散物样品5。

从分散物样品5的吸收光谱和与参考例1同样地得到的晶体样品5(平均粒径为130nm)的X射线衍射测定结果可知，生成了β型氧钛酞菁晶体。

(参考例6)

将铜酞菁粉末15g溶解到100ml的甲磺酸中，制成铜酞菁溶液。另外，将ε型铜酞菁25g用超声波洗涤器以平均粒径0.1μm分散到1L的纯水中，制成ε型铜酞菁纯水分散液。然后在激烈搅拌的ε型铜酞菁纯水分散液中混合铜酞菁溶液，制成生成了酞菁晶体的分散物样品R1。

从分散物样品R1的吸收光谱和其晶体样品R1(平均粒径为150nm)的X射线衍射测定结果可知，生成了α型铜酞菁晶体与ε型铜酞菁晶体的混合物。

(参考例7)

将铜酞菁粉末15g溶解到100ml的甲磺酸中，制成铜酞菁溶液。然后在激烈搅拌的1,000ml的纯水以及1,000ml的甲醇中混合铜酞菁溶液，制成含有酞菁晶体的分散物样品R2。

从分散物样品R2的吸收光谱和其晶体样品R2(平均粒径为150nm)的X射线衍射测定结果可知，生成了α型铜酞菁晶体。

(实施例1、比较例1)

(实施例1-1)

在80质量份的上述分散物样品1中添加MMPGAc(乙酸甲氧基丙酯)20质量份并进行搅拌，生成晶体粒子的软凝聚体，通过过滤进行浓缩。

在该浓缩液中添加具有丙烯酸结构的重均分子量为13,000的高分子化合物(例示化合物C-1)，制成浆糊状的浓缩颜料液。

在该浆糊状的浓缩颜料液1.0g中添加环己酮5ml，制成用于照射超声波的浓缩样品颜料液(I)。对浓缩样品颜料液(I)，使用Branson公司制的Sonifier II型超声波均化器照射5分钟的20kHz的超声波(超声波照射i)。然后，用Branson公司制Model 200bdc-h 40:0.8型超声波均化器照射10分钟的40kHz的超声波(超声波照射ii)。

将超声波照射i以及超声波照射ii重复5次，直至能够通过目视确认晶体粒子被分散。超声波照射中，为了将样品颜料液维持在25℃，通过ャマト科学公司制的ク一ルニクスCTW400进行冷却。得到的粒子分散物样品1的粒子浓度为10质量％(浓缩倍率为200倍)。

(实施例1-2)

除了将实施例1-1的具有丙烯酸结构的高分子化合物C-1替换为甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物(共聚摩尔比28/72、重均分子量：3万)之外，按照与实施例1-1相同的方法制成10质量％的粒子分散物样品2。

(比较例1-1)

除了将实施例1-1的甲磺酸替换为不含聚乙烯基吡咯烷酮的水、将具有丙烯酸结构的高分子化合物C-1替换为甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物(共聚摩尔比28/72、重均分子量：3万)之外，按照与实施例1-1相同的方法制成10质量％的粒子分散物样品R1。

(实施例2、比较例2)

〔感光性转印材料的制作〕

在厚度为75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜临时支撑体上，用狭缝状喷嘴涂布由下述配方H1形成的热塑性树脂层用涂布液并干燥。然后，涂布由下述配方P1形成的中间层用涂布液并干燥。再涂布由下述表1中记载的组成形成的具有遮光性的树脂组合物K1并干燥，从而在该临时支撑体上设置干燥膜厚为15μm的热塑性树脂层、干燥膜厚为1.6μm的中间层、以及干燥膜厚为2.4μm的具有遮光性的树脂层，压接保护膜(厚度为12μm，聚丙烯薄膜)。

这样，制作了临时支撑体与热塑性树脂层与中间层(氧阻隔膜)与具有遮光性的树脂层一体而成的感光性树脂转印材料，将样品名记为感光性树脂转印材料K1。

(热塑性树脂层用涂布液：配方H1)

[表1]

<聚合引发剂1>

2，4-双(三氯甲基)-6-[4’-(N，N-双乙氧基羰基甲基氨基)-3’-溴代苯基]-s-三嗪

这里，对上述表1中记载的具有遮光性的树脂组合物K1的调制进行说明。

具有遮光性的树脂组合物K1通过如下所述而得到的：首先量取表1中记载的量的K颜料分散物1、丙二醇单甲基醚乙酸酯，在温度24℃(±2℃)下进行混合并以150rpm搅拌10分钟，然后，量取表1中记载的量的环己酮、粘合剂1、对苯二酚单甲基醚、DPHA液、2，4-双(三氯甲基)-6-[4’-(N，N-双乙氧基羰基甲基)氨基-3’-溴代苯基]-s-三嗪、表面活性剂1，在温度25℃(±2℃)下按照该顺序进行添加，在温度40℃(±2℃)下以150rpm搅拌30分钟。

另外，表1中记载的组合物中，

*K颜料分散物1的组成为：

·炭黑

(Degussa公司制、商品名Special Black250)    13.1质量份

·颜料分散剂A                              0.65质量份

·聚合物(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸＝72/28摩尔比

的无规共聚物、分子量3.7万)                 6.72质量份

·丙二醇单甲基醚乙酸酯                     79.53质量份

*粘合剂1的组成为：

·聚合物(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸＝78/22摩尔比

的无规共聚物、分子量4万)                   27质量份

·丙二醇单甲基醚乙酸酯                     73质量份

*DPHA液的组成为：

·二季戊四醇六丙烯酸酯(阻聚剂MEHQ含有500ppm、

日本化药株式会社制、商品名：KAYARAD DPHA)  76质量份

·丙二醇单甲基醚乙酸酯                     24质量份

另外，表面活性剂1与上述热塑性树脂层用涂布液H1中所使用的表面活性剂1相同。

〔具有遮光性的隔离壁的形成〕

对无碱玻璃基板边用调整为25℃的玻璃洗涤剂通过喷淋的方法喷吹20秒边用具有尼龙毛的旋转刷子进行洗涤，经纯水喷淋洗涤后，通过喷淋的方法将硅烷偶联剂液(N-β(氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷0.3质量％水溶液、商品名：KBM603、信越化学工业株式会社制)喷吹20秒，用纯水喷淋洗涤。将该基板用基板预备加热装置在100℃下加热2分钟。

将上述感光性树脂转印材料K1的保护膜剥离后，用层压机(株式会社日立ィンダストリィズ公司制(LamicII型))，在上述在100℃下加热了2分钟的基板上以橡胶辊温度130℃、线压100N/cm、运送速度2.2m/分的条件进行层压。

将临时支撑体剥离后，用具有超高压水银灯的接近型(Proximity)型曝光机(日立ハィテク電子ェンジニァリング株式会社制)在将基板与掩模(具有图像图案的石英曝光掩模)垂直竖立的状态下，将曝光掩模面与该热塑性树脂层之间的距离设定为200μm，以100mJ/cm²的曝光量进行图案曝光。掩模形状为格子状，跟像素与具有遮光性的隔离壁的边界线相当的部分的、向具有遮光性的隔离壁侧凸出的角的曲率半径为0.6μm。

然后，用三乙醇胺系显影液(含有2.5％的三乙醇胺、含有非离子性表面活性剂、含有聚丙烯系消泡剂、商品名：T-PD1、富士写真フィルム株式会社制)以在30℃下实施50秒、扁平喷嘴压力为0.04MPa的条件进行喷淋显影，除去热塑性树脂层和中间层(氧阻隔层)。

接着，使用碳酸钠系显影液(含有0.06mol/L的碳酸氢钠、同浓度的碳酸钠、1％的二丁基萘磺酸钠、阴离子性表面活性剂、消泡剂、稳定剂，商品名：T-CD1、富士写真フィルム株式会社制)，以在29℃下实施30秒、圆锥形喷嘴压力为0.15MPa的条件进行喷淋显影，将具有遮光性的树脂层显影，得到图案化的分离壁(具有遮光性的隔离壁图案)。

接着，使用洗涤剂(含有磷酸盐·硅酸盐·非离子性表面活性剂·消泡剂·稳定剂，商品名“T-SD1(富士写真フィルム株式会社制)”)，以在33℃下实施20秒、圆锥形喷嘴压力为0.02MPa的条件通过喷淋和具有尼龙毛的旋转刷子进行残渣的除去，得到具有遮光性的隔离壁。然后，进一步对该基板从该树脂层一侧用超高压水银灯以500mJ/cm²的光进行后曝光，然后进行240℃、50分钟的热处理。

〔等离子体疏水化处理〕

然后，通过下述方法进行等离子体疏水化处理。

在形成了具有遮光性的隔离壁的上述基板上，用阴极耦合方式平行平板型等离子体处理装置，按照以下的条件进行等离子体疏水化处理。

使用气体：CF₄        气体流量：80sccm

压力：40Pa

射频功率(RF power)：50W

处理时间：30sec

〔滤色器用喷墨油墨的调制〕

以日本特开2002-201387号公报的实施例1为参考按照以下的配方来调制油墨。

[表2]                    单位(质量份)

在二甘醇单丁基醚乙酸酯溶液中加入颜料分散剂A、颜料(颜料红254)的粉体、聚乙烯基吡咯烷酮6g、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物并进行搅拌，得到混合液。然后，将该混合液通过电动磨机(motor mill)M-50(EigarJapan公司制)，用直径为0.65mm的二氧化锆珠，以转速9m/s分散9小时。

<浓缩颜料液G1>

相对于浓缩颜料液R1的调制顺序，除了将颜料红254替换为颜料绿36之外，同样地进行，调制浓缩颜料液G1。

<浓缩颜料液B1>

相对于浓缩颜料液R1的调制顺序，除了将颜料红254替换为含PB15:6的上述粒子分散物样品1之外，同样地进行，调制浓缩颜料液B1。

对于上述表2的各成分的混合，首先，将颜料以及高分子分散剂加入到溶剂的一部分中并进行混合，用三辊和珠磨机进行搅拌来得到颜料分散液。另一方面，将其它的配合成分加入到溶剂的剩余部分中，通过搅拌进行溶解分散，得到粘合剂溶液。然后，边将颜料分散液每次少量地添加到粘合剂溶液中边用高速分散机进行充分搅拌，调制滤色器用喷墨油墨。

〔像素形成〕

将上述得到的R油墨1、G油墨1、B油墨1用压电方式的喷头，首先按照如下所述在被遮光性隔离壁包围的凹部中滴加油墨。然后如下所述，得到本发明的滤色器。

喷头以每25.4mm具有150个喷嘴的密度具备318个喷嘴，通过将2个喷头按在喷嘴列方向上错开喷嘴间隔的1/2的方式进行固定，由此在基板上，在喷嘴的排列方向上每25.4mm可滴加300滴。

喷头以及油墨通过使温水在喷头内循环，从而可以将喷出部分附近控制成50±0.5℃。

来自喷头的油墨的喷出通过赋予喷头的压电驱动信号来进行控制，可以进行每一滴为6～42pl的喷出，在本实施例中，在喷头下方1mm的位置边将玻璃基板运送边从喷头进行滴加。运送速度可以设定在50～200mm/s的范围。此外，压电驱动频率最大可达到4.6KHz，通过这些设定，能够控制滴加量。

以R、G、B各自的颜料的涂设量为1.1、1.8、0.75g/m²的方式来控制运送速度、驱动频率，在与所希望的R、G、B相对应的凹部中滴加R、G、B的油墨。

所滴加的油墨被运送到曝光部，通过紫外发光二极管(UV-LED)进行曝光。UV-LED使用日亚化学公司制的NCCU033。本LED为从一个芯片输出波长为365nm的紫外光的LED，通过通入约500mA的电流，可以从芯片发出约100mW的光。将其以7mm为间隔排列多个，可在表面得到0.3W/cm²的能量。滴加后至曝光为止的时间、以及曝光时间根据传动机构的运送速度以及喷头与LED在搬送方向上的距离的不同而可以变化。滴加后，在100度下干燥10分钟，然后进行曝光。

对应于距离以及运送速度的设定，传动机构上的曝光能量可以在0.01～15J/cm²之间调整。根据运送速度来调整曝光能量。

在这些曝光功率、曝光能量的测定中，可以使用ゥシォ電機制的辐射分光计URS-40D，使用对从波长220nm至400nm间进行积分而得到的值。

将滴加后的玻璃基板在230℃的烘箱中烘烤30分钟，由此将遮光性隔离壁、各像素一同完全固化。

(ITO电极的形成)

将形成有滤色器的玻璃基板装入到溅射装置中，在100℃下整面真空蒸镀厚度为的ITO(铟锡氧化物)后，在240℃下退火90分钟，使ITO晶体化，形成ITO透明电极。

(间隔物(spacer)的形成)

通过与在日本特开2004-240335号公报的[实施例1]中记载的间隔物的形成方法相同的方法，在上述制作的ITO透明电极上形成间隔物。

(液晶取向控制用突起的形成)

使用下述的正型感光性树脂层用涂布液，在形成有上述间隔物的ITO透明电极上形成液晶取向控制用突起。

其中，曝光、显影、以及、烘烤工序使用以下的方法。

按照规定的光掩模距离感光性树脂层的表面为100μm的距离的方式配置接近式曝光机(日立ハィテク電子ェンジニァリング株式会社制)，经由该光掩模通过超高压水银灯以照射能量为150mJ/cm²的条件进行接近式曝光。

接着，将2.38％的四甲基氢氧化铵水溶液通过喷淋式显影装置在33℃、30秒的条件下在基板上边喷雾边显影。这样，可以得到形成有液晶取向控制用突起的液晶显示装置用基板，该液晶取向控制用突起是由通过将感光性树脂层的不需要的部分(曝光部)显影除去而在滤色器侧基板上图案化成所希望的形状的感光性树脂层形成的。

然后，将形成有该液晶取向控制用突起的液晶显示装置用基板在230℃下烘烤30分，在液晶显示装置用基板上形成固化了的液晶取向控制用突起。

<正型感光性树脂层用涂布液配方>

·正型抗蚀剂液(富士フィルムェレクトロニクス

マテリァルズ株式会社制FH-2413F)：               53.3质量份

·甲基乙基酮：                                  46.7质量份

·Megafac F-780F(大日本油墨化学工业株式会社制)：0.04质量份

(液晶显示装置的制作)

在上述得到的液晶显示装置用基板上进一步设置由聚酰亚胺形成的取向膜。

然后，在与以包围滤色器的像素群的方式设置在周围的具有遮光性的隔离壁的外框相当的位置处印刷环氧树脂的密封剂，并且滴加MVA模式用液晶，与对置基板贴合后，对贴合的基板进行热处理而使密封剂固化。在由此得到的液晶盒的两面贴合株式会社Sanritz公司制的偏振片HLC2-2518。然后，三波长冷阴极管光源(東芝ラィテック株式会社制FWL18EX-N)构成背光，配置在设置有上述偏振片的液晶盒的背面侧，从而制成本发明的液晶显示装置。

相对于浓缩颜料液B1的调制顺序，除了替换成PB15:6的上述粒子分散物样品R1之外，同样地调制浓缩颜料液B2。

然后，相对于表2中的B油墨1，除了将浓缩颜料液B1替换成浓缩颜料液B2之外，以同样的组成来调制B油墨2。相对于上述本发明的液晶显示装置，除了将B油墨1替换为B油墨2之外，同样地制作用作比较的滤色器，并制作液晶显示装置。

可以确认相对于用作比较的液晶显示装置，本发明的液晶显示装置的黑色浓密度和蓝色的描绘能力优良。

(实施例3·比较例3)

[IPS模式、PVA模式的液晶显示装置的制作]

使用上述的滤色器(本发明、比较例)制作以下的方式的液晶显示装置。

·PVA模式用液晶显示装置的制作

在滤色器的R像素、G像素、及B像素以及黑色矩阵上进一步通过溅射来形成ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)的透明电极。然后，按照日本特开2006-64921号公报的实施例1，在与上述形成的ITO膜上的黑色矩阵上部相当的部分处形成间隔物。

另外，作为对置基板，使用玻璃基板，在滤色器基板的透明电极上以及对置基板上分别实施用于PVA模式的图案化，在此基础上进一步设置由聚酰亚胺形成的取向膜。

然后，在与以包围滤色器的像素群的方式设置在周围的黑色矩阵的外框相当的位置处通过分配方式涂布紫外线固化树脂的密封剂，滴加PVA模式用液晶，与对置基板贴合后，对贴合的基板进行UV照射，然后进行热处理而使密封剂固化。在这样得到的液晶盒的两面贴合株式会社Sanritz公司制的偏振片HLC2-2518。然后，使用FR1112H(Stanley株式会社制的chip型LED)作为红色(R)LED，使用DG1112H(Stanley株式会社制的chip型LED)作为绿色(G)LED，使用DB1112H(Stanley株式会社制的chip型LED)作为蓝色(B)LED，构成侧光(side light)方式的背光，配置在上述设置有偏振片的液晶盒的背面侧，制成液晶显示装置。

在使用这些表示装置进行显示性能的评价时，相对于比较例的液晶显示装置，本发明的液晶显示装置发挥出优良的显示性能。

·IPS模式用液晶显示装置的制作

在滤色器的R像素、G像素、及B像素以及黑色矩阵上还可以通过溅射形成ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)的透明电极。然后，按照日本特开2006-64921号公报的实施例1，在与上述形成的ITO膜上的黑色矩阵上部相当的部分处形成间隔物。

在上述得到的带间隔物的滤色器基板上涂布聚酰亚胺，进行摩擦处理，形成取向膜。

而且，相对于上述得到的滤色器基板，通过使驱动侧基板以及液晶材料组合来制作液晶显示元件。即，作为驱动侧基板，准备TFT与梳型的像素电极(导电层)排列形成的IPS用TFT基板，按照该TFT基板的设置有像素电极等的一侧的表面、与上述得到的滤色器基板的形成有着色像素层的一侧的表面相对置的方式进行配置，具有由上述形成的间隔物带来的间隙地进行固定。在该间隙中封入液晶材料，设置承担图像显示的液晶层。在由此得到的液晶盒的两面贴合株式会社Sanritz公司制的偏振片HLC2-2518。然后，冷阴极管构成背光，配置在设置有上述偏振片的液晶盒的背面侧，制成液晶显示装置。

在使用这些显示装置进行显示性能的评价时，与PVA模式时相比，虽然程度降低，但是，相对于比较例的液晶显示装置，本发明的液晶显示装置发挥出优良的显示性能。

(实施例4·比较例4)

如下所示，制作CCD设备，并评价其摄像性能。首先按照如下的配方来调制颜料分散液(1)…绿色G、(2)…蓝色B、(3)…红色R。

颜料分散液(1)·C.I.P.G.36            90质量份

·C.I.P.G.7                          25质量份

·C.I.P.Y.139                        40质量份

·PLAAD ED151                        20质量份

(楠本化成株式会社制)

·甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物    25质量份

(共聚摩尔比70∶30、重均分子量3万)

·丙二醇单甲基醚乙酸酯               625质量份

(2)·C.I.P.B.15:6(粒子分散物样品1)   125质量份

·PLAAD ED211                        45质量份

(楠本化成株式会社制)

·甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物    25质量份

(共聚摩尔比70∶30、重均分子量3万)

·丙二醇单甲基醚乙酸酯               730质量份

(3)·C.I.P.R.254                     80质量份

·C.I.P.Y.139                        20质量份

·PLAAD ED472                        45质量份

(楠本化成株式会社制)

·甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物    25质量份

(共聚摩尔比70∶30、重均分子量3万)

·丙二醇单甲基醚乙酸酯               720质量份

(着色树脂组合物的调制)

对于上述得到的各色的颜料分散液各自200质量份，分别用搅拌机均匀混合下述组合物，调制各色用的滤色器用着色树脂组合物。

<组成>

·丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物        35质量份

(共聚摩尔比＝70/30、重均分子量3万)

·二季戊四醇五丙烯酸酯               38质量份

·丙二醇单甲基醚乙酸酯                120质量份

·3-乙氧基丙酸乙酯                    40质量份

·卤代甲基三嗪系引发剂                4质量份

(光聚合引发剂制品名TAZ107みどり化学株式会社制)

(滤色器以CCD设备的制作)

用搅拌机将下述组成混合，调制平坦化膜用抗蚀剂液。

〔组成〕

·丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物        165质量份

(共聚摩尔比＝70/30、重均分子量3万)

·二季戊四醇五丙烯酸酯               65质量份

·丙二醇单甲基醚乙酸酯               138质量份

·3-乙氧基丙酸乙酯                   123质量份

·卤代甲基三嗪系引发剂               3质量份

(光聚合引发剂制品名TAZ107みどり化学株式会社制)

将得到的平坦化用抗蚀剂液通过旋涂来均匀地涂布到形成有光电二极管的6英寸硅片上。另外，旋涂以在涂布后按照涂布膜的表面温度为100℃×120秒的条件使用加热板进行加热处理后膜厚成为约1.5μm的方式来调节涂布旋转数。

然后，在220℃下在烘箱中放置1小时，使涂布膜固化，同样以将在硅片上形成的光电二极管表面覆盖的方式形成平坦化膜。

然后，对于各种颜色，按照G、R、B的顺序，在平坦化膜上涂布相对于上述平坦化膜用抗蚀剂液调制配方为100质量份的上述的滤色器用着色树脂组合物，并进行干燥(预烘烤)、图案曝光、碱显影、冲洗、固化干燥(后烘烤)，形成着色树脂被膜，在带光电二极管的硅片上制作滤色器。

另外，图案曝光是介由2μm掩模图案，使用i线分步投影光刻机(Stepper)(商品名：FPA-3000i5+、佳能株式会社制)在500mJ/cm²下进行。

此外，关于碱显影，使用有机碱性显影液(商品名：CD-2000、富士フィルムェレクトロニクスマテリァルズ株式会社制)的40质量％水溶液，在室温下进行60秒的浸润显影后，通过20秒的旋转喷淋用纯水进行冲洗，进一步用纯水进行水洗。然后，用高温的空气将水滴吹跑，使基板自然干燥而得到图案后，在加热板上在表面温度为200℃、5分钟的条件下实施后烘烤处理。如上所述，制作了本发明的CCD设备。

除了将上述粒子分散物样品1变更为粒子颜料分散物样品R1之外，与上述的CCD设备的制作顺序相同，制作用于比较的CCD设备。

将得到的各CCD设备搭载在数码相机中，在监视器上观察在同一光源下拍摄Kodak公司制的带灰度的比色图表而得到的图像。其结果是，在使用由本发明的制造方法得到的颜料纳米粒子制作的CCD设备的情况下，可得到光滑的均匀性高的再现图像，发挥优良的摄像特性。另一方面，在使用比较例的颜料分散物的情况下，稍微存在粗糙感，且可看到颜色不均。

由本发明的方法得到的酞菁颜料纳米粒子分散物能够适合用于滤色器用喷墨油墨、着色感光性树脂组合物、感光性转印材料、滤色器、液晶显示装置、CCD设备等中。

虽然将本发明与其实施方式一起说明，但是认为只要没有特别指定，说明的详细部分不对本发明进行限定，在不违反附加的权利要求书所示的发明的精神和范围的情况下，可以进行广泛地解释。

本申请要求2007年4月17日在日本国申请的特愿2007-108047的优先权，在此将该申请作为参考，并将其内容作为本说明书的记载的一部分。

Claims (11)

1、一种酞菁颜料纳米粒子分散物的制造方法，其特征在于，在将使酞菁化合物溶解于酸或含有酸的良溶剂中而成的酞菁化合物溶液与相对于该酞菁化合物为不良溶剂的有机溶剂混合来调制生成有酞菁化合物晶体的混合液时，将具有选自α、β、γ、ε、δ、π、ρ、A、B、X、Y以及R中的一种晶形的酞菁化合物晶体添加到所述有机不良溶剂或所述混合液中，使所述生成的酞菁化合物晶体生成为与所述添加的晶体相同的晶形，且该混合液含有质均分子量为1000以上的添加剂。

2、根据权利要求1所述的酞菁颜料纳米粒子分散物的制造方法，其特征在于，所述质均分子量为1000以上的添加剂中的至少一种为下述通式(1)表示的高分子化合物，

通式(1)

通式(1)中，R¹表示(m+n)价的连接基团，R²表示单键或2价的连接基团；A¹表示具有选自酸性基团、具有氮原子的碱性基团、脲基、尿烷基、具有配位性氧原子的基团、碳原子数为4以上的烃基、烷氧基甲硅烷基、环氧基、异氰酸酯基以及羟基中的基团的1价有机基团，或者含有可以具有取代基的有机色素结构或杂环的1价有机基团；其中，n个A¹互相相同或不同；m表示1～8的数，n表示2～9的数，m+n满足3～10，P¹表示高分子化合物残基。

3、根据权利要求1或2所述的酞菁颜料纳米粒子分散物的制造方法，其特征在于，将所述混合液的溶剂成分除去而进行浓缩。

4、根据权利要求1～3中任一项所述的酞菁颜料纳米粒子分散物的制造方法，其特征在于，在所述浓缩后，添加与所述良溶剂及所述有机不良溶剂的任一者均不同的再分散溶剂来进行再分散。

5、一种滤色器用喷墨油墨的制造方法，其特征在于，将权利要求1～4中任一项所述的分散物形成为滤色器用喷墨油墨。

6、一种着色感光性树脂组合物，其特征在于，至少包含由权利要求1～4中任一项所述的方法制作的分散物、粘合剂、多官能单体、和光聚合引发剂或光聚合引发剂系。

7、一种感光性转印材料，其特征在于，在临时支撑体上至少设置包含权利要求6所述的着色感光性树脂组合物的感光性树脂层。

8、一种滤色器，其特征在于，使用权利要求6所述的着色感光性树脂组合物或权利要求7所述的感光性转印材料而制得。

9、一种液晶显示装置，其特征在于，具备权利要求8所述的滤色器。

10、根据权利要求9所述的液晶显示装置，其特征在于，所述液晶显示装置为VA方式。

11、一种CCD设备，其特征在于，具备权利要求8所述的滤色器。

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