CN101423736A

CN101423736A - 粘合型光学薄膜、其制造方法以及图像显示装置

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Publication number: CN101423736A
Application number: CNA2008101499721A
Authority: CN
Inventors: 外山雄祐; 井上真一; 长田润枝; 细川敏嗣
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2007-11-02
Filing date: 2008-10-24
Publication date: 2009-05-06
Anticipated expiration: 2028-10-24
Also published as: JP5871297B2; KR20120022688A; KR20090045874A; KR101247873B1; EP2055755A1; KR101132584B1; CN101423736B; US8980436B2; US20090116111A1; TW200927865A; TWI441885B; JP2009132876A

Abstract

本发明提供一种粘合型光学薄膜、其制造方法及图像显示装置。本发明的粘合型光学薄膜再加工性出色且耐久性高、进而可加工性良好。该粘合型光学薄膜是在光学薄膜的至少一侧层叠有粘合剂层的粘合型光学薄膜，其特征在于，所述粘合剂层是由含有(甲基)丙烯酸系聚合物而成的丙烯酸系粘合剂形成的，且该丙烯酸系粘合剂中的(甲基)丙烯酸系聚合物因电子射线照射而发生了交联；所述的(甲基)丙烯酸系聚合物中，作为单体单元含有(甲基)丙烯酸烷基酯30～99.99重量％以及含官能团单体0.01～15重量％。

Description

粘合型光学薄膜、其制造方法以及图像显示装置

技术领域

本发明涉及粘合型光学薄膜及其制造方法。进而，本发明涉及使用了上述粘合型光学薄膜的液晶显示装置、有机EL显示装置等图像显示装置。作为上述光学薄膜，可以使用偏振板、相位差板、光学补偿薄膜、亮度改善薄膜，进而还可以使用层叠了它们的构件。

背景技术

就液晶显示器等而言，从其图像形成方式来看，在液晶单元的两侧配置偏振元件是必要且不可或缺的，通常是贴附有偏振板。另外，液晶面板上除了使用偏振板之外，为了提高显示器的显示质量，还可以使用各种光学元件。例如，可以使用用于防止着色的相位差板、用于改善液晶显示器的视角的视角放大薄膜，进而还可以使用用于提高显示器的对比度的亮度改善薄膜等。将这些薄膜总称为光学薄膜。

在将上述光学薄膜贴附于液晶单元上时，通常使用粘合剂。另外，就光学薄膜和液晶单元、或者光学薄膜之间的粘接而言，通常为了降低光的损耗，各自的材料使用粘合剂密接。在这样的情况下，具有在使光绪薄膜紧固时不需要干燥工序等优点，所以通常使用粘合剂作为粘合剂层预先被设置在光学薄膜的单侧的粘合型光学薄膜。

用于上述粘合型光学薄膜的光学薄膜，在加热或加湿的条件下容易收缩、膨胀，所以在将上述粘合型光学薄膜贴合于液晶单元之后，容易出现浮起或剥脱。为此，对于上述粘合剂层，要求针对加热以及加湿等的耐久性。另外，对于上述粘合剂层，要求在光学薄膜上形成了粘合剂层之后，具有能在不产生粘合剂的污染或脱落等的情况下进行加工的可加工性。

对于上述耐久性，可以通过在粘合剂中添加交联剂形成已实施交联处理的粘合剂层来应对。作为交联剂，例如使用异氰酸酯系交联剂或环氧系交联剂，但当使用这些交联剂时，即便在涂敷干燥之后，交联也不会完了，随后，熟化(老化，ageing)时间成为必要。熟化时间通常需要1天至1周左右，另一方面，当不进行熟化就进行切断加工等时，出现在切断刀上附着有粘合剂、或在重叠已切断的薄膜时上下粘住等不良情况，制造工序中的合格率降低。进而，在熟化期间，产品的物流迟滞，即便在输送方面也不优选。另外，当进行加热处理以促进熟化时，容易出现光学薄膜的尺寸变化、光学特性的降低，所以不优选。

另外，作为上述粘合剂要求的必要特性，是在将光学薄膜贴合于液晶单元上时，即便在弄错贴合位置或异物啮入到贴合面这样的情况下，也可以从液晶面板剥离光学薄膜而对液晶单元进行再利用。在该剥离工序中，要求能够在没有残留浆糊的情况下容易地从液晶面板剥离光学薄膜的再剥离性(再加工性)。尤其是近年来，除了以往的面板作成工序之外，对使用了经过化学蚀刻处理的玻璃的薄型的液晶面板的使用增加了，从该薄型的液晶面板的光学薄膜的再加工性、可加工性变得困难。进而，在将粘合型光学薄膜贴合在液晶单元上之后，在对粘合剂层进行加热压接处理(例如高压锅)或数小时～数十小时的加热干燥处理的情况下，会出现下述的不良情况等，即在所述剥离工序中从液晶面板剥离光学薄膜时其剥离力过强而使液晶单元的间距发生变化，或者光学薄膜断裂而在液晶面板上有光学薄膜残留等不良情况，无法充分满足上述再剥离性(再加工性)。

以往，在形成粘合型光学薄膜的粘合剂层时，例如，使用丙烯酸系粘合剂。通过该丙烯酸系粘合剂形成的粘合剂层通常具有作为基础聚合物的(甲基)丙烯酸系聚合物被交联剂交联的结构。例如，作为上述丙烯酸系粘合剂，提出了在使二乙烯基苯和丙烯酸系单体发生共聚而成的(甲基)丙烯酸系聚合物中配合了固化剂的粘合剂(专利文献1)。公开了通过该丙烯酸系粘合剂，高温高湿条件下的凝集力和粘接力的经时变化少，特别是光学薄膜和剥离基材的粘接力出色，所谓不会发生粘合剂的剥离或发泡等不良情况的耐久性出色。另外，当在基材上涂敷了上述丙烯酸系粘合剂之后，通过照射电子射线，可以显示出特别出色的效果。但是，该粘合型光学薄膜尽管可以满足耐久性，但不能说可以满足再加工性。

除了上述之外，作为可以用于与玻璃贴合且在光学薄膜中使用的丙烯酸系粘合剂，提出有在丙烯酸系聚合物中添加有过氧化物的物质(专利文献2)。公开了通过该丙烯酸系粘合剂，通过使用基于过氧化物的热分解反应，耐久性高，即便在制造工序方面，也具有出色的可加工性(操作处理性)。但是，专利文献2中记载的丙烯酸系粘合剂无法充分满足再加工性。

专利文献1：特开平8—218048号公报

专利文献2：特开2006—183022号公报

发明内容

本发明的目的在于，提供一种再加工性出色且耐久性高、进而可加工性良好的粘合型光学薄膜及其制造方法。

另外，本发明的目的还在于，提供使用了上述粘合型光学薄膜的图像显示装置。

本发明人等对上述课题进行了潜心研究，结果发现了下述粘合型光学薄膜，以至于完成了本发明。

即，本发明涉及一种粘合型光学薄膜，其是在光学薄膜的至少一侧层叠有粘合剂层的粘合型光学薄膜，其特征在于，上述粘合剂层是由含有(甲基)丙烯酸系聚合物而成的丙烯酸系粘合剂形成的，且该丙烯酸系粘合剂中的(甲基)丙烯酸系聚合物因电子射线照射而发生了交联；所述的(甲基)丙烯酸系聚合物，是作为单体单元而含有(甲基)丙烯酸烷基酯50～99.99重量％以及含官能团单体0.01～15重量％而成的。

在上述粘合型光学薄膜中，含官能团单体优选是从含羧基单体、含羟基单体、含酰胺基单体、含氨基单体中选择的至少任意一种。

在上述粘合型光学薄膜中，上述粘合剂层优选在电子射线照射之后于23℃下放置1小时后的凝胶分率(E1)为50～95重量％。另外，上述粘合剂层优选在电子射线照射之后于23℃下放置1周之后，进而在90℃下干燥120小时后的凝胶分率(E2)为30～95重量％，且凝胶分率(E2)与23℃下放置1周之后的凝胶分率(E1’)的差(E1’—E2)为20重量％以下。

在上述粘合型光学薄膜中，上述粘合剂层优选在贴合于无碱玻璃上，23℃下放置1小时之后，在90度方向以300mm/min剥脱时的粘接力为1～10N/25mm。另外，上述粘合剂层优选在贴合于无碱玻璃上并在23℃下放置1小时，进而在60℃下干燥48小时之后，在90度方向以300mm/min剥脱时的粘接力为3～20N/25mm。

另外，本发明涉及一种粘合型光学薄膜的制造方法，其是在上述粘合型光学薄膜的粘合剂层上设置有剥离衬垫的带有剥离衬垫的粘合型光学薄膜的制造方法，该方法的特征在于，包括：

工序(1a)，其是将含有(甲基)丙烯酸系聚合物而成的丙烯酸系粘合剂涂布于剥离衬垫上，形成粘合剂层的工序，所述的(甲基)丙烯酸系聚合物，是作为单体单元而含有(甲基)丙烯酸烷基酯30～99.99重量％和含官能团单体0.01～5重量％而成的；

工序(2a)，其是从该粘合剂层侧向上述粘合剂层照射电子射线而使粘合剂层交联，在剥离衬垫上形成已被交联的粘合剂层的工序；和

工序(3a)，其是将形成在上述剥离衬垫上的已被交联的粘合剂层贴合在光学薄膜上。

另外，本发明还涉及一种粘合型光学薄膜的制造方法，其是在上述粘合型光学薄膜的粘合剂层上设置有剥离衬垫的带有剥离衬垫的粘合型光学薄膜的制造方法，该方法的特征在于，包括：

工序(1b)，其是将含有(甲基)丙烯酸系聚合物而成的丙烯酸系粘合剂涂布于剥离衬垫上，形成粘合剂层的工序，所述的(甲基)丙烯酸系聚合物，是作为单体单元而含有(甲基)丙烯酸烷基酯50～99.99重量％和含官能团单体0.01～5重量％而成的；

工序(2b)，其将形成在上述剥离衬垫上的粘合剂层贴合在光学薄膜上的工序；和

工序(3b)，其是从设置有剥离衬垫的一侧向上述粘合剂层照射电子射线，形成已被交联的粘合剂层的工序。

另外，本发明涉及使用了上述粘合型光学薄膜至少一片的图像显示装置。

就形成上述本发明的粘合型光学薄膜的丙烯酸系粘合剂而言，作为基础聚合物的(甲基)丙烯酸系聚合物含有含官能团单体作为单体单元，且在由该丙烯酸系粘合剂形成的粘合剂层中，上述(甲基)丙烯酸系聚合物因被照射了电子射线而发生交联。即，关于作为基础聚合物的(甲基)丙烯酸系聚合物，使用不会因多官能单体发生交联的物质，形成粘合剂层的(甲基)丙烯酸系聚合物主要具有因被照射电子射线而交联的结构。

通过采用该构成，得到例如从无碱玻璃(例如液晶单元)的再加工性出色、且耐久性高、进而可加工性良好的本发明的粘合型光学薄膜。由此，本发明的粘合型光学薄膜，维持耐久性，且即便在从液晶面板剥离光学薄膜的情况下，也可以容易地进行剥离而没有浆糊残留，能够在不使光学薄膜断裂的情况下从液晶面板剥离。其结果，即便是薄型的液晶面板，也没有破损，可以有效进行液晶面板的再利用。进而，可以抑制加工时粘合剂的脱落或污染。

如上所述，就本发明的粘合剂层而言，上述(甲基)丙烯酸系聚合物可以通过基于电子射线照射的交联而形成。基于电子射线照射的交联是通过形成自由基而导致的交联，所以在氧气气氛下，即便产生自由基，以非常快的速度发生与氧结合的副反应，所以容易抑制交联的发生。另外，当交联进行至某种程度时，即便较高地维持期待的凝胶分率，也会在(甲基)丙烯酸系聚合物中生成劣化种，所以在加热条件下，凝胶分率降低，耐久性出现不良情况。在形成本发明的粘合剂层时，在利用(甲基)丙烯酸系聚合物形成了粘合剂层之后，通过向该粘合剂层照射电子射线，在难以提供氧的状态下照射电子射线，尽可能地不受氧本身的影响，通过凝胶分率的降低，抑制耐久性出现不良情况。

另外，在本发明中，向(甲基)丙烯酸系聚合物导入含官能团单体作为共聚单体，使基于电子射线照射的交联部位(自由基发生点)容易集中于侧链。其中，就侧链的导入而言，考虑使(甲基)丙烯酸系聚合物与具有至少两个反应性双键的多官能单体进行共聚，但多官能单体难以控制制备(甲基)丙烯酸系聚合物时的聚合反应，另外也难以稳定地得到高分子量物质。

关于通过电子射线照射的氧化劣化的机制，由于生成的—O—O—键的离解能非常低，所以—O—O—键在低能量下也容易分解，使自由基浓度倍增，在该连锁过程中生成的RO自由基因β开裂而使聚合物分子量降低。为此，关于聚合物的因电子射线的交联，在聚合物中的主链的通过叔碳的交联为主体的情况下，将主链切断，所以聚合物中的破坏性劣化不断进展。如上所述，在本发明的(甲基)丙烯酸系聚合物中导入含官能团单体作为共聚单体，使交联部位(自由基发生点)集中于侧链，可以放置由主链切断引起的(甲基)丙烯酸系聚合物的破坏性劣化，使耐久性得以维持。就作为共聚单体而导入的含官能团单体而言，优选含氨基单体或含酰胺基单体等含氮单体，以少量聚合就可以获得上述效果。作为含氮单体，优选含氨基单体，特别优选具有叔氨基的单体。

具体实施方式

本发明的粘合型光学薄膜的粘合剂层，是由含有(甲基)丙烯酸系聚合物而成的丙烯酸系粘合剂形成的，所述的(甲基)丙烯酸系聚合物，是作为单体单元而含有(甲基)丙烯酸烷基酯30～99.99重量％和含官能团单体0.01～15重量％而成的。

作为(甲基)丙烯酸烷基酯，是(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基的碳原子数为2～18左右的化合物。烷基可以是直链、支链的任意。上述烷基的平均碳原子数优选为2～14，进一步优选平均碳原子数为3～12，进一步优选平均碳原子数为4～9。其中，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯，与本发明的(甲基)意思相同。

作为(甲基)丙烯酸烷基酯的具体例子，可以举出(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸2—乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸异肉豆蔻酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸正十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷醇酯、(甲基)丙烯酸异十八烷醇酯等。其中，可以例示(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2—乙基己酯等，它们可以单独或组合使用。

在本发明中，上述(甲基)丙烯酸烷基酯相对于(甲基)丙烯酸系聚合物的所有单体成分为30～99.99重量％。就(甲基)丙烯酸烷基酯的比例而言，在除了含官能团单体之外不含有任意单体的情况下，优选为85～99.99重量％，进一步优选为91～99.99重量％，进一步优选为95～99.95重量％，进一步优选为97～99.95重量％，进一步更优选为99～99.95重量％。另外，如果上述(甲基)丙烯酸系单体过少，变得缺乏粘接性，所以不优选。

另外，作为含官能团单体，可以使用具有各种官能团的单体，但例如优选使用从例如含羧基单体、含羟基单体、含酰胺基单体、含氨基单体中选择的任意至少一种。其中，含官能团单体是优先位于末端的官能团而进行分类的。

作为含羧基单体，可以没有特别限制地使用具有(甲基)丙烯酰基或具有乙烯基等不饱和双键的聚合性官能团且具有羧基的化合物。作为含羧基单体，例如可以举出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸等。其中，优选(甲基)丙烯酸，特别优选丙烯酸。

作为含羟基单体，可以没有特别限制地使用具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基等具有不饱和双键的聚合性官能团且具有羟基的化合物。作为含羟基单体，例如可以举出(甲基)丙烯酸2—羟乙酯、(甲基)丙烯酸2—羟丁酯、(甲基)丙烯酸3—羟丙酯、(甲基)丙烯酸4—羟丁酯、(甲基)丙烯酸6—羟己酯、(甲基)丙烯酸8—羟辛酯、(甲基)丙烯酸10—羟癸酯、(甲基)丙烯酸12—羟基月桂酯等(甲基)丙烯酸羟基烷基酯，羟乙基(甲基)丙烯酰胺、N—羟甲基(甲基)丙烯酰胺；另外还可以举出丙烯酸(4—羟基甲基环己基)甲酯、N—羟基(甲基)丙烯酰胺、烯丙醇、2—羟基乙基乙烯基醚、4—羟基丁基乙烯基醚、二乙二醇单乙烯基醚等。其中，优选(甲基)丙烯酸羟基烷基酯。

另外，作为含酰胺基单体，可以没有特别限制地使用具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基等具有不饱和双键的聚合性官能团且具有酰胺键的化合物。作为含酰胺基单体，例如可以举出(甲基)丙烯酰胺、N，N—二甲基(甲基)丙烯酰胺、N，N—二乙基(甲基)丙烯酰胺、N—异丙基(甲基)丙烯酰胺、N—甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N—丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N—乙烯基己内酰胺、N—丙烯酰基吗啉、N—丙烯酰基哌啶、N—甲基丙烯酰基哌啶、N—丙烯酰基吡咯烷等N—取代酰胺系单体，双丙酮(甲基)丙烯酰胺、N—乙烯基乙酰胺等。

另外，作为含氨基单体，可以没有特别限制地使用具有(甲基)丙烯酰基且具有氨基的化合物。作为含氨基单体，优选具有叔氨基单体。另外，作为叔氨基，优选叔氨基烷基。作为该含叔氨基单体，可以举出N，N—二烷基氨基烷基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸N，N—二烷基氨基烷基酯。作为含叔氨基单体的具体例子，例如可以举出N，N—二甲基氨基乙基(甲基)丙烯酰胺、N，N—二甲基氨基丙基(甲基)丙烯酰胺、N，N—二乙基氨基乙基(甲基)丙烯酰胺、N，N—二乙基氨基丙基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸N，N—二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N，N—二甲基氨基丙酯、(甲基)丙烯酸N，N—二乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N，N—二乙基氨基丙酯。另外，作为具有仲氨基的单体，可以举出(甲基)丙烯酸叔丁基氨基乙酯等。

作为上述以外的含官能团单体，例如可以举出N—环己基马来酰亚胺、N—苯基马来酰亚胺、N—甲基马来酰亚胺、N—乙基马来酰亚胺、N—丙基马来酰亚胺、N—异丙基马来酰亚胺、N—丁基马来酰亚胺、衣康酰亚胺等含酰亚胺基单体；马来酸酐、衣康酸酐等含酸酐基单体；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2—(甲基)丙烯酰胺—2—甲基丙烷磺酸、(甲基)丙烯酰胺丙烷磺酸、(甲基)丙烯酸磺基丙酯、(甲基)丙烯酰氧基萘磺酸等含磺酸基单体；(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等含环氧基的丙烯酸系单体；2—羟基乙基丙烯酰基磷酸酯等含磷酸基单体；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸盐系单体等。

进而，作为上述以外的含官能团单体，可以举出含有硅原子的硅烷系单体等。作为硅烷系单体，例如可以举出3—丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、4—乙烯基丁基三甲氧基硅烷、4—乙烯基丁基三乙氧基硅烷、8—乙烯基辛基三甲氧基硅烷、8—乙烯基辛基三乙氧基硅烷、10—甲基丙烯酰基氧癸基三甲氧基硅烷、10—丙烯酰基氧癸基三甲氧基硅烷、10—甲基丙烯酰基氧癸基三乙氧基硅烷、10—丙烯酰基氧癸基三乙氧硅烷等。

上述含官能团单体使用上述例示中至少一种，但可以选择使用2种以上、进而3种以上的不同含官能团单体。

如前所述，作为含官能团单体，优选含氨基单体。作为两种以上不同的含官能团单体的组合，例如优选含羧基单体和含羟基单体的组合、含羟基单体和含氨基单体的组合、含羧基单体和含氨基单体的组合等。作为含官能团单体，在含有含羧基单体和含羟基单体的情况下，可以通过酯化实现加热耐久性。另外，作为含官能团单体，在含有含羧基单体和含氨基单体的情况下，可以通过酸碱反应实现加热耐久性。作为三种以上的不同含官能团单体的组合，例如优选含羧基单体和含羟基单体和含氨基单体的组合等。在含有这些含官能团单体的情况下，得到上述加热耐久性的协同效果。

上述含官能团单体，优选相对于形成(甲基)丙烯酸系聚合物的单体成分的总量使用0.01～15重量％的比例。如果含官能团单体的比例少于0.01重量％，则通过电子射线照射的侧链的交联点减少，另外即便从耐久性的角度出发也不优选。另一方面，如果含官能团单体的比例增多，则与无碱玻璃的相互作用增强，所以从再加工性的观点出发，含官能团单体的比例被控制在15重量％以下。

其中，在上述含官能团单体为1种的情况下，其比例相对于单体成分的总量优选为0.01～5重量％。在使用异种的含官能团单体的情况下，对于各一种的含官能团单体，相对于单体成分的总量优选为0.01～5重量％。上述一种或各一种的含官能团单体的比例优选为0.01～3重量％，进一步优选为0.05～1重量％，进一步更优选为0.05～0.5重量％。

作为形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物的单体成分，除了上述单体之外，在不损坏本发明的目的的范围内，可以在单体总量的55重量％以下的范围内使用上述以外的单体。任意单体的比例优选为45重量％以下，进一步优选为35重量％以下。其中，此时，(甲基)丙烯酸烷基酯的比例为30重量％以上，进一步优选为40重量％以上，进一步优选为50重量％以上。作为上述任意单体，例如可以举出具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基等具有不饱和双键的聚合性官能团且具有芳香族环的含芳香族环单体。作为含芳香族环单体的具体例子，可以举出(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯酚环氧乙烷改性(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2—萘乙酯、(甲基)丙烯酸2—(4—甲氧基—1—萘氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基二乙二醇酯、聚苯乙烯基(甲基)丙烯酸酯等。

进而，还可以举出乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯系单体；苯乙烯、α—甲基苯乙烯等芳香族系单体；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系单体等。

本发明的(甲基)丙烯酸系聚合物，通常使用重均分子量为100万～300万的聚合物。如果考虑耐久性，特别是考虑耐热性，优选使用重均分子量为150万～250万的聚合物。进而更优选170万～250万。如果重均分子量小于100万，从耐热性出发不优选。另外，如果重均分子量大于300万，则在贴合性、粘合力降低这一点也不优选。其中，重均分子量是指通过GPC(凝胶渗透色谱法)进行测定并通过聚苯乙烯换算计算出来的值。

这样的(甲基)丙烯酸系聚合物的制造可以适当选择溶液聚合、本体聚合、乳液聚合、各种自由基聚合等公知的制造方法。另外，得到的(甲基)丙烯酸系聚合物可以是无规共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等中的任意。

其中，在溶液聚合中，作为聚合溶剂，例如使用乙酸乙酯、甲苯等。作为具体的溶液聚合例子，反应是在氮等惰性气流下添加聚合引发剂，通常在50～70℃左右、5～30小时左右的反应条件下进行的。

对在自由基聚合中使用的聚合引发剂、链转移剂、乳化剂等没有特别限定，可以适当选择使用。其中，(甲基)丙烯酸系聚合物的重均分子量可以由聚合引发剂、链转移剂的使用量、反应条件来控制，根据它们的种类来调节合适的使用量。

作为聚合引发剂，例如可以举出2，2’—偶氮二异丁腈、2，2’—偶氮二(2—脒基丙烷)二氢氯化物、2，2’—偶氮二[2—(5—甲基—2—咪唑啉—2—基)丙烷]二氢氯化物、2，2’—偶氮二(2—甲基丙脒)二硫酸盐、2，2’—偶氮二(N，N’—二亚甲基异丁基脒)、2，2’—偶氮二[N—(2—羧基乙基)—2—甲基丙脒]水合物(和光纯药公司制，VA—057)等偶氮系引发剂，过硫酸钾、过硫酸铵等过硫酸盐，过氧化二碳酸二(2—乙基己基)酯、过氧化二碳酸二(4—叔丁基环己基)酯、过氧化二碳酸二仲丁酯、过氧化新癸酸叔丁酯、过氧化特戊酸叔己酯、过氧化特戊酸叔丁基酯、过氧化二月桂酰、过氧化二正辛酰、过氧化—2—乙基己酸(1，1，3，3—四甲基丁基)酯、过氧化二(4—甲基苯甲酰)、过氧化二苯甲酰、过氧化异丁酸叔丁酯、1，1—二(叔己基过氧化)环己烷、叔丁基过氧化氢、过氧化氢等过氧化物系引发剂，过硫酸盐与亚硫酸氢钠的组合、过氧化物与抗坏血酸钠的组合等组合过氧化物与还原剂的氧化还原系引发剂等，但不被这些所限定。

所述聚合引发剂可以单独使用或混合两种以上使用，作为整体含量，相对单体100重量份，优选0.005～1重量份左右，更优选0.02～0.5重量份左右。

其中，为了使用例如2，2’—偶氮二异丁腈作为聚合引发剂，来制造上述重均分子量的(甲基)丙烯酸系聚合物，聚合引发剂的使用量相对于单体成分的总量100重量份，优选为0.06～0.2重量份左右，进一步优选为0.08～0.175重量份左右。

作为链转移剂，例如可以举出十二烷硫醇、缩水甘油基硫醇、巯基乙酸、2—巯基乙醇、巯基乙酸、巯基乙酸—2—乙基己基酯、2，3—二巯基—1—丙醇等。链转移剂可以单独或混合两种以上使用，作为整体含量，相对单体成分的总量100重量份，为0.1重量份左右以下。

另外，作为在乳液聚合中使用的乳化剂，例如可以举出月桂基硫酸钠、月桂基硫酸铵、十二烷基苯磺酸钠、聚氧化乙烯烷基醚硫酸铵、聚氧化乙烯烷基苯基醚硫酸钠等阴离子系乳化剂，聚氧化乙烯烷基醚、聚氧化乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧化乙烯—聚氧化丙烯嵌段聚合物等非离子系乳化剂等。这些乳化剂可以单独使用或并用两种以上。

进而，作为反应性乳化剂，作为引入丙烯基、烯丙醚基等自由基聚合性官能团的乳化剂，具体而言，例如有阿库阿仑(アクアロン)HS—10、HS—20、KH—10、BC—05、BC—10、BC—20(以上均为第一工业制药公司制)、阿戴卡里阿索普(アデカリアソ—プ)SE10N(旭电化工公司制)等。反应性乳化剂由于在聚合后被带入聚合物链中，所以耐水性变好，故优选。乳化剂的使用量相对单体成分的总量100重量份，优选为0.3～5重量份，从聚合稳定性或机械稳定性出发，更优选为0.5～1重量份。

另外，为了提高粘接力、耐久力，可以在本发明的丙烯酸系粘合剂中使用硅烷偶合剂。作为硅烷偶合剂，可以没有特别限制地适当使用公知的硅烷偶合剂。

具体而言，例如可以举出3—环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3—环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3—环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、2—(3，4—环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷等含环氧基硅烷偶合剂；3—氨丙基三甲氧基硅烷、N—2—(氨乙基)—3—氨丙基甲基二甲氧基硅烷、3—三乙氧基甲硅烷基—N—(1，3—二甲基亚丁基)丙胺、N—苯基—γ—氨丙基三甲氧基硅烷等含氨基硅烷偶合剂；3—异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷等含异氰酸酯基硅烷偶合剂等。从耐久性的提高出发，优选使用这样的硅烷偶合剂。

所述硅烷偶合剂可以单独使用，也可以混合使用两种以上，作为整体含量，相对所述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，优选含有0.01～2重量份所述硅烷偶合剂，更优选含有0.02～0.6重量份，进而优选含有0.05～0.3重量份。在不到0.01重量份时，对于提高耐久性来说是不充分的。另一方面，超过2重量份时，有时向液晶单元等光学构件的粘接力过于增大，存在再加工性降低的可能性。

另外，在本发明的丙烯酸系粘合剂中，为了提高抛锚力，可以含有少量的交联剂。作为交联剂，可以适当使用异氰酸酯系、环氧系、过氧化物系、金属螯合物系、噁唑啉系等。这些交联剂可以使用1种或2种以上，但从密接性的观点出发，优选异氰酸酯系交联剂。就交联剂的含量而言，相对于(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，为2重量份以下，优选为1.5重量份以下，进一步优选为1重量份以下。

进而，在本发明的粘合剂组合物中也可以含有其他公知的添加剂，例如根据所使用的用途，可以适宜添加着色剂、颜料等粉体，染料、表面活性剂、增塑剂、增粘剂、表面润滑剂、流平剂、软化剂、抗氧化剂、防老化剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、阻聚剂、无机或有机的填充剂、金属粉、粒子状、箔状物等。另外，在能够控制的范围内，可以采用添加了还原剂的氧化还原系。

本发明的粘合型光学薄膜的粘合剂层，是通过上述丙烯酸系粘合剂在光学薄膜的至少一面上形成有粘合剂层的构件，且该丙烯酸系粘合剂中的(甲基)丙烯酸系聚合物因被照射了电子射线而发生交联。

上述粘合型光学薄膜，例如可以通过制造在粘合型光学薄膜的粘合剂层设置有剥离衬垫的带有剥离衬垫的粘合型光学薄膜而得到。作为该带有剥离衬垫的粘合型光学薄膜的制造方法，可以采用下述制造方法(A)以及制造方法(B)。

在制造方法(A)中，包括：

工序(1a)，其是将上述制备的丙烯酸系粘合剂涂布于剥离衬垫上，形成粘合剂层的工序；

工序(3a)，其是将形成在上述剥离衬垫上的已被交联的粘合剂层贴合在光学薄膜上的工序。

在制造方法(B)中，包括：

工序(1b)，其是将上述制备的丙烯酸系粘合剂涂布于剥离衬垫上，形成粘合剂层的工序；

在上述工序(1a)以及工序(2a)中，在剥离衬垫上涂布丙烯酸系粘合剂，形成粘合剂层。在丙烯酸系粘合剂不含交联剂的情况下，形成未交联的粘合剂层。未交联的粘合剂层在以后的工序中因被照射电子射线而发生交联。

作为剥离衬垫的构成材料，例如可以举出聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酯薄膜等塑料薄膜，纸、布、无纺布等多孔材料，网状物、发泡片材、金属箔、及这些材料的层叠体等适当的薄片体等，而从表面平滑性出色的点出发，优选使用塑料薄膜。

作为该塑料薄膜，只要是可以形成上述粘合剂层的薄膜，就没有特别限定，例如可以举出聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯薄膜、聚氨酯薄膜、乙烯—乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。

所述剥离衬垫的厚度通常为5～200μm，优选为5～100μm左右。根据需要，也可以对所述剥离衬垫施行通过硅酮系、氟系、长链烷基系或脂肪酰胺系的脱模剂、二氧化硅粉等的脱模及防污处理或涂布型、混入型、蒸镀型等防静电处理。尤其可以通过在所述剥离衬垫的表面适当进行硅酮处理、长链烷基处理、氟处理等剥离处理，进一步提高从所述粘合剂层的剥离性。

其中，在制作了上述的粘合型光学薄膜之后，剥离衬垫可以直接用作粘合型光学薄膜的间隔件，可以在工序方面简化。

丙烯酸系粘合剂向上述剥离衬垫上的涂布可以采用各种方法。例如可以举出辊涂、辊舐式涂布、凹版涂敷、反向涂敷、辊刷、喷涂、浸渍辊涂、棒涂、刮涂、气刀式涂敷法、帘涂、唇式涂敷(lip coat)、利用模具涂料机(die coater)、喷注式刮刀涂布机等的挤压涂敷法等方法。

通过上述涂布，在上述剥离衬垫上形成涂膜。上述丙烯酸系粘合剂通常被用作溶液，所以在此情况下，对上述涂膜通常实施干燥。在上述涂布时，可以适当新添加溶剂。干燥温度是由溶液中使用的溶剂决定的，但通常优选为40～120℃，进一步优选40～100℃，特别优选45～85℃。干燥时间可以适宜采用合适的时间。干燥时间优选为5秒～20分钟，进一步优选5秒～10分钟，特别优选10秒～5分钟。通过使干燥温度、干燥时间在上述范围，可以在不引起副反应的情况下进行涂布膜的溶剂干燥，可以得到具有出色粘合特性的粘合剂层。

接着，在制造方法(A)中，在上述工序(1a)之后，实施从该粘合剂层侧向上述粘合剂层照射电子射线而使粘合剂层发生交联、从而在剥离衬垫上形成已被交联的粘合剂层的工序(2a)。电子射线的照射量优选为2～100kGy，进一步优选为2～70kGy，特别优选为5～50kGy。

在电子射线照射中，优选按照使交联反应优先的方式进行条件设定。作为该条件，例如可以举出边加热边进行电子射线照射的方法、在水的共存下进行电子射线照射的方法、在难以提供氧的状态(例如氮清除(purge)的状态)下进行电子射线照射的方法等，优选适当选择它们进行。在本发明中，从其简便性出发，优选在难以提供氧的状态下进行。

接着，在制造方法(A)中，实施在光学薄膜上贴合形成在上述剥离衬垫上的已被交联的粘合剂层的工序(3a)，得到带有剥离衬垫的粘合型光学薄膜。在实施上述贴合的工序(3a)时，可以在光学薄膜的表面形成增粘层，或者可以实施电晕处理、等离子体处理等各种易粘接处理。可以在粘合剂层的表面进行易粘接处理。

另一方面，在制造方法(B)中，在上述工序(1b)之后，实施在光学薄膜上贴合形成在上述剥离衬垫上的粘合剂层的工序(2b)。在工序(2b)中，也可以与上述一样对光学薄膜和/胶粘剂层实施易粘接处理。

接着，在制造方法(B)中，实施从设置有剥离衬垫的一侧向上述粘合剂层照射电子射线而使粘合剂层发生交联、从而形成已被交联的粘合剂层的工序(3b)，得到带有剥离衬垫的粘合型光学薄膜。电子射线的照射量与上述一样，优选为2～100kGy，进一步优选为2～70kGy，特别优选为5～50kGy。

其中，除了上述制造方法之外，例如还可以采用将上述丙烯酸系粘合剂涂布在光学薄膜上、将溶剂等干燥除去而在光学薄膜上形成粘合剂层、然后照射电子射线的方法。

如上所述得到的粘合型光学薄膜的粘合剂层的厚度通常为2～50μm左右，优选为2～40μm，进一步优选为5～35μm。

上述粘合剂层在电子射线照射之后23℃下放置1小时之后的凝胶分率(E1)，优选为50～95重量％，进一步优选为60～95重量％，特别优选为70～95重量％。

另外，上述粘合剂层在电子射线照射之后23℃下放置1周进而在90℃下干燥120小时后的凝胶分率(E2)，优选为30～95重量％，进一步优选为40～95重量％，特别优选为50～95重量％。

另外，上述凝胶分率(E2)和在23℃下放置1周之后的凝胶分率(E’)的差(E1’—E2)优选为20重量％以下，进一步优选为15重量％以下，特别优选为5重量％以下，最优选为1重量％以下。其中，凝胶分率(E’)优选为50～95重量％，进一步优选为60～95重量％，特别优选为70～95重量％。

通常，不管粘合剂层的凝胶分率过大还是过小，其耐久性都容易发生不良情况。即，如果凝胶分率增大，尤其无法耐受由加湿条件下的光学薄膜的收缩、膨胀引起的尺寸变化，容易发生从液晶单元剥离等不良情况。另一方面，如果凝胶分率减小，尤其容易发生在加热条件下的液晶单元和粘合剂层之间发生的发泡等不良情况。从该耐久性观点出发，本发明的粘合型光学薄膜的粘合剂层的凝胶分率优选为上述范围，另外，优选随着时间的推移凝胶分率的变化少的物质。

另外，上述粘合剂层在贴合于无碱玻璃上，23℃下放置1小时之后，在90度方向以300mm/min剥脱时的粘接力优选为1～10N/25mm，进一步优选为1～8N/25mm，特别优选为2～7N/25mm。

另外，上述粘合剂层在贴合于无碱玻璃上并在23℃下放置1小时，进而在60℃下干燥48小时之后，在90度方向以300mm/min剥脱时的粘接力优选为3～20N/25mm，进一步优选为3～18N/25mm，特别优选为3～15N/25mm。

从再加工性、可加工性出发，粘合剂层的粘接力优选为上述范围，另外，优选即便随着时间的推移粘合剂层的粘接力的变化也少的粘合剂层。

作为光学薄膜，使用在液晶显示装置等图像显示装置的形成中使用的光学薄膜，对其种类没有特别限制。例如，作为光学薄膜，可以举出偏振板。偏振板通常使用在偏振片的一面或两面具有透明保护薄膜的构件。

对偏振片没有特别限制，可以使用各种偏振片。作为偏振片，可以举出，例如在聚乙烯醇系薄膜、部分甲缩醛化的聚乙烯醇系薄膜、乙烯—乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等亲水性高分子薄膜上，吸附碘或二色性染料等二色性物质并单向拉伸的薄膜；聚乙烯醇的脱水处理物或聚氯乙烯的脱氯化氢处理物等聚烯系取向薄膜等。在这些偏振片中，优选由聚乙烯醇系薄膜和碘等二色性物质构成的偏振片。对这些偏振片的厚度没有特别限制，通常为5～80μm左右。

将聚乙烯醇系薄膜用碘染色后经单向拉伸而成的偏振片，例如，可以通过将聚乙烯醇浸渍于碘的水溶液进行染色后，拉伸至原长度的3～7倍来制作。根据需要，也可以浸渍于可含硼酸或硫酸锌、氯化锌等的碘化钾等的水溶液中。此外，根据需要，也可以在染色前将聚乙烯醇系薄膜浸渍于水中水洗。通过水洗聚乙烯醇系薄膜，除了可以洗去聚乙烯醇系薄膜表面上的污物和防粘连剂之外，可通过使聚乙烯醇系薄膜溶胀，也有防止染色斑等不均匀现象的效果。拉伸既可以在用碘染色之后进行，也可以一边染色一边进行拉伸，或者也可以在拉伸之后用碘进行染色。也可以在硼酸或碘化钾等的水溶液中或水浴中进行拉伸。

作为构成透明保护薄膜的材料，例如使用在透明性、机械强度、热稳定性、水分阻隔性、各向同性等各方面具有良好性质的热塑性树脂。作为这样的热塑性树脂的具体例子，可以举出三乙酰纤维素等纤维素树脂、聚酯树脂、聚醚砜树脂、聚砜树脂、聚碳酸酯树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚烯烃树脂、(甲基)丙烯酸树脂、环状聚烯烃树脂(降冰片烯系树脂)、聚芳酯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯醇树脂、以及它们的混合物。其中，利用胶粘剂层在偏振片的一侧贴合透明保护薄膜，但在另一侧，可以使用(甲基)丙烯酸系、氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、环氧系、硅酮系等热固化性树脂或紫外线固化型树脂作为透明保护薄膜。透明保护薄膜中可以含有任意适当的添加剂1种以上。作为添加剂，例如可以举出紫外线吸收剂、抗氧化剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、着色防止剂、阻燃剂、成核剂、防静电剂、颜料、着色剂等。透明保护薄膜中的上述热塑性树脂的含量优选为50～100重量％，更优选为50～99重量％，进而优选为60～98重量％，特别优选为70～97重量％。在透明保护薄膜中的上述热塑性树脂的含量为50重量％以下的情况下，可能会无法充分表现出热塑性树脂本来具有的高透明性等。

另外，作为透明保护薄膜，可以举出如特开2001—343529号公报(WO01/37007)中所述的聚合物薄膜，如为含有(A)侧链上具有取代及/或未取代酰亚胺基的热塑性树脂、和(B)侧链上具有取代及/或未取代苯基以及腈基的热塑性树脂的树脂组合物。作为具体的例子，可以举例为含有由异丁烯与N—甲基马来酰亚胺构成的交替共聚物和丙烯腈·苯乙烯共聚物的树脂组合物的薄膜。薄膜能够使用由树脂组合物的混合挤出制品等构成的薄膜。关于这些薄膜，因为相位差小，且光弹性系数小，所以能够消除由偏振板的变形引起的不均等不良情况，另外，由于透湿度小，所以加湿耐久性出色。

可以适宜确定透明薄膜的厚度，但通常从强度或操作性等作业性、薄层性等方面来看，为1～500μm左右。特别优选1～300μm，更优选5～200μm。透明保护薄膜为5～150μm时是非常合适的。

其中，当在偏振片的两侧设置透明保护薄膜时，既可以在其正反面使用由相同聚合物材料组成的保护薄膜，也可以使用由不同的聚合物材料等组成的保护薄膜。

作为本发明的透明保护薄膜，优选使用从纤维素树脂、聚碳酸酯树脂、环状聚烯烃树脂以及(甲基)丙烯酸树脂中任意选择的至少一种。

纤维素树脂为纤维素与脂肪酸的酯。作为这样的纤维素酯系树脂的具体的例子，可以举出三乙酰纤维素、二乙酰纤维素、三丙酰纤维素、二丙酰纤维素等。其中，特别优选三乙酰纤维素。三乙酰纤维素有很多制品出售，从容易得到或成本的角度出发，是有利的。作为三乙酰纤维素的市售品的例子，可以举出富士胶片公司制的商品名“UV—50”、“UV—80”、“SH—80”、“TD—80U”、“TD—TAC”、“UZ—TAC”或Konica(コニカ)公司制的“KC系列(series)”等。通常就这些三乙酰纤维素而言，面内相位差(Re)大致为0，厚度方向相位差(Rth)为60nm以下左右。

此外，厚度方向相位差小的纤维素树脂，例如可以通过处理上述纤维素树脂而得到。例如可以举出将涂敷有环戊酮、甲基乙基甲酮等溶剂的聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、不锈钢等基材薄膜贴合于通常的纤维素系薄膜，加热干燥(例如以80～150℃，3～10分钟左右)后，剥离基材薄膜的方法；将在环戊酮、甲基乙基甲酮等溶剂中溶解有降冰片烯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂等的溶液涂敷于通常的纤维素树脂薄膜，加热干燥(例如以80～150℃，3～10分钟左右)后，剥离涂敷薄膜的方法等。

另外，作为厚度方向相位差小的纤维素树脂薄膜，可以使用控制了脂肪取代度的脂肪酸纤维素系树脂薄膜。在通常使用的三乙酰纤维素中，通过控制乙酸取代度为2.8左右，优选为1.8～2.7，可以减小Rth。通过向上述脂肪酸取代纤维素系树脂中添加邻苯二甲酸二丁酯、对甲苯磺酰苯胺、柠檬酸乙酰基三乙酯等增塑剂，可以控制Rth为小值。相对于脂肪酸纤维素系树脂100重量份，增塑剂的添加量优选为40重量份以下，更优选为1～20重量份，进而优选为1～15重量份。

作为环状聚烯烃树脂的具体的例子，优选为降冰片烯系树脂。环状聚烯烃系树脂是将环状烯烃作为聚合单元使其聚合的树脂的总称，例如，可以举出特开平1—240517号公报、特开平3—14882号公报、特开平3—122137号公报等中记载的树脂。作为具体的例子，可以举出环状烯烃的开环(共)聚合物，环状烯烃的加聚物，环状烯烃与乙烯、丙烯等α—烯烃的共聚物(具有代表性的为无规共聚物)以及用不饱和羧酸或其衍生物对它们进行改性的接枝共聚物，以及它们的氢化物等。作为环状烯烃的具体的例子，可以举出降冰片烯系单体。

作为环状聚烯烃树脂，有多种制品出售。作为具体的例子，可以举出日本Zeon株式会社制的商品名“ZEONEX”、“ZEONOR”、JSR株式会社制的商品名“ARTON”、TICONA公司制的商品名“TOPAS”、三井化学株式会社制的商品名“APEL”。

作为(甲基)丙烯酸系树脂，Tg(玻璃化温度)优选为115℃以上，更优选为120℃以上，进而优选为125℃以上，特别优选为130℃以上。通过使Tg为115℃以上，可以使偏振板的耐久性出色。对上述(甲基)丙烯酸系树脂的Tg的上限值没有特别限定，但从成形性的观点出发，优选为170℃以下。从(甲基)丙烯酸系树脂，可以得到面内相位差(Re)、厚度方向相位差(Rth)大致为0的薄膜。

作为(甲基)丙烯酸系树脂，只要在不损坏本发明的效果的范围内，可以采用任意适当的(甲基)丙烯酸系树脂。例如可以举出聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯—(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯—(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯—丙烯酸酯—(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯—苯乙烯共聚物(MS树脂等)、具有脂环族烃基的聚合物(例如甲基丙烯酸甲酯—甲基丙烯酸环己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯—(甲基)丙烯酸降冰片酯共聚物等)。优选举出聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1～6烷基酯。更优选举出以甲基丙烯酸甲酯为主要成分(50～100重量％，优选为70～100重量％)的甲基丙烯酸甲酯系树脂。

作为(甲基)丙烯酸系树脂的具体的例子，例如可以举出三菱Rayon株式会社制的Acrypet VH或Acrypet VRL20A、特开2004—70296号公报中记载的分子内具有环结构的(甲基)丙烯酸系树脂、利用分子内交联或分子内环化反应得到的高Tg(甲基)丙烯酸树脂系。

作为(甲基)丙烯酸系树脂，也可以使用具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂。这是因为具有高耐热性、高透明性、利用双向拉伸的高机械强度。

作为具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂，可以举出特开2000—230016号公报、特开2001—151814号公报、特开2002—120326号公报、特开2002—254544号公报、特开2005—146084号公报等中记载的具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂。

具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂，优选具有下述通式(化1)表示的假环结构。

[化1]

式中，R¹、R²及R³彼此独立，表示氢原子或碳原子数为1～20的有机残基。此外，有机残基也可以包括氧原子。

具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂的结构中，用通式(化1)表示的内酯环结构的含有比例优选为5～90重量％，更优选为10～70重量％，进而优选为10～60重量％，特别优选为10～50重量％。具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂的结构中，用通式(化1)表示的内酯环结构的含有比例如果少于5重量％，那么耐热性、耐溶剂性、表面硬度会变得不充分。具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂的结构中，用通式(化1)表示的内酯环结构的含有比例如果多于90重量％，那么会变得缺乏成形加工性。

具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂的质均分子量(有时也称为重均分子量)优选为1000～2000000，更优选为5000～1000000，进而优选为10000～500000，特别优选为50000～500000。如果质均分子量超出上述范围，那么从成形加工性的观点出发，不优选。

具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂，Tg优选为115℃以上，更优选为120℃以上，进而优选为125℃以上，特别优选为130℃以上。由于Tg在115℃以上，所以例如在作为透明保护薄膜纳入到偏振板的情况下，成为耐久性出色的偏振板。对具有上述内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂的Tg的上限值没有特别限定，从成形性等观点出发，优选为170℃以下。

具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂，利用注射模塑成形得到的成形品的、利用基于ASTM—D—1003的方法测定的总光线透过率越高越优选，优选为85％以上，更优选为88％以上，进而优选为90％以上。总光线透过率是透明性的基准，如果总光线透过率不到85％，那么透明性可能会降低。

上述透明保护薄膜通常使用正面相位差不到40nm而且厚度方向相位差不到80nm的薄膜。正面相位差Re用Re＝(nx—ny)×d表示。厚度方向相位差Rth用Rth＝(nx—nz)×d表示。另外，Nz系数用Nz＝(nx—nz)/(nx—ny)表示。[其中，薄膜的滞相轴方向、进向轴方向以及厚度方向的折射率分别为nx、ny、nz，d(nm)为薄膜的厚度。滞相轴方向为薄膜面内的折射率成为最大的方向。]。此外，透明保护薄膜优选尽可能不着色。可以优选使用厚度方向的相位差值为—90nm～+75nm的保护薄膜。通过使用这种厚度方向的相位差值(Rth)为—90nm～+75nm的保护薄膜，可以大致消除透明保护薄膜引起的偏振板的着色(光学上的着色)。厚度方向相位差值(Rth)进而优选为—80nm～+60nm，特别优选为—70nm～+45nm。

另一方面，作为上述透明保护薄膜，可以使用具有正面相位差为40nm以上和/或厚度方向相位差为80mn以上的相位差的相位差板。正面相位差通常控制在40～200nm的范围，厚度方向相位差通常控制在80～300nm的范围。在作为透明保护薄膜使用相位差板的情况下，该相位差板还起到透明保护薄膜的功能，所以可以实现薄型化。

作为相位差板，可以举出对高分子材料实施单向或双向拉伸处理而成的双折射性薄膜、液晶聚合物的取向薄膜、将液晶聚合物的取向层支撑于薄膜上的相位差板等。对相位差板的厚度没有特别限制，一般为20～150μm左右。

作为高分子材料，例如可以举出聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛、聚甲基乙烯醚、聚丙烯酸羟乙基酯、羟乙基纤维素、羟丙基纤维素、甲基纤维素、聚碳酸酯、聚芳酯、聚砜、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚苯硫醚、聚苯醚、聚烯丙基砜、聚酰胺、聚酰亚胺、聚烯烃、聚氯乙烯、纤维素树脂、环状聚烯烃树脂(降冰片烯系树脂)或它们的二元系、三元系各种共聚物、接枝共聚物、混合物等。这些高分子材料可通过拉伸等而成为取向物(拉伸薄膜)。

作为液晶聚合物，例如可以举出在聚合物的主链或侧链上导入了赋予液晶取向性的共轭性的直线状原子团(mesogene)的主链型或侧链型的各种聚合物等。作为主链型液晶性聚合物的具体例子，可以举出具有在赋予弯曲性的间隔部上结合了液晶(mesogene)基的构造的聚合物，例如向列取向性的聚酯系液晶性聚合物、圆盘状聚合物或胆甾醇型聚合物等。作为侧链型液晶聚合物的具体例子，可以举出如下的化合物等，即，将聚硅氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯作为主链骨架，作为侧链借助由共轭性的原子团构成的间隔部具有由赋予向列取向性的对位取代环状化合物单元构成的液晶(mesogene)部的聚合物等。这些液晶聚合物例如通过以下方法进行处理，即，在对于形成在玻璃板上的聚酰亚胺或聚乙烯醇等薄膜的表面进行摩擦处理后的材料、斜向蒸镀了氧化硅的材料等的取向处理面上，铺展液晶性聚合物的溶液后进行热处理。

相位差板可以是例如各种波长板或用于补偿由液晶层的双折射造成的着色或视角等的材料等具有对应于使用目的的适宜的相位差的材料，也可以是层叠2种以上的相位差板而控制了相位差等光学特性的材料。

相位差板满足nx＝ny>nz、nx>ny>nz、nx>ny＝nz、nx>nz>ny、nz＝nx>ny、nz>nx>ny、nz>nx＝ny的关系，可以根据各种用途选择使用。此外，ny＝nz不仅是指ny与nz完全相同的情况，还包括实际上ny与nz相同的情况。

例如，满足nx>ny>nz的相位差板，优选使用满足正面相位差为40～100nm、厚度方向相位差为100～320nm、Nz系数为1.8～4.5的相位差板。例如，满足nx>ny＝nz的相位差板(正A板，positive A—plate)，优选使用满足正面相位差为100～200nm的相位差板。例如满足nz＝nx>ny的相位差板(负A板，negative A—plate)，优选使用满足正面相位差为100～200nm的相位差板。例如，满足nx>nz>ny的相位差板，优选使用满足正面相位差为150～300nm、Nz系数为超过0且为0.7以下的相位差板。另外，如上所述，例如可以使用满足nx＝ny>nz、nz>nx>ny、或nz>nx＝ny的相位差板。

透明保护薄膜可以根据所应用的液晶显示装置适当选择。例如在为VA(垂直排列)(Vertical Alignment，包括MVA、PVA)的情况下，优选偏振板的至少一方(单元侧)的透明保护薄膜具有相位差。作为具体的相位差，优选在Re＝0～240nm、Rth＝0～500nm的范围。就三维折射率而言，优选nx>ny＝nz、nx>ny>nz、nx>nz>ny、nx＝ny>nz(正A板、双向、负C板)的情况。关于VA型，优选使用正A板和负C板的组合、或双向薄膜1片。在液晶单元的上下使用偏振板时，可以为液晶单元的上下均具有相位差，或者也可以为上下任意的透明保护薄膜具有相位差。

例如在为IPS(In—Plane Switching，包括FFS)时，在偏振板的一方的透明保护薄膜具有相位差的情况、不具有的情况下，均可以使用。例如，在不具有相位差的情况下，优选在液晶单元的上下(单元侧)均不具有相位差的情况。在具有相位差的情况下，优选在液晶单元的上下均具有相位差的情况、上下任意一方具有相位差的情况(例如上侧为满足nx>nz>ny的关系的双向薄膜、下侧无相位差的情况，或上侧正A板、下侧正C板的情况)。在具有相位差的情况下，优选在Re＝—500～500nm、Rth＝—500～500nm的范围。就三维折射率而言，优选nx>ny＝nz、nx>nz>ny、nz>nx＝ny、nz>nx>ny(正A板、双向、正C板)。

此外，上述具有相位差的薄膜，可以另外使其贴合于不具有相位差的透明保护薄膜，从而赋予上述功能。

关于上述透明保护薄膜，在涂敷胶粘剂之前，为了提高与偏振片的粘接性，可以进行表面改性处理。作为具体的处理，可以举出电晕处理、等离子处理、火焰处理、臭氧处理、底涂处理、辉光处理、皂化处理、通过偶合剂的处理等。另外，可以适当形成防静电层。

在上述透明保护薄膜的没有粘接偏振片的一面，可以进行硬涂层或防反射处理、防粘连处理、以扩散或防眩为目的的处理。

实施硬涂层处理的目的是防止偏振板的表面损坏等，例如可以通过在透明保护薄膜的表面上附加由丙烯酸系、硅酮系等适当的紫外线固化型树脂构成的硬度、滑动特性等良好的固化被膜的方式等形成。实施防反射处理的目的是防止外光在偏振板表面的反射，可以通过形成基于以往的防反射膜等来完成。此外，实施防粘连处理的目的是防止与相邻层(例如背光灯侧的扩散板)的粘附。

另外，实施防眩处理的目的是防止外光在偏振板表面反射而干扰偏振板透过光的辨识等，例如，可以通过采用喷砂方式或压纹加工方式的粗表面化方式以及配合透明微粒的方式等适当的方式，向透明保护薄膜表面赋予微细凹凸结构来形成。作为在上述表面微细凹凸结构的形成中含有的微粒，例如，可以使用平均粒径为0.5～20μm的由氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锆、氧化锡、氧化铟、氧化镉、氧化锑等组成的往往具有导电性的无机系微粒、由交联或者未交联的聚合物等组成的有机系微粒等透明微粒。当形成表面微细凹凸结构时，微粒的使用量相对于形成表面微细凹凸结构的透明树脂100重量份，通常为2～70重量份左右，优选为5～50重量份。防眩层也可以兼当用于将偏振板透射光扩散而扩大视角等的扩散层(视角扩大功能等)。

还有，上述防反射层、防粘连层、扩散层或防眩层等除了可以设置成透明保护薄膜自身以外，还可以作为其他的光学层与透明保护薄膜分开设置。

上述偏振片和透明保护薄膜的粘接处理使用胶粘剂。作为胶粘剂，可以举例为异氰酸酯系胶粘剂、聚乙烯醇系胶粘剂、明胶系胶粘剂、乙烯系胶乳、水性聚酯等。上述胶粘剂通常作为由水溶液构成的胶粘剂使用，通常含有0.5～60重量％的固态成分而成。除了上述之外，作为偏振片和透明保护薄膜的胶粘剂，可以举出紫外线固化型胶粘剂、电子射线固化型胶粘剂等。电子射线固化型偏振板用胶粘剂相对于上述各种透明保护薄膜显示出适合的粘接性。另外，在本发明使用的胶粘剂中，可以含有金属化合物填充剂。

另外，作为光学薄膜，例如可以举出反射板或半透过板、上述相位差板(包括1/2或1/4等波长板)、视角补偿薄膜、亮度改善薄膜等在液晶显示装置等的形成中可以使用的光学层。它们可以单独用作光学薄膜，除此之外，可以在上述偏振板上于实际应用时层叠1层或2层以上使用。

特别优选的偏振板是在偏振板上进一步层叠反射板或半透过反射板而成的反射型偏振板或半透过型偏振板；在偏振板上进一步层叠相位差板而成的椭圆偏振板或圆偏振板；在偏振板上进一步层叠视角补偿薄膜而成的宽视角偏振板；或者在偏振板上进一步层叠亮度改善薄膜而成的偏振板

反射型偏振板是在偏振板上设置反射层而成的，可用于形成反射来自辨识侧(显示侧)的入射光来进行显示的类型的液晶显示装置等，并且可以省略内置的背光灯等光源，从而具有易于使液晶显示装置薄型化等优点。形成反射型偏振板时，可以通过根据需要借助透明保护层等在偏振板的一面上附设由金属等构成的反射层的方式等适当的方式进行。

作为反射型偏振板的具体例子，可以举例为根据需要在经消光处理的透明保护薄膜的一面上，附设由铝等反射性金属构成的箔或蒸镀膜而形成反射层的偏振板等。另外，还可以举例为通过使上述透明保护薄膜含有微粒而形成表面微细凹凸结构，并在其上具有微细凹凸结构的反射层的反射型偏振板等。上述的微细凹凸结构的反射层通过漫反射使入射光扩散，由此防止定向性或外观发亮，具有可以抑制明暗不均的优点等。另外，含有微粒的透明保护薄膜还具有当入射光及其反射光透过它时可以通过扩散进一步抑制明暗不均的优点等。反映透明保护薄膜的表面微细凹凸结构的微细凹凸结构的反射层的形成，例如可以通过用真空蒸镀方式、离子镀方式、溅射方式或镀敷方式等适当的方式在透明保护层的表面直接附设金属的方法等进行。

作为代替将反射板直接附设在上述偏振板的透明保护薄膜上的方法，还可以在以该透明薄膜为基准的适当的薄膜上设置反射层形成反射片等后作为反射板使用。还有，由于反射层通常由金属构成，所以从防止由于氧化而造成的反射率的下降，进而长期保持初始反射率的观点或避免另设保护层的观点等来看，优选用透明保护薄膜或偏振板等覆盖其反射面的使用形式。

还有，在上述中，半透过型偏振板可以通过作成用反射层反射光的同时使光透过的半透半反镜等半透过型的反射层而获得。半透过型偏振板通常被设于液晶单元的背面侧，可以形成如下类型的液晶显示装置等，即，在比较明亮的环境中使用液晶显示装置等的情况下，反射来自于辨识侧(显示侧)的入射光而显示图像，在比较暗的环境中，使用内置于半透过型偏振板的背面的背光灯等内置光源来显示图像。即，半透过型偏振板在如下类型的液晶显示装置等的形成中十分有用，即，在明亮的环境下可以节约背光灯等光源使用的能量，在比较暗的环境下也可以使用内置光源的类型的液晶显示装置等的形成中非常有用。

下面对偏振板上进一步层叠相位差板而构成的椭圆偏振板或圆偏振板进行说明。在将直线偏振光改变为椭圆偏振光或圆偏振光，或者将椭圆偏振光或圆偏振光改变为直线偏振光，或者改变直线偏振光的偏振方向的情况下，可以使用相位差板等。特别是，作为将直线偏振光改变为圆偏振光或将圆偏振光改变为直线偏振光的相位差板，可以使用所谓的1/4波长板(也称为λ/4片)。1/2波长板(也称为λ/2片)通常用于改变直线偏振光的偏振方向的情形。

椭圆偏振板可以有效地用于以下情形等，即补偿(防止)超扭曲向列相(STN)型液晶显示装置因液晶层的双折射而产生的着色(蓝或黄)，从而进行没有所述着色的白黑显示的情形等。另外，控制三维折射率的偏振板还可以补偿(防止)从斜向观察液晶显示装置的画面时产生的着色，所以优选。圆偏振板可以有效地用于例如对以彩色显示图像的反射型液晶显示装置的图像的色调进行调整的情形等，而且还具有防止反射的功能。

另外，上述椭圆偏振板或反射型椭圆偏振板是通过适当地组合并层叠偏振板或反射型偏振板和相位差板而成的。这类椭圆偏振板等也可以通过在液晶显示装置的制造过程中依次分别层叠(反射型)偏振板及相位差板来形成，以构成(反射型)偏振板及相位差板的组合，而如上所述，预先形成为椭圆偏振板等光学薄膜的构件，由于在质量的稳定性或层叠操作性等方面出色，因此具有可以提高液晶显示装置等的制造效率的优点。

视角补偿薄膜是在从不垂直于画面的稍微倾斜的方向观察液晶显示装置的画面的情况下也使图像看起来比较清晰的、用于扩大视角的薄膜。作为此种视角补偿相位差板，例如由相位差板、液晶聚合物等的取向薄膜或在透明基材上支撑了液晶聚合物等取向层的材料等构成。通常作为相位差板使用的是沿其面方向被实施了单向拉伸的、具有双折射的聚合物薄膜，与此相对，作为被用作视角补偿薄膜的相位差板，可以使用沿其面方向被实施了双向拉伸的具有双折射的聚合物薄膜、沿其面方向被单向拉伸并且沿其厚度方向也被拉伸了的可控制厚度方向的折射率的具有双折射的聚合物或倾斜取向薄膜之类的双向拉伸薄膜等。作为倾斜取向薄膜，例如可以举出在聚合物薄膜上粘接热收缩薄膜后在因加热形成的收缩力的作用下，对聚合物薄膜进行了拉伸处理或/和收缩处理的材料、使液晶聚合物倾斜取向而成的材料等。作为相位差板的原材料聚合物，可以使用与上述的相位差板中说明的聚合物相同的聚合物，可以使用以防止基于由液晶单元造成的相位差而形成的辨识角的变化所带来的着色等或扩大辨识度良好的视角等为目的的适宜的聚合物。

另外，从实现辨识度良好的宽视角的观点等出发，可以优选使用用三乙酰纤维素薄膜支撑由液晶聚合物的取向层、特别是圆盘状液晶聚合物的倾斜取向层构成的光学各向异性层的光学补偿相位差板。

将偏振板和亮度改善薄膜贴合在一起而成的偏振板通常被设于液晶单元的背面一侧。亮度改善薄膜是显示如下特性的薄膜，即，当因液晶显示装置等的背光灯或来自背面侧的反射等，有自然光入射时，反射特定偏光轴的直线偏振光或特定方向的圆偏振光，而使其他光透过，因此将亮度改善薄膜与偏振板层叠而成的偏振板可使来自背光灯等光源的光入射，而获得特定偏振光状态的透过光，同时，所述特定偏振光状态以外的光不能透过，被予以反射。借助设于其后侧的反射层等再次反转在该亮度改善薄膜面上反射的光，使之再次入射到亮度改善薄膜上，使其一部分或全部作为特定偏振光状态的光透过，从而增加透过亮度改善薄膜的光，同时向偏振片提供难以吸收的偏振光，从而增大能够在液晶显示图像的显示等中利用的光量，并由此可以提高亮度。即，在不使用亮度改善薄膜而用背光灯等从液晶单元的背面侧穿过偏振片而使光入射的情况下，具有与偏振片的偏光轴不一致的偏光方向的光基本上被偏振片所吸收，因而无法透过偏振片。即，虽然会因所使用的偏振片的特性而不同，但是大约50％的光会被偏振片吸收掉，因此，在液晶图像显示等中能够利用的光量将相应减少，导致图像变暗。由于亮度改善薄膜反复进行如下操作，即，使具有能够被偏振片吸收的偏光方向的光不是入射到偏振片上，而是使该类光在亮度改善薄膜上发生反射，进而借助设于其后侧的反射层等完成反转，使光再次入射到亮度改善薄膜上，这样，亮度改善薄膜只使在这两者间反射并反转的光中的、其偏光方向变为能够通过偏振片的偏光方向的偏振光透过，同时将其提供给偏振片，因此可以在液晶显示装置的图像的显示中有效地使用背光灯等的光，从而可以使画面明亮。

也可以在亮度改善薄膜和所述反射层等之间设置扩散板。由亮度改善薄膜反射的偏振光状态的光朝向所述反射层等，所设置的扩散板可将通过的光均匀地扩散，同时消除偏振光状态而成为非偏振光状态。即，反复进行如下的作业：将自然光状态的光射向反射层等，经过反射层等而反射后，再次通过扩散板而又入射到亮度改善薄膜上。如此通过在亮度改善薄膜和所述反射层等之间设置使偏振光恢复到原来的自然光状态的扩散板，可以在维持显示画面的亮度的同时，减少显示画面的亮度的不均，从而可以提供均匀并且明亮的画面。通过设置该扩散板，可适当增加初次入射光的重复反射次数，并利用扩散板的扩散功能，可以提供均匀的明亮的显示画面。

作为所述亮度改善薄膜，例如可以使用：电介质的多层薄膜或折射率各向异性不同的薄膜多层层叠体之类的显示出使规定偏光轴的直线偏振光透过而反射其他光的特性的薄膜、胆甾醇型液晶聚合物的取向薄膜或在薄膜基材上支撑了该取向液晶层的薄膜之类的显示出将左旋或右旋中的任一种圆偏振光反射而使其他光透过的特性的薄膜等适宜的薄膜。

因此，通过利用使所述的规定偏光轴的直线偏振光透过的类型的亮度改善薄膜，使该透过光直接沿着与偏光轴一致的方向入射到偏振板上，可以在抑制由偏振板造成的吸收损失的同时，使光有效地透过。另一方面，利用胆甾醇型液晶层之类的使圆偏振光透过的类型的亮度改善薄膜，虽然可以直接使光入射到偏振片上，但是，从抑制吸收损失这一点来看，最好借助相位差板对该圆偏振光进行直线偏振光化，之后再入射到偏振板上。而且，通过使用1/4波长板作为该相位差板，可以将圆偏振光变换为直线偏振光。

在可见光区域等较宽波长范围中能起到1/4波长板作用的相位差板，例如可以利用以下方式获得，即，将相对于波长550nm的浅色光能起到1/4波长板作用的相位差层和显示其他的相位差特性的相位差层例如能起到1/2波长板作用的相位差层重叠的方式等。所以，配置于偏振板和亮度改善薄膜之间的相位差板可以由1层或2层以上的相位差层构成。

还有，就胆甾醇型液晶层而言，也可以组合不同反射波长的材料，构成重叠2层或3层以上的配置构造，由此获得在可见光区域等较宽的波长范围反射圆偏振光的构件，从而可以基于此而获得较宽波长范围的透过圆偏振光。

另外，偏振板如同所述偏振光分离型偏振板那样，可以由层叠了偏振板和2层或3层以上的光学层的构件构成。所以，也可以是组合所述反射型偏振板或半透过型偏振板和相位差板而成的反射型椭圆偏振板或半透过型椭圆偏振板等。

在偏振板上层叠了所述光学层的光学薄膜，可以利用在液晶显示装置等的制造过程中依次独立层叠的方式来形成，但是预先经层叠而成为光学薄膜的偏振板在质量的稳定性或组装操作等方面优良，因此具有可以改善液晶显示装置等的制造工序的优点。在层叠中可以使用粘合层等适宜的粘接手段。在粘接所述偏振板或其他光学层时，它们的光学轴可以根据目标相位差特性等而采用适宜的配置角度。

还有，在本发明的粘合型光学薄膜的光学薄膜或粘合剂层等各层上，利用例如用水杨酸酯系化合物或苯并苯酚(benzophenol)系化合物、苯并三唑系化合物或氰基丙烯酸酯系化合物、镍配位化合物系化合物等紫外线吸收剂进行处理的方式等，使之具有紫外线吸收能力等。

本发明的粘合型光学薄膜能够优选用于液晶显示装置等各种图像显示装置的形成等。液晶显示装置可以根据以往的方法形成。即，一般来说，液晶显示装置可以通过适宜地组合液晶单元和粘合型光学薄膜，以及根据需要而加入的照明系统等构成部件并装入驱动电路等而形成，在本发明中，除了使用本发明的粘合型光学薄膜之外，没有特别限定，可以依据以往的方法形成。对于液晶单元而言，也可以使用例如TN型或STN型、π型、VA型、IPS型等任意类型的液晶单元。

通过本发明可以形成在液晶单元的一侧或两侧配置了粘合型光学薄膜的液晶显示装置、在照明系统中使用了背光灯或反射板的装置等适宜的液晶显示装置。此时，本发明的光学薄膜可以设置在液晶单元的一侧或两侧上。当将光学薄膜设置在两侧时，它们既可以是相同的材料，也可以是不同的材料。另外，在形成液晶显示装置时，可以在适宜的位置上配置1层或2层以上的例如扩散板、防眩层、防反射膜、保护板、棱镜阵列、透镜阵列薄片、光扩散板、背光灯等适宜的部件。

接着，对有机电致发光装置(有机EL显示装置)进行说明。本发明的光学薄膜(偏振板等)也可以用于有机EL显示装置。一般地，在有机EL显示装置中，在透明基板上依次层叠透明电极、有机发光层以及金属电极而形成发光体(有机电致发光体)。在这里，有机发光层是各种有机薄膜的层叠体，已知有：例如由三苯基胺衍生物等构成的空穴注入层和由蒽等荧光性的有机固体构成的发光层的层叠体、或此种发光层和由二萘嵌苯衍生物等构成的电子注入层的层叠体、或者这些空穴注入层、发光层及电子注入层的层叠体等各种组合。

有机EL显示装置根据如下的原理进行发光，即，通过在透明电极和金属电极上加上电压，向有机发光层中注入空穴和电子，由这些空穴和电子的复合而产生的能量激发荧光物质，被激发的荧光物质回到基态时，就会放射出光。中间的复合机理与一般的二极管相同，由此也可以推测出，电流和发光强度相对于外加电压显示出伴随整流性的较强的非线性。

在有机EL显示装置中，为了取出有机发光层中产生的光，至少一方的电极必须是透明的，通常将由氧化铟锡(ITO)等透明导电体制成的透明电极作为阳极使用。另一方面，为了容易进行电子的注入而提高发光效率，在阴极中使用功函数较小的物质是十分重要的，通常使用Mg—Ag、Al—Li等金属电极。

在具有此种构成的有机EL显示装置中，有机发光层由厚度为10nm左右的极薄的膜构成。所以，有机发光层也与透明电极一样，使光基本上完全地透过。其结果是，在不发光时从透明基板的表面入射并透过透明电极和有机发光层而在金属电极反射的光会再次向透明基板的表面侧射出，因此，当从外部进行辨识时，有机EL装置的显示面如同镜面。

在包括如下所述的有机电致发光体的有机EL显示装置中，可以在透明电极的表面侧设置偏振板，同时在这些透明电极和偏振板之间设置相位差板，在所述有机电致发光体中，在通过施加电压而进行发光的有机发光层的表面侧设有透明电极，同时在有机发光层的背面侧设有金属电极。

由于相位差板及偏振板具有使从外部入射并在金属电极反射的光成为偏振光的作用，因此由该偏振光作用具有使得从外部无法辨识出金属电极的镜面的效果。特别是，在采用1/4波长板构成相位差板，并且将偏振板和相位差板的偏光方向的夹角调整为π/4时，可以完全遮蔽金属电极的镜面。

即，入射于该有机EL显示装置的外部光因偏振板的存在而只有直线偏振光成分透过。该直线偏振光一般会被相位差板转换成椭圆偏振光，而当相位差板为1/4波长板并且偏振板和相位差板的偏光方向的夹角为π/4时，就会成为圆偏振光。

该圆偏振光透过透明基板、透明电极、有机薄膜，在金属电极上反射，之后再次透过有机薄膜、透明电极、透明基板，由相位差板再次转换成直线偏振光。由于该直线偏振光与偏振板的偏光方向正交，因此无法透过偏振板。其结果是，可以将金属电极的镜面完全地遮蔽。

实施例

以下，通过实施例具体说明本发明，但本发明并不被这些实施例限定。其中，各例中的份和％均是重量基准。如下所述地测定实施例等中的评价项目。

<重均分子量的测定>

得到的(甲基)丙烯酸系聚合物的重均分子量利用GPC(凝胶渗透色谱)测定。样品使用的是将试样溶解于二甲基甲酰胺中，制成0.1重量％的溶液，将其静置一晚之后，用0.45μm的膜滤器过滤得到的滤液。

·分析装置：东tosoh公司制，HLC—8120GPC

·柱：东tosoh公司制，Super AWM—H、AW4000、AW2500

·柱尺寸：各6.0mmΦ×150mm

·洗提液：30mM—溴化锂、30mM—磷酸的二甲基甲酰胺溶液

·流量：0.4ml/min

·检测器：示差折射计(RI)

·柱温度：40℃

·注入量：20μl

(偏振板的制作)

将厚80μm的聚乙烯醇薄膜在速比不同的辊间，在30℃、0.3％浓度的碘溶液中染色1分钟，同时进行3倍拉伸。随后，在60℃、含有4％浓度的硼酸、10％浓度的碘化钾的水溶液中浸渍0.5分钟，同时进行拉伸并使总拉伸倍率为6倍。接着，在30℃、含有1.5％浓度的碘化钾的水溶液中浸渍10秒，由此进行清洗，然后50℃下干燥4分钟，得到偏振片。在该偏振片的两面，利用聚乙烯醇系胶粘剂贴合已被实施皂化处理的80μm的三乙酰纤维素薄膜，制作偏振板。

实施例1

<丙烯酸系聚合物的制备>

在具备搅拌桨、温度计、氮气导入管、冷却器的四口烧瓶中，将丙烯酸丁酯99份、丙烯酸2—羟基丁酯1份、作为聚合引发剂的2，2’—偶氮二异丁腈0.3份与乙酸乙酯200份一起边缓慢搅拌边导入氮气，在进行氮气置换之后，将烧瓶内的液温保持至60℃附近，进行4个小时的聚合反应，制备丙烯酸系聚合物溶液。所述丙烯酸系聚合物的重均分子量为211万。

<丙烯酸系粘合剂的制备>

向在上述得到的丙烯酸系聚合物中，进一步添加乙酸乙酯，制备总固体成分浓度为30％的丙烯酸系聚合物溶液。接着，相对于该丙烯酸系聚合物溶液的固体成分100份，配合0.1份的N—苯基—γ—氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业(株)制，KBM573)，从而制备丙烯酸系粘合剂溶液。

<粘合型偏振板的制作>

接着，用喷注式刮刀涂布机将所述丙烯酸系粘合剂溶液均匀涂敷于已用硅酮系剥离剂实施处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(剥离衬垫；三菱化学聚酯薄膜(株)制，MRF38)的剥离处理面，然后用75℃的空气循环式恒温烘炉干燥2分钟，在剥离衬垫的表面形成厚度为20μm的粘合剂层。接着向形成在剥离衬垫的剥离处理面上的粘合剂层照射电子射线(照射量：15kGy)。随后，将剥离衬垫上的粘合剂层贴合在偏振板上，制作带有剥离衬垫的粘合型偏振板。

实施例2～23

在实施例1中，如表1所示对制备丙烯酸系聚合物时的单体成分的种类以及使用量的任意至少一个、或制作粘合型偏振板时的粘合剂层的干燥温度或电子射线照射的照射量进行变更，除此之外，与实施例1一样，制备丙烯酸系聚合物溶液，同样地制备丙烯酸系粘合剂，另外，同样地制作带有剥离衬垫的粘合型偏振板。其中，各例中得到的丙烯酸系聚合物的重均分子量如表1所示。

实施例24

<丙烯酸系聚合物以及丙烯酸系粘合剂的制备>

在实施例1中，如表1所示对制备丙烯酸系聚合物时的单体成分的种类以及使用量的任意至少一个进行变更，除此之外，与实施例1一样，制备丙烯酸系聚合物溶液，同样地制备丙烯酸系粘合剂。其中，得到的丙烯酸系聚合物的重均分子量如表1所示。

<粘合型偏振板的制作>

接着，用喷注式刮刀涂布机将所述丙烯酸系粘合剂溶液均匀涂敷于已用硅酮系剥离剂实施处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(剥离衬垫；三菱化学聚酯薄膜(株)制，MRF38)的剥离处理面，然后用75℃的空气循环式恒温烘炉干燥2分钟，在剥离衬垫的表面形成厚度为20μm的粘合剂层。接着将剥离衬垫上的粘合剂层贴合在偏振板上，然后从剥离衬垫侧进行电子射线照射(照射量：15kGy)，制作带有剥离衬垫的粘合型偏振板。

比较例1

<丙烯酸系粘合剂的制备>

向与实施例4一样得到的丙烯酸系聚合物中，进一步添加乙酸乙酯，制备总固体成分浓度为30％的丙烯酸系聚合物溶液。接着，相对于该丙烯酸系聚合物溶液的固体成分100份，配合0.15份的三羟甲基丙烷亚二甲苯基二异氰酸酯(三井武田聚氨酯(株)制、塔凯耐特(タケネ—ト)D—110N)和0.1份的N—苯基—γ—氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业(株)制，KBM573)，从而制备丙烯酸系粘合剂溶液。

<粘合型偏振板的制作>

接着，用喷注式刮刀涂布机将上述制备的丙烯酸系粘合剂溶液均匀涂敷于已用硅酮系剥离剂实施处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(剥离衬垫；三菱化学聚酯薄膜(株)制，MRF38)的剥离处理面，然后用75℃的空气循环式恒温烘炉干燥2分钟，在剥离衬垫的表面形成厚度为20μm的粘合剂层。随后，将剥离衬垫上的粘合剂层贴合在偏振板上，制作带有剥离衬垫的粘合型偏振板。

比较例2

<丙烯酸系聚合物的制备>

在具备搅拌桨、温度计、氮气导入管、冷却器的四口烧瓶中，放入丙烯酸丁酯100份、作为聚合引发剂的2，2’—偶氮二异丁腈0.3份与乙酸乙酯200份，制备溶液。接着，边缓慢搅拌该溶液边导入氮气，在进行氮气置换之后，将烧瓶内的液温保持至60℃附近，进行4个小时的聚合反应，制备丙烯酸系聚合物溶液。所述丙烯酸系聚合物的重均分子量为237万。

<丙烯酸系粘合剂的制备以及粘合型偏振板的制作>

在实施例1中，使用上述得到的物质作为丙烯酸系聚合物，除此之外，与实施例1一样，制备丙烯酸系粘合剂，另外同样地制作带有剥离衬垫的粘合型偏振板。

比较例3

<丙烯酸系粘合剂的制备>

向与比较例2一样得到的丙烯酸系聚合物中，进一步添加乙酸乙酯，制备总固体成分浓度为30％的丙烯酸系聚合物溶液。接着，相对于该丙烯酸系聚合物溶液的固体成分100份，配合过氧化二苯甲酰(日本油脂(株)制，奈帕(ナイパ—)BMT40(SV))0.3份和N—苯基—γ—氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业(株)制，KBM573)0.1份，从而制备丙烯酸系粘合剂溶液。

<粘合型偏振板的制作>

用喷注式刮刀涂布机将上述制备的丙烯酸系粘合剂溶液均匀涂敷于已用硅酮系剥离剂实施处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(剥离衬垫；三菱化学聚酯薄膜(株)制，MRF38)的剥离处理面，然后用155℃的空气循环式恒温烘炉干燥2分钟，在剥离衬垫的表面形成厚度为20μm的粘合剂层。随后，将剥离衬垫上的粘合剂层贴合在偏振板上，制作带有剥离衬垫的粘合型偏振板。

比较例4

<丙烯酸系粘合剂的制备>

向与实施例1一样得到的丙烯酸系聚合物中，进一步添加乙酸乙酯，制备总固体成分浓度为30％的丙烯酸系聚合物溶液。接着，相对于该丙烯酸系聚合物溶液的固体成分100份，配合过氧化二苯甲酰(日本油脂(株)制，奈帕(ナイパ—)BMT40(SV))0.3份和N—苯基—γ—氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业(株)制，KBM573)0.1份，从而制备丙烯酸系粘合剂溶液。

<粘合型偏振板的制作>

使用上述制备的丙烯酸系粘合剂溶液，与比较例3一样，在剥离衬垫上形成粘合剂层。然后，将剥离衬垫上的粘合剂层贴合在偏振板上，制作带有剥离衬垫的粘合型偏振板。

比较例5

<丙烯酸系粘合剂的制备>

向与实施例4一样得到的丙烯酸系聚合物中，进一步添加乙酸乙酯，制备总固体成分浓度为30％的丙烯酸系聚合物溶液。接着，相对于该丙烯酸系聚合物溶液的固体成分100份，配合N—苯基—γ—氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业(株)制，KBM573)0.1份，从而制备丙烯酸系粘合剂溶液。

<粘合型偏振板的制作>

比较例6

<丙烯酸系粘合剂的制备>

向与实施例14一样得到的丙烯酸系聚合物中，进一步添加乙酸乙酯，制备总固体成分浓度为30％的丙烯酸系聚合物溶液。接着，相对于该丙烯酸系聚合物溶液的固体成分100份，配合过氧化二苯甲酰(日本油脂(株)制，奈帕(ナイパ—)BMT40(SV))0.3份和N—苯基—γ—氨基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业(株)制，KBM573)0.1份，从而制备丙烯酸系粘合剂溶液。

<粘合型偏振板的制作>

对于从在上述实施例以及比较例得到的带有剥离衬垫的粘合型偏振板除去剥离衬垫后的构件(样品)，进行下述评价。将评价结果示于表2。

<凝胶分率>

关于粘合剂层的凝胶分率的测定，是在将粘合剂层W1(g)(干燥重量)浸渍于乙酸乙酯中之后，从乙酸乙酯中取出上述粘合剂层的不溶部分，测定干燥后的重量W2(g)，根据(W2/W1)×100计算出数值，以该数值为凝胶分率(重量％)。更为具体而言，取交联后的粘合剂层W1(g)(约500mg)。接着，在23℃下将上述粘合剂层浸渍在乙酸乙酯中7天。然后，取出上述粘合剂层，在130℃下干燥2小时，测定得到的粘合剂层的重量W2(g)，将该W1和W2代入上式求出凝胶分率(重量％)。

关于凝胶分率，在形成了粘合剂层之后，对下述老化后进行测定。

^*1：在23℃下放置1小时后的凝胶分率(E1)。

^*2：在23℃下放置24小时后的凝胶分率。

^*3：在23℃下放置1周后的凝胶分率(E1’)。

^*4：在23℃下放置1小时后、进而在90℃下干燥120小时后的凝胶分率(E2)。

其中，所谓形成了粘合剂层之后，在实施例中是指当结束电子射线照射之后，在比较例中是指通过干燥形成了粘合剂层之后。

<粘接力的测定>

在将上述样品裁断成25mm宽度之后，用2kg辊以一个往复将其压接在厚0.7mm的无碱玻璃(尤宁古(コ—ニング)公司制，1737)上，从而进行贴附，接着，在23℃下养生1小时。对用抗张力试验机以剥离角度90°、剥离速度300mm/min剥脱该样品时的粘接力(N/25cm)进行测定。另外，利用与上述相同的方法，对在23℃下放置1小时、进而在60℃下干燥48小时之后的粘接力(N/25cm)进行测定。

<再加工性>

在将上述样品裁断成纵420mm×320mm之后，使用层叠机贴合在厚度0.7mm的无碱玻璃(尤宁古(コ—ニング)公司制，1737)的两面并使其成为交叉尼科尔状态。然后利用50℃、0.5MPa的高压锅处理15分钟后，进而在60℃下干燥48小时，使上述样品与无碱玻璃完全密接。用人手从无碱玻璃剥脱该样品，用以下的基准评价再加工性。关于再加工性的评价，是通过上述步骤制作3片，反复实施3次。

◎：三片均没有浆糊残留或薄膜的断裂等而被很好地剥脱。

○：三片中有部分发生薄膜断裂。但通过再次剥离可以剥脱。

△：三片均有薄膜断裂，但通过再次剥离可以剥脱。

×：三片均有浆糊残留，或几次剥离也均引起薄膜断裂而无法剥脱。

<耐久性>

将上述样品切断成420mm×240mm之后，使用层叠机贴合在厚度0.7mm的无碱玻璃(尤宁古(コ—ニング)公司制，1737)的两面并使其成为交叉尼科尔状态。然后利用50℃、0.5MPa的高压锅处理15分钟后，使上述样品与无碱玻璃完全密接。对于已实施该处理的样品，在80℃、90℃、95℃、100℃、60℃/90％RH的条件下实施500小时处理，然后以下述基准目视评价发泡、剥离、浮起的状态。

○：没有发泡、剥离、浮起等。

△：为在实际应用上没有问题的水平，但目视下水平稍差。

×：在实际应用上存在问题。

<可加工性>

对于在作成上述样品之后在24小时以内冲裁成一边长度为270mm的正方形的样品100片，作业者通过目视、手触进行观察，判断偏振板侧面是否有粘着感。另外，判断偏振板的表面是否被粘合剂污染。以下述基准评价有几片样品有粘着感以及污染。

○：100片中有0片。

△：100片中有1～5片。

×：100片中有6片以上。

[表1]

Claims

1.一种粘合型光学薄膜，其是在光学薄膜的至少一侧层叠有粘合剂层的粘合型光学薄膜，其特征在于，

所述粘合剂层是由含有(甲基)丙烯酸系聚合物而成的丙烯酸系粘合剂形成的，且该丙烯酸系粘合剂中的(甲基)丙烯酸系聚合物因电子射线照射而发生了交联；所述的(甲基)丙烯酸系聚合物中，作为单体单元含有(甲基)丙烯酸烷基酯30～99.99重量％以及含官能团单体0.01～15重量％。

2.根据权利要求1所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，

所述含官能团单体是从含羧基单体、含羟基单体、含酰胺基单体、含氨基单体中选择的至少任意一种。

3.根据权利要求1所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，

所述粘合剂层在电子射线照射之后于23℃下放置1小时后的凝胶分率E1为50～95重量％。

4.根据权利要求3所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，

所述粘合剂层在电子射线照射之后于23℃下放置1周后，进而在90℃下干燥120小时后的凝胶分率E2为30～95重量％，且凝胶分率E2与23℃下放置1周之后的凝胶分率E1’之差E1’—E2为20重量％以下。

5.根据权利要求1所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，

将所述粘合剂层在贴合于无碱玻璃上，于23℃下放置1小时之后，在90度方向以300mm/min进行剥脱时的粘接力为1～10N/25mm。

6.根据权利要求5所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，

将所述粘合剂层在贴合于无碱玻璃上并在23℃下放置1小时，进而在60℃下干燥48小时之后，在90度方向以300mm/min进行剥脱时的粘接力为3～20N/25mm。

7.一种粘合型光学薄膜的制造方法，其是在权利要求1所述的粘合型光学薄膜的粘合剂层上设置有剥离衬垫的带有剥离衬垫的粘合型光学薄膜的制造方法，该方法的特征在于，包括：

工序1a，其是将含有(甲基)丙烯酸系聚合物而成的丙烯酸系粘合剂涂布于剥离衬垫上，形成粘合剂层的工序，所述的(甲基)丙烯酸系聚合物中，作为单体单元含有(甲基)丙烯酸烷基酯50～99.99重量％和含官能团单体0.01～5重量％；

工序2a，其是从该粘合剂层侧向所述粘合剂层照射电子射线而使粘合剂层交联，在剥离衬垫上形成已被交联的粘合剂层的工序；和

工序3a，其是将形成在所述剥离衬垫上的已被交联的粘合剂层贴合在光学薄膜上的工序。

8.一种粘合型光学薄膜的制造方法，其是在权利要求1所述的粘合型光学薄膜的粘合剂层上设置有剥离衬垫的带有剥离衬垫的粘合型光学薄膜的制造方法，该方法的特征在于，包括：

工序1b，其是将含有(甲基)丙烯酸系聚合物而成的丙烯酸系粘合剂涂布于剥离衬垫上，形成粘合剂层的工序，所述的(甲基)丙烯酸系聚合物中，作为单体单元含有(甲基)丙烯酸烷基酯50～99.99重量％和含官能团单体0.01～5重量％；

工序2b，其是将形成在所述剥离衬垫上的粘合剂层贴合在光学薄膜上的工序；和

工序3b，其是从设置有剥离衬垫的一侧向所述粘合剂层照射电子射线而使粘合剂层交联，从而形成已被交联的粘合剂层的工序。

9.一种图像显示装置，其至少使用一片权利要求1～6中任意一项所述的粘合型光学薄膜。