CN101609822A - 芯片重新配置的封装结构及其方法 - Google Patents

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Abstract

本发明是一种芯片重新配置的封装结构及其方法，该封装结构包括：于芯片的主动面上配置有多个焊垫；第一高分子材料层覆盖于芯片的主动面上并曝露多个焊垫；多个导电柱配置于第一高分子材料层之间并与每一焊垫电性连接；一封胶体，用以包覆芯片且曝露出高分子材料层及多个导电柱；一第二高分子材料层，覆盖于第一高分子材料层及封胶体上并曝露出多个导电柱；多条扇出的金属线段，其配置于第二高分子材料层之上且每一金属线段的一端与导电柱电性连接；多个导电元件，其与金属线段的另一端电性连接。

Description

芯片重新配置的封装结构及其方法
技术领域
本发明有关一种半导体封装方法，特别是将不同尺寸大小及功能的芯片进行重新配置的封装方法。
背景技术
半导体的技术已经发展的相当的迅速，因此微型化的半导体芯片(Dice)必须具有多样化的功能的需求，使得半导体芯片必须要在很小的区域中配置更多的输入/输出垫(I/O pads)，因而使得金属接脚(pins)的密度也快速的提高了。因此，早期的导线架封装技术已经不适合高密度的金属接脚；故发展出一种球阵列(BallGrid Array：BGA)的封装技术，球阵列封装除了有比导线架封装更高密度的优点外，其锡球也比较不容易损害与变形。
随着3C产品的流行，例如：移动电话(Cell Phone)、个人数字助理(PDA)或是iPod等，都必须要将许多复杂的系统芯片放入一个非常小的空间中，因此为解决此一问题，一种称为“晶片级封装(wafer level package；WLP)”的封装技术已经发展出来，其可以在切割晶片成为一个个的芯片之前，就先对晶片进行封装。美国专利公告第5,323,051号专利即揭露了这种“晶片级封装”技术。然而，这种“晶片级封装”技术随着芯片主动面上的焊垫(pads)数目的增加，使得焊垫(pads)的间距过小，除了会导致信号耦合或信号干扰的问题外，也会因为焊垫间距过小而造成封装的可靠度降低等问题。因此，当芯片再更进一步的缩小后，使得前述的封装技术都无法满足。
为解决此一问题，美国专利公告第7,196,408号已揭露了一种将完成半导体制程的晶片，经过测试及切割后，将测试结果为良好的芯片(good die)重新放置于另一个基板之上，然后再进行封装工序，如此，使得这些被重新放置的芯片间具有较宽的间距，故可以将芯片上的焊垫适当的分配，例如使用向外延伸(fan out)技术，因此可以有效解决因间距过小，除了会导致信号耦合或信号干扰的问题。
然而，为使半导体芯片能够有较小及较薄的封装结构，在进行晶片切割前，会先对晶片进行薄化处理，例如以背磨(backside lapping)方式将晶片薄化至2～20密耳(mil)，然后再切割成一个个的芯片。此一经过薄化处理的芯片，经过重新配置在另一基板上，再以注模方式将多个芯片形成一封胶体；由于芯片很薄，使得封胶体也是非常的薄，故当封胶体脱离基板之后，封胶体本身的应力会使得封胶体产生翘曲，增加后续进行切割工序的困难。
另外，在晶片切割之后，重新配置在另一个基板时，由于新的基板的尺寸较原来的尺寸为大，因此在后续植球工序中，会无法对准，其封装结构可靠度降低。为此，本发明提供一种预先将铜柱形成于芯片上的焊垫，然后再通过薄化工序将铜柱曝露出来，故可以有效地解决植球时无法对准以及封胶体产生翘曲的问题。
此外，在整个封装的过程中，还会产生植球时，制造设备会对芯片产生局部过大的压力，而可能损伤芯片的问题；同时，也可能因为植球的材料造成与芯片上的焊垫间的电阻值变大，而影响芯片的性能等问题。为此，本发明提供再一种预先将铜柱形成于芯片上的焊垫，然后再通过薄化工序将铜柱暴露出来，接着再以向外延伸(fan out)技术将植球做适当的配置，除可有效解决损伤芯片的问题，也可同时解决焊垫的间距过小等问题。
发明内容
有鉴于发明背景中所述的植球对准以及封胶体翘曲的问题，本发明提供一种利用芯片重新配置的封装结构及其方法，来将多个芯片重新进行配置并进行封装的方法。故本发明的主要目的在于提供一种在芯片上形成导电柱，然后通过薄化工序将导电柱曝露出来，以便在芯片重新配置的封装过程中可以对准，可有效提高制造的良率及可靠度。
本发明的另一主要目的在于提供一种在芯片重新配置的封装结构及其方法，是将不同尺寸大小及功能的芯片重新配置在一基板上的封装方法。
本发明的再一主要目的在于提供一种在芯片重新配置的封装结构及其方法，是在封胶体的表面上形成多条沟渠，可防止封胶体在脱离基板后，产生翘曲的现象，而提高制造良率。
此外，本发明还有一主要目的在于提供一种芯片重新配置的封装方法，其可以将12时晶片所切割出来的芯片重新配置于8时晶片的基板上，如此可以有效运用8时晶片的即有的封装设备，而无需重新设立12时晶片的封装设备，可以降低12时晶片的封装成本。
本发明的再一主要目的在于提供一种芯片重新配置的封装方法，使得进行封装的芯片都是“已知是功能正常的芯片”(Known good die)，可以节省封装材料，故也可以降低工序的成本
根据以上所述，本发明提供一种芯片重新配置的封装结构，包括：于主动面上配置有多个焊垫的芯片；一第一高分子材料层，覆盖于芯片的主动面上并曝露出多个焊垫；多个导电柱，其配置于第一高分子材料层之间并与多个曝露的焊垫电性连接；一封胶体，用以包覆芯片的五个面且曝露出第一高分子材料层及多个导电柱；一第二高分子材料层，覆盖于第一高分子材料层及封胶体上并曝露出多个导电柱；多条扇出的金属线段，其配置于第二高分子材料层之上且每一金属线段的一端与导电柱电性连接；一保护层，其覆盖第二高分子材料层及金属线段上并曝露出金属线段的另一端的一上表面；多个导电元件，其与金属线段的另一端电性连接。
本发明接着提供一种模块化的多芯片封装结构，包括：多个芯片，每一芯片的主动面上配置有多个焊垫；一第一高分子材料层，覆盖于每一芯片的主动面上并曝露多个焊垫；多个导电柱，其配置于第一高分子材料层之间并与多个曝露的焊垫电性连接；一封装体，其环覆于每一芯片的五个面且曝露出第一高分子材料层及多个导电柱；一第二高分子材料层，覆盖于第一高分子材料层及封胶体上并曝露出多个导电柱；多个图案化的金属线段，其配置于第二高分子材料层之上，且部份图案化的金属线段的两端电性连接这些导电柱，而部份图案化的金属线段的一端电性连接这些导电柱；一图案化的保护层，其覆盖第二高分子材料层及图案化的金属线段上并曝露部份图案化的金属线段的另一端；多个导电元件，其与金属线段的另一端电性连接。
本发明接着提供多芯片封装方法，包括：提供一晶片，其主动面上形成有多个芯片区且每一芯片区的主动上配置有多个焊垫；形成一第一高分子材料层于晶片上，以覆盖每一芯片区及每一焊垫；形成多个第一开口，是于第一高分子材料层上形成多个开口，以曝露出每一焊垫；形成多个导电柱于每一第一开口中，并使多个导电柱的一端与每一焊垫电性连接；切割该晶片，以形成多个独立的芯片；提供一基板，并于基板上配置一黏着层；以覆晶方式将每一芯片取放至黏着层上；形成一封胶体，是将一第二高分子材料层环覆于每一芯片之间并于黏着层上形成一封胶体；分离基板及封胶体，以曝露出第一高分子材料层、第二高分子材料层及多个导电柱；形成一第三高分子材料层于第一高分子材料层及第二高分子材料层上；于第三高分子材料层上形成多个第二开口并曝露出每一导电柱；形成多个图案化的金属线段于第三高分子材料层上，每一图案化的金属线段的一端电性连接于每一导电柱；形成一图案化的保护层以覆盖这些图案化的金属线段，并曝露出图案化的金属线段的另一端；形成多个导电元件于图案化的金属线段的另一端上；及切割封胶体，以形成多个芯片封装结构或是多个多芯片的封装结构。
一种模块化的多芯片封装方法，包括：提供至少一晶片，每一晶片的主动面上形成有多个芯片区且每一芯片区的主动面上配置有不同数量的焊垫；形成一第一高分子材料层于每一晶片上，并覆盖每一焊垫；形成多个开口，是于每一晶片的第一高分子材料层上形成多个开口，以曝露出每一焊垫；形成多个导电柱于每一开口中，每一多个导电柱的一端与每一焊垫电性连接；切割每一晶片，以形成多个具有不同焊垫数量的芯片；提供一基板，并于基板上配置一黏着层；以覆晶将每一芯片的第一高分子材料层及多个导电柱固接于基板的黏着层上；形成一封胶体，是将第二高分子材料层环覆每一芯片，以在基板的黏着层上形成一封胶体；分离基板及封胶体，以曝露出第一高分子材料层、第二高分子材料层及多个导电柱；形成一第三高分子材料层于第一高分子材料层及第二高分子材料层上；于第三高分子材料层上形成多个该第二开口，以曝露出这些导电柱；形成多个图案化的金属线段于第三高分子材料层上，每一图案化的金属线段的一端电性连接于每一导电柱；形成一图案化的保护层以覆盖每一图案化的金属线段，并曝露出图案化的金属线段的另一端；形成多个导电元件，将每一导电元件电性连接在已曝露的每一图案化的金属线段的另一端上；切割封胶体，以形成多个模块化的多芯片封装结构。
附图说明
为能更清楚理解本发明的目的、特点和优点，以下将配合附图对本发明的较佳实施例进行详细的说明，其中：
图1A及图1B是表示于晶片的上视及剖视的示意图；
图2A及图2B是根据本发明的在芯片上形成导电柱的示意图；
图3A～图3F是根据本发明所揭露的制造过程示意图；
图4A及图4B是根据本发明所揭露的上视图及剖视图；
图5是根据本发明的形成多芯片封装实施例的上视图；
图6A级图6B是根据本发明的形成多芯片封装体的示意图；
图7是根据本发明的形成多芯片封装模块的剖视图。
具体实施方式
本发明在此所探讨的方向为一种芯片重新配置的封装方法，将多个芯片重新配置于另一基板上，然后进行封装的方法。为了能彻底地了解本发明，将在下列的描述中提出详尽的步骤及其组成。显然地，本发明的施行并未限定芯片堆栈的方式的本技术领域的普通技术人员所熟悉的特殊细节。另一方面，众所周知的芯片形成方式以及芯片薄化等后段工序的详细步骤并未描述于细节中，以避免造成本发明不必要的限制。然而，对于本发明的较佳实施例，则会详细描述如下，然而除了这些详细描述之外，本发明还可以广泛地施行在其它的实施例中，且本发明的范围不受限定，其以之后的专利范围为准。
在现代的半导体封装工序中，均是将一个已经完成前段工序(Front EndProcess)的晶片10(wafer)，如图1A所示；先进行薄化处理(Thinning Process)，例如将芯片的厚度研磨至2～20密耳(mil)之间，如图1B所示；其中虚线105是表示每一个芯片的位置，其亦可作为后续的切割线。然后，在晶片10的主动面上形成一高分子材料层110，例如聚酰亚胺(Polyimide)，使高分子材料层110覆盖主动面上的多个焊垫102，接着，以半导体的显影工序，将每一焊垫位置上的高分子材料层110移除，以形成孔洞112并曝露出每一个焊垫102，如图2A所示。然后，使用物理汽相沉积工艺(PVD)或是化学汽相沉积工艺(CVD)将一金属材料形成并填满于每一个孔洞112中，以形成一导电柱115，此导电柱115与焊垫102电性连接，如图2B所示。在本发明的一较佳实施例中，高分子材料层110的厚度可以是0.5～10密耳(mil)，而导电柱115的厚度可以是0.5～3密耳(mil)；同时，导电柱115的材料可以是一种硬度大的金属，例如：铜或是其它含有铜成份的合金。
接着，进行沿着虚线105对晶片进行切割(sawing process)，以形成一个个的芯片100；然后，使用取放装置(pick and place)将每一个好的芯片100以覆晶的方式逐一固接在于另一个基板200的黏着层120上，以使每一个芯片的导电柱115固接于黏着层120上，如图3A所示，其中，此黏着层120为一具有弹性的黏着材料，例如硅橡胶(silicon rubber)、硅树脂(silicon resin)、弹性PU、多孔PU、丙烯酸橡胶(acrylic rubber)或芯片切割胶等。很明显地，基板200上的芯片间隔区域比晶片10中的芯片间隔区域大，因此，可以使得这些被重新放置的芯片100间具有较宽的间距，故可以将芯片100上的焊垫适当的分配。此外，本实施例所使用的封装方法，可以将12时晶片所切割出来的芯片100重新配置于8时晶片的基板上，如此可以有效运用8时晶片的即有的封装设备，而无需重新设立12时晶片的封装设备，可以降低12时晶片的封装成本。然后要强调的是，本发明的实施例并未限定使用8时晶片大小的基板，其只要能提供承载的功能者，例如：玻璃、石英、陶瓷、电路板或金属薄板(metal foil)等，均可作为本实施例的基板200，因此基板200的形状也未加以限制。
接着，请继续参考图3B，当多个包含有导电柱115的芯片100已被准确地放置并固接至基板200上的黏着层120之后，接着，于基板200及每一芯片上100的背面上形成一高分子材料层300，以使高分子材料层300填满于芯片100之间并且每一个芯片100的五个面(即除了芯片100的主动面与黏着层120接触外)均由高分子材料层300所包覆，以形成一封胶体20；其中，此高分子材料层300可以是硅胶、环氧树脂、丙烯酸(acrylic)、及苯环丁烯(BCB)等材料。然后，可以选择性地对平坦化的高分子材料层300进行一烘烤程序，以使高分子材料层300固化。此时，可以选择性地使用一种切割刀，在高分子材料层300的表面上形成多条切割道(未在图中表示)，其中每一条切割道的深度为0.5～1密耳(mil)，而切割道的宽度则为5至25微米。在一较佳实施例中，切割道可以选择在切割线105上，如此可以解决封胶体20产生翘曲的问题。
再接着，请继续参考图3C，进行基板200与高分子材料层300分离；例如将基板200与高分子材料层300一起加热或是放入去离子水的槽中，使基板200上的黏着层120与高分子材料层300剥离，形成一个以高分子材料层300包覆芯片100的封胶体20。此时，每一个芯片100主动面上的导电柱115被曝露出来；接后，再于每一个芯片100主动面上形成一高分子材料层130；再接着，以半导体的显影工序，将每一导电柱115位置上的高分子材料层130层移除，以曝露出每一个导电柱115，如图3D所示。然后，以向外延伸(fan out)技术形成多个图案化的金属线段140，每一条金属线段140的一端与导电柱115电性连接，而另一端则向外延伸形成一自由端。很明显地，此自由端不会形成在芯片100的焊垫102之上，如图3E所示。此外，金属线段140可以是由铜、金或铜合金等材料所形成，同时，金属线段140也可以是由一UBM金属层来形成，此UBM金属层的材料可以是Ti/Cu或是TiW/Cu。
在前述将封胶体20的每一个芯片完成图案化的金属线段140后，紧接着，要进行对外连接元件的配置。如图3F所示，在封胶体20的金属线段140的面上，形成一图案化的保护层160(例如：聚酰亚胺)以覆盖多个图案化的金属线段140，并曝露出多个图案化的金属线段140的自由端。此形成图案化的保护层160的步骤包括：形成一保护层160在多个图案化的金属线段140上；利用半导体工艺，例如显影，先形成一图案化的光阻层(未在图中表示)在保护层160上；接着，在进行显影后，移除相对于多个图案化的金属线段140的向外延伸的自由端，即可曝露出每一个图案化的金属线段140的向外延伸的自由端。紧接着，在每一个曝露的自由端处形成多个导电元件400，其中导电元件400可以是锡球(solder ball)或是金属凸块(metal bump)，如图3F所示。很明显地，导电元件400可以依据电路设计的需求进行配置，例如：配置成一种球阵列(BGA)的配置。
最后，即可沿切割线105对封胶体20进行切割(sawing process)，以形成一个个的完成封装的芯片100或是完成封装的模块，如图4A及图4B所示。很明显地，图4B是相对图4A的沿CC线段的剖视图。
在上述实施例中，包覆每一个芯片100的高分子材料层300的方式可以选择使用已知的机械压膜(stamping process)或是注模方式(molding process)来形成。此外，由于本发明在将基板200与封胶体20分离后，使得每一芯片100的主动面的导电柱115都曝露出来，故可解决后续进行金属线连接时的对准问题。基于此对准问题的解决，故依据本发明所揭露的方式，可将多个相同或是不相同的好的芯片100封装在一起，然后采用半导体工艺来形成图案化的金属线400，将所要组合成模块(MODULE)的多个芯片100电性连接在一起。例如：将4个256M的DRAM芯片以串连或并连的方式封装在一起，形成一个存储容量为1G的存储模块；或是，将多个发光二极管(LED)串接成一个柱状光源或是并连成一面状光源；或是，将不同功能、不同大小的芯片封装成一系统等，都可通过本实施例来达成。
图5是显示本发明的系统级封装(System-In-Package；SIP)的上视图。当多个晶片所制造出的多个具有不同功能的芯片，例如：芯片505为一微处理装置、芯片510为一存储器控制装置而芯片515为一个存储器装置装置；将上述不同功能的芯片依据前述工序(即完成导电柱115工序)并将每一个不同功能及尺寸的芯片放置于另一基板200上之后，可通过图3A至图3F的过程，将这些不同功能的芯片(包括芯片505、芯片510及芯片515)形成一封胶体20，然后，将基板200与封胶体20分离后，可以使得封胶体20上的多个不同功能的芯片(包括芯片505、芯片510及芯片515)中的每一导电柱115曝露出来。在此要强调，本发明通过覆晶的工序，使用每一个不同功能及尺寸的芯片的导电柱115位于同一平面上，故当基板200与封胶体20分离后，封胶体20上的导电柱115能够曝露在同一平面上。故可以有效地解决对准的问题。
然后，再于封胶体20上形成一高分子材料层130；再接着，以半导体的显影工序，将每一导电柱115位置上的高分子材料层130层移除，以曝露出每一个导电柱115；再接着，使用一电镀工序，以便在高分子材料层300上形成一金属层(未显示于图中)，同时金属层与每一个导电柱115形成电性连接。接着，利用半导体工艺，例如：以涂布、显影及蚀刻等方式，先形成一图案化光阻层(未在图中表示)在金属层之上；然后以蚀刻方式来移除部份金属层之后，再剥除图案化的光阻层；因此，可以依据所需要的电性连接方式来形成多个图案化的金属线段140；而在本实施例中，每一图案化的金属线段140的向外延伸的两端是电性连接至相邻的每一芯片上的多个导电柱115，使得相邻的每一芯片彼此是以串联或并联的方式电性连接成一系统，如图6A所示；在此要说明的是，此串联或并联的电性连接方式仅为本发明的一实施例，其目的仅在揭露使用图案化的金属工艺，可以将多个芯片依据所要的电性连接方式完成连接。
在前述将封胶体20的多个芯片以金属线段140完成系统化的电性连接后，紧接着，要进行对外连接元件400的配置，其过程与图3E至图3F的过程相同，故其相关过程不再予以重复赘述。很明显地，导电元件400可以是锡球(solder ball)或是金属凸块(metal bump)。同时，导电元件400可以依据电路设计的需求进行配置，例如：配置成一种球阵列(BGA)的配置，如图6B所示。最后，即可依据切割线105切割封胶体20，以形成多个完成封装的模块，如图7所示。
很明显地，当封胶体20中的多个芯片是相同功能及相同大小的芯片；例如：LED；其同样地可以使用金属线段140将多个芯片以串联或并联方式形成一模块(module)，金属线段140可以是由铜、金或铜合金等材料所形成，同时，金属线段140也可以是由一UBM金属层来形成，此UBM金属层的材料可以是Ti/Cu或是TiW/Cu。
当所要封装的多个芯片为发光二极管(LED)时，即可将每一发光二极管的P电极与相邻的发光二极管的P电极电性连接；而发光二极管的N电极是与相邻的发光二极管的N电极电性连接，且每一发光二极管的N电极及P电极是通过导电柱115分别金属线段140电性连接。同样地，本发明也不限定发光二极管的数量或是其电性连接的方式，例如：将多个发光二极管(LED)串接成一个柱状光源或是并连成一面状光源；同时，本发明也不限定发光二极管的发光颜色，即发光二极管可以是红光发光二极管或绿光发光二极管或蓝光发光二极管或其它颜色的发光二极管(例如：白光)或是前述发光二极管的组合等。最后，如图3E至图3F过程，于曝露的金属线段140的自由端上形成导电元件400。
而当封胶体20中的多个芯片是相同功能及相同大小的芯片均无DRAM时；例如：将4个256M的DRAM芯片以串连或并连的方式封装在一起时，其同样地可以使用金属线段140将多个芯片以串联或并联方式形成一个存储容量为1G的存储模块。由于形成金属线段140及导电元件400的过程与前述相同，故不再重复赘述。
虽然本发明以前述的较佳实施例揭露如上，然而其并非用以限定本发明，任何熟悉本技术的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作出种种等同的改变或替换，因此本发明的专利保护范围须视本说明书所附的本申请权利要求范围所界定的为准。

Claims (10)

1.一种芯片重新配置的封装结构，包括：
一芯片，具有一主动面且于该主动面上配置有多个焊垫；
一第一高分子材料层，覆盖于该芯片的主动面上并曝露出该多个焊垫；
多个导电柱，其配置于该第一高分子材料层之间并与该多个曝露的焊垫电性连接；
一封胶体，用以包覆该芯片的五个面且曝露出该第一高分子材料层及该多个导电柱；
一第二高分子材料层，覆盖于该第一高分子材料层及该封胶体上并曝露出该多个导电柱；
多条扇出的金属线段，其配置于该第二高分子材料层之上且每一该金属线段的一端与该些导电柱电性连接；
一保护层，其覆盖该第二高分子材料层及该些金属线段上并曝露出这些金属线段的另一端的一上表面；
多个导电元件，其与这些金属线段的另一端电性连接。
2.根据权利要求1所述的封装结构，其特征在于该导电柱的材质为铜或铜合金。
3.一种模块化的多芯片封装结构，包括：
多个芯片，每一该芯片具有一主动面且于该主动面上配置有多个焊垫；
一第一高分子材料层，覆盖于每一该芯片的主动面上并曝露出该多个焊垫；
多个导电柱，其配置于该第一高分子材料层之间并与该多个曝露的焊垫电性连接；
一封装体，其环覆于每一该芯片的五个面且曝露出该第一高分子材料层及该多个导电柱；
一第二高分子材料层，覆盖于该第一高分子材料层及该封胶体上并曝露出该多个导电柱；
多个图案化的金属线段，其配置于该第二高分子材料层之上，且部份这些图案化的金属线段的两端电性连接这些导电柱，而部份这些图案化的金属线段的一端电性连接这些导电柱；
一图案化的保护层，其覆盖该第二高分子材料层及这些图案化的金属线段上并曝露部份这些图案化的金属线段的另一端；
多个导电元件，其与这些金属线段的另一端电性连接。
4.根据权利要求3所述的封装结构，其特征在于该导电柱的材质为铜或铜合金。
5.根据权利要求3所述的封装结构，其特征在于这些芯片是相同功能的芯片。
6.根据权利要求3所述的封装结构，其特征在于这些芯片是存储器芯片。
7.根据权利要求3所述的封装结构，其特征在于这些芯片是不同功能的芯片。
8.一种芯片重新配置的封装方法，包括：
提供一晶片，具有一主动面及一下表面，且于该主动面上形成有多个芯片区且每一该芯片区的该主动上配置有多个焊垫；
形成一第一高分子材料层于该晶片上，以覆盖这些芯片区的该主动面上的这些焊垫；
形成多个第一开口，是于该第一高分子材料层上形成多个开口，以曝露出这些焊垫；
形成多个导电柱于这些第一开口中，并使该多个导电柱的一端与这些焊垫电性连接；
切割该晶片，以形成多个独立的芯片；
提供一基板，并于该基板上配置一黏着层；
取放这些芯片至该黏着层上，是以覆晶将每一该芯片的该第一高分子材料层及该多个导电柱固接于该基板的该黏着层上；
形成一封胶体，是将一第二高分子材料层环覆于每一该芯片之间，在该基板的黏着层上形成一封胶体；
分离该基板及该封胶体，是将该黏着层与该封胶体分离，以曝露出该第一高分子材料层、该第二高分子材料层及该多个导电柱；
形成一第三高分子材料层于该第一高分子材料层及该第二高分子材料层上；
形成多个第二开口，是于该第三高分子材料层上形成多个该第二开口，以曝露出这些导电柱；
形成多个图案化的金属线段于该第三高分子材料层上，这些图案化的金属线段的一端电性连接于这些导电柱；
形成一图案化的保护层以覆盖这些图案化的金属线段，并曝露出这些图案化的金属线段的另一端；
形成多个导电元件，是将这些导电元件电性连接在已曝露的每一该图案化的金属线段的另一端上；及
切割该封胶体，以形成多个芯片封装结构。
9.一种多芯片封装方法，包括：
提供一晶片，具有一主动面及一下表面，且于该主动面上形成有多个芯片区且每一该芯片区的该主动上配置有多个焊垫；
形成一第一高分子材料层于该晶片上，以覆盖这些芯片区的该主动面上的这些焊垫；
形成多个第一开口，是于该第一高分子材料层上形成该多个第一开口并曝露出这些焊垫；
形成多个导电柱于这些第一开口中且该多个导电柱的一端与这些焊垫电性连接；
切割该晶片，以形成多个独立的芯片；
提供一基板，并于该基板上配置一黏着层；
取放这些芯片至该黏着层上，是以覆晶将每一该芯片的该第一高分子材料层及该多个导电柱固接于该基板的该黏着层上；
形成一封胶体，是将一第二高分子材料层环覆于每一该芯片之间，在该基板的黏着层上形成一封胶体；
分离该基板及该封胶体，是将该黏着层与该封胶体分离，以曝露出该第一高分子材料层、该第二高分子材料层及该多个导电柱；
形成一第三高分子材料层于该第一高分子材料层及该第二高分子材料层上；
形成多个第二开口，是于该第三高分子材料层上形成多个该第二开口，以曝露出这些导电柱；
形成多个图案化的金属线段于该第三高分子材料层上，这些图案化的金属线段的一端电性连接于这些导电柱；
形成一图案化的保护层以覆盖这些图案化的金属线段，并曝露出这些图案化的金属线段的另一端；
形成多个导电元件，是将这些导电元件电性连接在已曝露的每一该图案化的金属线段的另一端上；及
切割该封胶体，以形成多个多芯片封装结构。
10.一种模块化的多芯片封装方法，包括：
提供至少一晶片，每一该晶片具有一主动面及一下表面，且每一该晶片的该主动面上形成有多个芯片区，其中每一该晶片的该芯片区的该主动面上配置有不同数量的焊垫；
形成一第一高分子材料层于每一该晶片上，并覆盖这些芯片区的该主动面及这些焊垫；
形成多个开口，是于每一该晶片的该第一高分子材料层上形成多个开口，以曝露出这些焊垫；
形成多个导电柱于这些开口中，该多个导电柱的一端与每一该晶片的该主动面上的这些焊垫电性连接；
切割这些晶片，以形成多个具有不同焊垫数量的芯片；
提供一基板，并于该基板上配置一黏着层；
取放这些芯片至该黏着层上，是以覆晶将每一该芯片的该第一高分子材料层及该多个导电柱固接于该基板的该黏着层上；
形成一封胶体，是将第二高分子材料层环覆每一该芯片，在该基板的黏着层上形成一封胶体；
分离该基板及该封胶体，是将该黏着层与该封胶体分离，以曝露出该第一高分子材料层、该第二高分子材料层及该多个导电柱；
形成一第三高分子材料层于该第一高分子材料层及该第二高分子材料层上；
形成多个第二开口，是于该第三高分子材料层上形成多个该第二开口，以曝露出这些导电柱；
形成多个图案化的金属线段于该第三高分子材料层上，这些图案化的金属线段的一端电性连接于这些导电柱；
形成一图案化的保护层以覆盖这些图案化的金属线段，并曝露出这些图案化的金属线段的另一端；
形成多个导电元件，是将这些导电元件电性连接在已曝露的每一该图案化的金属线段的另一端上；
切割该封胶体，以形成多个模块化的多芯片封装结构。
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