TWI441885B - An adhesive type optical film, a manufacturing method thereof, and an image display device - Google Patents

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TWI441885B
TWI441885B TW97141071A TW97141071A TWI441885B TW I441885 B TWI441885 B TW I441885B TW 97141071 A TW97141071 A TW 97141071A TW 97141071 A TW97141071 A TW 97141071A TW I441885 B TWI441885 B TW I441885B
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Shinichi Inoue
Mizue Nagata
Toshitsugu Hosokawa
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Description

黏著型光學膜、其製造方法及圖像顯示裝置
本發明係關於一種黏著型光學膜及其製造方法。進而，本發明係關於一種使用上述黏著型光學膜之液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置。作為上述光學膜，可使用偏光板、相位差板、光學補償膜、亮度提昇膜，進而亦可使用積層該等而成者。
液晶顯示器等就其圖像形成方式而言，必要且不可或缺的是於液晶單元之兩側配置偏光元件，通常貼附有偏光板。另外，液晶面板上除了使用偏光板之外，為了提高顯示器之顯示質量，亦開始使用各種光學元件。例如，可使用用於防止著色之相位差板、用於改善液晶顯示器之視角之視角擴大膜，進而亦可使用用於提高顯示器之對比度之亮度提昇膜等。該等膜總稱為光學膜。
在將上述光學膜貼附於液晶單元上時，通常使用黏著劑。另外，就光學膜與液晶單元、或者光學膜之間之接著而言，通常為了降低光之損耗，各自之材料係使用黏著劑密接。於此情形時，具有在使光學膜固著時不需要乾燥步驟等優點，因此通常係使用黏著劑作為黏著劑層而預先設置於光學膜之單側之黏著型光學膜。
用於上述黏著型光學膜之光學膜，於加熱或加濕之條件下容易收縮、膨脹，因此在將上述黏著型光學膜貼合於液晶單元之後，容易產生浮起或剝離。因此，對於上述黏著 劑層要求針對加熱以及加濕等之耐久性。另外，對於上述黏著劑層，要求於光學膜上形成黏著劑層之後，具有可在不產生黏著劑之污染或脫落等之情況下進行加工之可加工性。
對於上述耐久性，可藉由於黏著劑中添加交聯劑而形成已實施交聯處理之黏著劑層來應對。作為交聯劑，例如使用異氰酸酯系交聯劑或環氧系交聯劑，但若使用該等交聯劑，則即便在塗佈乾燥之後，交聯亦不會完結，其後，必需熟化(ageing)時間。熟化時間通常需要1天至1週左右，另一方面，若不進行熟化即進行切斷加工等，則會產生於切斷刀上附著黏著劑、或在重疊已切斷之膜時上下黏住等不良情況，製造步驟中之良率降低。進而，在熟化期間，產品之物流遲滯，於輸送方面亦並非較好。另外，若進行加熱處理以促進熟化，則容易產生光學膜之尺寸變化、光學特性之降低，因此並非較好。
另外，作為上述黏著劑所要求之必要特性，是在將光學膜貼合於液晶單元上時，即便在弄錯貼合位置或異物齧入到貼合面之類之情況下，亦可以從液晶面板上剝離光學膜而對液晶單元進行再利用，於該剝離步驟中，要求能夠在沒有殘留黏著劑之情況下容易地從液晶面板上剝離光學膜之再剝離性(再加工性)。尤其是近年來，除了先前之面板製成步驟之外，使用經過化學蝕刻處理之玻璃之薄型液晶面板之使用亦增加，來自該薄型液晶面板之光學膜之再加工性、可加工性變得困難。進而，在將黏著型光學膜貼合 於液晶單元上之後，於對黏著劑層進行加熱壓接處理(例如高壓鍋)或數小時~數十小時之加熱乾燥處理之情形時，有時存在下述等不良情況，即於上述剝離步驟中從液晶面板上剝離光學膜時，其剝離力過強而使液晶單元之間隙發生變化，或者光學膜斷裂而於液晶面板上殘留光學膜，而無法充分滿足上述再剝離性(再加工性)。
先前，在形成黏著型光學膜之黏著劑層時，例如係使用丙烯酸系黏著劑。藉由該丙烯酸系黏著劑形成之黏著劑層通常具有作為基礎聚合物之(甲基)丙烯酸系聚合物藉由交聯劑而交聯之結構。例如，作為上述丙烯酸系黏著劑，提出有於使二乙烯基苯與丙烯酸系單體共聚合而成之(甲基)丙烯酸系聚合物中調配有固化劑之黏著劑(專利文獻1)。公開有藉由該丙烯酸系黏著劑，高溫高濕條件下之凝聚力及接著力之經時變化較少，特別是光學膜與剝離基材之接著力優異，不會發生黏著劑之剝離或發泡等不良情況之耐久性優異。另外，將上述丙烯酸系黏著劑塗佈於基材上之後，藉由照射電子射線，可顯示出特別優異之效果。然而，雖然該黏著型光學膜可滿足耐久性，但不能說可滿足再加工性。
除了上述外，作為可用於與玻璃貼合且於光學膜中使用之丙烯酸系黏著劑，提出有於丙烯酸系聚合物中添加有過氧化物者(專利文獻2)。公開有藉由該丙烯酸系黏著劑，藉由利用過氧化物所引起之熱分解反應，而耐久性高，於製造步驟方面亦具有優異之可加工性(操作處理性)。然而， 專利文獻2中揭示之丙烯酸系黏著劑無法充分滿足再加工性。
專利文獻1：日本專利特開平8-218048號公報
專利文獻2：日本專利特開2006-183022號公報
本發明之目的在於提供一種再加工性優異且耐久性高、進而可加工性良好之黏著型光學膜及其製造方法。
另外，本發明之目的亦在於提供一種使用上述黏著型光學膜之圖像顯示裝置。
本發明人等人為解決上述課題而反覆進行潛心研究，結果發現下述黏著型光學膜，以至於完成本發明。
即，本發明係關於一種黏著型光學膜，其特徵在於：其係於光學膜之至少一側積層有黏著劑層之黏著型光學膜，上述黏著劑層係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物而成之丙烯酸系黏著劑形成，且該丙烯酸系黏著劑中之(甲基)丙烯酸系聚合物藉由電子射線照射而發生交聯；上述(甲基)丙烯酸系聚合物係含有(甲基)丙烯酸烷基酯50~99.99重量%以及含官能基之單體0.01~15重量%作為單體單元而成者。
於上述黏著型光學膜中，較好的是含官能基之單體為選自含羧基之單體、含羥基之單體、含醯胺基之單體、含胺基之單體中之至少任意一種。
於上述黏著型光學膜中，較好的是上述黏著劑層在電子 射線照射之後於23℃下放置1小時後之凝膠率(E1)為50~95重量%。另外，較好的是上述黏著劑層在電子射線照射之後於23℃下放置1週之後、進而於90℃下乾燥120小時後之凝膠率(E2)為30~95重量%，且凝膠率(E2)與23℃下放置1週後之凝膠率(E1')之差(E1'-E2)為20重量%以下。
於上述黏著型光學膜中，較好的是上述黏著劑層在貼合於無鹼玻璃上、於23℃下放置1小時之後、於90度方向上以300mm/min剝離時之接著力為1~10N/25mm。另外，較好的是上述黏著劑層在貼合於無鹼玻璃上、於23℃下放置1小時、進而於60℃下乾燥48小時之後、於90度方向上以300mm/min剝離時之接著力為3~20N/25mm。
另外，本發明係關於一種黏著型光學膜之製造方法，其特徵在於：其係於上述黏著型光學膜之黏著劑層上設置有剝離襯墊的帶有剝離襯墊之黏著型光學膜之製造方法；該方法包括以下步驟：步驟(1a)，其將含有(甲基)丙烯酸系聚合物而成之丙烯酸系黏著劑塗佈於剝離襯墊上而形成黏著劑層，上述(甲基)丙烯酸系聚合物係含有(甲基)丙烯酸烷基酯30~99.99重量%及含官能基之單體0.01~5重量%作為單體單元而成者；步驟(2a)，其於上述黏著劑層上從該黏著劑層側照射電子射線而使黏著劑層交聯，於剝離襯墊上形成已交聯之黏著劑層；以及步驟(3a)，其將形成於上述剝離襯墊上之已交聯之黏著 劑層貼合於光學膜上。
另外，本發明亦係關於一種黏著型光學膜之製造方法，其特徵在於：其係於上述黏著型光學膜之黏著劑層上設置有剝離襯墊的帶有剝離襯墊之黏著型光學膜之製造方法；該方法包括以下步驟：步驟(1b)，其將含有(甲基)丙烯酸系聚合物而成之丙烯酸系黏著劑塗佈於剝離襯墊上而形成黏著劑層，上述(甲基)丙烯酸系聚合物係含有(甲基)丙烯酸烷基酯50~99.99重量%及含官能基之單體0.01~5重量%作為單體單元而成者；步驟(2b)，其將形成於上述剝離襯墊上之黏著劑層貼合於光學膜上；以及步驟(3b)，其於上述黏著劑層上從設置有剝離襯墊之一側照射電子射線而使黏著劑層交聯，形成已交聯之黏著劑層。
另外，本發明係關於一種使用至少一片上述黏著型光學膜之圖像顯示裝置。
形成上述本發明之黏著型光學膜之丙烯酸系黏著劑，作為基礎聚合物之(甲基)丙烯酸系聚合物係含有含官能基之單體作為單體單元而成者，且在由該丙烯酸系黏著劑形成之黏著劑層中，上述(甲基)丙烯酸系聚合物藉由照射電子射線而發生交聯。即，關於作為基礎聚合物之(甲基)丙烯酸系聚合物，係使用不會因多官能單體而發生交聯之物 質，形成黏著劑層之(甲基)丙烯酸系聚合物主要具有藉由照射電子射線而交聯之結構。
藉由採用該構成，可獲得例如從無鹼玻璃(例如液晶單元)上剝離之再加工性優異、且耐久性高、進而可加工性良好之本發明之黏著型光學膜。如此，本發明之黏著型光學膜，可維持耐久性，且即便於從液晶面板上剝離光學膜之情形時，亦可容易地進行剝離而沒有黏著劑殘留，能夠在不使光學膜斷裂之情況下從液晶面板上剝離。其結果，即便是薄型之液晶面板亦沒有破損，可有效地進行液晶面板之再利用。進而，可抑制加工時黏著劑之脫落或污染。
如上所述，本發明之黏著劑層中，上述(甲基)丙烯酸系聚合物可藉由電子射線照射所引起之交聯而形成。電子射線照射所引起之交聯是自由基形成而導致之交聯，因此於氧氣環境下，即便產生自由基，亦會以非常快之速度產生與氧結合之副反應，因此容易妨礙交聯。另外，即便進行某種程度之交聯，而較高地維持期待之凝膠率，亦會於(甲基)丙烯酸系聚合物中生成劣化種，因此在加熱條件下，凝膠率降低，耐久性產生不良情況。在形成本發明之黏著劑層時，於利用(甲基)丙烯酸系聚合物形成黏著劑層之後，對該黏著劑層照射電子射線，藉此而在難以提供氧之狀態下照射電子射線，儘可能地不受氧本身之影響，藉由凝膠率之降低，而抑制耐久性產生不良情況。
另外，於本發明中，向(甲基)丙烯酸系聚合物導入含官能基之單體作為共聚單體，容易使電子射線照射而形成之 交聯部位(自由基發生點)集中於側鏈。再者，就側鏈之導入而言，考慮使(甲基)丙烯酸系聚合物與具有至少兩個反應性雙鍵之多官能單體進行共聚，但多官能單體難以控制製備(甲基)丙烯酸系聚合物時之聚合反應，另外亦難以穩定地得到高分子量物質。
關於藉由電子射線照射而造成氧化劣化之機制，一般認為係：由於生成之-O-O-鍵之離解能非常低，故-O-O-鍵於低能量下容易分解，使自由基濃度倍增，在該連鎖過程中生成之RO自由基因β裂解而使聚合物分子量降低。因此，一般認為，關於聚合物之藉由電子射線之交聯，於聚合物中之主鏈之三級碳處之交聯為主體之情形時，將主鏈切斷，故聚合物中之破壞性劣化不斷進展。如上所述，於本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物中導入含官能基之單體作為共聚單體，使交聯部位(自由基發生點)集中於側鏈，可防止由主鏈切斷所引起之(甲基)丙烯酸系聚合物之破壞性劣化，而維持耐久性。就作為共聚單體而導入之含官能基之單體而言，較好的是含胺基之單體或含醯胺基之單體等含氮單體，少量聚合即可獲得上述效果。作為含氮單體，較好的是含胺基之單體，特別好的是具有三級胺基之單體。
本發明之黏著型光學膜之黏著劑層，係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物而成之丙烯酸系黏著劑形成，上述(甲基)丙烯酸系聚合物係含有(甲基)丙烯酸烷基酯30~99.99重量%及含官能基之單體0.01~15重量%作為單體單元而成者。
作為(甲基)丙烯酸烷基酯，係(甲基)丙烯酸烷基酯之烷基之碳數為2~18左右之化合物。烷基可未直鏈、支鏈之任一者。上述烷基之平均碳數較好的是2~14，更好的是平均碳數為3~12，進而更好的是平均碳數為4~9。再者，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，與本發明之(甲基)意思相同。
再者，含有(甲基)丙烯酸系聚合物而成之丙烯酸藉由電子射線照射而產生交聯反應、同時產生崩解反應之情況較多。(甲基)丙烯酸系聚合物表示丙烯酸系聚合物及/或甲基丙烯酸系聚合物，但丙烯酸系聚合物容易引起交聯反應，甲基丙烯酸系聚合物容易引起崩解反應。因此，於本發明中，較好的是使用丙烯酸系聚合物，單體成分較好的是使用丙烯酸烷基酯。其他單體成分亦同樣。
作為(甲基)丙烯酸烷基酯之具體例，可舉出(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸異肉豆蔻酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸正十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸異十八烷基酯等。其中，可例示(甲基) 丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等，該等可單獨或組合使用。
於本發明中，上述(甲基)丙烯酸烷基酯相對於(甲基)丙烯酸系聚合物之所有單體成分為30~99.99重量%。就(甲基)丙烯酸烷基酯之比例而言，於除了含官能基之單體以外不含有任意單體之情形時，較好的是85~99.99重量%，更好的是91~99.99重量%，進而較好的是95~99.95重量%，更好的是97~99.95重量%，進而更好的是99~99.95重量%。另外，若上述(甲基)丙烯酸系單體過少，則變得缺乏黏著性，因此並非較好。
另外，作為含官能基之單體，可使用具有各種官能基之單體，但較好的是使用例如選自含羧基之單體、含羥基之單體、含醯胺基之單體、含胺基之單體中之至少任意一種。再者，含官能基之單體係使位於末端之官能基優先而進行分類。
作為含羧基之單體，可無特別限制地使用含有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基且含有羧基之單體。作為含羧基之單體，例如可舉出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、亞甲基丁二酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸等。其中，較好的是(甲基)丙烯酸，特別好的是丙烯酸。
作為含羥基之單體，可無特別限制地使用含有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基且含有羥基之單體。作為含羥基之單體，例如可舉出(甲基)丙烯 酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯；羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺；另外亦可舉出丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥基(甲基)丙烯醯胺、烯丙醇、2-羥乙基乙烯基醚、4-羥丁基乙烯基醚、二乙二醇單乙烯基醚等。其中，較好的是(甲基)丙烯酸羥基烷基酯。
另外，作為含醯胺基之單體，可無特別限制地使用含有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有醯胺鍵之單體。作為含醯胺基之單體，例如可舉出(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-乙烯基己內醯胺、N-丙烯醯基嗎啉、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶、N-丙烯醯基吡咯烷等N-取代醯胺系單體，雙丙酮(甲基)丙烯醯胺、N-乙烯基乙醯胺等。
另外，作為含胺基之單體，可無特別限制地使用含有(甲基)丙烯醯基且含有胺基之單體。作為含胺基之單體，較好的是具有三級胺基單體。另外，作為三級胺基，較好的是三級胺基烷基。作為該含三級胺基之單體，可舉出N,N-二烷基胺基烷基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二烷基胺基烷基酯。作為含三級胺基之單體之具體例，例 如可舉出N,N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基丙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二乙基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二乙基胺基丙酯。另外，作為具有仲胺基之單體，可以舉出(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯等。
作為上述以外之含官能基之單體，例如可舉出N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺、N-甲基順丁烯二醯亞胺、N-乙基順丁烯二醯亞胺、N-丙基順丁烯二醯亞胺、N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-丁基順丁烯二醯亞胺、亞甲基丁二醯亞胺等含醯亞胺基之單體；順丁烯二酸酐、亞甲基丁二酸酐等含酸酐基之單體；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基之單體；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等含環氧基之丙烯酸系單體；2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等含磷酸基之單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體等。
進而，作為上述以外之含官能基之單體，可舉出含有矽原子之矽烷系單體等。作為矽烷系單體，例如可舉出3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三甲氧基 矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三乙氧矽烷等。
上述含官能基之單體使用上述例示中之至少一種，但可選擇使用2種以上、進而3種以上之不同之含官能基之單體。
如上所述，作為含官能基之單體，較好的是含胺基之單體。作為兩種以上不同之含官能基之單體之組合，例如較好的是含羧基之單體與含羥基之單體之組合、含羥基之單體與含胺基之單體之組合、含羧基之單體與含胺基之單體之組合等。作為含官能基之單體，於含有含羧基之單體與含羥基之單體之情形時，可藉由酯化實現加熱耐久性。另外，作為含官能基之單體，於含有含羧基之單體與含胺基之單體之情形時，可藉由酸鹼反應實現加熱耐久性。作為3種以上之不同之含官能基之單體之組合，例如較好的是含羧基之單體與含羥基之單體及含胺基之單體之組合等。於含有該等含官能基之單體之情形時，得到上述加熱耐久性之協同效果。
上述含官能基之單體，以相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分之總量為0.01~15重量%之比例使用。若含官能基之單體之比例少於0.01重量%，則藉由電子射線照射所形成之側鏈上之交聯點減少，另外於耐久性方面亦並非較好。另一方面，若含官能基之單體之比例增多，則與無鹼玻璃之相互作用增強，因此就再加工性之觀點而言， 含官能基之單體之比例控制為15重量%以下。
再者，於上述含官能基之單體為1種之情形時，其比例相對於單體成分之總量較好的是0.01~5重量%。於使用不同種類之含官能基之單體之情形時，關於每種含官能基之單體，相對於單體成分之總量較好的是0.01~5重量%。上述一種或每種含官能基之單體之比例較好的是0.01~3重量%，更好的是0.05~1重量%，進而更好的是0.05~0.5重量%。
作為形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分，除了上述單體之外，於不損及本發明之目的之範圍內，可在單體總量之55重量%以下之範圍內使用上述以外之單體。任意單體之比例較好的是45重量%以下，更好的是35重量%以下。再者，此時，(甲基)丙烯酸烷基酯之比例為30重量%以上，更好的是40重量%以上，進而更好的是50重量%以上。作為上述任意單體，例如可舉出含有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基且含有芳香族環之含芳香族環之單體。作為含芳香族環之單體之具體例，可舉出(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯酚環氧乙烷改性(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-萘乙酯、(甲基)丙烯酸2-(4-甲氧基-1-萘氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基二乙二醇酯、聚苯乙烯基(甲基)丙烯酸酯等。
進而，亦可舉出乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯系單體；苯乙烯、α-甲基苯乙烯等芳香族系單體；(甲基)丙烯 酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系單體等。
本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物，通常使用重量平均分子量為100萬~300萬之範圍之聚合物。若考慮耐久性、特別是耐熱性，則較好的是使用重量平均分子量為150萬~250萬之聚合物。進而更好的是170萬~250萬。若重量平均分子量小於100萬，於耐熱性方面並非較好。另外，若重量平均分子量大於300萬，則於貼合性、黏著力降低方面亦並非較好。再者，重量平均分子量係指藉由GPC(凝膠滲透層析法)進行測定並藉由聚苯乙烯換算而算出之值。
此種(甲基)丙烯酸系聚合物之製造可適當選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳液聚合、各種自由基聚合等公知之製造方法。另外，所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物可未無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等中之任一者。
再者，於溶液聚合中，作為聚合溶劑，例如使用乙酸乙酯、甲苯等。作為具體之溶液聚合例，反應係於氮等惰性氣流下添加聚合起始劑，通常在50~70℃左右、5~30小時左右之反應條件下進行。
對在自由基聚合中使用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等並無特別限定，可適當選擇使用。再者，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可由聚合起始劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件來控制，根據該等之種類來調節合適之使用量。
作為聚合起始劑，例如可舉出2,2'-偶氮二異丁腈、2,2'- 偶氮二(2-脒基丙烷)鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2'-偶氮雙(N,N'-二亞甲基異丁基脒)、2,2'-偶氮雙[N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光純藥公司製，VA-057)等偶氮系起始劑，過硫酸鉀、過硫酸銨等過硫酸鹽，過氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯、過氧化二碳酸二第二丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化特戊酸第三己酯、過氧化特戊酸第三丁酯、過氧化二月桂醯、過氧化二正辛醯、過氧化-2-乙基己酸(1,1,3,3-四甲基丁基)酯、過氧化二(4-甲基苯甲醯)、過氧化二苯甲醯、過氧化異丁酸第三丁酯、1,1-二(第三己基過氧化)環己烷、氫過氧化第三丁基、過氧化氫等過氧化物系起始劑，過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物與抗壞血酸鈉之組合等組合過氧化物與還原劑之氧化還原系起始劑等，但並不限定於該等。
上述聚合起始劑可單獨使用，亦可混合兩種以上使用，作為整體含量，相對於單體100重量份，較好的是0.005~1重量份左右，更好的是0.02~0.5重量份左右。
其中，於使用例如2,2'-偶氮二異丁腈作為聚合起始劑來製造上述重量平均分子量之(甲基)丙烯酸系聚合物時，聚合起始劑之使用量相對於單體成分之總量100重量份，較好的是0.06~0.2重量份左右，更好的是0.08~0.175重量份左右。
作為鏈轉移劑，例如可舉出十二硫醇、縮水甘油基硫 醇、巰基乙酸、2-巰基乙醇、硫代乙醇酸、硫代乙醇酸-2-乙基己酯、2,3-二巰基-1-丙醇等。鏈轉移劑可單獨，亦可混合兩種以上使用，作為整體含量，相對於單體成分之總量100重量份，為0.1重量份左右以下。
另外，作為在乳液聚合中使用之乳化劑，例如可舉出月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二烷基苯磺酸鈉、聚氧乙烯烷基醚硫酸銨、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸鈉等陰離子系乳化劑，聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物等非離子系乳化劑等。該等乳化劑可單獨使用，亦可併用兩種以上。
進而，作為反應性乳化劑，作為導入有丙烯基、烯丙醚基等自由基聚合性官能基之乳化劑，具體而言，例如有AUALON HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上均為第一工業製藥公司製)、ADEKA REASOAP SE 10N(旭電化工公司製)等。反應性乳化劑係於聚合後被導入至聚合物鏈中，因此耐水性變好，故較好。乳化劑之使用量相對於單體成分之總量100重量份，較好的是0.3~5重量份，就聚合穩定性或機械穩定性而言，更好的是0.5~1重量份。
另外，為了提高接著力、耐久力，可於本發明之丙烯酸系黏著劑中使用矽烷偶合劑。作為矽烷偶合劑，可無特別限制地適當使用公知之矽烷偶合劑。
具體而言，例如可舉出3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基 甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷偶合劑；3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基甲矽烷基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷偶合劑；3-異氰酸酯基丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷偶合劑等。於耐久性之提高方面，較好的是使用此種矽烷偶合劑。
上述矽烷偶合劑可單獨使用，亦可混合兩種以上使用，作為整體含量，相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，較好的是含有0.01~2重量份上述矽烷偶合劑，更較好的是含有0.02~0.6重量份，進而較好的是含有0.05~0.3重量份。於未達0.01重量份時，對於提高耐久性而言不充分。另一方面，若超過2重量份，則有對液晶單元等光學構件之接著力過於增大、而再加工性降低之虞。
另外，於本發明之丙烯酸系黏著劑中，為了提高固著力，可含有少量之交聯劑。作為交聯劑，可適當使用異氰酸酯系、環氧系、過氧化物系、金屬螯合物系、唑啉系等。該等交聯劑可使用1種或組合2種以上使用，該等之中，於密接性方面較好的是異氰酸酯系交聯劑。交聯劑之含量，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份為2重量份以下，較好的是1.5重量份以下，更好的是1重量份以下。
進而，於本發明之黏著劑組合物中亦可含有其他公知之添加劑，例如根據所使用之用途，可適當添加著色劑、顏料等粉體，染料、界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤 滑劑、流平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、阻聚劑、無機或有機之填充劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。另外，於能夠控制之範圍內，可採用添加有還原劑之氧化還原系。
本發明之黏著型光學膜之黏著劑層，係藉由上述丙烯酸系黏著劑在光學膜之至少一面上形成有黏著劑層者，且該丙烯酸系黏著劑中之(甲基)丙烯酸系聚合物藉由被照射電子射線而發生交聯。
上述黏著型光學膜，例如可藉由製造於黏著型光學膜之黏著劑層上設置有剝離襯墊之帶有剝離襯墊之黏著型光學膜而獲得。作為該帶有剝離襯墊之黏著型光學膜之製造方法，可採用下述製造方法(A)以及製造方法(B)。
在製造方法(A)中，包括：步驟(1a)，其將上述製備之丙烯酸系黏著劑塗佈於剝離襯墊上，形成黏著劑層；步驟(2a)，其於上述黏著劑層上從該黏著劑層側照射電子射線而使黏著劑層交聯，於剝離襯墊上形成已交聯之黏著劑層；以及步驟(3a)，其將形成於上述剝離襯墊上之已交聯之黏著劑層貼合於光學膜上。
在製造方法(B)中，包括：步驟(1b)，其將上述製備之丙烯酸系黏著劑塗佈於剝離襯墊上，形成黏著劑層；步驟(2b)，其將形成於上述剝離襯墊上之黏著劑層貼合 於光學膜上；以及步驟(3b)，其於上述黏著劑層上從設置有剝離襯墊之一側照射電子射線，形成已交聯之黏著劑層之步驟。
在上述步驟(1a)以及步驟(2a)中，於剝離襯墊上塗佈丙烯酸系黏著劑，形成黏著劑層。於丙烯酸系黏著劑不含交聯劑之情形時，形成未交聯之黏著劑層。未交聯之黏著劑層在以後之步驟中藉由照射電子射線而發生交聯。
作為剝離襯墊之構成材料，例如可舉出聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚酯膜等塑料膜，紙、布、不織布等多孔材料，網狀物、發泡片材、金屬箔、及該等材料之積層體等適當之薄片體等，而從表面平滑性優異之方面出發，較好的是使用塑料膜。
作為該塑料膜，只要未可形成上述黏著劑層之膜，則無特別限定，例如可舉出聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、聚對苯二甲酸丁二醇酯膜、聚胺酯膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜等。
上述剝離襯墊之厚度通常為5~200μm，較好的是5~100μm左右。根據需要，亦可對上述剝離襯墊施行利用矽酮系、氟系、長鏈烷基系或脂肪醯胺系之脫模劑、二氧化矽粉等所進行之脫模及防汙處理或塗佈型、混入型、蒸鍍型等防靜電處理。尤其是可藉由在上述剝離襯墊之表面適當進行矽酮處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，而進一步提高從上述黏著劑層剝離之剝離性。
再者，於製作上述黏著型光學膜之後，剝離襯墊可直接用作黏著型光學膜之間隔件，可在步驟方面簡化。
向上述剝離襯墊上塗佈丙烯酸系黏著劑可採用各種方法。例如可舉出輥塗、輥舐式塗佈(kiss-roll coating)、凹版印刷塗佈、反向塗佈、輥刷、噴塗、浸漬輥塗、棒塗、刮塗、氣刀式塗佈法、簾塗、唇式塗佈(lip coat)，利用模塗機(die coater)、噴注式塗佈機等之擠壓塗佈法等方法。
藉由上述塗佈，而於上述剝離襯墊上形成塗膜。上述丙烯酸系黏著劑通常製成溶液使用，因此於此情形時，通常對上述塗膜實施乾燥。在上述塗佈時，可適當新添加溶劑。乾燥溫度係由溶液中使用之溶劑決定，但通常較好的是40~120℃，更好的是40~100℃，特別好的是45~85℃。乾燥時間可適當採用合適之時間。乾燥時間較好的是5秒~20分鐘，更好的是5秒~10分鐘，特別好的是10秒~5分鐘。藉由使乾燥溫度、乾燥時間為上述範圍，可在不引起副反應之情況下進行塗佈膜之溶劑乾燥，可獲得具有優異黏著特性之黏著劑層。
接著，於製造方法(A)中，在上述步驟(1a)之後，實施步驟(2a)，即，於上述黏著劑層上從該黏著劑層側照射電子射線而使黏著劑層發生交聯，從而於剝離襯墊上形成已交聯之黏著劑層。電子射線之照射量較好的是2~100kGy，更好的是2~70kGy，特別好的是5~50kGy。
於電子射線照射中，較好的是按照使交聯反應優先之方式進行條件設定。作為該條件，例如可舉出一邊加熱一邊 進行電子射線照射之方法、於水之共存下進行電子射線照射之方法、在難以提供氧之狀態(例如氮清洗(purge)之狀態)下進行電子射線照射之方法等，較好的是適當選擇該等而進行。於本發明中，就其簡便性而言，較好的是在難以提供氧之狀態下進行。
接著，於製造方法(A)中，實施將形成於上述剝離襯墊上之已交聯之黏著劑層貼合於光學膜上之步驟(3a)，獲得帶有剝離襯墊之黏著型光學膜。在實施上述貼合之步驟(3a)時，可於光學膜之表面形成增黏層，或者可實施電暈處理、電漿處理等各種易接著處理。可於黏著劑層之表面進行易接著處理。
另一方面，於製造方法(B)中，在上述步驟(1b)之後，實施將形成於上述剝離襯墊上之黏著劑層貼合於光學膜上之步驟(2b)。在步驟(2b)中，亦可與上述同樣對光學膜及/或接著劑層實施易接著處理。
接著，於製造方法(B)中，實施於上述黏著劑層上從設置有剝離襯墊之一側照射電子射線而使黏著劑層發生交聯、從而形成已交聯之黏著劑層之步驟(3b)，獲得帶有剝離襯墊之黏著型光學膜。電子射線之照射量與上述同樣，較好的是2~100kGy，更好的是2~70kGy，特別好的是5~50kGy。
其中，除了上述製造方法之外，例如亦可採用如下方法：將上述丙烯酸系黏著劑塗佈於光學膜上，將溶劑等乾燥除去而於光學膜上形成黏著劑層，然後照射電子射線。
如上所述獲得之黏著型光學膜之黏著劑層之厚度通常為2~50μm左右，較好的是2~40μm，更好的是5~35μm。
上述黏著劑層在電子射線照射之後於23℃下放置1小時後之凝膠率(E1)較好的是50~95重量%，更好的是60~95重量%，特別好的是70~95重量%。
另外，上述黏著劑層在電子射線照射之後於23℃下放置1週、進而於90℃下乾燥120小時後之凝膠率(E2)較好的是30~95重量%，更好的是40~95重量%，特別好的是50~95重量%。
另外，上述凝膠率(E2)與在23℃下放置1週後之凝膠率(E1')之差(E1'-E2)較好的是20重量%以下，更好的是15重量%以下，特別好的是5重量%以下，最好的是1重量%以下。其中，凝膠率(E1')較好的是50~95重量%，更好的是60~95重量%，特別好的是70~95重量%。
通常，不管黏著劑層之凝膠率過大亦是過小，其耐久性都容易產生不良情況。即，若凝膠率增大，則尤其無法耐受由加濕條件下之光學膜之收縮、膨脹引起之尺寸變化，容易產生從液晶單元上剝離等不良情況。另一方面，若凝膠率減小，則尤其容易產生在加熱條件下之液晶單元與黏著劑層之間產生之發泡等不良情況。就該耐久性觀點而言，本發明之黏著型光學膜之黏著劑層之凝膠率較好的是上述範圍，另外，較好的是隨著時間之推移凝膠率之變化較少之物質。
另外，上述黏著劑層在貼合於無鹼玻璃上、於23℃下放置1小時之後、於90度方向上以300mm/min剝離時之接著 力較好的是1~10N/25mm，更好的是1~8N/25mm，特別好的是2~7N/25mm。
另外，上述黏著劑層在貼合於無鹼玻璃上並於23℃下放置1小時、進而於60℃下乾燥48小時之後、於90度方向上以300mm/min剝離時之接著力較好的是3~20N/25mm，更好的是3~18N/25mm，特別好的是3~15N/25mm。
就再加工性、可加工性而言，黏著劑層之接著力較好的是上述範圍，另外，較好的是即便隨著時間之推移黏著劑層之接著力之變化亦較少之黏著劑層。
作為光學膜，使用於液晶顯示裝置等圖像顯示裝置之形成中使用之光學膜，對其種類並無特別限制。例如，作為光學膜，可舉出偏光板。偏光板通常使用於偏光元件之單面或兩面具有透明保護膜者。
作為使用於本發明之黏著型光學膜之光學膜，例如可舉出偏光板。偏光板一般可使用於偏光元件之單面或兩面具有透明保護膜者。
對偏光元件並無特別限制，可使用各種偏光元件。作為偏光元件，例如可舉出，於聚乙烯醇系膜、部分甲縮醛化之聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜上，吸附碘或二色性染料等二色性物質並單軸延伸之膜；聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向膜等。於該等偏光元件中，較好的是包含聚乙烯醇系膜與碘等二色性物質之偏光元件。對該等偏光元件之厚度並無特別限制，通常為5~80μm左右。
將聚乙烯醇系膜用碘染色後經單軸延伸而成之偏光元件，例如，可藉由將聚乙烯醇浸漬於碘之水溶液而進行染色後，延伸至原長度之3~7倍來製作。根據需要，亦可浸漬於可含硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等之水溶液中。此外，根據需要，亦可在染色前將聚乙烯醇系膜浸漬於水中水洗。藉由水洗聚乙烯醇系膜，除了可洗去聚乙烯醇系膜表面上之污物及防黏連劑之外，藉由使聚乙烯醇系膜膨潤，亦有防止染色斑等不均勻現象之效果。延伸既可在用碘染色之後進行，亦可一邊染色一邊進行延伸，或者亦可在延伸之後用碘進行染色。亦可於硼酸或碘化鉀等之水溶液中或水浴中進行延伸。
作為構成透明保護膜之材料，例如使用在透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性、各向同性等各方面優異之熱塑性樹脂。作為此種熱塑性樹脂之具體例，可舉出三乙醯纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、以及該等之混合物。再者，利用接著劑層於偏光元件之一側貼合透明保護膜，在另一側，可使用(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱固化性樹脂或紫外線固化型樹脂作為透明保護膜。透明保護膜中可含有1種以上任意適當之添加劑。作為添加劑，例如可舉出紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、著色防止劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、 著色劑等。透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量較好的是50~100重量%，更好的是50~99重量%，進而較好的是60~98重量%，特別好的是70~97重量%。於透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量為50重量%以下之情形時，可能會無法充分表現出熱塑性樹脂本來具有之高透明性等。
另外，作為透明保護膜，可舉出如日本專利特開2001-343529號公報(WO 01/37007)中揭示之聚合物膜，例如為含有(A)側鏈上具有取代及/或未取代醯亞胺基之熱塑性樹脂、與(B)側鏈上具有取代及/或未取代苯基以及腈基之熱塑性樹脂之樹脂組合物。作為具體例，可舉出含有包含異丁烯與N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物之膜。膜可使用包含樹脂組合物之混合擠出製品等之膜。該等膜因相位差小，且光彈性係數小，故能夠消除由偏光板之應變引起之不均等不良情況，另外，由於於透濕度小，故加濕耐久性優異。
透明膜之厚度可適當確定，通常就強度或操作性等作業性、薄層性等方面而言，為1~500μm左右。特別好的是1~300μm，更好的是5~200μm。透明保護膜為5~150μm時特別合適。
再者，當於偏光元件之兩側設置透明保護膜時，既可在其正反面使用包含相同聚合物材料之保護膜，亦可使用包含不同聚合物材料等之保護膜。
作為本發明之透明保護膜，較好的是使用選自纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂以及(甲基)丙烯酸樹 脂中之至少任意一種。
纖維素樹脂為纖維素與脂肪酸之酯。作為此種纖維素酯系樹脂之具體例，可舉出三乙醯纖維素、二乙醯纖維素、三丙醯纖維素、二丙醯纖維素等。其中，特別好的是三乙醯纖維素。三乙醯纖維素有很多製品出售，於容易獲得或成本之方面較為有利。作為三乙醯纖維素之市售品之例子，可舉出富士軟片公司製造之商品名「UV-50」、「UV-80」、「SH-80」、「TD-80U」、「TD-TAC」、「UZ-TAC」或KONICA公司製造之「KC系列」等。通常該等三乙醯纖維素之面內相位差(Re)大致為0，厚度方向相位差(Rth)為60nm以下左右。
再者，厚度方向相位差小之纖維素樹脂，例如可藉由對上述纖維素樹脂處理而獲得。例如可舉出將塗佈有環戊酮、甲基乙基酮等溶劑之聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、不鏽鋼等基材膜貼合於通常之纖維素系膜上，加熱乾燥(例如於80~150℃，3~10分鐘左右)後，剝離基材膜之方法；將於環戊酮、甲基乙基酮等溶劑中溶解有降烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂等之溶液塗佈於通常之纖維素樹脂膜上，加熱乾燥(例如於80~150℃，3~10分鐘左右)後，剝離塗佈膜之方法等。
另外，作為厚度方向相位差小之纖維素樹脂膜，可使用控制了脂肪取代度之脂肪酸纖維素系樹脂膜。在通常使用之三乙醯纖維素中，2.8左右，但較好的是藉由將乙酸取代度控制為1.8~2.7，可減小Rth。藉由向上述脂肪酸取代 纖維素系樹脂中添加鄰苯二甲酸二丁酯、對甲苯磺醯苯胺、檸檬酸乙醯三乙酯等塑化劑，可控制Rth為小值。相對於脂肪酸纖維素系樹脂100重量份，塑化劑之添加量較好的是40重量份以下，更好的是1~20重量份，進而較好的是1~15重量份。
作為環狀聚烯烴樹脂之具體例，較好的是降烯系樹脂。環狀聚烯烴系樹脂係將環狀烯烴作為聚合單元使其聚合之樹脂之總稱，例如，可舉出日本專利特開平1-240517號公報、日本專利特開平3-14882號公報、日本專利特開平3-122137號公報等中揭示之樹脂。作為具體例，可舉出環狀烯烴之開環(共)聚合物，環狀烯烴之加聚物，環狀烯烴與乙烯、丙烯等α-烯烴之共聚物(具有代表性的為無規共聚物)以及用不飽和羧酸或其衍生物使該等改性之接枝共聚物，以及該等之氫化物等。作為環狀烯烴之具體例，可舉出降烯系單體。
作為環狀聚烯烴樹脂，有多種製品出售。作為具體例，可舉出日本ZEON株式會社製造之商品名「ZEONEX」、「ZEONOR」、JSR株式會社製造之商品名「ARTON」、TICONA公司製之商品名「TOPAS」、三井化學株式會社製造之商品名「APEL」。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，Tg(玻璃轉移溫度)較好的是115℃以上，更好的是120℃以上，進而較好的是125℃以上，特別好的是130℃以上。藉由使Tg為115℃以上，可使偏光板之耐久性優異。對上述(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg之 上限值並無特別限定，但就成形性之觀點而言，較好的是170℃以下。由(甲基)丙烯酸系樹脂可獲得面內相位差(Re)、厚度方向相位差(Rth)大致為0之膜。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，於不損及本發明之效果之範圍內，可採用任意適當之(甲基)丙烯酸系樹脂。例如可舉出聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降酯共聚物等)。較好的是舉聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1~6烷基酯。更好的是舉出以甲基丙烯酸甲酯為主要成分(50~100重量%，較好的是70~100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂之具體例，例如可舉出三菱麗陽(MITSUBISHI RAYON)株式會社製造之ACRYPET VH或ACRYPET VRL20A、日本專利特開2004-70296號公報中揭示之分子內具有環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂、利用分子內交聯或分子內環化反應獲得之高Tg(甲基)丙烯酸樹脂系。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，亦可使用具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。這是因為具有高耐熱性、高透明性、利用雙軸延伸之高機械強度。
作為具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，可舉出日本專利特開2000-230016號公報、日本專利特開2001-151814號公報、日本專利特開2002-120326號公報、日本專利特開2002-254544號公報、日本專利特開2005-146084號公報等中揭示之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，較好的是具有以下述通式(化1)表示之類環結構。
式中，R1、R2及R3彼此獨立，表示氫原子或碳數為1~20之有機殘基。再者，有機殘基亦可包括氧原子。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中，以通式(化1)表示之內酯環結構之含有比例較好的是5~90重量%，更好的是10~70重量%，進而較好的是10~60重量%，特別好的是10~50重量%。具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中，以通式(化1)表示之內酯環結構之含有比例若少於5重量%，則耐熱性、耐溶劑性、表面硬度有可能變得不充分。具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中，以通式(化1)表示之內酯環結構之含有比例若多於90重量%，則有可能變得缺乏成形加工性。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之質量平均分子 量(有時亦稱為重量平均分子量)較好的是1000~2000000，更好的是5000~1000000，進而較好的是10000~500000，特別好的是50000~500000。若質量平均分子量超出上述範圍，則就成形加工性之方面而言並非較好。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，Tg較好的是115℃以上，更好的是120℃以上，進而較好的是125℃以上，特別好的是130℃以上。由於Tg在115℃以上，故例如於作為透明保護膜組入到偏光板之情形時，成為耐久性優異之偏光板。對具有上述內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg之上限值並無特別限定，就成形性等之觀點而言，較好的是170℃以下。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，利用射出成形得到之成形品之、利用基於ASTM-D-1003之方法所測定之總光線透過率越高越好，較好的是85%以上，更好的是88%以上，進而較好的是90%以上。總光線透過率未透明性之基準，若總光線透過率未達85%，則透明性可能會降低。
上述透明保護膜通常使用正面相位差未達40nm且厚度方向相位差未達80nm之膜。正面相位差Re以Re=(nx-ny)×d表示。厚度方向相位差Rth以Rth=(nx-nz)×d表示。另外，Nz係數以Nz=(nx-nz)/(nx-ny)表示。[其中，膜之滯相軸方向、進相軸方向以及厚度方向之折射率分別設為nx、ny、nz，d(nm)設為膜之厚度。滯相軸方向為膜面內之折射率成為最大之方向]。再者，透明保護膜較好的是儘可 能不著色。可較好地使用厚度方向之相位差值為-90nm~+75nm之保護膜。藉由使用該厚度方向之相位差值(Rth)為-90nm~+75nm之保護膜，可大致消除透明保護膜引起之偏光板之著色(光學著色)。厚度方向相位差值(Rth)進而較好的是-80nm~+60nm，特別好的是-70nm~+45nm。
另一方面，作為上述透明保護膜，可使用具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80mn以上之相位差之相位差板。正面相位差通常控制在40~200nm之範圍，厚度方向相位差通常控制在80~300nm之範圍。於使用相位差板作為透明保護膜之情形時，該相位差板亦起到透明保護膜之功能，因此可實現薄型化。
作為相位差板，可舉出對高分子材料實施單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性膜、液晶聚合物之配向膜、利用膜支持液晶聚合物之配向層之相位差板等。對相位差板之厚度並無特別限制，一般為20~150μm左右。
作為高分子材料，例如可舉出聚乙烯醇、聚乙烯醇縮丁醛、聚甲基乙烯醚、聚丙烯酸羥乙酯、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸酯、聚芳酯、聚碸、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚碸、聚苯硫醚、聚苯醚、聚烯丙基碸、聚醯胺、聚醯亞胺、聚烯烴、聚氯乙烯、纖維素樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降烯系樹脂)或該等之二元系、三元系各種共聚物、接枝共聚物、混合物等。該等高分子材料可藉由延伸等而成為配向 物(延伸膜)。
作為液晶聚合物，例如可舉出在聚合物之主鏈或側鏈上導入有賦予液晶配向性之共軛性之直線狀原子團(mesogen)的主鏈型或側鏈型之各種聚合物等。作為主鏈型液晶性聚合物之具體例，可舉出具有以賦予彎曲性之間隔部而鍵結液晶原基之構造之聚合物，例如向列配向性之聚酯系液晶性聚合物、圓盤型聚合物或膽固醇型聚合物等。作為側鏈型液晶聚合物之具體例，可舉出如下化合物等，即，將聚矽氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯作為主鏈骨架，經由包含共軛性之原子團之間隔部來作為側鏈而具有包含賦予向列配向性之對位取代環狀化合物單元的液晶原基部之化合物等。該等液晶聚合物例如藉由以下方法進行處理，即，於對形成於玻璃板上之聚醯亞胺或聚乙烯醇等薄膜之表面進行摩擦處理後者、斜向蒸鍍有氧化矽者等之配向處理面上，鋪展液晶性聚合物之溶液並進行熱處理。
相位差板例如可為各種波長板或以補償由液晶層之雙折射所造成之著色或視角等為目的者等具有滿足使用目的之適當相位差之材料，亦可為積層2種以上之相位差板來控制相位差等光學特性之材料。
相位差板滿足nx=ny>nz、nx>ny>nz、nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz=nx>ny、nz>nx>ny、nz>nx=ny之關係，可根據各種用途選擇使用。此外，ny=nz不僅包括ny與nz完全相同之情況，亦包括ny與nz實際上相同之情況。
例如，滿足nx>ny>nz之相位差板，較好的是使用滿足正面相位差為40~100nm、厚度方向相位差為100~320nm、Nz係數為1.8~4.5之相位差板。例如，滿足nx>ny=nz之相位差板(正A板)，較好的是使用滿足正面相位差為100~200nm之相位差板。例如滿足nz=nx>ny之相位差板(負A板)，較好的是使用滿足正面相位差為100~200nm之相位差板。例如，滿足nx>nz>ny之相位差板，較好的是使用滿足正面相位差為150~300nm、Nz係數超過0且為0.7以下之相位差板。另外，如上所述，例如可使用滿足nx=ny>nz、nz>nx>ny、或nz>nx=ny之相位差板。
透明保護膜可根據所應用之液晶顯示裝置適當選擇。例如在VA(Vertical Alignment(垂直配向)，包括MVA、PVA)之情形時，較好的是偏光板之至少一方(單元側)之透明保護膜具有相位差。作為具體之相位差，較好的是在Re=0~240nm、Rth=0~500nm之範圍。就三維折射率而言，較好的是nx>ny=nz、nx>ny>nz、nx>nz>ny、nx=ny>nz(正A板、雙軸、負C板)之情形。關於VA型，較好的是使用正A板與負C板之組合、或1片雙軸膜。於液晶單元之上下使用偏光板時，可於液晶單元之上下均具有相位差，或者亦可係上下任一透明保護膜具有相位差。
例如在於IPS(In-Plane Switching(平面切換)，包括FFS)之情形時，偏光板之一方之透明保護膜具有相位差之情形、不具有相位差之情形均可使用。例如，於不具有相位差之情形時，較好的是在液晶單元之上下(單元側)均不具 有相位差之情況。於具有相位差之情形時，較好的是在液晶單元之上下均具有相位差之情形、上下任一者具有相位差之情形(例如上側為滿足nx>nz>ny之關係之雙軸膜、下側無相位差之情形，或上側正A板、下側正C板之情形)。於具有相位差之情況時，較好的是Re=-500~500nm、Rth=-500~500nm之範圍。就三維折射率而言，較好的是nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz>nx=ny、nz>nx>ny(正A板、雙軸、正C板)。
再者，可另外於不具有相位差之透明保護膜上貼合上述具有相位差之膜，從而賦予上述功能。
關於上述透明保護膜，在塗佈接著劑之前，為了提高與偏光元件之接著性，亦可進行表面改性處理。作為具體之處理，可舉出電暈處理、電漿處理、火焰處理、臭氧處理、底塗處理、輝光處理、皂化處理、藉由偶合劑之處理等。另外，可適當地形成抗靜電層。
於上述透明保護膜之未接著偏光元件之一面，可進行硬塗層或防反射處理、防黏連處理、以擴散或防眩為目的之處理。
實施硬塗層處理之目的係防止偏光板之表面損傷等，例如可藉由以下等方式形成，即，於透明保護膜之表面上附加由丙烯酸系、矽酮系等適當之紫外線固化型樹脂構成之硬度、滑動特性等良好之固化被膜。實施防反射處理之目的係防止外光在偏光板表面之反射，可藉由形成基於先前之抗反射膜等來完成。另外，實施防黏連處理之目的係防 止與相鄰層(例如背光源側之擴散板)之密著。
另外，實施防眩處理之目的係防止外光在偏光板表面反射而干擾偏光板透射光之辨識等，例如，可藉由以下方式形成，即，利用噴砂方式或壓紋加工方式之粗表面化方式以及調配透明微粒之方式等適當之方式，向透明保護膜表面賦予微細凹凸結構。作為上述表面微細凹凸結構之形成中所含有之微粒，例如，可使用平均粒徑為0.5~20μm之包含氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等之有時具有導電性之無機系微粒、包含交聯或者未交聯之聚合物等之有機系微粒等透明微粒。當形成表面微細凹凸結構時，微粒之使用量相對於形成表面微細凹凸結構之透明樹脂100重量份，通常為2~70重量份左右，較好的是5~50重量份。防眩層亦可兼具使偏光板透射光擴散而擴大視角等之擴散層(視角擴大功能等)。
再者，上述抗反射層、防黏連層、擴散層或防眩層等除了可設置成透明保護膜自身以外，亦可作為其他光學層與透明保護膜分開設置。
上述偏光元件與透明保護膜之接著處理使用接著劑。作為接著劑，可舉例為異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系膠乳、水性聚酯等。上述接著劑通常作為包含水溶液之接著劑使用，通常含有0.5~60重量%之固形分而成。除了上述以外，作為偏光元件與透明保護膜之接著劑，可舉出紫外線固化型接著劑、電子射 線固化型接著劑等。電子射線固化型偏光板用接著劑相對於上述各種透明保護膜顯示出適合之接著性。另外，於本發明使用之接著劑中，可含有金屬化合物填充劑。
另外，作為光學膜，例如可舉出反射板或半透過板、上述相位差板(包括1/2或1/4等波長板)、視角補償膜、亮度提昇膜等在液晶顯示裝置等之形成中使用之光學層。該等可單獨用作光學膜，除此之外，可在上述偏光板上於實際應用時積層1層或2層以上使用。
特別好的偏光板是在偏光板上進一步積層反射板或半透過反射板而成之反射型偏光板或半透過型偏光板；在偏光板上進一步積層相位差板而成之橢圓偏光板或圓偏光板；在偏光板上進一步積層視角補償膜而成之寬視角偏光板；或者在偏光板上進一步積層亮度提昇膜而成之偏光板。
反射型偏光板係於偏光板上設置反射層而成者，可用於形成反射來自辨識側(顯示側)之入射光而進行顯示之類型之液晶顯示裝置等，並且具有可省略內置之背光源等光源，而易於使液晶顯示裝置薄型化等優點。形成反射型偏光板時，可以藉由以下方式等適當之方式進行：根據需要經由透明保護層等於偏光板之一面上附設包含金屬等之反射層。
作為反射型偏光板之具體例，可舉出根據需要在經消光處理之透明保護膜之一面上附設包含鋁等反射性金屬之箔或蒸鍍膜而形成反射層之偏光板等。另外，亦可舉出藉由使上述透明保護膜含有微粒而形成表面微細凹凸結構，並 在其上具有微細凹凸結構之反射層之反射型偏光板等。上述微細凹凸結構之反射層藉由漫反射而使入射光擴散，由此防止定向性或外觀發亮，具有可抑制明暗不均之優點等。另外，含有微粒之透明保護膜亦具有當入射光及其反射光透過其時會被擴散而進一步抑制明暗不均之優點等。反映透明保護膜之表面微細凹凸結構之微細凹凸結構之反射層之形成，例如可藉由用真空蒸鍍方式、離子鍍方式、濺射方式或鍍敷方式等適當之方式將金屬直接附設在透明保護層之表面上之方法等進行。
代替將反射板直接附設在上述偏光板之透明保護膜上之方式，亦可於作為以該透明膜為基準之適當之膜上設置反射層所形成之反射片等而使用。再者，由於反射層通常包含金屬，因此就防止由氧化造成反射率下降、進而長期保持初始反射率之方面或避免另外附設保護層之方面等而言，較好的是用透明保護膜或偏光板等覆蓋其反射面之使用形態。
再者，半透過型偏光板可以藉由製成在上述中用反射層來反射光且使光透過之半透半反鏡等半透過型之反射層而獲得。半透過型偏光板通常設置於液晶單元之背面側，可形成如下類型之液晶顯示裝置等：在比較明亮之環境中使用液晶顯示裝置等之情形時，反射來自於辨識側(顯示側)之入射光而顯示圖像，在比較暗之環境中，使用內置於半透過型偏光板之背面之背光源等內置光源來顯示圖像。即，半透過型偏光板在如下類型之液晶顯示裝置等之形成 中有用：在明亮之環境下可節約使用背光源等光源之能量，在比較暗之環境下亦可使用內置光源之類型之液晶顯示裝置。
就於偏光板上進一步積層相位差板而構成之橢圓偏光板或圓偏光板進行說明。在將直線偏振光改變為橢圓偏振光或圓偏振光，或者將橢圓偏振光或圓偏振光改變為直線偏振光，或者改變直線偏振光之偏光方向之情形時，可使用相位差板等。特別是作為將直線偏振光改變為圓偏振光或將圓偏振光改變為直線偏振光之相位差板，可使用所謂之1/4波長板(亦稱為λ/4板)。1/2波長板(亦稱為λ/2板)通常用於改變直線偏振光之偏光方向之情形。
橢圓偏光板可有效地用於以下等情形，即補償(防止)超扭轉向列相(STN)型液晶顯示裝置因液晶層之雙折射而產生之著色(藍或黃)，從而進行無上述著色之白黑顯示之情形等。進而，控制三維折射率之偏光板亦可補償(防止)從斜向觀察液晶顯示裝置之畫面時產生之著色，因此較好。圓偏光板可有效地用於例如對以彩色顯示圖像之反射型液晶顯示裝置之圖像之色調進行調整之情形等，而且亦具有防止反射之功能。
另外，上述橢圓偏光板或反射型橢圓偏光板係以適當之組合來積層偏光板或反射型偏光板與相位差板而成者。該橢圓偏光板等亦可藉由以下方式形成，即，在液晶顯示裝置之製造過程中依次分別積層(反射型)偏光板及相位差板，以構成(反射型)偏光板與相位差板之組合，但如上所 述，預先形成為橢圓偏光板等光學膜者，由於在質量之穩定性或積層操作性等方面優異，因此具有可提高液晶顯示裝置等之製造效率之優點。
視角補償膜係用於從不垂直於畫面而稍微傾斜之方向觀察液晶顯示裝置之畫面之情況下亦擴大視角而使圖像看起來比較清晰之膜。作為此種視角補償相位差板，例如由在相位差板、液晶聚合物等之配向膜或在透明基材上支持有液晶聚合物等之配向層者等構成。通常相位差板係使用沿其面方向實施單軸延伸之具有雙折射之聚合物膜，與此相對，用作視角補償膜之相位差板，可使用沿其面方向實施雙軸延伸之具有雙折射之聚合物膜、或沿其面方向單軸延伸且亦沿其厚度方向延伸之控制厚度方向之折射率得到控制之具有雙折射之聚合物或傾斜配向膜之類之雙軸延伸膜等。作為傾斜配向膜，例如可舉出在聚合物膜上接著熱收縮膜後在加熱形成之收縮力之作用下，對聚合物膜進行延伸處理或/及收縮處理者、使液晶聚合物傾斜配向者等。作為相位差板之原材料聚合物，可使用與上述相位差板中說明之聚合物相同之聚合物，可使用以防止基於由液晶單元所造成之相位差而形成之辨識角之變化所帶來之著色等或擴大辨識度良好之視角等為目的之適當之聚合物。
另外，就實現辨識度良好之寬視角之方面等而言，可較好地使用以三乙醯纖維素膜支持由液晶聚合物之配向層、特別是圓盤型液晶聚合物之傾斜配向層構成之光學各向異性層之光學補償相位差板。
將偏光板與亮度提昇膜貼合於一起而成之偏光板通常設置於液晶單元之背一側來使用。亮度提昇膜係顯示如下特性之膜，即，當因液晶顯示裝置等之背光源或來自背面側之反射等而有自然光入射時，會反射特定偏光軸之直線偏振光或特定方向之圓偏振光，而使其他光透過，因此將亮度提昇膜與偏光板積層而成之偏光板可使來自背光源等光源之光入射，而獲得特定偏光狀態之透過光，同時，不使上述特定偏光狀態以外之光透過並反射。經由設置於其後側之反射層等再次使在該亮度提昇膜面上反射之光反轉，使之再次入射到亮度提昇膜上，使其一部分或全部作為特定偏光狀態之光而透過，從而增加透過亮度提昇膜之光，同時向偏光元件提供難以吸收之偏振光，從而增大能夠在液晶顯示圖像之顯示等中利用之光量，藉此可提昇亮度。即，在不使用亮度提昇膜而用背光源等從液晶單元之背面側穿過偏光元件而使光入射之情形時，具有與偏光元件之偏光軸不一致之偏光方向之光基本上被偏光元件所吸收，而無法透過偏光元件。即，雖然會因所使用之偏光元件之特性而不同，然而大約50%之光會吸收至偏光元件，因此，在液晶圖像顯示等中能夠利用之光量會減少，導致圖像變暗。由於亮度提昇膜反覆進行如下操作，即，使具有能夠被偏光元件吸收之偏光方向之光不入射到偏光元件上，而是使此類光在亮度提昇膜上暫時發生反射，進而經由設置於其後側之反射層等使之反轉，使光再次入射到亮度提昇膜上，如此，亮度提昇膜僅使在這兩者間反射並反 轉之光中之、光置偏光方向成為能夠通過偏光元件的偏光方向之偏振光透過，同時將其提供給偏光元件，因此可在液晶顯示裝置之圖像之顯示中有效地使用背光源等之光，從而可使畫面明亮。
亦可於亮度提昇膜與上述反射層等之間設置擴散板。由亮度提昇膜反射之偏光狀態之光朝向上述反射層等，所設置之擴散板可將通過之光均勻地擴散，同時消除偏光狀態而成為非偏光狀態。即，反覆進行如下之作業：自然光狀態之光射向反射層等，經由反射層等而反射後，再次通過擴散板而再次入射到亮度提昇膜上。如此通過於亮度提昇膜與上述反射層等之間設置使偏振光恢復未原來之自然光狀態之擴散板，可在維持顯示畫面之亮度之同時，減少顯示畫面之亮度不均，從而可提供均勻並且明亮之畫面。一般認為藉由設置該擴散板，可適當增加初次入射光之重複反射次數，並與擴散板之擴散功能一起發揮作用，提供均勻明亮之顯示畫面。
作為上述亮度提昇膜，例如可使用：電介體之多層膜或折射率各向異性不同之膜的多層積層體之類之顯示出使特定偏光軸之直線偏振光透過而反射其他光之特性之膜、膽固醇型液晶聚合物之配向膜或在膜基材上支持有該配向液晶層之膜之類的顯示出將左旋或右旋中之任一種圓偏振光反射而使其他光透過之特性之膜等適當之膜。
因此，上述使特定偏光軸之直線偏振光透過之類型之亮度提昇膜，藉由使該透過光直接沿著與偏光軸一致之方向 入射到偏光板上，可在抑制由偏光板造成之吸收損失之同時，使光有效地透過。另一方面，膽固醇型液晶層之類之使圓偏振光透過之類型之亮度提昇膜，雖然亦可直接使光入射到偏光元件上，但就抑制吸收損失之方面而言，較好的是經由相位差板使該圓偏振光進行直線偏振光化，之後再入射到偏光板上。再者，藉由使用1/4波長板作為該相位差板，可將圓偏振光變換為直線偏振光。
於可見光區域等較寬波長範圍中起到1/4波長板作用之相位差板，例如可利用以下等方式獲得，即，將針對波長550nm之淺色光起到1/4波長板作用之相位差層與顯示其他之相位差特性之相位差層、例如起到1/2波長板作用之相位差層加以重疊。因此，配置於偏光板與亮度提昇膜之間之相位差板可包含1層或2層以上之相位差層。
再者，就膽固醇型液晶層而言，藉由組合反射波長不同者而構成重疊2層或3層以上之配置構造，可獲得在可見光區域等較寬之波長範圍反射圓偏振光者，基於此可獲得較寬波長範圍之透過圓偏振光。
另外，偏光板如同上述偏振光分離型偏光板，可由積層有偏光板與2層或3層以上之光學層者構成。因此，亦可為組合上述反射型偏光板或半透過型偏光板與相位差板而成之反射型橢圓偏光板或半透過型橢圓偏光板等。
於偏光板上積層有上述光學層之光學膜，亦可利用於液晶顯示裝置等之製造過程中依次獨立積層之方式來形成，然而預先經積層而成為光學膜之偏光板在質量之穩定性或 組裝操作等方面優良，具有可改善液晶顯示裝置等之製造步驟之優點。在積層中可使用黏著層等適當之接著手段。在接著上述偏光板或其他光學層時，該等之光學軸可根據目的相位差特性等而形成適當之配置角度。
再者，亦可對本發明之黏著型光學膜之光學膜或黏著劑層等各層，藉由例如用水楊酸酯系化合物或苯并苯酚(benzophenol)系化合物、苯并三唑系化合物或氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽化合物系化合物等紫外線吸收劑進行處理之方式等方式，使之具有紫外線吸收能力等。
本發明之黏著型光學膜可較好地用於液晶顯示裝置等各種圖像顯示裝置之形成等。液晶顯示裝置可根據先前之方法形成。即，一般而言，液晶顯示裝置可藉由適當地組裝液晶單元與黏著型光學膜、以及根據需要而加入之照明系統等構成部件並裝入驅動電路等而形成，在本發明中，除了使用本發明之黏著型光學膜之外，並無特別限定，可依據先前之方法形成。對於液晶單元而言，亦可使用例如TN型或STN型、π型、VA型、IPS型等任意類型之液晶單元。
藉由本發明可形成於液晶單元之一側或兩側配置有黏著型光學膜之液晶顯示裝置、在照明系統中使用背光源或反射板之裝置等適當之液晶顯示裝置。此時，本發明之光學膜可設置於液晶單元之一側或兩側上。當於兩側設置光學膜時，該等既可相同，亦可不同。進而，在形成液晶顯示裝置時，可於適當之位置上配置1層或2層以上之例如擴散 板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散板、背光源等適當之部件。
接著，對有機電致發光裝置(有機EL顯示裝置)進行說明。本發明之光學膜(偏光板等)亦可用於有機EL顯示裝置。一般而言，有機EL顯示裝置係於透明基板上依次積層透明電極、有機發光層以及金屬電極而形成發光體(有機電致發光體)。此處，有機發光層為各種有機膜之積層體，已知有：例如包含三苯基胺衍生物等之電洞注入層與包含蒽等螢光性有機固體之發光層之積層體，或此種發光層與包含苝衍生物等之電子注入層之積層體，或者該等電洞注入層、發光層及電子注入層之積層體等各種組合。
有機EL顯示裝置係根據如下原理進行發光，即，藉由對透明電極與金屬電極施加電壓，而向有機發光層中注入電洞與電子，由該等電洞與電子之再結合而產生之能量會激發螢光物質，被激發之螢光物質回到基態時就會放射出光。中途之複合機理與一般之二極體相同，由此亦可推測出，電流與發光強度相對於外加電壓顯示出伴隨整流性之較強之非線性。
於有機EL顯示裝置中，為了取出有機發光層中產生之光，至少一方之電極必須為透明，通常使用由氧化銦錫(ITO)等透明導電體製成之透明電極作為陽極。另一方面，為了容易進行電子之注入而提高發光效率，重要的是使用在陰極中使用功函數較小之物質，通常使用Mg-Ag、Al-Li等金屬電極。
於具有此種構成之有機EL顯示裝置中，有機發光層由厚度為10nm左右之極薄之膜構成。因此，有機發光層亦與透明電極同樣，基本上使光完全地透過。其結果，不發光時從透明基板之表面入射並透過透明電極與有機發光層而在金屬電極反射之光會再次向透明基板之表面側射出，因此，當從外部進行辨識時，有機EL裝置之顯示面如同鏡面。
於包括如下有機電致發光體之有機EL顯示裝置中，可在透明電極之表面側設置偏光板，同時在該等透明電極與偏光板之間設置相位差板，上述有機電致發光體於藉由施加電壓而進行發光之有機發光層之表面側具有透明電極，同時在有機發光層之背面側具有金屬電極。
由於相位差板及偏光板具有使從外部入射並在金屬電極反射之光成為偏振光之作用，因此具有因該偏振光作用而無法從外部辨識金屬電極之鏡面之效果。特別是若以1/4波長板構成相位差板，並且將偏光板與相位差板之偏光方向之夾角調整為π/4，則可完全地遮蔽金屬電極之鏡面。
即，入射至該有機EL顯示裝置之外部光由於偏光板而只有直線偏振光成分透過。該直線偏振光一般會由相位差板轉換成橢圓偏振光，特別是當相位差板為1/4波長板並且偏光板與相位差板之偏光方向之夾角為π/4時，會成為圓偏振光。
該圓偏振光透過透明基板、透明電極、有機膜，在金屬電極上反射，再次透過有機膜、透明電極、透明基板，於 相位差板上再次成為直線偏振光。並且，由於該直線偏振光與偏光板之偏光方向正交，因此無法透過偏光板。其結果，可完全地遮蔽金屬電極之鏡面。
實施例
以下，藉由實施例具體說明本發明，但本發明並不受該等實施例限定。再者，各例中之份與%均為重量基準。如下所述地測定實施例等中之評價項目。
<重量平均分子量之測定>
所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量係利用GPC(凝膠滲透層析)測定。樣品係使用將試料溶解於二甲基甲醯胺中、製成0.1重量%之溶液、將其靜置一晚之後、以0.45μm之膜濾器過濾得到之濾液。
．分析裝置：東TOSOH公司製，HLC-8120GPC
．管柱：東TOSOH公司製，Super AWM-H、AW4000、AW2500
．管柱尺寸：各6.0mmΦ×150mm
．洗脫液：30mM-溴化鋰、30mM-磷酸之二甲基甲醯胺溶液
．流量：0.4ml/min
．檢測器：示差折射計(RI)
．管柱溫度：40℃
．注入量：20μl
(偏光板之製作)
將厚度80μm之聚乙烯醇膜在速比不同之輥間，在 30℃、0.3%濃度之碘溶液中染色1分鐘，同時延伸至3倍。其後，在60℃、含有4%濃度之硼酸、10%濃度之碘化鉀之水溶液中浸漬0.5分鐘，同時進行延伸並使總拉伸倍率為6倍。接著，於30℃、含有1.5%濃度之碘化鉀之水溶液中浸漬10秒，藉此進行清洗，然後於50℃下乾燥4分鐘，獲得偏光元件。於該偏光元件之兩面，利用聚乙烯醇系接著劑貼合已實施皂化處理之厚度80μm之三乙醯纖維素膜，製作偏光板。
實施例1
<丙烯酸系聚合物之製備>
將丙烯酸丁酯99份、丙烯酸2-羥丁酯1份、作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈0.3份與乙酸乙酯200份一併裝入至具備攪拌槳、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中，一邊緩慢攪拌一邊導入氮氣，進行氮氣置換之後，將燒瓶內之液溫保持於60℃附近，進行4小時之聚合反應，製備丙烯酸系聚合物溶液。上述丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為211萬。
<丙烯酸系黏著劑之製備>
向上述獲得之丙烯酸系聚合物中進一步添加乙酸乙酯，製備總固形分濃度為30%之丙烯酸系聚合物溶液。接著，相對於該丙烯酸系聚合物溶液之固形分100份，調配0.1份之N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業(株)製，KBM573)，從而製備丙烯酸系黏著劑溶液。
<黏著型偏光板之製作>
接著，用噴注式塗佈機將上述丙烯酸系黏著劑溶液均勻地塗佈於以矽酮系剝離劑實施處理之聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(剝離襯墊；三菱化學聚酯膜(株)製，MRF38)之剝離處理面上，然後用75℃之空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，於剝離襯墊之表面形成厚度為20μm之黏著劑層。接著對形成於剝離襯墊之剝離處理面上之黏著劑層照射電子射線(照射量：15kGy)。其後，將剝離襯墊上之黏著劑層貼合於偏光板上，製作帶有剝離襯墊之黏著型偏光板。
實施例2~23
在實施例1中，如表1所示改變製備丙烯酸系聚合物時之單體成分之種類以及使用量之至少任一者、或製作黏著型偏光板時之黏著劑層之乾燥溫度或電子射線照射之照射量加以改變，除此之外，與實施例1同樣，製備丙烯酸系聚合物溶液，同樣地製備丙烯酸系黏著劑，另外，同樣地製作帶有剝離襯墊之黏著型偏光板。再者，各例中獲得之丙烯酸系聚合物之重量平均分子量示於表1。
實施例24
<丙烯酸系聚合物以及丙烯酸系黏著劑之製備>
在實施例1中，如表1所示改變製備丙烯酸系聚合物時之單體成分之種類以及使用量之至少任一者，除此之外，與實施例1同樣，製備丙烯酸系聚合物溶液，同樣地製備丙烯酸系黏著劑。再者，所獲得之丙烯酸系聚合物之重量平均分子量示於表1。
<黏著型偏光板之製作>
接著，用噴注式塗佈機將上述丙烯酸系黏著劑溶液均勻地塗佈於以矽酮系剝離劑實施處理之聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(剝離襯墊；三菱化學聚酯膜(株)製，MRF38)之剝離處理面上，然後用75℃之空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，於剝離襯墊之表面形成厚度為20μm之黏著劑層。接著將剝離襯墊上之黏著劑層貼合於偏光板上，然後從剝離襯墊側進行電子射線照射(照射量：15kGy)，製作帶有剝離襯墊之黏著型偏光板。
比較例1
<丙烯酸系黏著劑之製備>
向與實施例4同樣獲得之丙烯酸系聚合物中，進一步添加乙酸乙酯，製備總固形分濃度為30%之丙烯酸系聚合物溶液。接著，相對於該丙烯酸系聚合物溶液之固形分100份，調配0.15份之三羥甲基丙烷二甲苯二異氰酸酯(三井武田聚胺酯(株)製、TAKENATE D-110N)與0.1份之N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業(株)製，KBM573)，從而製備丙烯酸系黏著劑溶液。
<黏著型偏光板之製作>
用噴注式塗佈機將上述製備之丙烯酸系黏著劑溶液均勻地塗佈於以矽酮系剝離劑實施處理之聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(剝離襯墊；三菱化學聚酯膜(株)製，MRF38)之剝離處理面上，然後用75℃之空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，於剝離襯墊之表面形成厚度為20μm之黏著劑層。其後，將剝離襯墊上之黏著劑層貼合於偏光板上，製作帶有 剝離襯墊之黏著型偏光板。
比較例2
<丙烯酸系聚合物之製備>
將丙烯酸丁酯100份、作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈0.3份與乙酸乙酯200份一併裝入至具備攪拌槳、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中，製備溶液。接著，一邊緩慢攪拌該溶液一邊導入氮氣，進行氮氣置換之後，將燒瓶內之液溫保持於60℃附近，進行4小時之聚合反應，製備丙烯酸系聚合物溶液。上述丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為237萬。
<丙烯酸系黏著劑之製備以及黏著型偏光板之製作>
在實施例1中，使用上述獲得者作為丙烯酸系聚合物，除此之外，與實施例1同樣製備丙烯酸系黏著劑，另外同樣地製作帶有剝離襯墊之黏著型偏光板。
比較例3
<丙烯酸系黏著劑之製備>
向與比較例2同樣獲得之丙烯酸系聚合物中進一步添加乙酸乙酯，製備總固形分濃度為30%之丙烯酸系聚合物溶液。接著，相對於該丙烯酸系聚合物溶液之固形分100份，調配0.3份之過氧化二苯甲醯(日本油脂(株)製，NYPER BMT40(SV))與0.1份之N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業(株)製，KBM573)，從而製備丙烯酸系黏著劑溶液。
<黏著型偏光板之製作>
用噴注式塗佈機將上述製備之丙烯酸系黏著劑溶液均勻地塗佈於以矽酮系剝離劑實施處理之聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(剝離襯墊；三菱化學聚酯膜(株)製，MRF38)之剝離處理面上，然後用155℃之空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，於剝離襯墊之表面形成厚度為20μm之黏著劑層。其後，將剝離襯墊上之黏著劑層貼合於偏光板上，製作帶有剝離襯墊之黏著型偏光板。
比較例4
<丙烯酸系黏著劑之製備>
向與實施例1同樣獲得之丙烯酸系聚合物中進一步添加乙酸乙酯，製備總固形分濃度為30%之丙烯酸系聚合物溶液。接著，相對於該丙烯酸系聚合物溶液之固形分100份，調配0.3份之過氧化二苯甲醯(日本油脂(株)製，NYPER BMT40(SV))與0.1份之N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業(株)製，KBM573)，從而製備丙烯酸系黏著劑溶液。
<黏著型偏光板之製作>
使用上述製備之丙烯酸系黏著劑溶液，與比較例3同樣，在剝離襯墊上形成黏著劑層。其後，將剝離襯墊上之黏著劑層貼合於偏光板上，製作帶有剝離襯墊之黏著型偏光板。
比較例5
<丙烯酸系黏著劑之製備>
向與實施例4同樣獲得之丙烯酸系聚合物中進一步添加 乙酸乙酯，製備總固形分濃度為30%之丙烯酸系聚合物溶液。接著，相對於該丙烯酸系聚合物溶液之固形分100份，調配0.1份之N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業(株)製，KBM573)，從而製備丙烯酸系黏著劑溶液。
<黏著型偏光板之製作>
使用上述製備之丙烯酸系黏著劑溶液，與比較例3同樣，在剝離襯墊上形成黏著劑層。其後，將剝離襯墊上之黏著劑層貼合於偏光板上，製作帶有剝離襯墊之黏著型偏光板。
比較例6
<丙烯酸系黏著劑之製備>
向與實施例14同樣獲得之丙烯酸系聚合物中進一步添加乙酸乙酯，製備總固形分濃度為30%之丙烯酸系聚合物溶液。接著，相對於該丙烯酸系聚合物溶液之固形分100份，調配0.3份之過氧化二苯甲醯(日本油脂(株)製，NYPER BMT40(SV))與0.1份之N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業(株)製，KBM573)，從而製備丙烯酸系黏著劑溶液。
<黏著型偏光板之製作>
使用上述製備之丙烯酸系黏著劑溶液，與比較例3同樣，在剝離襯墊上形成黏著劑層。其後，將剝離襯墊上之黏著劑層貼合於偏光板上，製作帶有剝離襯墊之黏著型偏光板。
對於從上述實施例以及比較例獲得之帶有剝離襯墊之黏著型偏光板上除去剝離襯墊後者(樣品)，進行下述評價。將評價結果示於表2。
<凝膠率>
關於黏著劑層之凝膠率之測定，係在將黏著劑層之乾燥重量W1(g)浸漬於乙酸乙酯中後，從乙酸乙酯中取出上述黏著劑層之不溶部分，測定乾燥後之重量W2(g)，將根據(W2/W1)×100計算出之值作為凝膠率(重量%)。更具體而言，取交聯後之黏著劑層W1(g)(約500mg)。接著，於23℃下將上述黏著劑層於乙酸乙酯中浸漬7天。其後，取出上述黏著劑層，於130℃下乾燥2小時，測定所獲得之黏著劑層之重量W2(g)，將該W1和W2代入上式而求出凝膠率(重量%)。
關於凝膠率，係在形成黏著劑層之後，於下述熟化後進行測定。
*1：於23℃下放置1小時後之凝膠率(E1)。
*2：於23℃下放置24小時後之凝膠率。
*3：於23℃下放置1週後之凝膠率(E1')。
*4：於23℃下放置1小時後、進而於90℃下乾燥120小時後之凝膠率(E2)。
再者，所謂形成黏著劑層之後，於實施例中係指在結束電子射線照射之後，於比較例中係指藉由乾燥而形成黏著劑層之後。
<接著力之測定>
將上述樣品裁斷成25mm寬度，以2kg輥以一個往復將其壓接並貼附在厚度未0.7mm之無鹼玻璃(CORNING公司製，1737)上，接著，於23℃下熟化1小時。對該樣品用拉伸試驗機測定以剝離角度90°、剝離速度300mm/min剝離時之接著力(N/25cm)。另外，利用與上述相同之方法，對在23℃下放置1小時、進而在60℃下乾燥48小時後之接著力(N/25cm)進行測定。
<再加工性>
將上述樣品裁斷成縱420mm×320mm之後，以成為交叉尼科爾狀態使用層壓機將其貼合於厚度未0.7mm之無鹼玻璃(CORNING公司製，1737)之兩面。接著利用50℃、0.5MPa之高壓鍋處理15分鐘後，進而於60℃下乾燥48小時，使上述樣品完全密接於無鹼玻璃上。用人手從無鹼玻璃剝離該樣品，根據以下之基準評價再加工性。再加工性之評價，係藉由上述步驟製作3片，反覆實施3次。
◎：三片均無黏著劑殘留或膜之斷裂等而良好地剝離。
￮：三片中有一部分發生膜斷裂，但藉由再次剝離可以剝離。
△：三片均有膜斷裂，但藉由再次剝離可以剝離。
×：三片均產生黏著劑殘留，或幾次剝離但膜仍然斷裂而無法剝離。
<耐久性>
將上述樣品切斷成420mm×240mm之後，以成為交叉尼科爾狀態之方式使用層壓機將其貼合於厚度未0.7mm之無 鹼玻璃(CORNING公司製，1737)之兩面。接著利用50℃、0.5MPa之高壓鍋處理15分鐘後，使上述樣品完全密接於無鹼玻璃上。對於已實施該處理之樣品，在80℃、90℃、95℃、100℃、60℃/90% RH之條件下實施500小時處理，然後以下述基準目視評價發泡、剝離、浮起之狀態。
￮：無發泡、剝離、浮起等。
△：為實際應用上無問題之水平，但目視下水平稍差。
×：實際應用上存在問題。
<可加工性>
對於在製成上述樣品之後在24小時以內沖裁成一邊長度為270mm之正方形之樣品100片，作業者藉由目視、手觸進行觀察，判斷偏光板側面是否有黏著感。另外，判斷偏光板之表面是否受到黏著劑污染。以下述基準評價有幾片樣品均無黏著感以及污染。
￮：100片中有0片。
△：100片中有1~5片。
×：100片中有6片以上。
在表1中：BA表示丙烯酸丁酯，2HEA表示丙烯酸2-羥乙酯，4HBA表示丙烯酸4-羥丁酯，6HHA表示丙烯酸6-羥己酯，HEAA表示羥乙基丙烯醯胺，AA表示丙烯酸，DMAEA表示丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯，DMAPAA表示N,N-二甲基胺基丙基丙烯醯胺，NIPAM表示N-異丙基丙烯醯胺，PEA表示丙烯酸苯氧基乙酯，BzA表示丙烯酸苄酯。另外，表1中，過氧化物均為過氧化二苯甲醯(日本油脂(株)製，NYPER BMT40)，異氰酸酯系化合物為三羥甲基丙烷苯二亞甲基二異氰酸酯(三井武田聚胺酯(株)製、TAKENATE D-110N)。

Claims (8)

  1. 一種黏著型光學膜，其特徵在於：其係於光學膜之至少一側積層有黏著劑層之黏著型光學膜，上述黏著劑層係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物而成之丙烯酸系黏著劑形成，且該丙烯酸系黏著劑中之(甲基)丙烯酸系聚合物藉由電子射線照射而發生交聯；上述(甲基)丙烯酸系聚合物係含有碳數為2~18之(甲基)丙烯酸烷基酯30~99.99重量%以及含官能基之單體0.01~15重量%作為單體單元而成，且不會因多官能單體而發生交聯者；其中上述含官能基之單體係選自含羧基之單體、含羥基之單體、含醯胺基之單體、含胺基之單體中之至少任意一種。
  2. 如請求項1之黏著型光學膜，其中上述黏著劑層在電子射線照射之後於23℃下放置1小時後之凝膠率(E1)為50~95重量%。
  3. 如請求項2之黏著型光學膜，其中上述黏著劑層在電子射線照射之後於23℃下放置1週後、進而於90℃下乾燥120小時後之凝膠率(E2)為30~95重量%，且凝膠率(E2)與於23℃下放置1週後之凝膠率(E1')之差(E1'-E2)為20重量%以下。
  4. 如請求項1之黏著型光學膜，其中上述黏著劑層在貼合於無鹼玻璃上、於23℃下放置1小時之後、於90度方向上以300mm/min進行剝離時之接著力為1~10N/25mm。
  5. 如請求項4之黏著型光學膜，其中上述黏著劑層在貼合於無鹼玻璃上並於23℃下放置1小時、進而於60℃下乾燥48小時之後、於90度方向上以300mm/min進行剝離時之接著力為3~20N/25mm。
  6. 一種黏著型光學膜之製造方法，其特徵在於：其係於如請求項1之黏著型光學膜之黏著劑層上設置有剝離襯墊的帶有剝離襯墊之黏著型光學膜之製造方法；該方法包括以下步驟：步驟1a，其將含有(甲基)丙烯酸系聚合物而成之丙烯酸系黏著劑塗佈於剝離襯墊上而形成黏著劑層，上述(甲基)丙烯酸系聚合物係含有(甲基)丙烯酸烷基酯50~99.99重量%及含官能基之單體0.01~5重量%作為單體單元而成者；步驟2a，其於上述黏著劑層上從該黏著劑層側照射電子射線而使黏著劑層交聯，於剝離襯墊上形成已交聯之黏著劑層；以及步驟3a，其將形成於上述剝離襯墊上之已交聯之黏著劑層貼合於光學膜上。
  7. 一種黏著型光學膜之製造方法，其特徵在於：其係於如請求項1之黏著型光學膜之黏著劑層上設置有剝離襯墊的帶有剝離襯墊之黏著型光學膜之製造方法；該方法包括以下步驟：步驟1b，其將含有(甲基)丙烯酸系聚合物而成之丙烯酸系黏著劑塗佈於剝離襯墊上而形成黏著劑層，上述(甲 基)丙烯酸系聚合物係含有(甲基)丙烯酸烷基酯50~99.99重量%及含官能基之單體0.01~5重量%作為單體單元而成者；步驟2b，其將形成於上述剝離襯墊上之黏著劑層貼合於光學膜上；以及步驟3b，其於上述黏著劑層上從設置有剝離襯墊之一側照射電子射線而使黏著劑層交聯，從而形成已交聯之黏著劑層。
  8. 一種圖像顯示裝置，其至少使用一片如請求項1至5中任一項之黏著型光學膜。
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