CN101472746B - 包括衍射微结构区域的产品及制造该产品的设备和方法 - Google Patents

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Abstract

在产品(200)的纸或纸板基底(230)的表面层(240)上形成提供第一衍射视觉效果的微结构区域(201)。另外，在表面层(240)上形成具有第二衍射微结构区域(202)的凸部(206)或凹部(207)，其中，位于第一衍射微结构区域(201)与第二衍射微结构区域(202)之间的是双曲部(203)。所述凸部(206)/凹部(207)、微结构区域(201，202)以及双曲部(203)的结合使得产品(200)不易被伪造，并且提供特殊的视觉效果。

Description

包括衍射微结构区域的产品及制造该产品的设备和方法
技术领域。
本发明涉及一种包括衍射微结构区域的产品。本发明还涉及制造该产品的方法和设备。
背景技术
衍射微结构(Diffractive microstructure)区域可附着在多种产品上，用以例如产生视觉效果、或用于鉴别产品。
衍射微结构可以例如通过对涂覆有合适的漆的基底的表面进行压印而制成。当制作该微结构时，该基底在压纹构件与承压构件(backing member)之间被压印。压纹构件的表面包括与微结构对应的浮雕(relief)。在压印加工过程中，承压构件从背面支承基底，以便可在基底的表面上施加足够的压力，以使基底的表面层与压纹构件的浮雕对应地成形。
美国第4,913,858号专利公开了一种用于在涂覆有热塑性材料的纸张表面上制作衍射微结构的方法。通过使用加热的压纹辊(embossing roll)在涂层中形成微结构。
发明内容
本发明的目的在于提出一种制造成本较低的防伪衍射微结构，以及用于制作所述微结构的设备和方法。
本发明的目的通过一种包括第一衍射微结构区域的产品来实现，其中，通过压纹构件和承压构件在纸或纸板基底的表面层上施加压印压力而将该第一衍射微结构区域压印在表面层上，其中，第一衍射微结构区域是外露的，并且第一衍射微结构区域的光栅常数在至少一个位置处为0.4μm至3μm，该产品包括凸部和/或凹部，该凸部或凹部包括第二衍射微结构区域，其中位于第一衍射微结构区域与第二衍射微结构区域之间的是双曲部，其中，该第一衍射微结构区域和该第二衍射微结构区域具有不同的光栅常数，并且该第一衍射微结构区域和该第二衍射微结构区域的凸起的高度在50至200nm之间，该第一衍射微结构区域和该第二衍射微结构区域的高度差在0.2至1mm之间；以及该第一衍射微结构区域中的栅格结构的取向与该第二衍射微结构区域中的栅格结构的取向不同。
本发明的目的还通过一种制造根据本发明的、包括衍射微结构区域的产品的方法实现，该方法包括通过压纹构件和承压构件在基底的表面层上施加压印压力将第一衍射微结构区域压印在表面层上，其中，第一衍射微结构区域的光栅常数在至少一个位置处为0.4μm至3μm，其中第一衍射微结构区域保持外露，并且其中基底是纸或纸板；该方法还包括：形成凸部和/或凹部，使得该凸部或凹部包括第二衍射微结构区域，其中位于该第一衍射微结构区域与该第二衍射微结构区域之间的是双曲部，在此，该方法还包括以下步骤：
在该基底的表面层上压印出处于基本上一个高度水平的微结构区域，以及
在该一个高度水平下加工处于该基本上一个高度水平的微结构区域，从而形成凸部和/或凹部，该凸部或凹部包括至少一个双曲部，
其中，该第一衍射微结构区域和该第二衍射微结构区域的凸起的高度在50至200nm之间，该第一衍射微结构区域和该第二衍射微结构区域的高度差在0.2至1mm之间。
本发明的目的还通过一种用于制造根据本发明的产品的设备来实现，该设备通过压印方式在纸或纸板基底的表面层上制作第一衍射微结构区域和第二衍射微结构区域，该设备包括用以在所述表面层上施加压印压力的压纹构件和承压构件，其中压纹构件具有压印表面，压印表面具有第一微结构，第一微结构的光栅常数在至少一个位置处为0.4μm至3μm，压纹构件还包括凸部和/或凹部，所述凸部或凹部包括具有微结构的第二压印表面，其中位于第一压印表面与第二压印表面之间的是双曲部，该承压构件还包括凹部或易变形表面层，该凹部或易变形表面层用以连同凸部而在基底及其表面层中成形宏观凹部；并且/或者，所述承压构件还包括凸部或易变形表面层，该凸部或易变形表面层用以连同所述凹部而在基底及其表面层中成形宏观凸部，其中，在压印过程中，压纹构件的加工运动的方向基本上偏离垂直方向，所述垂直方向与所述第一压印表面垂直，以及第一衍射微结构区域和第二衍射微结构区域的凸起的高度在50至200nm之间，该第一衍射微结构区域和该第二衍射微结构区域的高度差在0.2至1mm之间。
本发明的主要特征在于，产品除了包括压印在纸或纸板基底上的、外露的第一衍射微结构区域之外，还包括凸部(bulge)或凹部，该凸部或凹部包括压纹的第二衍射微结构区域，其中位于所述第一微结构区域与所述第二微结构区域之间是双曲部。
所述产品的纸或纸板基底具有凸部和/或凹部以及至少两个外露的衍射微结构区域，以使所述微结构区域的至少其中之一位于所述凸部或凹部上，从而在所述微结构区域之间形成双曲部。
该衍射微结构用于产生视觉效果以便鉴别产品。与凸部及双曲表面结合的、外露的衍射微结构的生产成本低廉但却难以摹仿，这使得该产品难于伪造。该凸部或凹部还在一定程度上保护处于较低位置(level)的微结构不被磨损和污染。此外，连接至凸部及双曲表面的、外露的衍射微结构产生了特殊的视觉效果。
使用与外露的微结构结合的纸或纸板基底能够降低生产成本并提高生产率。特别地，使用纸板还能够以相对低的成本获得凸部和/或凹部所需要的基底的稳固度。由于形成微结构不需要额外的金属和/或保护性涂层，因此根据本发明的方案对于例如一次性的和可回收的产品以及产品包装是有利的。
通过下文的描述，将使得本领域技术人员更易于理解本发明及其基本性质、以及利用本发明可实现的优点，在下文中将通过几个精选的实例来更详细地描述本发明。
附图说明
在下文中将通过几个精选的实施例并参照附图来更详细地描述本发明，通过下文的详细描述将使本领域技术人员更易于理解本发明及其基本性质、以及利用本发明可实现的优点，在附图中：
图1为压纹设备和压纹之前的基底的示意性横截面图；
图2a为具有凸部的压纹构件的示意性横截面图；
图2b为使用图2a的压纹构件制成的产品的示意性横截面图；
图3a为具有凸部的压纹构件的示意性三维视图；
图3b为使用图3a的压纹构件制成的产品的示意性三维视图；
图4a为具有凹部的压纹构件的示意性三维视图；
图4b为使用图4a的压纹构件制成的产品的示意性三维视图；
图5a为具有凸部的压纹构件的示意性三维视图，所述凸部具有字母A的形状；
图5b为使用图5a的压纹构件制成的产品包装的示意性三维视图；
图6为具有凹部的产品的示意性三维视图；
图7为示出制造图6所示凹部的方法的示意性横截面图；
图8为具有凸部的产品的示意性三维视图；
图9为双曲部的一部分的示意性横截面图；
图10为具有挠性的或易变形的承压构件的压纹设备的示意性横截面图；
图11为具有圆柱形压纹构件的压纹设备的示意性横截面图，该圆柱形压纹构件设置为可旋转；
图12a为具有微结构的基底的示意性横截面图，该微结构基本上位于一个平面内；以及
图12b为示出制造图12a的基底中的凹部的方法的示意性横截面图。
具体实施方式
参阅图1，可以通过在压纹构件10与承压构件50之间压印基底230和其表面层240来制成衍射微结构。压纹构件10具有微结构表面。压纹构件10和承压构件50在基底的表面层240上施加压力，其中在表面层内发生微观级的压缩和物质流动，从而在表面层240中形成与压纹构件10对应的微结构。
压纹构件10可以具有肉眼可见(宏观)的凸部16，承压构件可以具有对应的肉眼可见的凹部57。凸部16和凹部57在基底230及基底230的表面层240中成形肉眼可见的凹部207(图2b)。
压纹构件连接至承压支承件19。在压印过程中，压纹构件10可以相对于承压构件50沿方向DZ移动。
参阅图2a，压纹构件10包括第一压印表面(stamping surface)11和具有第二压印表面12的凸部16。位于第一压印表面11与第二压印表面12之间的是双曲部13。
双曲的涵义将随后在对图9的说明中定义。“双曲”表示在两个正交的方向上弯曲的表面。例如，球面和椭球面是双曲的，但是圆柱面和平面不是双曲的。
至少压印表面11、12具有衍射微结构。衍射微结构包括数个以光栅常数d为间隔彼此相邻的微观凸起PU(见图2b)和/或微观凹陷UR。在压印表面11、12的不同位置处光栅常数d可以相同或不同。
在图2a的实施例中，双曲部13也具有衍射微结构。从而，衍射微结构可以以基本上连续的方式在压纹构件10的整个表面上扩展。因而第一压印表面11、第二压印表面12和双曲部13可以是相同的均一微结构区域的不同部分。
在另一个实施例中，双曲部13不具有衍射微结构。
凸部16从第一压印表面11的平面REF1凸出。该凸部的高度h3大于或者等于0.05mm。该凸部的高度h3有利地为0.2至1mm。
从而，压纹构件10包括至少两个压印表面11、12，其中第二压印表面12基本上处于与第一压印表面11不同的高度水平。在另一个实施例中，可以设置三个或更多个压印表面，并且这些压印表面可以位于不同的高度水平。
图2b示出了使用图2a的压纹构件10制成的产品200。压纹构件10的凸部16形成该产品中的凹部207，即凹入部分。该压纹构件的第一压印表面11压印出产品200中的第一微结构区域201。第二压印区域12在凹部207中压印出第二微结构区域202。压纹构件10的双曲部13在产品200中的第一微结构区域201与第二微结构区域202之间形成双曲部203。凹部207比第一微结构区域201的平面REF2低h1的高度。
凹部/凸部的深度/高度h1大于或者等于0.05mm。高度差h1有利地在0.2与1mm之间。该高度差h1还可以例如大于或者等于基底230连同其表面层240的总厚度的0.1至2倍。
衍射微结构还可以在微结构区域201、202之间基本上连续地扩展。双曲部203也可以具有微结构。从而，第一微结构区域201，第二微结构区域202和双曲部也可以是同一衍射微结构的位于不同高度的不同部分。
在另一个实施例中，双曲部203不具有衍射微结构。
在压印过程中，基底230被局部地压缩。同样地，基底230的表面层240的物质在压印过程中可被压缩或者可流动。此外，在形成凹部的过程中，基底230及其表面层240还沿横向方向移位并伸展。特别地，双曲部203的形成需要基底230及其表面层240很大的伸展和/或收缩。
参阅图3a，压纹构件10可具有凸部16，该凸部16相对于第一压印表面11的高度为h3。凸部16具有第二压印表面12。双曲部13位于凸部16的角部，所述双曲部13同时还位于第一压印表面11与第二压印表面12之间。
图3b示出了利用图3a的压纹构件10制成的产品200。产品200具有第一微结构区域201。产品200具有与压纹构件10的凸部16的形状对应的凹部207，即凹入部分，该凹部207具有第二微结构区域202。双曲部203位于凹部207的角部，所述双曲部203同时还位于第一微结构区域201与第二微结构区域202之间。
参阅图4a，压纹构件10可以具有凹部17，所述凹部17具有第二压印表面12。双曲部13位于凹部17的角部，所述双曲部13同时还位于第一压印表面11与第二压印表面13之间。
图4b示出了利用图4a的压纹构件10制成的产品200。产品200具有第一微结构区域201。产品200具有与压纹构件10的凹部17的形状对应的凸部206，即凸起部分，该凸部206包括第二微结构区域202。双曲部203位于凸部206的角部，所述双曲部203同时还位于第一微结构区域201与第二微结构区域202之间。
参阅图5a，压纹构件的凸部和/或凹部可具有例如字母、符号或商标的形状。在图5a的实例中，凸部具有字母“A”的形状。
参阅图5b，产品200可以为产品包装的坯料(blank)。基底230可以是一张纸板，在该纸板上压印产品包装的表面所需的衍射图案、凸部206和/或凹部207。凸部、凹部和衍射微结构区域例如可以是代表产品的商标和/或指示产品真伪的标志。在图5b的实例中，在产品包装的表面上形成具有字母“A”形状的凹部。基底230可随后被切割并弯曲成实际的产品包装。
衍射微结构201、202形成的效果与表面层240的宏观三维形状相结合而产生特殊的视觉印象(impression)。
还可以在压印微结构区域201、202之前利用传统的印刷技术将图案和/或文字内容印刷在基底230的表面上。
图6示出了产品200中的具有部分球面形状的凹部207。凹部207具有第二微结构区域202。在图6的实例中，所述凹部207还包括第一微结构区域201。在图6的实例中，第一微结构区域201和第二微结构区域202是双曲的。位于第一微结构区域201与第二微结构区域202之间的双曲部203可以具有衍射微结构。
在另一个实施例中，双曲部203没有衍射微结构。
第一微结构区域201的微观凸起可以例如沿着产品200的侧面208的方向延伸，并且第二微结构区域202的微观凸起可以沿着侧面209的方向延伸。
图7示出了制造图6的产品200的方法。通过压纹构件10基本上沿着方向DZ的一个加工运动形成凹部207和微结构区域201、202，其中方向DZ是相对于产品200确定的。
在压印过程中，待制造的微结构区域之一、例如第一微结构区域201可以基本上相对于运动方向DZ成角度α，所述角度α不是直角。从而，角度α基本上并非90度。例如，角度α可以处于60至80度的范围内，乃至处于45至60度。
因此，在压印的初始阶段，在压纹构件10与基底的表面层240之间发生了沿DT方向的切向移位。所述沿DT方向的切向移位远大于微结构的光栅常数d。然而，令人惊讶地发现，即使当角度α为45度时，也可以在纸张或纸板基底上制成相对优质的微结构。从而，当使用纸张或纸板基底时切向移位至少不会损害微结构。
然而，在基本上垂直于压纹构件的运动方向DZ的区域中得到的微结构的质量最佳。
图8示出了产品200中的凸部206，该凸部206具有部分球面的形状。凸部206具有第二微结构区域202。在图8的实例中，所述凸部206还包括第一微结构区域201。在图8的实例中，第一微结构区域201和第二微结构区域202是双曲的。位于第一微结构区域201与第二微结构区域202之间的双曲部203可具有衍射微结构。在另一个实施例中，双曲部203没有衍射微结构。
在图8和图9的实例中，还可以通过使用产品200的未压纹表面作为参照平面来限定凹部207或凸部206的深度/高度。凹部207或凸部206的深度/高度有利地大于或者等于0.05mm。
现在将参阅图9来定义“双曲”的涵义。图9示出了双曲部203的一部分。点PDC为双曲部203上任意的一点。方向SX与方向SY正交。方向SX与方向SY位于在点PDC处与表面相切的平面内。如果该表面的曲率半径沿着位于与该表面在点PDC处相切的平面内的任何方向上均具有有限值，则该表面被定义为在点PDC的无穷小的邻域内是双曲的。例如，球面或椭球面是双曲的。作为比较，需注意的是圆柱面和平面不是双曲的，因为它们的曲率半径至少沿着一个方向是无穷大。当从点PDC沿方向SX移动无穷小的距离时，表面的曲率半径等于RX。当从点PDC沿方向SY移动无穷小的距离时，表面的曲率半径等于RY。所述表面的曲率半径RX、RY的起点在穿过点PDC并且垂直于该表面的直线PLIN上。根据本发明，沿第一任意方向SX的曲率半径RX小于或者等于50mm，沿第二正交方向SY的曲率半径RY小于或者等于50mm，其中方向SX和SY被选择为使得所述曲率半径RY沿着所述第二方向SY达到其最大值。
返回参阅图1至图7，压印所需的压力例如可以通过液压、气压或者通过使用偏心装置(wobbler)与连杆的结合来产生。
承压构件50有利地具有与压纹构件的凸部16和/或凹部17对应的凹部和/或凸部。
返回参阅图1、图2a、图3a、图4a、图5a和图7，压纹构件10例如可由厚度为0.02至0.5mm的镍板制成。通过例如光学和电化学方法、或使用离子束蚀刻法在该板的表面上制作微结构。可以通过使用在金属板件成形(sheet metal shaping)领域中已知的方法获得凸部16和/或凹部17。在压纹构件10的制造中，材料的伸展和变薄通常发生在双曲部203中。然而，具有衍射微结构的板必须以这种方式加工：使得压印表面11、12的衍射微结构的损伤尽可能地小。
返回参阅图1、图2b、图3b、图4b、图5b、图6、图7和图8，基底230为纸或纸板。表面层240可以例如由丙烯酸盐漆(acrylate lacquer)或热塑性聚合物(例如聚氯乙烯或聚碳酸酯)构成。基底230及其表面层240可由相同的材料构成。该可压印的基底的表面层240还可包括墨和染料。
从而，衍射微结构具有在至少一个方向上以光栅常数d为间距再现而周期性设置的微观凸起PU或微观凹陷UR。光栅常数d的值和所述凸起的取向可以相同、或者可以在表面上不同位置处变化，以便得到期望的全息效果或全息图案。微观凸起的侧面轮廓可以例如为正弦曲线形、三角形或矩形。
光栅常数d有利地在至少一个位置处为0.4μm至3μm，以使微结构在所述位置产生强的视觉效果。在微结构的不同位置处光栅常数d可以变化，其中光栅常数d的不同值基本上在微结构的整个区域上有利地为0.4μm至3μm。
凸起的高度可以例如限制为50至200nm。凸起的高度有利地与绿光的波长的四分之一为同一数量级，即约为120nm。所述微观凸起的高度比微结构区域201、202之间的高度差小几个数量级。
压纹构件10的压印表面11、12包括产生所述微观凸起PU的微观凹陷UR。凹陷UR优选为细长的槽，并且凸起PU优选为细长的凸起。微观凹陷UR位于与待形成的凸起PU对应的位置。凹陷UR的深度等于或大于待形成的凸起PU的高度。
当观察由微结构产生的视觉效果时，有利地利用白光(即波长为400至760nm的光)照射微结构区域。在特定的情况下可以使用例如单色激光(monochromatic laser)。
在满足以下的光栅公式的至少一个照射角和至少一个衍射角处，由衍射微结构衍射的光的强度具有最大值：
mλ/d＝sinθd+sinθi，(1)
其中，m为表示衍射级次的正或负整数，λ为光的波长，d为光栅常数，照射角θi为光的入射方向与微结构的表面的法线之间的夹角，该夹角θi是从所述表面的法线顺时针地限定的，而衍射角θd为衍射方向与微结构的表面的法线之间的夹角，该夹角θd是从所述表面的法线顺时针地限定的。从限定观察角的方向可以观察到由微结构产生的效果。从而，由衍射微结构产生的视觉效果取决于例如照射角和观察角、光栅常数d、微结构的取向以及照明条件。
衍射效果是指这样的效果：当衍射级次m为正整数或负整数时，该效果与衍射角的相关性可以至少部分地通过利用光栅公式(1)来描述和/或至少部分地估算。即使在衍射级次m＝0时，将被衍射的光线也可满足光栅公式(1)，但是在这种情况下光栅公式(1)表示镜面反射。应该注意的是，衍射级次m＝0时的镜面反射不需要使用衍射微结构。
微结构区域201、202可以适用于产生相似的或相异的视觉效果。例如，第一微结构区域201可适用于在某种的光照条件下产生蓝色效果，而凸部/凹部中的第二微结构区域202可在所述光照条件下产生红光效果。这种结合产生了特殊的视觉印象，并且难以摹仿。
微结构区域201、202中的周期性的凸起PU也可具有不同的取向。在第一微结构区域201内的凸起PU可以与产品的侧面208平行(图6)，在第二微结构区域202内的凸起PU可以与产品的侧面209平行。可以利用白色直射光(white directed light)照射产品。因此，在观察者相对于产品200移动时，例如当观察者经过展售的产品时、或者当观察者将产品拿在手中转动时，微结构区域201、202可以在不同的时刻将预定颜色的光衍射至观察者的眼睛。
微结构区域201、202还可以具有相同的光栅周期(grating period)d和相同的取向。因此，压纹构件10可以由具有均一的栅格结构的板制成。然而，在这种情况下，摹仿产品200要比不同的微结构区域具有不同的光栅周期d和/或取向的情况更容易。
返回参阅图5b，产品200也可以是例如产品包装或产品手册(brochure)。根据本发明的微结构区域201、202可以直接压印在例如手册、产品包装上，或者直接压印在产品表面上，用以鉴别该产品并且也用以引起消费者的兴趣。待制造的微结构区域201、202可以例如是字母(如图5b所示)、数字或几何图案。
可以在基底230的表面层240中形成具有相同或不同微结构的数个区域201，从而产生期望的衍射效果、全息效果、运动效果、取决于视角的图案、动画(animation)或三维视觉印象。基底200还可以包括由染料形成的图案或符号。这些图案或符号可以在压印之前、在压印过程中或压印之后形成。利用染料获得的图案和所制成的微结构可以部分地重叠。
通过压印形成的衍射微结构区域201、202保持为外露，其中这些区域的微结构至少从一个方向上可见，因此在微结构与观察者之间没有透明保护层。
可以通过仅压印非金属材料来获得相对较强的衍射效果，以使微结构区域201、202不需要通过涂覆金属薄膜来增强该效果。微结构区域201、202有利地仅包括非金属材料，从而该产品与在金属表面上实现的微结构区域的产品相比更易于回收、并且制造成本更低。
表面层240也可以包括不具有衍射微结构的凸部，以防止微结构区域201、202的磨损。
并且，一个或多个微结构可以在视觉上近于不显明，使得只有意识到其存在的人才可能检查关于微结构区域的信息。例如在公开号为2003/0173046的美国专利文献中公开了这类应用。微结构区域甚至可以位于折叠包装的内侧。
参阅图10，压纹设备100的承压构件50还可以包括挠性的或易变形的表面层51。承压构件50的表面层51可以例如由橡胶构成。
应注意的是，如果基底230和/或其表面层240充分厚并且充分可压缩、或是由在压力作用下塑性流动的材料制成，承压构件50也可以是平直且非变形的。
压纹构件10可以包括一个或多个固定部15，用以将压纹构件10固定至压纹设备100。可以例如通过将固定凸缘15压置于构架30与承压支承件20之间，而将固定部15固定至承压支承件20。构架30可以例如通过螺栓固定至承压支承件。或者，还可以通过例如使用粘结、贴标签(adhesive label)或焊接来固定压纹构件10。
有利地，利用加热装置91加热基底的表面层240、压纹构件和/或承压构件以塑化该表面层。加热还可以便于基底230及其表面层240的宏观成形。
参阅图11，压纹构件10和承压构件50还可以为圆柱形并设置成可旋转。压纹构件10包括压印表面11、12，所述压印表面11、12与旋转轴线AX相距至少两个不同的距离R1、R2；即所述压印表面11、12可具有不同的半径。半径R2与半径R1之差选择为与待制造的凸部和/或凹部的形状对应。半径R2与半径R1之差可以例如为0.05mm至1mm。
当压纹构件10与承压构件旋转时，基底230及其表面层240在压纹构件10与承压构件之间被压缩，从而在表面层240上压印出衍射微结构区域201、202，所述区域201、202处于至少两个不同的高度水平上。
可以例如通过将包括衍射微结构区域11、12和宏观的凸部的板材弯曲成圆筒、并且通过焊接该圆筒(例如通过激光焊接)来制成圆柱形压纹构件10。有利地，填充块体(filling block)23设置在压纹构件10的凸部下方。有利地，承压构件50具有对应于压纹构件10的形状的凹部。
有利地，通过同一个压纹构件10的单次加工运动制成微结构区域201、202，凸部206和凹部207。然而，第二微结构区域202也可以利用与形成第一微结构区域201所用的压纹构件不同的压纹构件10来形成。
然而，第一微结构区域101和第二微结构区域202也可以通过使用同一个压纹构件10的压印表面制成。在形成第一微结构区域201之后，可将压纹构件10沿横向相对于基底230移位，并且此后可使用同一个压印表面来压印第二微结构区域202。
参阅图12a和图12b，微结构区域201、202也可以通过两个不同的步骤制成。图12a示出了基底230，其表面层240具有基本上处于一个平面中的微结构205。所述基本上位于一个平面中的微结构205随后可被加工为具有：凸部206和/或凹部207；处于不同水平的微结构区域201、202；以及位于微结构区域201、202之间的双曲部。
因此，可以通过使用一个压印表面同时压印第一微结构区域201和第二微结构区域202的衍射微结构，该压印表面基本上处于一个平面中。此后，可通过使用成形装置、例如使用不需要包括衍射压印表面的凸压模120和凹压模130来成形基底230和/或其表面层240，从而获得第一微结构区域201与第二微结构区域202之间的高度差。压模120、130的相互间隙以及表面质量选择为：使得微结构区域201、202的衍射表面受到的损伤尽可能的小。
本发明并非仅限于在上述说明及附图中描述的实施例。

Claims (12)

1.一种包括第一衍射微结构区域(201)的产品(200)，通过压纹构件(10)和承压构件(50)在纸或纸板基底(230)的表面层(240)上施加压印压力而将该第一衍射微结构区域(201)压印在所述表面层(240)上，其中，所述第一衍射微结构区域(201)是外露的，并且所述第一衍射微结构区域(201)的光栅常数(d)在至少一个位置处为0.4μm至3μm，该产品(200)包括凸部(206)和/或凹部(207)，该凸部(206)或凹部(207)包括第二衍射微结构区域(202)，其中位于所述第一衍射微结构区域(201)与所述第二衍射微结构区域(202)之间的是双曲部(203)，其特征在于，该第一衍射微结构区域(201)和该第二衍射微结构区域(202)具有不同的光栅常数(d)，并且该第一衍射微结构区域(201)和该第二衍射微结构区域(202)的凸起的高度在50至200nm之间，该第一衍射微结构区域(201)和该第二衍射微结构区域(202)的高度差在0.2至1mm之间；以及
该第一衍射微结构区域(201)中的栅格结构的取向(SX)与该第二衍射微结构区域(202)中的栅格结构的取向(SY)不同。
2.如权利要求1所述的产品(200)，其特征在于，所述双曲部(203)包括衍射微结构。
3.如权利要求1所述的产品(200)，其特征在于，所述第一衍射微结构区域(201)和/或所述第二衍射微结构区域(202)是双曲的。
4.如前述权利要求1至3中任一项所述的产品(200)，其特征在于，所述产品(200)为产品包装或产品手册。
5.一种制造包括衍射微结构区域(201，202)的产品(200)的方法，其中所述方法包括通过压纹构件(10)和承压构件(50)在基底(230)的表面层(240)上施加压印压力将所述第一衍射微结构区域(201)压印在所述表面层(240)上，其中，所述第一衍射微结构区域(201)的光栅常数(d)在至少一个位置处为0.4μm至3μm，其中所述第一衍射微结构区域(201)保持外露，并且其中所述基底(230)是纸或纸板；该方法还包括：形成凸部(206)和/或凹部(207)，使得所述凸部(206)或凹部(207)包括第二衍射微结构区域(202)，其中位于所述第一衍射微结构区域(201)与所述第二衍射微结构区域(202)之间的是双曲部(203)，其特征在于，所述方法还包括以下步骤：
在该基底(230)的表面层(240)上压印出处于基本上一个高度水平的微结构区域(205)，以及
在所述一个高度水平下加工处于所述基本上一个高度水平的所述微结构区域(205)，从而形成凸部(206)和/或凹部(207)，该凸部(206)或凹部(207)包括至少一个双曲部(203)，
其中，该第一衍射微结构区域(201)和该第二衍射微结构区域(202)的凸起的高度在50至200nm之间，该第一衍射微结构区域(201)和该第二衍射微结构区域(202)的高度差在0.2至1mm之间。
6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，在压印过程中，所述压纹构件(10)的加工运动的方向(DZ)基本上偏离垂直方向，所述垂直方向与所述第一衍射微结构区域(201)垂直。
7.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述压纹构件(10)是圆柱形并且设置成可旋转，其中所述压纹构件(10)包括至少两个压印表面(11，12)，所述压印表面(11，12)与旋转轴线(AX)相距不同的距离(R1，R2)。
8.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述压纹构件(10)是圆柱形并且设置成可旋转，其中所述压纹构件(10)包括至少两个压印表面(11，12)，所述压印表面(11，12)与旋转轴线(AX)相距不同的距离(R1，R2)。
9.如前述权利要求5至8中任一项所述的方法，其特征在于，所述压纹构件(10)是由具有微结构的金属板加工而成。
10.如前述权利要求5至8中任一项所述的方法，其特征在于，将所述第一衍射微结构区域(201)和所述第二衍射微结构区域(202)直接压印在产品包装或产品手册的表面上。
11.如前述权利要求9所述的方法，其特征在于，将所述第一衍射微结构区域(201)和所述第二衍射微结构区域(202)直接压印在产品包装或产品手册的表面上。
12.一种用于制造根据权利要求1所述的产品的设备(100)，该设备(100)通过压印方式在纸或纸板基底(230)的表面层(240)上制作第一衍射微结构区域(201)和第二衍射微结构区域(202)，该设备(100)包括用以在所述表面层(240)上施加压印压力的压纹构件(10)和承压构件(50)，其中所述压纹构件(10)具有压印表面(11)，所述压印表面(11)具有第一微结构，所述第一微结构的光栅常数(d)在至少一个位置处为0.4μm至3μm，所述压纹构件(10)还包括凸部(16)和/或凹部(17)，所述凸部(16)或凹部(17)包括具有微结构的第二压印表面(12)，其中位于所述第一压印表面(11)与所述第二压印表面(12)之间的是双曲部(13)，该承压构件(50)还包括凹部(57)或易变形表面层(51)，该凹部(57)或易变形表面层(51)用以连同所述凸部(16)而在基底(230)及其表面层(240)中成形宏观凹部(207)；并且/或者，所述承压构件(50)还包括凸部或易变形表面层(51)，该凸部或易变形表面层(51)用以连同所述凹部(17)而在基底(230)及其表面层(240)中成形宏观凸部(206)，其特征在于，在压印过程中，所述压纹构件(10)的加工运动的方向(DZ)基本上偏离垂直方向，所述垂直方向与所述第一压印表面(11)垂直，以及所述第一衍射微结构区域(201)和所述第二衍射微结构区域(202)的凸起的高度在50至200nm之间，该第一衍射微结构区域(201)和该第二衍射微结构区域(202)的高度差在0.2至1mm之间。
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Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FI20065407A0 (fi) 2006-06-14 2006-06-14 Avantone Oy Vaikeasti väärennettävissä oleva hologrammi
JP5253103B2 (ja) 2008-11-17 2013-07-31 日産自動車株式会社 車両用内装部品
DE102009053498A1 (de) 2009-11-16 2011-05-19 Giesecke & Devrient Gmbh Laminierkörper
JP5395756B2 (ja) * 2010-07-07 2014-01-22 株式会社東芝 インプリント用テンプレートの製造方法及びパターン形成方法
FR2980396B1 (fr) * 2011-09-26 2014-09-05 Epga Empreinte a deux elements graphiques
DE102011121588A1 (de) 2011-12-20 2013-06-20 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement für Sicherheitspapiere, Wertdokumente oder dergleichen
DE102012107967A1 (de) * 2012-08-29 2014-05-15 Benecke-Kaliko Ag Dreidimensional strukturierte Gegenstandsoberfläche
DE102013000556A1 (de) * 2013-01-14 2014-07-17 Giesecke & Devrient Gmbh Reliefierter kartenförmiger Datenträger
CN103325300A (zh) * 2013-01-14 2013-09-25 武汉华工图像技术开发有限公司 光栅光柱类通用版动态光栅防伪膜及其制作方法
DE102013100381A1 (de) * 2013-01-15 2014-07-17 Mayr-Melnhof Karton Ag Vorrichtung zum zumindest teilweisen Aufprägen eines oder mehrerer haptischer Muster auf eine Materialbahn, einen Materialbogen oder einen Zuschnitt aus Karton
CN103862908B (zh) * 2014-03-13 2017-02-22 广东东南薄膜科技股份有限公司 镭射母版及制造该镭射母版的光刻机
ES2782182T3 (es) 2014-05-06 2020-09-11 Spa Curti Costruzioni Meccaniche Máquina para fabricar contenedores
WO2017010548A1 (ja) * 2015-07-15 2017-01-19 凸版印刷株式会社 表示体
CN105667111A (zh) * 2016-01-21 2016-06-15 张利平 一种可变化图案与文字的包装盒应用方法
JP6064069B1 (ja) * 2016-05-27 2017-01-18 高桑美術印刷株式会社 組み立てて箱にすることができる紙製シート材、紙製シート材加工装置及び紙製シート材加工方法
CN109470676A (zh) * 2017-09-08 2019-03-15 清华大学 用于分子检测的分子载体
DE102018107188A1 (de) * 2018-03-26 2019-09-26 Bundesdruckerei Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines mit einer Oberflächenstrukturierung versehenen buchartigen Sicherheitsdokumentes sowie das buchartige Sicherheitsdokument selbst
DE102018005838A1 (de) * 2018-07-25 2020-01-30 Focke & Co. (Gmbh & Co. Kg) Verfahren und Vorrichtung zum Handhaben von Zuschnitten aus Verpackungsmaterial
WO2022088040A1 (en) * 2020-10-30 2022-05-05 The Procter & Gamble Company Nonwoven and absorbent articles having the same
EP4384386A1 (en) * 2021-08-13 2024-06-19 Boegli-Gravures S.A. Method and tool for embossing of barrier paper
CN117255959A (zh) * 2021-12-09 2023-12-19 瑞仪(广州)光电子器件有限公司 光学元件、光源模组与显示装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1013260B (zh) * 1987-10-26 1991-07-24 丹尼森制造公司 片材的装饰
US5318807A (en) * 1991-10-28 1994-06-07 Juan Grifoll Casanovas Process for preparing printed sheets with optical effects
CN1422983A (zh) * 2001-11-23 2003-06-11 新型轻工业有限公司 增强型硬币类制品及其制作方法
JP2004268552A (ja) * 2003-03-12 2004-09-30 Osamu Miyake 微細エンボス加工方法及び装置
CN1684818A (zh) * 2002-08-09 2005-10-19 雷恩哈德库兹两合公司 激光支持的复制法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4913858A (en) 1987-10-26 1990-04-03 Dennison Manufacturing Company Method of embossing a coated sheet with a diffraction or holographic pattern
JPH08101630A (ja) * 1994-09-30 1996-04-16 Toppan Printing Co Ltd 複製版の製造方法
IT1275697B1 (it) * 1994-12-20 1997-10-17 Olmo Giancarlo Dell Metodo per stampare direttamente su carta microincisioni di ologrammi,chinogrammi,reticoli di diffrazione o microincisioni
WO1997015435A1 (fr) * 1995-10-24 1997-05-01 Nippon Carbide Kogyo Kabushiki Kaisha Procede de fabrication en continu d'un dispositif optique, ensemble et appareil prevu a cet effet
SE505397C2 (sv) * 1995-11-09 1997-08-18 Mo Och Domsjoe Ab Ytbehandlat säkerhethetspapper och förfarande samt anordning för framställning av ytbehandlat säkerhetspapper
DE19915943A1 (de) * 1999-04-09 2000-10-12 Ovd Kinegram Ag Zug Dekorationsfolie
FI116086B (fi) * 2000-06-08 2005-09-15 Avantone Oy Varmistusmerkitty paperi- tai kartonkituote ja varmistusmerkitty pakkaus
DE10126342C1 (de) * 2001-05-30 2003-01-30 Hsm Gmbh Optisches Element und Verfahren zu dessen Herstellung
ATE261350T1 (de) * 2002-01-25 2004-03-15 Leister Process Tech Verfahren zum abformen von mikro- und nanostrukturen
GB0401370D0 (en) * 2004-01-21 2004-02-25 Rue De Int Ltd Security device
FI20045370A (fi) * 2004-10-01 2006-04-02 Avantone Oy Embossauslaite ja menetelmä embossaamalla tuotetun mikrorakennealueen määrittämiseksi
FI122671B (fi) 2005-03-09 2012-05-15 M Real Oyj Menetelmä visuaalisesti tunnistettavan kuvion tuottamiseksi substraatille
FI20065407A0 (fi) 2006-06-14 2006-06-14 Avantone Oy Vaikeasti väärennettävissä oleva hologrammi

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1013260B (zh) * 1987-10-26 1991-07-24 丹尼森制造公司 片材的装饰
US5318807A (en) * 1991-10-28 1994-06-07 Juan Grifoll Casanovas Process for preparing printed sheets with optical effects
CN1422983A (zh) * 2001-11-23 2003-06-11 新型轻工业有限公司 增强型硬币类制品及其制作方法
CN1684818A (zh) * 2002-08-09 2005-10-19 雷恩哈德库兹两合公司 激光支持的复制法
JP2004268552A (ja) * 2003-03-12 2004-09-30 Osamu Miyake 微細エンボス加工方法及び装置

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