CN101424810B - 液晶显示屏板 - Google Patents

Abstract

本发明的方法包括以下步骤：(A)提供第一基板和第二基板，其中第一基板包括设置在非显示区域内的第一光屏蔽层，第一光屏蔽层包括接近第一光屏蔽层的外部边界设置的透光部分，透光部分包括凹部或开口；(B)利用密封剂绘制密封图案，所述密封图案被绘制在第一光屏蔽层外部，以围绕显示区域，绘制密封图案包括以下子步骤：(B1)在接近透光部分开始密封剂的涂覆，(B2)沿第一光屏蔽层的外周涂覆密封剂；以及(B3)形成与已经接近透光部分涂覆的密封剂的连接部分；(C)在密封剂围绕的显示区域内涂覆液晶材料；(D)将第一基板和第二基板连接在一起；及(E)从第一基板侧进行光辐射，以固化密封剂。

Description

液晶显示屏板

本申请是申请号为200510083633.4的中国发明专利申请(申请日：2005年7月12日；发明创造名称：液晶显示屏板及其生产方法)的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种液晶显示屏板和用于生产该液晶显示屏板的方法。本发明尤其涉及通过利用滴下式注入(ODF)技术生产液晶显示屏板的方法，以及适于这种生产方法的液晶显示屏板。

背景技术

在近年，随着液晶显示屏板尺寸变得更大，代替传统使用的真空喷射技术，采用所谓的滴下式注入技术作为在一对基板之间形成液晶层的方法正变得更普通。

利用真空喷射技术生产液晶显示屏板的过程包括下面的步骤。

(a1)在用于构成液晶显示屏板的一对基板(它们典型地是滤色片基板和TFT基板)的一个上，形成预定图案的密封剂。然后，该对基板连接在一起，并且密封剂固化，由此获得液晶单元。形成密封剂图案，以限定液晶层后面将形成在其中的区域(注意显示区域被包围在该区域内)并且还限定注射入口。

(a2)在排空液晶单元以在其中产生真空之后，通过利用液晶单元的内部和外部之间的压力差并利用毛细管作用，液晶材料被注入，同时保持液晶材料与注射入口接触。

(a3)之后，由密封剂密封注射入口。

另一方面，滴下式注入技术包括下面的步骤。

(b1)在一对基板的一个上，形成密封剂图案，以围绕其中将形成液晶层的区域，并且然后液晶材料被滴入由密封剂图案围绕的区域内。

(b2)然后，该基板实质上连接到另一基板，并且之后密封剂固化。

在滴下式注入技术中，密封剂图案需要完全封闭其中形成液晶层的区域。从而，当密封剂图案由分配器绘制时，至少一个连接处将总是形成。

下面将参照图描述滴下式注入技术中使用的密封图案的特点。

图21描述了四个液晶显示面板将由母基板形成的例子。滤色片母基板20包括四个滤色片基板。在每一个产生的滤色片基板的显示区域24中，设置滤色片，该滤色片布置为对应于像素和反电极(图中未示出)。每一个滤色片基板还包括围绕显示区域的光屏蔽层(黑色阵列)22，从而光屏蔽层22限定显示区域24的外周。尽管图21仅仅描述了对应于各个液晶显示面板的分离的TFT基板10，但是将会理解，包括四个未分开的TFT基板10的母基板(以类似于滤色片母基板20的方式)将在切割前连接到母基板20。在四个TFT基板10的每一个的显示区域14中，形成必要的电路元件，例如，TFT、像素电极、栅极总线和源极总线。每一个TFT基板和每一个滤色片基板通过密封部分32连接在一起。密封部分32形成在光屏壁层22的外侧。

位于显示区域14外侧的液晶显示屏板的部分被称为“非显示区域”或“框架区域”，希望该非显示区域或框架区域尽可能窄。光屏壁层22和密封部分32设置在非显示区域中。

另一方面，为了防止不需要的光进入显示区域14中，光屏蔽层22需要具有一定的厚度。如果光屏蔽不充分，黑色显示质量降级，从而实质上影响图像质量。为了满足这两种要求，需要在光屏蔽层22外周的紧密的附近精确形成密封部分22。

然而，当密封部分32通过绘制技术形成时，至少一个连接部分32b将不可避免地形成。密封连接部分32b趋于变得比密封的主伸展32a更厚。如这里所使用的一样，密封主伸展32a指不包括连接部分32b的具有实质恒定宽度的密封部分32的一部分。主伸展32a是密封图案的一部分，密封图案用密封剂形成，该密封剂在分配器的喷嘴等在基板的平面内进行相对运动的同时排出，并且因此主伸展32a取决于密封剂的排出量和喷嘴的移动速度。由此，主伸展32a具有相当稳定的宽度。另一方面，连接部分32b包括密封剂首先涂敷的一部分(即密封绘制的开始部分)。初始添加的密封剂量取决于在喷嘴的末端存在的密封剂量。在喷嘴的末端存在的密封剂量由于用于定位喷嘴花费的时间长度的波动(包括沿高度方向定位)和当喷嘴在密封绘制的结束点从基板升起时喷嘴末端残留的密封剂量的波动而波动。因此，由于在密封绘制的开始点和结束点涂敷的密封剂量的不一致，连接部分32b的宽度趋于变得比主伸展32a的宽度更宽。

图22A和22B是描述密封连接部分附近的放大视图。图22A是平面图，而图22B是剖视图。

如上所述，如果密封图案在连接部分32b具有更宽的宽度，其一部分会与光屏蔽层22交叠。因为可光致固化的树脂(包括也允许辅助使用热固的那些类型的光固化树脂)广泛用作密封剂，因此如果从滤色片基板20的侧面进行光辐射(典型地紫外线(UV)辐射)，与光屏蔽层22交叠的密封剂的部分32′不能充分固化。由此，可光致固化树脂的未固化组分会洗提到液晶材料中，由此引起可靠性的恶化，例如，主要由于离子组分导致的液晶显示屏板的电压保持率的降低，并且引起方向偏转的发生。

或许可以从TFT基板10的侧面执行光辐射。然而，如后面所述，如果UV辐射从TFT基板10的侧面进行，需要采用一些防止TFT被UV辐射的装置(例如，必须使用用于屏蔽TFT免于光照射的掩膜)。另一方面，如果从滤色片基板20的侧面进行UV辐射，优点是在滤色片充分吸收UV的情况下能够省去这种装置。至少能够降低对TFT的损坏量。

为了防止在连接部分32b和光屏蔽层22之间部分交叠，日本公开专利公开No.2002-122870披露了一种方法，该方法涉及绘制延伸到液晶显示屏板的外侧的密封图案，和形成液晶显示屏板外侧的连接部分32d，如图23中所示。此外，如图24中所示，日本公开专利公开No.2002-122870披露了一种方法，该方法涉及形成在液晶显示屏板外侧绘制的密封的开始或结束点32e。

日本公开专利公开No.8-240807披露了一种方法，该方法涉及在角部形成密封连接部分，利用密封部分和光屏蔽部分之间的空隙在液晶显示屏板的角部比沿其任何侧面将大大约1.4倍这一优点。然而，一旦密封连接部分的宽度超过上述值大约1.4倍，同样如日本公开专利公开No.2002-122870，这种方法不能处理上述问题。

如果使用日本公开专利公开No.2002-122870中描述的方法，不再需要在液晶显示屏板内形成连接部分32b。然而，如图25A中所示，该方法仅仅可用于下述情况：在TFT基板(TFT母基板)10连接到滤色片基板(CF母基板)20之后，母基板10和20都沿相同的线CL切割。还存在另一情况，即如图25B中所示，TFT母基板10沿切割线CL1切割，而CF母基板20沿不同于切割线CL1的切割线CL2切割，由此，在TFT基板10上提供信号显端子部分(驱动器安装部分)。在这种情况下，具有如下问题，密封部分32t将保留在TFT母基板10上，而母基板10将粘接到将被除去的CF母基板20的片段，从而使得不可能除去该片段。注意在为了抑制与显示屏板的增加的尺寸相关的信号延迟等，信号线部分沿液晶显示屏板的三或四个边设置的结构中，不可能采用如图25A中所示的密封图案。尽管图25A中所示的图案能够在其中信号线端子部分沿液晶显示屏板的两侧设置的情况下采用，但是需要与母基板10和20同时切割密封部分32会引起切割失败。

此外，日本公开专利公开No.2002-122870中描述的方法将需要一种装置，该装置能够将密封图案绘制到液晶显示屏板的外侧，而不使连接部分在离开显示屏板之前形成。这种密封图案绘制装置将不可避免地尺寸大，并且由此增加了显示屏板的生产成本。

根据本发明的发明人进行的研究，日本公开专利公开No.8-240807中描述的方法不仅具有日本公开专利公开No.2002-122870中提及的问题，而且具有另一个问题，即如图26A和26B中示意地所示，密封连接部分的宽度会偶而在角部超过1.4倍的值，即使不形成连接部分。在这种情况下，出现在与光屏蔽层22交叠的部分的密封剂32c不能充分固化。

除了密封连接部分和角部之外，类似的方法也会在任何用于建立上部和下部基板之间的电连接的过渡部分(例如公共的过渡部分)出现。

发明内容

为了克服上述问题，本发明的优选实施方式提供一种用于有效生产液晶显示屏板的方法和通过这种生产方法提供的液晶显示屏板，即使在传统的生产方法下将导致具有较厚宽度的密封图案的部分(例如密封连接部分或过渡部分)形成在液晶显示屏板中，该液晶显示屏板的可靠性也不会降低。

根据本发明的液晶显示屏板生产方法是一种用于生产液晶显示屏板的方法，该液晶显示屏板包括第一基板、第二基板和置于第一基板和第二基板之间的液晶层，所述液晶显示屏板具有显示区域和围绕显示区域的非显示区域，所述方法包括以下步骤：(A)提供第一基板或包含第一基板的第一母基板，和第二基板或包含第二基板的第二母基板，其中第一基板包括在更接近显示区域的端部设置在非显示区域内的第一光屏蔽层，第一光屏蔽层包括接近第一光屏蔽层的外部边界设置的至少一个透光部分，所述至少一个透光部分包括凹部或开口；(B)利用包含可光致固化树脂的密封剂绘制密封图案，所述密封图案被绘制在第一基板的第一光屏蔽层外部，以围绕显示区域，绘制密封图案包括下面的子步骤：(B1)在接近第一基板的透光部分开始密封剂的涂覆，(B2)沿第一基板的第一光屏蔽层的外周涂覆密封剂；(B3)形成与已经接近透光部分涂覆的密封剂的连接部分；(C)在由密封剂围绕的显示区域内涂覆液晶材料；(D)将第一基板和第二基板连接在一起，而液晶材料置于它们之间；以及(E)在步骤(D)之后，从第一基板侧进行光辐射，以固化密封剂。

在一种实施方式中，第一基板具有矩形形状；所述至少一个透光部分包括至少沿矩形形状的边设置的透光部分；以及所述连接部分形成在沿矩形形状的所述边设置的透光部分处。

在一种实施方式中，所述至少一个透光部分包括沿矩形形状的所述边设置的两个或更多个透光部分；以及所述连接部分形成在沿矩形形状的所述边设置的两个或更多个透光部分处。

在一种实施方式中，所述至少一个透光部分还包括设置在矩形形状的角部的透光部分。

在一种实施方式中，第一母基板包括多个第一基板，所述方法包括：第一绘制步骤，其中通过接近第一基板的两个或更多个透光部分中的一个开始密封剂的涂覆，沿第一光屏蔽层的外周涂覆密封剂，以及接近两个或更多个透光部分中的另一个结束密封剂的涂覆，而在多个第一基板中的一个上绘制密封图案；第二绘制步骤，其中通过接近第一基板的两个或更多个透光部分中的一个开始密封剂的涂覆，沿第一光屏蔽层的外周涂覆密封剂，以及接近两个或更多个透光部分中的另一个结束密封剂的涂覆，而在多个第一基板的另一个上绘制密封图案；第三绘制步骤，其中在第一绘制步骤之后，通过开始密封剂的涂覆，以便形成与已经接近第一基板的一个透光部分或另一个透光部分涂覆的密封剂的连接部分，从而在所述一个第一基板上绘制密封图案；以及第四绘制步骤：在第二绘制步骤之后，通过开始密封剂的涂覆，以便形成与已经接近第一基板的一个透光部分或另一个透光部分涂覆的密封剂的连接部分，从而在所述另一个第一基板上绘制密封图案。

根据本发明的另一种液晶显示屏板生产方法是一种用于生产液晶显示屏板的方法，该液晶显示屏板包括第一基板、第二基板和置于第一基板和第二基板之间的液晶层，所述液晶显示屏板具有显示区域和围绕显示区域的非显示区域，所述方法包括以下步骤：(A)提供第一基板或包含第一基板的第一母基板，以及第二基板或包含第二基板的第二母基板，其中第一基板包括在更接近显示区域的端部设置在非显示区域内的第一光屏蔽层，第一光屏蔽层包括接近第一光屏蔽层的外部边界设置的至少一个透光部分，所述至少一个透光部分包括凹部或开口；(B)利用包含可光致固化树脂的密封剂在第二基板上绘制密封图案，其中当第二基板连接到第一基板时，第二基板上绘制的所述密封图案将位于第一基板的第一光屏蔽层外部的区域中，并且密封图案被绘制为围绕显示区域，所述绘制密封图案包括下述子步骤：(B1)在接近对应于第一基板的透光部分的位置开始密封剂的涂覆，(B2)沿对应于第一基板的第一光屏蔽层的外周的区域涂覆密封剂；和(B3)形成与已经接近对应于透光部分的位置涂覆的密封剂的连接部分；(C)在密封剂围绕的显示区域内涂覆液晶材料；(D)将第一基板和第二基板连接在一起，而液晶材料置于它们之间；以及(E)在步骤(D)之后，从第一基板侧进行光辐射，以固化密封剂。

在一种实施方式中，第一基板具有矩形形状；所述至少一个透光部分包括至少沿矩形形状的边设置的透光部分；以及所述连接部分形成在对应于沿矩形形状的所述边设置的透光部分的位置处。

在一种实施方式中，所述至少一个透光部分包括沿矩形形状的边设置的两个或更多个透光部分；以及所述连接部分形成在对应于沿矩形形状的所述边形成的两个或更多个透光部分中的每一个的位置处。

在一种实施方式中，所述至少一个透光部分还包括设置在矩形形状的角部的透光部分。

在一种实施方式中，第二母基板包括多个第二基板，所述方法包括：第一绘制步骤，其中通过接近对应于第一基板的两个或更多个透光部分中的一个的位置开始密封剂的涂覆，沿对应于第一光屏蔽层的外周的区域涂覆密封剂，以及接近对应于两个或更多个透光部分中的另一个的位置结束密封剂的涂覆，而在多个第二基板中的一个上绘制密封图案；第二绘制步骤，其中通过接近对应于第一基板的两个或更多个透光部分中的一个的位置开始密封剂的涂覆，沿对应于第一光屏蔽层的外周的区域涂覆密封剂，以及接近对应于两个或更多个透光部分中的另一个的位置结束密封剂的涂覆，而在多个第二基板的另一个上绘制密封图案；第三绘制步骤：在第一绘制步骤之后，通过开始密封剂的涂覆，以便形成与已经接近对应于第一基板的一个透光部分的位置或对应于另一个透光部分的位置涂覆的密封剂的连接部分，从而在所述一个第二基板上绘制密封图案；以及第四绘制步骤，其中在第二绘制步骤之后，通过开始密封剂的涂覆，以便形成与已经接近对应于第一基板的一个透光部分的位置或对应于另一个透光部分的位置涂覆的密封剂的连接部分，从而在所述另一个第二基板上绘制密封图案。

在一种实施方式中，液晶显示屏板具有在非显示区域内的宽间隙区域，所述宽间隙区域是其中第一基板和第二基板之间的间隙局部增加的区域，所述宽间隙区域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷；以及所述至少一个透光部分包括接近宽间隙区域设置的透光部分。

在一种实施方式中，所述液晶显示屏板生产方法还包括如下步骤：将包含可光致固化树脂的转移材料涂覆到第一基板或第二基板，形成用于在第一基板和第二基板之间建立电连接的转移部分，其中转移材料涂覆在所述凹陷中。

在一种实施方式中，所述液晶显示屏板生产方法还包括如下步骤：将包含可光致固化树脂的转移材料涂覆到第一基板或第二基板，形成用于在第一基板和第二基板之间建立电连接的转移部分，其中转移材料涂覆在第一基板上、接近至少一个透光部分的位置处，或第二基板上、对应于第一基板的透光部分的位置附近。

在一种实施方式中，步骤(E)包括通过光辐射固化转移材料的子步骤。

在一种实施方式中，转移部分形成为至少部分与密封图案交叠。

在一种实施方式中，第二基板包括至少一个在非显示区域内的第二光屏蔽层，所述至少一个第二光屏蔽层设置在对应于第一基板的所述至少一个透光部分的区域内。

在一种实施方式中，第二基板包括源极总线和栅极总线；以及所述至少一个第二光屏蔽层包括与源极总线或栅极总线的导电层相同的导电层。

在一种实施方式中，所述至少一个透光部分包括多个凹部或开口，所述第二光屏蔽层还包括对应于所述多个凹部或开口之间的间隙或多个凹部或开口的邻域设置的透光部分，所述方法还包括：在步骤(D)之后，从第二基板侧执行光辐射的步骤。

根据本发明的又一种液晶显示屏板生产方法是一种用于生产液晶显示屏板的方法，该液晶显示屏板包括第一基板、第二基板和置于第一基板和第二基板之间的液晶层，所述液晶显示屏板具有显示区域，围绕显示区域的非显示区域，以及非显示区域内的宽间隙区域，所述宽间隙区域是其中第一基板和第二基板之间的间隙局部增加的区域，所述宽间隙区域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷，所述方法包括以下步骤：(A)提供第一基板或包含第一基板的第一母基板，以及第二基板或包含第二基板的第二母基板，其中第一基板包括在更接近显示区域的端部设置在非显示区域内的第一光屏蔽层；(B)利用包含可光致固化树脂的密封剂绘制密封图案，所述密封图案被绘制在具有凹陷的第一基板的第一光屏蔽层外部，或所述密封图案被绘制在当具有凹陷的第二基板连接到第一基板时将位于第一基板的第一光屏蔽层外部的第二基板的区域内，所述密封图案绘制为围绕显示区域，绘制密封图案包括下面的子步骤：(B1)接近第一基板或第二基板的凹陷开始密封剂的涂覆，(B2)沿第一基板的第一光屏蔽层的外周，或沿对应于第一基板的第一光屏蔽层外周的第二基板上的区域涂覆密封剂；以及(B3)形成与已经接近凹陷涂覆的密封剂的连接部分；(C)在密封剂围绕的显示区域内涂覆液晶材料；(D)将第一基板和第二基板连接在一起，而液晶材料置于它们之间；以及(E)在步骤(D)之后，进行光辐射，以固化密封剂。

根据本发明的再一种液晶显示屏板生产方法是一种用于生产液晶显示屏板的方法，该液晶显示屏板包括第一基板、第二基板和置于第一基板和第二基板之间的液晶层，所述液晶显示屏板具有显示区域，围绕显示区域的非显示区域，以及在非显示区域内的宽间隙区域，所述宽间隙区域是其中第一基板和第二基板之间的间隙局部增加的区域，所述宽间隙区域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷，所述方法包括以下步骤：(A)提供第一基板或包含第一基板的第一母基板，以及第二基板或包含第二基板的第二母基板，其中第一基板包括在更接近显示区域的端部设置在非显示区域内的第一光屏蔽层；(B)利用包含可光致固化树脂的密封剂绘制密封图案，所述密封图案被绘制在具有凹陷的第一基板的第一光屏蔽层外部，或所述密封图案被绘制在当具有凹陷的第二基板连接到第一基板时将位于第一基板的第一光屏蔽层外部的第二基板的区域内，所述密封图案绘制为围绕显示区域；(B′)将包含可光致固化树脂的转移材料涂覆到第一基板或第二基板，形成用于在第一基板和第二基板之间建立电连接的转移部分，转移材料涂覆在凹陷中；(C)在密封剂围绕的显示区域内涂覆液晶材料；(D)将第一基板和第二基板连接在一起，而液晶材料置于它们之间；以及(E)在步骤(D)之后，进行光辐射，以固化密封剂。

在一种实施方式中，步骤(B)包括子步骤(B1)：从第一基板或第二基板的凹陷开始涂覆密封剂。

在一种实施方式中，所述的液晶显示屏板生产方法还包括形成凹陷的步骤，其中形成凹陷的步骤包括子步骤：在正型或负型的光敏树脂层中形成通孔或孔。

在一种实施方式中，所述的液晶显示屏板生产方法还包括形成凹陷的步骤，其中形成凹陷的步骤包括子步骤：通过利用半曝光技术在光敏树脂层中形成孔。

在一种实施方式中，第一基板包括显示区域中的滤色片。

根据本发明的一种液晶显示屏板是一种液晶显示屏板，包括第一基板、第二基板、置于第一基板和第二基板之间的液晶层，以及围绕液晶层的密封部分，所述液晶显示屏板具有显示区域和围绕显示区域的非显示区域，其中，第一基板包括在更接近显示区域的端部设置在非显示区域内的第一光屏蔽层，第一光屏蔽层包括接近第一光屏蔽层的外部边界设置的至少一个透光部分，所述至少一个透光部分包括凹部或开口；以及密封部分在所述至少一个透光部分处具有加宽的宽度。

根据本发明的另一种液晶显示屏板是一种液晶显示屏板，包括第一基板、第二基板和置于第一基板和第二基板之间的液晶层，围绕液晶层的密封部分，以及用于在第一基板和第二基板之间建立电连接的转移部分，所述液晶显示屏板具有显示区域和围绕显示区域的非显示区域，其中，第一基板包括在更接近显示区域的端部设置在非显示区域内的第一光屏蔽层，第一光屏蔽层包括接近第一光屏蔽层的外部边界设置的至少一个透光部分，所述至少一个透光部分包括凹部或开口；至少转移部分的一部分设置在所述至少一个透光部分中。

在一种实施方式中，第一基板包括在显示区域内的滤色片。

在一种实施方式中，第二基板包括在非显示区域内的至少一个第二光屏蔽层，所述至少一个第二光屏蔽层设置在对应于所述第一基板的至少一个透光部分的区域中。

在一种实施方式中，第二基板包括源极总线和栅极总线；以及所述至少一个第二光屏蔽层包括与源极总线或栅极总线的导电层相同的导电层。

在一种实施方式中，所述至少一个透光部分包括狭缝状的凹部或开口；以及所述至少一个第二光屏蔽层包括多个光屏蔽部分，所述多个光屏蔽部分设置为与狭缝状凹部或开口相对。

根据本发明的又一种液晶显示屏板是一种液晶显示屏板，包括第一基板、第二基板，置于第一基板和第二基板之间的液晶层，围绕液晶层的密封部分，以及用于在第一基板和第二基板之间建立电连接的转移部分，所述液晶显示屏板具有显示区域和围绕显示区域的非显示区域，其中，所述液晶显示屏板包括在非显示区域内的宽间隙区域，所述宽间隙区域是其中第一基板和第二基板之间的间隙局部增加的区域，所述宽间隙区域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷；转移部分设置在凹陷中。

根据本发明的再一种液晶显示屏板是一种液晶显示屏板，包括第一基板、第二基板，置于第一基板和第二基板之间的液晶层，以及围绕液晶层的密封部分，所述液晶显示屏板具有显示区域和围绕显示区域的非显示区域，其中，所述液晶显示屏板包括在非显示区域内的宽间隙区域，所述宽间隙区域是其中第一基板和第二基板之间的间隙局部增加的区域，所述宽间隙区域包括在第一基板或第二基板的表面中的凹陷；以及密封部分的一部分设置在凹陷中。

在一种实施方式中，凹陷包括形成在正型或负型的光敏树脂层中通孔或孔。

根据本发明的液晶显示屏板生产方法，使用包括光屏蔽层的基板，所述基板具有在变成密封剂的连接部分的位置的透光部分(凹部或开口)，而从该基板的侧面进行光辐射。结果，防止在连接部分的不充分的密封剂固化。此外，通过在密封剂的宽度可能变宽的角部或转移部分(例如公用转移部分)提供透光部分，也能够防止在这种角部或转移区域的密封剂固化失效。因此，由于透光部分仅仅设置在光屏蔽层的、密封图案的宽度预期变宽的部分中，因此非显示区域的宽度能够保持较窄。此外，通过在另一个基板上(在与透光部分设置在第一基板上的位置相对的位置处)提供光屏蔽层，将不会损害光屏蔽层的原始用途，即防止光泄露。

由于不必在液晶显示屏板的外部形成密封部分，因此防止了在母基板切割期间的失效。此外，通过在液晶显示屏板中提供两个或更多个连接部分，相对于密封部分的绘制顺序获得了增加的自由度，并且/或者可利用多个分配器执行同时绘制，由此可降低密封绘制处理的生产间歇时间。通过在密封图案中提供两个或更多个连接部分，可以利用相对小的密封图案绘制装置在大尺寸液晶显示屏板上执行密封图案的绘制，由此能够抑制生产成本的增加。

通过将滤色片基板用作上述基板，能够降低由于UV产生的对于TFT的损坏。此外，可以省去用于在光辐射处理中保护TFT的掩膜。通过也从TFT基板侧进行光辐射，能够降低固化所需要的辐射时间。

根据本发明的液晶显示屏板生产方法，凹陷设置在基板的表面中、密封预期具有加宽的宽度的部分处(例如，密封连接部分或转移部分)，凹陷限定了具有较大的基板之间的间隙的区域。结果，密封图案宽度的增加能够自身被抑制。通过与上述透光部分一起采用这种凹陷，可以获得两种效果。

本发明的其它特征、元件、过程、步骤、特点和优点从下面结合附图对本发明的优选实施例的详细描述而变得更清楚。

附图说明

图1A、1B、1C和1D是描述根据本发明实施例的液晶显示屏板中的密封连接部分的结构的示意图。

图2是用于描述获得六个滤色片基板的CF母基板的密封绘制过程的示意图。

图3A和3B是描述在根据本发明实施例的液晶显示屏板的角部的密封的结构的示意图。

图4是描述典型液晶显示屏板的平面图。

图5A至5C是描述在沿其上未设置信号线端子部分的边设置透光部分的情况下的光屏蔽层的示例性结构的示意图。图5A是平面图；图5B是沿图5A中的线5B-5B′的剖视图；以及图5C是沿图5A中的线5C-5C′的剖视图。

图6A至6C是描述在沿其上未设置信号线端子部分的边设置透光部分的情况下的光屏蔽层的另一示例性结构的示意图。图6A是平面图；图6B是沿图6A中的线6B-6B′的剖视图；以及图6C是沿图6A中的线6C-6C′的剖视图。

图7A至7C是描述在沿其上未设置信号线端子部分的边设置透光部分的情况下的光屏蔽层的又一示例性结构的示意图。图7A是平面图；图7B是沿图7A中的线7B-7B′的剖视图；以及图7C是沿图7A中的线7C-7C′的剖视图。

图8A至8D是描述在沿液晶显示屏板的短边SE1在对应于栅极总线端子部分GB1的区域中设置透光部分的情况下的光屏蔽层的示例性结构的示意图。图8A是平面图；图8B是沿图8A中的线8B-8B′的剖视图；图8C是沿图8A中的线8C-8C′的剖视图；以及图8D是沿图8A中的线8D-8D′的剖视图；

图9A至9D是描述在沿液晶显示屏板的短边SE1在对应于栅极总线端子部分GB1的区域中设置透光部分的情况下的光屏蔽层的另一示例性结构的示意图。图9A是平面图；图9B是沿图9A中的线9B-9B′的剖视图；图9C是沿图9A中的线9C-9C′的剖视图；以及图9D是沿图9A中的线9D-9D′的剖视图。

图10A至10C是描述在沿液晶显示屏板的短边SE1在对应于栅极总线端子部分GB1的区域中设置透光部分的情况下的光屏蔽层的又一示例性结构的示意图。图10A是平面图；图10B是沿图10A中的线10B-10B′的剖视图；图10C是沿图10A中的线10C-10C′的剖视图。

图11A至11D是描述在沿液晶显示屏板的长边LE1在对应于源极总线端子部分SB1的区域中设置透光部分的情况下的光屏蔽层的示例性结构的示意图。图11A是平面图；图11B是沿图11A中的线11B-11B′的剖视图；图11C是沿图11A中的线11C-11C′的剖视图；以及图11D是沿图11A中的线11D-11D′的剖视图。

图12A至12D是描述在沿液晶显示屏板的长边LE1在对应于源极总线端子部分SB1的区域中设置透光部分的情况下的光屏蔽层的另一示例性结构的示意图。图12A是平面图；图12B是沿图12A中的线12B-12B′的剖视图；图12C是沿图12A中的线12C-12C′的剖视图；以及图12D是沿图12A中的线12D-12D′的剖视图。

图13A至13C是描述在沿液晶显示屏板的长边LE1在对应于源极总线端子部分SB1的区域中设置透光部分的情况下的光屏蔽层的又一示例性结构的示意图。图13A是平面图；图13B是沿图13A中的线13B-13B′的剖视图；图13C是沿图13A中的线13C-13C′的剖视图。

图14是描述在根据本发明实施例的液晶显示屏板中密封部分32和包括凹部22a的光屏蔽层22的示意图。

图15A和15B是用于描述通常采用的液晶显示屏板布置的示意平面图。

图16A、16B、16C和16D是描述传统的共用转移部分的结构的示意平面图。

图17A和17B是描述根据本发明实施例的液晶显示屏板中的共用转移部分的结构的示意平面图。

图18A、18B、18C和18D是每一个都描述根据本发明实施例的液晶显示屏板中的共用转移部分的结构的示意图。

图19A、19B、19C和19D是每一个都描述根据本发明另一实施例的液晶显示屏板中的共用转移部分的结构的示意图。

图20是描述树脂层61的厚度(通孔61a的深度)和降低密封部分32的宽度的效果之间的关系的曲线。

图21是描述用于滴下式注入技术中的密封图案的特性的示意图。

图22A和22B是描述密封连接部分的附近的放大视图。图22A是平面图，而图22B是剖视图。

图23是描述传统密封图案的例子的示意图。

图24是描述传统密封图案的另一个例子的示意图。

图25A和25B是用于说明传统密封图案的问题的示意图。

图26A和26B是用于说明传统密封图案的另一问题的示意图。

具体实施方式

下面将参照附图描述根据本发明实施例的液晶显示屏板和生产该液晶显示屏板的方法。

如图1A和1B中所示，根据本发明实施例的液晶显示屏板包括：TFT基板10，滤色片基板20，设置在TFT基板10和滤色片基板20之间的液晶层40，以及围绕液晶层40的密封部分32。液晶显示屏板具有显示区域和围绕显示部分的非显示区域。滤色片基板20具有第一光屏蔽层22A，该第一光屏蔽层22A在更接近显示区域的端部设置在非显示区域内。第一光屏蔽层22A具有接近外边缘设置的凹部(透光部分)22a。密封部分32的宽度被允许在光屏蔽层22A的凹部22a变得更宽。假定光屏蔽层22A的凹部22a具有充分的宽度和长度，如果连接部分32b形成在凹部22a内，即使当连接部分32b具有增加的宽度连接部分32b也不与光屏蔽22A交叠。因此，如图1B中所示，即使从滤色片基板20的后面侧进行UV辐射密封剂也能够充分固化。

注意密封剂不限于可UV固化的树脂，可以是用任何波长的光(例如可见光)固化的树脂，并且各种可光致固化的树脂可适用。这里所使用可光致固化树脂指其响应于预定波长的光的辐射进行固化反应的任何树脂，并且包括在光固化之后能够对其进一步进行热固定的任何树脂。通过这种热固定的辅助使用，固化的物质的物理特性(例如硬度和弹性模量)通常被提高。此外，用于将散射能力赋予密封剂的颗粒(填充物)可以与可光致固化树脂一起混合到密封剂。颗粒分散其中的密封剂将引起光的散射或漫反射，因此允许光透过密封剂的更宽区域。

图1A中所示的滤色片基板20的光屏蔽层22A被示出为具有在连接部分32b的整个长度延伸的单个凹部22a。代替这种凹部22a，只要凹部允许密封剂用光充分辐射，可以使用任何其它凹部。例如，如图1C中所示的光屏蔽层22B的示例，多个微小凹部22b可以以带状设置。作为选择，如图1D中所示的光屏蔽层22C的示例，可以设置多个微小开口(孔)22c。依凹部或开口，用于允许密封剂接受光辐射的透光部分不需要形成有恒定的宽度，而是可以具有变化的宽度，以根据需要容纳连接部分32的扩展的宽度。在设置如图1C或1D中所示的凹部22b或开口22c的情况下，密封剂比采用图1A中所示的凹部22a的情况更难于接受光辐射。因此，在这种情况下，优选方式是采用不仅允许光以直角入射到基板而且能够通过反射镜等引入一定的辐射角的类型的光辐射装置，或采用具有散射能力(漫反射特性)的密封剂。

在最后的液晶显示屏板中，显示质量可能由于已经穿过设置在光屏蔽层22A中的凹部22a的光而降级。因此，优选方式是，在与凹部22a相对的位置设置另一个光屏蔽层。尽管可能在滤色片20的外侧(即更接近观察者的一侧)连接光屏蔽带等，但是这种设置不是优选的，因为将增加生产步骤的数量，可能发生定位问题，并且当液晶显示屏板安装在壳体内时可能发生高度不同。因此，如后面将在具体例子中所述，优选方式是，在TFT基板10上对应的位置设置光屏蔽层。在这种情况下，通过利用与在TFT基板上设置的源极总线和/或栅极总线的导电层相同的导电层形成光屏蔽层，可形成光屏蔽层且不增加步骤数量。

通过采用上述结构，即使密封连接部分形成在液晶显示屏板内也可允许密封剂充分固化，而不会使生产步骤复杂。还可有效地防止光从设置在滤色片基板的光屏蔽层中的透光部分泄露。因为光辐射从滤色片基板侧进行，因此至少当透过滤色片时辐射TFT的光被削弱，从而能够降低由用于TFT的光辐射造成的损坏。在可只用滤色片获得充分削弱的情况下，不必采用用于防止TFT受到光辐射的掩膜，由此进一步提高了生产效率。

其次，将参照图2描述根据本发明生产方法的实施例的液晶显示屏板。

图2是用于描述从其获得六个滤色片基板的CF母基板20的密封绘制过程的示意图。如下面所述，根据本发明的生产方法的实施例的液晶显示屏板的一个优点是：通过利用多个连接部分，利用其自身具有相对窄的可移动范围的分配器，可获得大尺寸的液晶显示屏板。另一个优点是，通过在液晶显示屏板内设置两个或更多个连接部分，相对于密封图案的绘制顺序获得增加的自由度，并且/或可通过采用多个分配器同时绘制密封图案，由此能够降低密封绘制过程的生产间歇时间。

对于从CF母基板20获得的六个滤色片基板20(A1至A3和B1至B3)中的一个(例如，图2中的A1)，涂敷密封剂可以例如从点S1开始。因此，点S1用作密封图案的开始点。点S1在滤色片20的凹部22a的附近选择(注意图2仅仅示意地描述了凹部22a)。在密封绘制从点S1开始之后，密封剂沿滤色片基板20的光屏蔽层22的外周(沿图2中的实线)涂敷，并且密封剂涂敷在另一凹部22a的附近(点S2)结束。点S2用作密封图案的结束点。

然后，相对于滤色片基板A1，密封剂涂敷从开始点S1再次开始，并且沿图2中的虚线，进行密封绘制，直到达到结束点S2。因此，能够形成围绕显示区域的密封部分。

由此，通过采用其中设置多个连接部分的结构，不需在单个绘制中围绕从开始点S1到结束点S1的整个范围。因此，即使分配器喷嘴(和/或母基板)仅仅能够在相对较窄的可移动范围移动也能够进行密封绘制。在可获得充分的可移动范围的情况下，当然可从例如开始点S1开始密封绘制，沿滤色片基板20的光屏蔽层22的外周涂敷密封剂，越过点S2，然后返回到开始点S1，由此在点S1形成连接部分。在这种情况下，仅仅一个连接部分在开始点S1形成。

此外，根据本发明实施例的生产方法，不必在移动到另一个滤色片基板之前在六个滤色片基板(A1至A3和B1至B3)中的一个上完成整个密封部分32。例如，对应于实线的密封图案可以在滤色片基板A1至A3的每一个上同时绘制，并且此后和与此同时，对应于实线的密封图案可以在滤色片基板B1至B3的每一个上同时绘制。之后，对应于虚线的密封图案可以在滤色片基板A1至A3的每一个上同时绘制，并且此后或与此同时，对应于虚线的密封图案可以在滤色片基板B1至B3的每一个上同时绘制。

尽管该例子示出了凹部22a设置在具有矩形形状的基板的短边上，但是也可以将凹部设置在基板的长边上。此外，还可以将凹部设置在短边和长边上，从而形成三个或更多的连接处。凹部22a(即透光部分)的定位可以根据分配器的可移动范围，母基板的尺寸和面板在母基板中的定位调节。不限于凹部22a，可以采用如图1C或1D中所示的凹部22b或开口22c，或它们的任意混合。由此，关于凹部或开口的形状没有限制，只要密封剂能用光充分辐射。然而，如下所述，为了用设置在TFT基板上的光屏蔽层实现充分的光屏蔽，优选方式是，优化凹部或开口的形状和定位。

尽管上述例子示出了对CF母基板20进行密封绘制的情况，但是也可以在TFT母基板10的对应区域绘制密封图案。换句话说，可以绘制密封图案，从而当滤色片基板20和TFT基板10连接在一起时将形成密封部分32的位置满足相对于滤色片基板的光屏蔽层22中的透光部分22(凹部22a)的上述关系。

在该实施例的液晶显示屏板生产方法中，密封剂的连接部分形成在液晶显示屏板的内侧，并且由此与日本公开专利公布No.2002-122870中不同，在本发明中液晶显示屏板的外侧不存在密封部分。结果，当TFT母基板10和CF母基板20切割成对应于液晶显示屏板的块时防止切割失败。即使在信号线端子部分将设置在液晶显示屏板的三个或多个边上的情况下，也能防止诸如不能移去滤色片基板的片段的问题。

注意，诸如凹部22的透光部分优选不仅设置在连接部分而且也设置在角部，如图3A和3B中所示。通过在光屏蔽层22D的角部设置凹部22d，可以防止在角部已经变厚的密封剂32a′与光屏蔽层22D交叠，从而使密封剂充分固化。

尽管连接部分可形成在这种角部，但是从方便检查连接部分的观点，优选方式是，沿基板的边(不包括角部)形成任何连接部分。沿边形成的连接部分能够通过利用光技术检测密封部分的宽度而对合格程度进行测试。换句话说，如果连接部分沿边形成能够容易地检测诸如连接部分的不完整(即破裂)或过薄宽度的失效。

接下来，将参照图4至13更详细地描述根据本发明实施例的液晶显示屏板的结构。

图4是描述典型液晶显示屏板的平面图。液晶显示屏板包括：TFT基板10′；滤色片基板20；以及用于在TFT基板10′和滤色片基板20之间实现粘接的密封部分32。TFT基板10′具有两个长边LE1和LE2，以及两个短边SE1和SE2。在所示的例子中，长边LE1和短边SE1在滤色片基板20的外侧延伸；源极总线端子部分SB1设置在长边LE1上；而栅极总线端子部分GB1设置在短边SE1上。因此，在这些信号总线端子部分SB1和GB1，密封部分32和滤色片基板20的光屏蔽部分(未示出)与信号总线交叠。从而，在TFT基板需要具有对应于设置在滤色片基板20的光屏蔽层中的透光部分(例如，凹部)的光屏蔽层的情况下，这种光屏蔽层的优选结构将依线(例如，源极总线或栅极总线)的位置而变化。

图4示出了信号线端子部分设置在基板的两个边上的例子。作为选择，本发明也可用于信号线端子部分设置在三个边上的结构(例如，栅极总线端子部分设置在两个短边上)，或信号线端子部分设置在四个边上的结构(即栅极总线端子部分设置在两个边上而源极总线端子部分设置在其它两个边上)。

首先，将参照图5A、5B、5C、6A、6B、6C、7A、7B和7C描述沿其上未设置信号线端子部分的边(SE2或LE2)设置透光部分的情况下的光屏蔽层的示例性结构。图5A至5C是描述在沿其上未设置信号线端子部分的边设置透光部分的情况下的光屏蔽层的示例性结构的示意图。图5A是平面图；图5B是沿图5A中的线5B-5B′的剖视图；以及图5C是沿图5A中的线5C-5C′的剖视图。图6A至6C是描述另一示例性结构的示意图。图6A是平面图；图6B是沿图6A中的线6B-6B′的剖视图；以及图6C是沿图6A中的线6C-6C′的剖视图。图7A至7C是描述又一示例性结构的示意图。图7A是平面图；图7B是沿图7A中的线7B-7B′的剖视图；以及图7C是沿图7A中的线7C-7C′的剖视图。

图5A至5C描述了在将形成密封连接部分32b的位置设置凹部22a的情况。图6A至6C描述了在这种位置设置多个凹部22b的情况。图7A至7C描述了在这种位置设置多个凹部22b′和多个开口22c′的情况。在任一种情况下，在对应于滤色片基板的光屏蔽层22中的透光部分(22a、22b、22b′、22c′)的TFT基板10的区域内不存在栅极总线端子部分或源极总线端子部分。因此，光屏蔽层12a可以设置在任何需要的区域。TFT基板10包括玻璃基板11，形成在玻璃基板11上的栅极总线(未示出)，覆盖栅极总线的栅极绝缘薄膜13，形成在栅极绝缘薄膜上的源极总线(未示出)，以及覆盖源极总线的绝缘保护薄膜15。当使构成栅极总线的导电层形成图案时，该图案形成可以以剩下光屏蔽层12a完整的方式进行，从而使光屏蔽层12a通过形成栅极总线的同一过程形成。通过采用这种构造，可以在TFT基板10上形成光屏蔽层12a，而不增加生产步骤的数量。

在短边SE2上，存储电容线的主线用于为存储电容供给预定信号，所述存储电容为各个像素设置，备用线用于修正已断的任何信号线的电连接。这种主线或备用线相对厚，由此能够用作光屏蔽层。通常，存储电容线的主线和备用线由构成栅极总线的相同导电层构成，并且由形成栅极总线的同一过程形成。因此，由于在液晶显示屏板的短边存在用于形成光屏蔽层的高的设计自由度，因此优选方式是在短边上形成任何密封连接部分。

具体而言，通过下面的过程能够制造TFT基板。

在玻璃基板11上，通过利用溅射装置产生Ti/Al/TiN堆叠薄膜。通过诸如光刻工艺和干蚀刻的蚀刻工艺，形成栅极总线和栅极电极，并且光屏蔽层12a也同时形成。例如，在存储电容线将与栅极总线等一起同时形成的情况下，存储电容线的主线可以设置在短边SE2，由此使得可以利用存储电容线的主线作为光屏蔽层12a。

其次，在这些层上，通过等离子CVD技术生成氮化硅(SiNx)等栅极绝缘薄膜13。之后，形成诸如TFT的有源元件。此外，通过利用溅射装置生成Ti/Al/TiN堆叠薄膜，并且通过诸如光刻工艺和干蚀刻的蚀刻工艺，形成源极总线和漏电极。

然后，通过旋涂技术等形成诸如透明树脂的绝缘保护薄膜15。在绝缘保护薄膜15中，制造用于在其上将形成的像素电极与漏电极之间建立接触的接触孔，并且制造用于形成存储电容的通孔。在绝缘保护薄膜15上，通过溅射生成透明电极(例如，ITO)，并且通过光刻工艺和蚀刻工艺形成像素电极。

例如，滤色片基板可以如下制造。

通过干式薄膜技术、旋涂技术、喷墨技术等，光屏蔽层形成在对应于RGB(红、绿、蓝)的滤色片的玻璃基板21的区域以及其它必要的区域内，RGB(红、绿、蓝)的滤色片与TFT基板的像素对应。由于光屏蔽层通过利用黑色可光致固化树脂形成，因此透光部分(凹部和/或开口)能够在形成图案期间通过相同的工艺形成。

其次，将参照图8A、8B、8C、8D、9A、9B、9C、9D、10A、10B、10C描述在沿短边SE1在对应于栅极总线端子部分GB1的区域中设置透光部分的情况下的光屏蔽层的示例性结构。图8A至8C是描述在沿短边SE1在对应于栅极总线端子部分GB1的区域中将设置透光部分的情况下的光屏蔽层的示例性结构的示意图。图8A是平面图；图8B是沿图8A中的线8B-8B′的剖视图；图8C是沿图8A中的线8C-8C′的剖视图；以及图8D是沿图8A中的线8D-8D′的剖视图。图9A至9C是描述另一示例性结构的示意图。图9A是平面图；图9B是沿图9A中的线9B-9B′的剖视图；图9C是沿图9A中的线9C-9C′的剖视图；以及图9D是沿图9A中的线9D-9D′的剖视图。图10A至10C是描述又一示例性结构的示意图。图10A是平面图；图10B是沿图10A中的线10B-10B′的剖视图；图10C是沿图10A中的线10C-10C′的剖视图。

栅极总线12b形成在TFT基板10的玻璃基板上。栅极总线12b用作光屏蔽层。然而，在形成如图8A所示的凹部22a的情况下，光将在栅极总线12b之间穿过。因此，如图8D所示，与源极总线在同一层高度中的导电层14a用于形成用于确保在栅极总线12b之间的空隙中光屏蔽的光屏蔽部分14a。可以以与栅极总线12b交叠的单个光屏蔽层的形式构造光屏蔽部分14a和任何其间的空隙。然而，在这种光屏蔽层通过栅极绝缘薄膜13与栅极总线交叠的情况下，可能由于异物等出现绝缘不充分的问题，在一些情况下，在栅极总线之间可能发生短路。因此，从产量的观点，优选方式是，形成对应于栅极总线12b之间的空隙的离散光屏蔽部分14a，因此在产生的光屏蔽层和栅极总线12b之间没有交叠。

如图9A中所示，多个凹部22b可以设置为与栅极总线12b相对。在这种情况下，单独用栅极总线12b能够实现充分的光屏蔽，由此提供简化的结构的优点。

如图10A中所示，可以设置多个凹部22b′和多个开口22c′并且开口22c′与栅极总线12b相对，并且光屏蔽层14a可以设置为与凹部22b′对应。结果，穿过透光部分的光能够被屏蔽。

其次，将参照图11A、11B、11C、11D、12A、12B、12C、12D、13A、13B、13C描述在沿长边LE1在对应于源极总线端子部分SB1的区域中将设置透光部分的情况下的光屏蔽层的示例性结构。

图11A至11C是描述在沿长边LE1在对应于源极总线端子部分SB1的区域中将设置透光部分的情况下的光屏蔽层的示例性结构的示意图。图11A是平面图；图11B是沿图11A中的线11B-11B′的剖视图；图11C是沿图11A中的线11C-11C′的剖视图；以及图11D是沿图11A中的线11D-11D′的剖视图。图12A至12C是描述另一示例性结构的示意图。图12A是平面图；图12B是沿图12A中的线12B-12B′的剖视图；图12C是沿图12A中的线12C-12C′的剖视图；以及图12D是沿图12A中的线12D-12D′的剖视图。图13A至13C是描述又一示例性结构的示意图。图13A是平面图；图13B是沿图13A中的线13B-13B′的剖视图；图13C是沿图13A中的线13C-13C′的剖视图。

源极总线14b形成在TFT基板10的玻璃基板11上。源极总线14b用作光屏蔽层。然而，在如图11A所示形成凹部22a的情况下，光将穿过源极总线14b之间。因此，如图11D所示，与栅极总线12b在同一层高度中的导电层12a用于形成用于确保在源极总线14b之间的空隙中光屏蔽的多个光屏蔽部分12a。可以以与源极总线14b交叠的单个光屏蔽层的形式构造光屏蔽部分12a和任何其间的空隙。然而，由于上述原因，从产量的观点，优选方式是，形成对应于源极总线14b之间的空隙的离散光屏蔽部分12a。尽管图11D示出了光屏蔽部分12a在栅极绝缘薄膜13之下形成，而源极总线14b形成在栅极绝缘薄膜上的例子，但是这不是惟一的可能结构。例如，依TFT的形成过程，可以具有下述情况，有源区域(显示区域)内的源极总线在连接到在框架区域中的源端子部分之前连接到栅极金属(即构成栅极总线的导电材料)，由此通过栅极金属实现源极端子部分中的线。在这种情况下，尽管线14b和光屏蔽部分12a之间相对于栅极绝缘薄膜13的堆叠关系(即哪一个线在另一个之上)将与图11D中所示的情况相反，但将仍然能够获得上述效果。任何其它实施方式也是这样。

如图12A所示，多个凹部22b可以设置为与源极总线14b相对。在这种情况下，只用源极总线14b就能够实现充分的光屏蔽，因此提供简化的结构的优点。

如图13A中所示，可以设置多个凹部22b′和多个开口22c′并且开口22c′与源极总线14b相对，而光屏蔽层12a可以设置为与凹部22b′对应。结果，穿过透光部分的光能够被屏蔽。

在利用根据本发明生产方法的液晶显示屏板生产17＂SXGA型液晶显示屏板的情况下，例如，下面的结构可以是优选的。

图14是描述在17＂SXGA型液晶显示屏板中密封部分32和包括凹部22a的光屏蔽层22的示意图。

如图14中所示，在该例子中采用了具有如图1中所示的凹部22a的结构。该液晶显示屏板与图4中所示的液晶显示屏板具有相同的结构，凹部22a设置在短边SE2上。设置在TFT基板上的存储电容的主线被用于凹部22a内的光屏蔽。

在光屏蔽层22A的周边和切割线之间的间隙Ws是2.3mm。凹部22a的深度D是0.3mm，长度W是10.0mm。光屏蔽层22A的宽度(在除了凹部22a意外的区域内)是大约3mm。下面描述采用这种尺寸的原因。

曾发现，当在使用的特定分配器上设定1.2mm的密封宽度(即主伸展32a的宽度)时，将产生±0.3mm的变化。分配器的喷嘴的定位精度是±0.15mm。基于母基板的切割精度确定大约±0.2mm的边缘部分。因此，基于1.2mm+0.3mm+(0.15mm×2)+0.2mm，从光屏蔽层22A的周边到切割线的间隙Ws必须是2mm或更大。在该特定的例子中，Ws设定为2.3mm。

密封连接部分32b的宽度具有大约2.1mm的最大值。其中加上了喷嘴的定位精度0.15mm×2，并且此外考虑到切割边缘部分0.2mm，从光屏蔽层22A的周边到在凹部22a的切割线的间隙设定为2.6mm。换句话说，凹部22a的“深度”设定为0.3mm。

此外，由于任何角部会比主伸展32厚0.1mm至0.15mm，光屏蔽层在每一个角部凹入0.15的“深度”，而密封图案被绘制为在光屏蔽层的周边和切割线之间的最小间隙等于2.45mm(见图3A)。

在液晶显示屏板的构造中，如参照图2已经所述，对CF母基板20执行密封绘制。然后，通过已知的方法，液晶材料通过滴下式注入技术滴落到CF母基板20上。在TFT母基板10在预定的位置连接到其上之后，从滤色片基板侧执行UV辐射，以固化密封剂。在以几J/cm²执行UV辐射之后还通过在120℃执行热固一小时补充密封剂的固化。

产生的液晶显示屏板在切割期间没有出现切割失效，并且没有观察到稳定性的退化，例如由于密封剂的固化失效或方位偏转引起的电压保持率的降低。此外，没有观察到由于通过凹部光泄露引起的显示质量降低。

通过采用涉及将液晶材料滴落到CF母基板20上，连接TFT母基板10和从下面(即从CF母基板20侧)进行光辐射的过程，可以执行从密封绘制到光辐射的所有步骤，同时保持CF母基板20在显示屏板的下侧(而承载滤色片的表面朝上)，由此使得可以使用简单的装置和过程。

对于图1C和1D中所示的图案，当用于固化密封剂的光辐射仅仅从基板的一个的侧面执行时，依透光部分的面积比可能延长实现充分固化所需要的辐射时间(偶尔三倍或更高)。

另一方面，上述结构的特点是设置在CF基板的光屏蔽层中的多个凹部或开口，其中源极总线和/或栅极总线等用作选择性地屏蔽穿过凹部或开口的光的TFT基板的光屏蔽层，由此可以也从TFT基板侧进行密封剂的光辐射，因为光被允许穿过源极总线和/或栅极总线之间的间隙。因此通过确保TFT基板侧的光屏蔽层包括对应于在CF基板的光屏蔽层中的凹部或开口之间或围绕凹部或开口的周边的透光部分，可以从两个基板的侧面进行密封剂的光辐射。结果，能够降低用于密封剂固化所需要的辐射时间。

作为用于从显示屏板的两侧执行光辐射的方法，光源可以简单地分别设置在显示屏板之上和之下。作为选择，用于翻转显示屏板的机构可以设置用于所使用的装置；在这种情况下，光辐射时间将是在从显示屏板的两侧进行辐射的情况所需要最小辐射时间的大约两倍，但将仍然比仅仅从显示屏板的一侧进行辐射的情况所需要辐射时间短。一些密封材料能够从每一个开口的边缘朝向光屏蔽部分在大约几十微米的距离上光固化，由此优选方式是利用这种材料。

凹部或开口的图案不限于带，而可以是如图1D中所示的网孔图案。尽管图1D描述了由圆形开口组成的网孔阵列，但是开口的形状不限于圆形，而可以是例如矩形。图案的一部分可以形成圆角或包括弯曲。特别是，在光屏蔽由在TFT基板上的信号线实现的情况下，可能信号线的形状受到涉及的约束。由此，优选方式是采用开口图案作为线图案。

作为用于封密固化的光辐射装置，具有采用反射镜等以使不仅在显示屏板的正常方向而且在倾斜方向也能够进行光辐射的已知装置。通过采用这种能够也从倾斜方向进行光辐射的装置，即使在CF基板的光屏蔽层和TFT基板的光屏蔽层之间具有稍稍的交叠也可以获得密封剂的充分固化。例如，以及得到实验证实，即使具有大约与在基板之间的间隙一样大的交叠，产生的液晶显示屏板在与没有交叠的情况下相同的辐射条件(辐射强度和辐射时间)下被辐射后也不展现稳定性的显著差异。

其次，将描述过渡部分(即在一个基板上的电极的电位转移到包括用于提供到外部的连接的端子的另一个基板上的电极的部分)可能出现的问题。下面将针对共用的转移部分描述示例问题，该共用转移部分是构成用于将CF基板上的反电极(也称为“共用电极”)连接到TFT基板上的端子的路径的类型的转移部分。

图15A和15B示意示出了通常采用的TFT液晶显示屏板布置。图15B示出了TFT液晶显示屏板的单个像素的等效电路。

如图15B中所示，通过用栅极总线63驱动TFT64，而源极总线62连接到TFT64，预定的信号电压施加到像素电极65。像素电极65与共用电极66相对，而液晶层40置于其间，由此构成液晶电容(电容器)。当信号电压通过TFT64横跨液晶层40施加时，改变液晶层40的光学特性，由此显示屏板用作显示器装置。

形成在朝向液晶层40的CF基板20的表面上的共用电极66具有其通过共用转移部分60转移到TFT基板10′侧的电位，由此连接到共用电极端子66a。如图15A中所示，源极总线62a和栅极总线端子63a设置在TFT基板10′的非显示区域中。通常，共用电极端子66a和源极总线62a将设置在显示屏板的相同边(即四个边中的一个边)。

作为构成共用转移部分的转移材料，使用包含可光致固化树脂和导电颗粒的转移材料。例如，导电颗粒可以是粒度为大约4至10微米的金属颗粒或其上具有金属涂层的颗粒状珠子。作为将包含在转移材料中的可光致固化树脂，使用类似于密封剂中使用的树脂的可光致固化树脂。

在利用包含可光致固化树脂的转移材料形成共用转移部分的情况下，框架区域需要足够宽，以提供用于允许共用转移部分用光辐射的透光区域。由此，每一个共用转移部分可以制造为至少部分与密封部分交叠。然而，即使每一个共用转移部分将形成在密封部分内，密封部分的宽度也在密封部分包含共用转移部分处变得更厚，再一次导致较大框架区域的问题。

下面将参照图16A至16D描述该问题。在上文描述中出现的任何构成元件将由相同的标号表示，并且这里将省略其描述。

共用转移部分60设置在密封部分32的附近，以将CF基板(未示出)上的反电极(未示出)电连接到TFT基板上的共用垫60a。如图16D中所示，如果共用转移部分60设置在远离密封部分32的位置，非显示区域(框架区域)必须具有较宽的宽度。因此，如图16A至16C中所示，普通的实践是允许共用转移部分60至少部分与密封部分32交叠。然而，在图16A至16C中所示的任何一种情况下，密封剂将由共用转移部分60推出，由此导致密封图案的宽度加宽的部分32c(也可称作“共用转移密封部分”)。因此，存在下述问题，即类似于上述连接部分32b，共用转移密封部分32c的宽度比主伸展32a(例如，见图1)的宽度更宽。

因此，根据该实施例，透光部分(凹部或开口)设置在基板的光屏蔽部分中，从该基板将执行用于固化共用转移密封部分32c的光辐射。

图17A和17B是描述根据本发明实施例的液晶显示屏板中的共用转移部分的结构的示意图。图17A是平面图；而图17B是图17A中沿线17B-17B′的剖视图。

滤色片基板20包括在更接近显示区域的端部设置在非显示区域内的第一光屏蔽层22A。第一光屏蔽层22A包括接近外部边界设置的凹部(透光部分)22a。允许密封部分32的宽度在光屏蔽层22A的凹部22a变得更宽。假定光屏蔽层22A的凹部22a具有充分的宽度和长度，如果共用转移密封部分32c形成在凹部22a内，即使当共用转移密封部分32c具有增加的宽度，共用转移密封部分32c也将不与光屏蔽层22A交叠。因此，如图17B中所示，即使UV辐射从滤色片基板20的后面侧进行也能充分固化密封剂。只要密封剂受到充分的光辐射，透光部分不限于凹部22a。例如，如在图1C中所示的光屏蔽层22B中，可以提供包含多个微小凹部22b的带。作为选择，如在图1D中所示的光屏蔽层22C中，可以设置多个微小开口(孔)22c，或如在上述实施例中，可采用任何其它形状。

其次，将描述其中密封部分的宽度的加宽本身受到抑制的实施例。在下述实施例中，宽间隙区域，即其中CF基板和TFT基板之间的间隙局部增加的区域，设置在液晶显示屏板的非显示区域内。密封图案的宽度预期增加的任何部分形成在该宽间隙区域内，由此抑制了密封图案的加宽。宽间隙区域通过在朝向液晶层的CF基板或TFT基板的表面上形成凹陷而产生。当转移材料或密封剂涂覆到这种凹陷时，密封剂在显示区域的扩散被抑制，因为凹陷构成了宽间隙区域。

具有各种用于在基板表面上形成凹陷的方法。例如，在树脂薄膜将形成在TFT基板上的情况下，可以在树脂薄膜中在预定的位置形成凹陷或通孔。例如，这种树脂薄膜可以用于形成将设置在形成在TFT基板上的TFT或信号线和像素电极之间的间层绝缘薄膜。作为选择，也可以利用各种将形成在滤色片基板上的树脂层(例如，彩色树脂层)。

下面将描述通过利用作为层间绝缘薄膜形成在TFT基板上的树脂层产生宽间隙区域的例子。尽管上述共用转移密封部分32c将描述为密封部分加宽的可能地点，但是将理解，同一原理可广泛应用于密封图案的宽度被期望增加处的密封部分的任何部分，例如连接部分或角部。此外，宽间隙区域可以与任何其中如上述实施例中所示光屏蔽层包括透光部分的结构结合使用。

图18A、18B、18C和18D是每一个都描述根据本发明实施例的液晶显示屏板中的共用转移密封部分的结构的示意图。图18A、18C和18D是平面图；而图18B沿图18A中的18B-18B′的剖视图。

如图18A中所示，树脂层61设置在密封部分32上，而通孔61a形成在与共用转移部分60对应的树脂层61的部分处。通孔61a限定了宽间隙区域。尽管描述了通孔61a的尺寸类似于共用垫60a的例子，但是本实施例不限于此。

以密封部分32在间隙等于由液晶显示屏板的设计确定的间隙值(即液晶层的厚度)的任何部分呈预定线宽的方式，涂敷密封剂，从而形成密封部分。由于通孔61a，形成共用转移密封部分32c的区域中的间隙增加的距离等于树脂层61的薄膜厚度。由于以线状正被涂敷的密封剂具有恒定的截面面积，因此密封宽度在树脂层61中的通孔61a处将变得相对较小；例如，如果不是由于共用转移部分60，密封的线宽将如图18C所示在凹陷(通孔61a)降低。当涂敷共用转移物质时，密封剂由于共用转移物质的体积支配而扩散，由于产生图18A中所示的结构。

例如，共用转移密封部分32c在以下面的条件进行的实验例子中最大宽度是1100微米：树脂层的薄膜厚度是2.5微米；密封部分32的宽度是大约1000微米；密封部分在存在树脂层处的间隙是5.5微米；树脂层中的通孔61a的宽度是1200微米；以及共用转移部分60的目标直径(在不存在密封的理论情况下)是500微米。

优选方式是，本实施例的树脂层60中的通孔61a的宽度大于共用转移部分60的直径或主密封部分(主伸展)的宽度的最大值。在树脂层中不制造通孔的类似的实验中，共用转移密封部分呈大约1400微米的最大宽度。由此，根据本发明的实施例，包括共用转移部分60的共用转移密封部分32c的宽度与传统的情况相比降低了300微米。光屏蔽层的凹部22a的宽度的300微米的降低表明与上述实施例相比可制造进一步变窄的框架区域。

此外，在共用转移部分60的目标直径(不存在密封部分的理论情况下)设定为400微米的情况下，共用转移密封部分32c具有大约1000微米的最大线宽。在这种情况下，由于最大线宽等于主密封部分32的宽度(1000微米)，因此如图18D中的示例可省略光屏蔽层22A中的凹部22a。

树脂层61中的通孔61a不必如此宽以包围密封部分的整个宽度。这点将参照图19A、19B、19C和19D进行描述。

图19A、19B、19C和19D是每一个都描述根据本发明另一实施例的液晶显示屏板中的共用转移密封部分的结构的示意图。图19A、19C和19D是平面图；而图19B沿图19A中的19B-19B′的剖视图。

例如，即使在树脂层61中的通孔61a如图19A所示仅仅延伸密封的一部分的宽度也能获得充分的效果。这种结构在共用转移部分的最终直径小于密封部分的宽度的情况下特别有效。原因是在这种情况下，可以忽略由于共用转移部分60朝向树脂层61缺少通孔的一侧(或凹陷)61a(即从图19中的显示区域朝向相对侧)推出密封剂引起的任何宽度增加。

在用于另一目形成的树脂层方便地用作上述树脂层并且必须具有较大薄膜厚度的情况下，增加通孔61a可致使密封部分的宽度太薄。然而，如图19A中所示的结构能够消除这种问题并且获得充分的密封宽度。注意，过薄的密封宽度可导致与密封部分强度不充分的问题。

图20是描述树脂层61的厚度(通孔61a的深度)和降低密封部分32的宽度的效果之间的关系的曲线。

从图20中可以看出，当树脂薄膜厚度较大(即宽间隙区域的间隙较宽)并且主密封宽度较大时获得更好的效果。在简单的模拟中，线宽降低效果可通过下面的等式表示：

{(主密封宽度×主密封部分的间隙)/(主密封部分的间隙+树脂中的凹陷的深度)}+共用转移直径-(共用转移直径+主密封线宽度)。

用在上述等式中的“共用转移直径”是共用转移物质没有与密封接触的情况下的共用转移物质的最终直径。尽管上述模拟等式不考虑共用转移物质的形状并且由此将不精确匹配实际结果，但是将获得实质上类似的效果。

为了实际获得上述效果，优选方式是，在宽间隙区域中的间隙应当大于密封部分的间隙(即除了宽间隙区域以外的密封部分的任何区域的间隙)至少大约10％，因为在生产期间发生的线宽的变化必须在一定程度上被吸收。尽管上述例子示出了通孔61a设置在树脂层61中的例子，可以代替通孔设置凹陷(孔)。例如，凹陷可以利用光敏树脂(感光性树脂)通过半曝光技术形成。当凹陷将利用正型光敏树脂通过半曝光技术形成时，在达到实现全部光分解的辐射之前进行曝光和显影，从而形成凹陷(孔)。另一方面，在利用负型光敏树脂的情况下，在达到实现完全光固化的辐射时间之前进行曝光和显影，以形成凹陷(孔)。通过半曝光技术形成凹陷提供了凹陷深度可控制的优点。注意，在设置在光敏树脂层之上和之下的导电层之间的泄漏不能容许的情况下通孔不许在光敏树脂层中形成；在这种情况下，与完全的通孔相反，形成孔(凹陷)适合。

其中形成通孔或凹陷(孔)的层不限于间层绝缘薄膜，而也可以是用于形成黑色阵列的树脂层或保护树脂层。如果使用光敏树脂层，通孔或凹陷可通过简单的工艺形成。作为选择，可以使用无机材料层，尽管这将使形成深通孔或凹陷困难。当考虑到诸如密封宽度变得太薄的缺点时，通常优选方式是，形成在表面中的任何凹陷的深度在大约1微米至大约3微米的范围内。

优选方式是，规定树脂层中通孔或凹陷的尺寸(即宽间隙区域的尺寸)小于共用转移区域的最终宽度的最大值。在图19A至19D中所示的实施例中，密封部分的宽度的减薄能够也基于通孔61a的图案和布置控制，从而可从较宽的范围选择最优结构。例如，在通孔61a的边缘位于沿宽度方向的密封部分32的中心的外部300微米的位置的情况下，在与上述情况相同的情况下证实了类似的效果。优选方式是，通孔61a的边缘位于某一位置，以便即使给定处理变化密封部分具有最小线宽的情况下，密封部分的外部边缘也落入通孔61a中。

根据本发明，提供了一种方法，即使部分形成在液晶显示屏板内该方法也能有效地生产具有不降低可靠性的液晶显示屏板，所述部分在传统的生产方法下将导致厚密封图案宽度(例如，密封连接部分或转移部分)。特别是本发明可以通过使用滴下式注入技术有效地生产大尺寸液晶显示屏板。

尽管针对优选实施例描述了本发明，但是对于本领域所述技术人员而言很明显，所披露的发明可以以多种方式进行修改并且可以呈现许多实施方式，而不是上面具体描述的实施方式。因此，权利要求旨在覆盖落入本发明的真实精神和范围内的所有对本发明的修改。

Claims (5)

1.一种液晶显示屏板，包括第一基板、第二基板，置于第一基板和第二基板之间的液晶层，围绕液晶层的密封部分，以及用于在第一基板和第二基板之间建立电连接的共用转移部分，所述液晶显示屏板具有显示区域和围绕显示区域的非显示区域，其中，

第一基板包括在更接近显示区域的端部设置在非显示区域内的第一光屏蔽层，第一光屏蔽层包括接近第一光屏蔽层的外部边界设置的至少一个透光部分，所述至少一个透光部分包括凹部或开口；

共用转移部分的至少一部分设置在所述至少一个透光部分中，

其中共用转移部分与密封部分交叠，并且密封部分的由共用转移部分推出导致的加宽部分不与光屏蔽层交叠。

2.根据权利要求1所述的液晶显示屏板，其中第一基板包括在显示区域内的滤色片。

3.根据权利要求1所述的液晶显示屏板，其中第二基板包括在非显示区域内的至少一个第二光屏蔽层，所述至少一个第二光屏蔽层设置在对应于所述第一基板的至少一个透光部分的区域中。

4.根据权利要求3所述的液晶显示屏板，其中，

第二基板包括源极总线和栅极总线；以及

所述至少一个第二光屏蔽层包括与源极总线或栅极总线的导电层相同的导电层。

5.根据权利要求3所述的液晶显示屏板，其中，

所述至少一个透光部分包括狭缝状凹部或开口；以及

所述至少一个第二光屏蔽层包括多个光屏蔽部分，所述多个光屏蔽部分设置为与狭缝状凹部或开口相对。

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