CN101652302A - 基板输送系统 - Google Patents

Abstract

基板输送系统，具备在预定的轨道(R)上往复移动的移动单元(10)，在沿轨道(R)配置的多个装置之中，从成为基板的输出原位的装置(210)向成为输出目的地的装置(220)输送基板，其中具备：配置在成为基板的输出原位的各个装置(211、212、213)的每个上，载置从成为基板的输出原位的装置输出的基板的载置台(20)；设置在移动单元(10)上，使载置在载置台上的基板升降的升降单元(30)，载置台具备：载置从成为基板的输出原位的装置输出的基板的载置单元(21)；在轨道(R)上且与移动单元(10)相比在上方支承载置单元的支承构件(22)，载置单元具有：在移动单元(10)移动及升降单元(30)升降之际，升降单元(30)通过的通过空间(S)。

Description

基板输送系统

技术领域

[0001]本发明涉及输送基板的技术。

背景技术

[0002]在液晶显示器、等离子体显示器等FPD(平板显示器)制造生产线上，需要在多段地收容基板的盒和进行各种处理的处理装置之间输送基板。

[0003]在专利文献1中，公开了如下的技术：载置从盒输出的基板的载置台和将载置在载置台上的基板投入到处理装置内的臂一体化，载置台在行驶轨道上移动，以便能够相对于多个盒和处理装置而言输送基板。

[0004]在专利文献2中，公开了载置从盒输出的基板的传送机沿行驶轨道在多个盒和处理装置之间移动的技术。

专利文献1：日本专利特开2005-64432号公报

专利文献1：日本专利特开2004-284772号公报

专利文献1：日本专利特开2004-292094号公报

发明内容

[0005]但是，在专利文献1及2公开的技术中，因为载置从盒输出的基板的载置台(例如，传送机)自身移动到成为下道工序的处理装置等的面前才传送基板，所以直到载置台返回到盒的面前为止需要时间。即，这个期间因为不能从处理装置向载置台输出基板，所以会成为阻碍循环时间提高的主要原因。

[0006]因此，本发明的目的在于提高从成为基板的输出原位的装置到成为基板的输出目的地的装置之间的基板的输送效率。

[0007]为了解决上述课题，在本发明中，提供一种基板输送系统，所述基板输送系统具备在预定的轨道上往复移动的移动单元，在沿上述轨道配置的多个装置之中，从成为基板的输出原位的装置向成为输出目的地的装置输送基板，其特征在于，具备：配置在成为基板的输出原位的各个上述装置的每个上，载置从成为基板的输出原位的上述装置输出的基板的载置台；设置在上述移动单元上，使载置在上述载置台上的基板升降的升降单元，上述载置台具备：载置从成为基板的输出原位的上述装置输出的基板的载置单元；在上述轨道上，与上述移动单元相比在上方支承上述载置单元的支承构件，上述载置单元具有：在上述移动单元移动及上述升降单元升降之际，上述升降单元通过的通过空间。

[0008]根据此结构，上述载置单元，因为在上述移动单元移动及上述升降单元升降之际，具有上述升降单元通过的通过空间，所以能够在通过上述载置台后进行移动及升降。即，即使在上述移动单元在从成为基板的输出原位的上述装置到成为基板的输出目的地的上述装置之间进行移动的期间，也能够向上述载置单元上输出基板，因此，能够提高从成为基板的输出原位的上述装置输出的基板到成为基板的输出目的地的上述装置之间的基板的输送效率。

附图说明

[0009]

图1是本发明的第一实施方式的基板输送系统100的整体立体图。

图2A是第一实施方式的载置台20的俯视图。

图2B是第一实施方式的升降单元30的俯视图。

图2C是使图2A及图2B重合的图。

图3是从图2B所示的方向a观看的载置台50的侧视图。

图4A是表示基板输送系统100的动作顺序的图。

图4B是表示基板输送系统100的动作顺序的图。

图4C是表示基板输送系统100的动作顺序的图。

图4D是表示基板输送系统100的动作顺序的图。

图4E是表示基板输送系统100的动作顺序的图。

图5A是表示吸附单元21b的动作顺序的图。

图5B是表示吸附单元21b的动作顺序的图。

图5C是表示吸附单元21b的动作顺序的图。

图5D是表示吸附单元21b的动作顺序的图。

图5E是表示吸附单元21b的动作顺序的图。

图5F是表示吸附单元21b的动作顺序的图。

图6是第一实施方式的变形例1的载置单元21的俯视图。

图7是第二实施方式的基板输送系统300的整体立体图。

图8是基板收容装置410的分解立体图。

图9A是表示基板收容装置410的基板输出处理的动作顺序的图。

图9B是表示基板收容装置410的基板输出处理的动作顺序的图。

具体实施方式

[0010]<第一实施方式>

图1是本发明的第一实施方式的基板输送系统100的整体立体图。基板输送系统100是如下的系统：具备在预定的轨道R上往复移动的移动单元10，在沿轨道R配置的多个基板处理装置200中从成为基板的输出原位的基板处理装置210向成为输出目的地的基板处理装置220输送基板。

[0011]基板处理装置210，其基板处理装置211、212、213这三台沿轨道R邻接地设置。另外，基板处理装置220，其基板处理装置221、222、223这三台沿轨道R邻接地设置在分别与基板处理装置211、212、213面对的位置上。

[0012]另外，基板输送系统100具备载置台50和载置台20，该载置台50具有移动单元10及升降单元30，该载置台20配置在基板处理装置211、212、213的面前。移动单元10具有马达等驱动源11，在轨道R上行驶。载置台20具备载置从基板处理装置210输出的基板的载置单元21、在轨道R上且与移动单元10相比在上方支承载置单元21的支承构件22。

[0013]升降单元30，固定在移动单元10上，是使载置在载置台20上的基板升降的升降单元，例如由空气式或气体式的气缸构成。另外，升降单元30具备在与轨道R正交的方向延伸，载置基板的载置部31；和直立设置在移动单元10上，支承载置部31的支柱部32。

[0014]图2A是第一实施方式的载置台20的俯视图，图2B是第一实施方式的升降单元30的俯视图，图2C是使图2A及图2B重合的图。另外，图3是从图2B所示的方向a观看的载置台50的侧视图。

[0015]如图2A所示，载置台20的载置单元21由具备了载置基板W的多个辊21a’的多个辊单元21a、吸附保持基板W且使之移动到载置单元21的预定的位置的吸附单元21b构成。辊21a’是在向与轨道R正交的方向输送基板W之际，随着其动作进行旋转的从动辊。

[0016]吸附单元21b具有以真空状态吸附基板W的吸附部21c、由空气式或气体式的气缸等使吸附部21c在上下方向升降的升降机构(未图示)、使吸附部21c沿轨道在水平方向移动的移动机构(未图示)。根据此结构，吸附单元21b能够使吸附部21c在上下方向及水平方向移动。

[0017]另外，载置单元21具有形成在辊单元21a之间的通过空间S。通过空间S由向与轨道R的方向正交的方向延伸的通过空间S’、向与轨道R相同的方向延伸的通过空间S”构成。

[0018]升降单元30的载置部31，如图2B及图3所示，具有：向与轨道R相同的方向延伸的构件31a；固定在构件31a上，向与轨道R正交的方向延伸的构件31b；固定在构件31b的上部，直接支承基板W的多个支承销31c；固定在构件31b上，防止基板W在支承销31c上偏移的偏移防止销31d。

[0019]偏移防止销31d由防止与轨道R正交的方向的偏移的偏移防止销31d’和防止与轨道R相同的方向的偏移的偏移防止销31d”构成。在本实施方式的情况下，偏移防止销31d’，在基板W的正常的载置位置上，将构件31b延长到越过基板W的端部的位置，直立设置在构件31b的上面上。另外，偏移防止销31d”，将构件31e固定在构件31a上，将构件31e延长到越过基板W的端部的位置，直立设置在构件31e的上面上。

[0020]如图2C所示，在与轨道R的方向正交的方向形成的通过空间S’内，升降单元30的载置部31通过，在与轨道R的方向相同的方向形成的通过空间S”内，升降单元30的支柱部32通过。由此，无论在移动单元10进行移动之际，还是在升降单元30进行升降之际，都能够不会与载置单元21干涉地进行动作。

[0021]图4A至图4E是表示基板输送系统100的动作顺序的图。升降单元30，如图4A所示，在直到基板W被输出到载置台20的载置单元21的规定位置的期间，至少支承销31c及偏移防止销31d’已在不从载置单元21的载置面突出的位置待机。另外，在本实施方式的情况下，所谓载置单元21的载置面是指将辊单元21a的多个辊21a’中的最高位置相互连接而形成的平面。

[0022]如果基板W被输出到载置单元21的规定位置，则升降单元30，如图4B所示，使载置部31上升到比载置单元21的载置面高的位置，能够支承基板W的负荷。另外，此时，如上所述，载置部31在通过空间S’中通过，由此能够通过载置台20。

[0023]然后，如果升降单元30的上升结束，则移动单元10，如图4C所示，沿轨道R移动，如图4D所示，到达所希望的载置台20后结束移动。另外，此时，如上所述，支柱部32在通过空间S”中通过，由此能够通过载置台20。

[0024]如果移动单元10到达所希望的载置台20后结束移动，则移动单元10，如图4E所示，载置部31下降到比基板W的载置面低的位置。由此，能够将基板W传送到载置单元21上。

[0025]图5A至图5F是表示吸附单元21b的动作顺序的图。在此，将接近基板处理装置210的吸附单元作为21b，将接近基板处理装置220的吸附单元作为21b’。另外，移动机构进行移动的轨道，将设置在吸附单元21b上的轨道作为轨道2，将设置在吸附单元21b’上的轨道作为轨道2’，从接近基板处理装置210的一侧将其端部分别作为2a、2b、2a’及2b’。

[0026]首先，吸附单元21b，如图5A所示，使在轨道2的端部2a待机的吸附部21c上升，吸附保持基板W的接近载置台20的端部附近。接着，吸附单元21b，如图5B所示，使吸附保持了基板W的吸附部21c水平移动，直到轨道2的端部2b为止。然后，吸附单元21b暂时解除基板W的吸附保持，使吸附部21c向下方下降，在端部2a的方向仅后退预定的距离(例如，200mm)。然后，如图5C所示，再使吸附部21c上升，吸附保持基板W。

[0027]吸附单元21b移动到基板W的保持位置后，基板W的前端部分进一步行进到已在轨道2’的端部2a’待机的吸附部21c’的上方。因此，如图5D所示，再使基板W的输出处理停止，解除吸附单元21b的吸附保持。吸附单元21b’预先使吸附部21c′上升，直到吸附部21c的吸附解除为止，在吸附部21c的吸附解除的同时，使吸附部21c’吸附保持。由此，将基板W从吸附单元21b传送给吸附单元21b’。

[0028]吸附单元21b，如果解除基板W的保持，则再使吸附部21c移动，直到轨道2的端部2a为止。吸附单元21b’，如图5E所示，如果使载置了基板W的吸附部21c’移动，直到轨道2’的端部为止，则解除吸附部21c的吸附保持，使吸附部21c下降。由此，基板W成为载置在辊21a’上的状态。最后，吸附单元21b’为了从吸附单元21b接受下一个基板W，再移动到轨道2’的端部2a’。

[0029]然后，如图5F所示，如果升降单元30从载置台20的下方上升，支承销31c比辊21a’的载置面突出，则基板W被支承在支承销31c上。在升降单元30由移动单元10沿轨道R将基板输送到所希望的载置台20，再返回到原始的位置的情况下，与上述同样地反复进行一系列的基板W的输出处理。

[0030]另外，吸附单元21b，在已处理完的基板W在基板处理装置210内待机的情况下，因为载置台20自身不移动地被固定，所以即使移动单元10在轨道R上移动之际，也可以作为将新的基板W向载置台20上输出的设定。

[0031]根据本实施方式的结构，升降单元30，在移动单元10在轨道R上进行移动之际及升降单元30的载置部31进行升降之际，能够不会与载置台20的载置单元21干涉地通过。即，即使在移动单元10在从基板处理装置210到基板处理装置220之间移动的期间，也能够将基板W输出到载置单元21上。由此，能够提高从成为基板W的输出原位的基板处理装置210输出的基板W到成为基板W的输出目的地的基板处理装置220之间的基板W的输送效率。

[0032]另外，辊单元21a，在本实施方式中，因为没有用于使辊21a’旋转的驱动源，仅具备随着基板W的动作而动的从动辊，所以与辊单元21a分开地设置了吸附基板W并将其输送到升降单元30的预定的位置的吸附单元21b，但是也可以做成辊单元21a具有驱动源，由驱动源使辊旋转来将基板W输送到载置台20的预定的位置的结构。

[0033]根据此结构，因为设置了驱动源代替吸附单元21b，所以能够简化载置单元21的结构。因此，能够降低成本，同时，也能够因故障的降低而提高设备运转率。

[0034]另外，吸附单元21b，在本实施方式中，在吸附保持基板W的状态下进行输出，但是吸附单元21b，也可以做成在不吸附保持基板W地支承基板W的负荷的状态下进行输出的结构。

[0035]另外，在本实施方式中，假设了将成为基板的输出原位的基板处理装置210配置在轨道R的一侧，而将成为基板的输出目的地的基板处理装置220配置在轨道R的另一侧的系统，但是本发明也可以适用于将成为基板的输出原位及输出目的地的基板处理装置仅配置在轨道R的一侧的系统。在此情况下，例如，可以做成如下的系统：将成为基板的输出原位的基板处理装置和成为基板的输出目的地的基板处理装置沿轨道R仅在单侧邻接地配置，当在基板处理装中进行处理后，顺序地向邻接的基板处理装置输送基板。

[0036]另外，在本实施方式中，假设了配置多个基板处理装置210及220的系统，但是只要是基板收容装置及基板处理装置至少各配置一个的系统，就能够适用本发明。进而，在本实施方式中，假设了在基板处理装置210和基板处理装置220之间经载置台20输送基板W的情况，但是也可以在基板处理装置210和载置台20之间或者基板处理装置220和载置台20之间具备传送机等输送装置。

[0037][变形例1]

在第一实施方式中，通过将基板W载置在辊21a’上，缓和了在输送基板W之际与载置台20之间产生的摩擦，但在本变形例中，载置单元21不具备辊单元21a，而由其它手段缓和此摩擦，在这一点上彼此不同。另外，在本变形例中，对于与第一实施方式相同的结构，附加相同的符号，并省略说明。

[0038]图6是第一实施方式的变形例1的载置台20的俯视图。载置台20的载置单元21，由具有形成了多个喷出空气的喷出口21d’的上面21d”并使基板W浮动的多个空气喷出单元21d构成。另外，在各喷出单元21d之间形成通过空间S’。

[0039]在将基板W向载置台20上输出之际，从喷出口21d′喷出高压的空气，使基板W浮动，由吸附单元21b与上述的第一实施方式同样地向载置台20上输出基板W。

[0040]根据本变形例的结构，通过由空气喷出单元21d使基板W浮动来进行输送，能够减轻基板W和上面21d”之间的摩擦，降低对基板W产生损伤的情况。

[0041]<第二实施方式>

第一实施方式的基板输送系统100，是在沿轨道R配置的多个基板处理装置200之间输送基板的系统，但是本实施方式的基板输送系统300，是在沿轨道R配置的基板收容装置410和基板处理装置420之间输送基板的系统，在这一点上彼此不同。另外，基板输送系统300自身因为是与第一实施方式的基板输送系统100同样的结构，所以附加同样的符号，并省略说明。

[0042]图7是第二实施方式的基板输送系统300的整体立体图，图8是基板收容装置410的分解立体图。基板输送系统300是从成为基板W的输出原位的基板收容装置410向成为基板W的输出目的地的基板处理装置420输送基板W的系统。

[0043]基板收容装置410沿轨道R邻接地设置三台基板收容装置411、412、413。另外，基板处理装置420，其三台基板处理装置421、422、423沿轨道R邻接地设置在分别与基板收容装置411、412、413面对的位置上。

[0044]基板收容装置410，如图8所示，具备收容基板W的盒410’、设置在盒410’的两侧的升降机构414、设置在盒410’的下方的载置台415。盒410’具有以水平姿势支承基板W的基板支承部416。基板支承部416是在向上下方向延伸的构件1a、1b之间配设的多个棒状体，例如，由被橡胶覆盖的金属或氨基甲酸酯等构成。

[0045]升降机构414具有支承盒410’的负荷的盒支承部414a、使盒支承部414a在上下方向移动的驱动部414b、对在上下方向移动的盒支承部414a的水平状态进行导向的导向部414c。

[0046]驱动部414b具有马达等驱动源(未图示)，将来自驱动源的旋转运动由齿条齿轮等方式变换成上下方向的运动。通过将盒410’载置在盒支承部414a上，伴随盒支承部414a的上下方向的移动，能够使盒410’升降。

[0047]另外，载置台415是暂时地载置被收容在盒410’内的基板W的台，具备辊单元415’，该辊单元415’具有多个辊415”和驱动辊415”的马达等驱动源(未图示)。

[0048]另外，载置台415因为在盒410’下降的状态下以被收纳在内部的尺寸构成，所以即使是在输出已被收容在最上段的基板支承部416内的基板W之际，也能够不会与盒410’干涉地输出基板W。

[0049]图9A及图9B是表示基板收容装置410的基板输出处理的动作顺序的图。首先，在将收容在盒410’内的基板W向载置台20上输出之际，如图9A所示，从基板W的负荷由基板支承部416支承的状态到由载置台415的辊415”支承的状态使升降机构414下降。然后，如图9B所示，通过由驱动源驱动辊415”，将基板W从载置台415输出到载置台20上。

[0050]根据本实施方式的结构，即使成为基板W的输出原位的装置是基板收容装置410，也能够有效地输送基板W。

[0051]另外，在本实施方式中，假设了辊单元415’具有驱动源的情况，但是在辊单元415’没有驱动源的情况下，也可以与第一实施方式同样地由设置在载置单元21上的吸附单元21b将基板W从载置台415输出到载置台20上。

[0052]另外，在本实施方式中，假设了在轨道R的一侧配置了成为基板的输出原位的基板收容装置410，而在轨道R的另一侧配置了成为基板的输出目的地的基板处理装置420的系统，但是本发明也可以适用于基板收容装置和基板处理装置一起邻接地配置在轨道R的一侧的系统。

[0053]另外，在本实施方式中，假设了基板收容装置410成为基板的输出原位，基板处理装置420成为基板的输出目的地的系统，但是也可以是基板处理装置420成为基板的输出原位，基板收容装置410成为基板的输出目的地的系统。

[0054]另外，在本实施方式中，假设了配置多个基板收容装置410及基板处理装置420的系统，但是只要是基板收容装置及基板处理装置至少各配置一个的系统，就可以适用本发明。进而，在本实施方式中，假设了在基板收容装置410和基板处理装置420之间经载置台415输送基板W的情况，但是也可以在基板收容装置410和载置台415之间或者在基板处理装置420和载置台415之间具备传送机等输送装置。

[0055]进而，即使在沿轨道R只配置多个基板收容装置的情况下，通过适用本发明，也能够执行在基板收容装置之间移换基板的处理。

Claims (8)

1.一种基板输送系统，所述基板输送系统具备在预定的轨道上往复移动的移动单元，在沿上述轨道配置的多个装置之中，从成为基板的输出原位的装置向成为输出目的地的装置输送基板，其特征在于，具备：

配置在成为基板的输出原位的各个上述装置的每个上，载置从成为基板的输出原位的上述装置输出的基板的载置台；

设置在上述移动单元上，使载置在上述载置台上的基板升降的升降单元，

上述载置台具备：

载置从成为基板的输出原位的上述装置输出的基板的载置单元；

在上述轨道上，与上述移动单元相比在上方支承上述载置单元的支承构件，

上述载置单元具有：

在上述移动单元移动及上述升降单元升降之际，上述升降单元通过的通过空间。

2.如权利要求1所述的基板输送系统，其特征在于，

上述升降单元具备：

在与上述轨道正交的方向上延伸，载置基板的载置部；

直立设置在上述移动单元上，支承上述载置部的支承柱部，

上述通过空间具有：

上述载置部通过的第一通过空间；

上述支柱部通过的第二通过空间。

3.如权利要求1所述的基板输送系统，其特征在于，

上述载置单元由具备载置上述基板的多个辊的多个辊单元构成，

上述通过空间形成在上述辊单元之间。

4.如权利要求1所述的基板输送系统，其特征在于，

上述载置单元由多个使基板浮动的空气喷出单元构成，上述多个空气喷出单元具有形成了多个空气的喷出口的上面，

上述通过空间形成在上述空气喷出单元之间。

5.如权利要求3所述的基板输送系统，其特征在于，

上述辊单元至少具备使某一个上述辊旋转的驱动机构。

6.如权利要求3所述的基板输送系统，其特征在于，

上述辊是从动辊，

上述载置单元具备保持基板并使之移动到上述载置单元上的预定的位置的移动机构。

7.如权利要求4所述的基板输送系统，其特征在于，

上述载置单元具备保持基板并使之移动到上述载置单元上的预定的位置的移动机构。

8.一种基板输送系统，所述基板输送系统具备在预定的轨道上往复移动的移动单元，从沿上述轨道配置并在上下方向具备多个以水平姿势支承基板的基板支承部的多个基板收容装置向沿上述轨道配置的基板处理装置输送基板，其特征在于，具备：

配置在各个上述基板收容装置的每个上，以水平姿势载置从上述基板收容装置输出的基板的载置台；

设置在上述移动单元上，使载置在上述载置台上的基板升降的升降单元，

上述载置台具备：

载置从上述基板收容装置输出的基板的载置单元；

在上述轨道上，与上述移动单元相比在上方支承上述载置单元的支承构件，

上述载置单元具有在上述移动单元移动及上述升降单元升降之际，上述升降单元通过的通过空间。

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