CN101409202B - 准分子灯 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种可有效率地利用波长150nm附近的短波长的光、而可构成作为具有高处理能力的准分子灯。本发明的准分子灯，包括具有放电空间的由二氧化硅玻璃构成的放电容器，在夹着形成该放电容器的二氧化硅玻璃的状态下设有一对电极，并且在放电空间内封入有氙气体，在上述放电容器的放电空间内产生准分子放电，其中，在上述放电容器的曝露于放电空间中的表面上，形成由二氧化硅粒子与氧化铝粒子形成的紫外线反射膜，该紫外线反射膜所含的除了硅及铝以外的杂质金属的浓度为700wtppm以下。

Description

准分子灯

技术领域

本发明涉及一种准分子灯，其具备由二氧化硅玻璃构成的放电容器，在夹着形成该放电容器的二氧化硅玻璃的状态下设有一对电极，在上述放电容器的内部产生准分子放电。

背景技术

近年来，开发了例如通过将波长200nm以下的真空紫外光照射在由金属、玻璃及其它材料构成的被处理体上，而在该真空紫外光及由此所生成的臭氧的作用下处理被处理体的技术，例如除去附着于被处理体的表面的有机污染物质的清洗处理技术、或在被处理体的表面形成氧化膜的氧化膜形成处理技术，并将这些技术实用化。

作为照射真空紫外光的装置，将例如通过准分子放电形成准分子分子、并利用从该准分子分子所放射的光的准分子灯作为光源，在此种准分子灯中，为了更有效率地放射更高强度的紫外线，进行了很多尝试。

具体的说，例如参照图6加以说明，在实施例中示例了如下准分子灯50(参照专利文献1)：具备透射紫外线的由二氧化硅玻璃构成的放电容器51，在该放电容器51的内侧与外侧分别设有电极55、56，其中，在放电容器51的曝露于放电空间S中的表面上，形成紫外线反射膜20，而作为紫外线反射膜，仅由二氧化硅粒子构成、及仅由氧化铝粒子构成。

在该准分子灯50中，在放电容器51的一部分，未形成紫外线反射膜20，从而形成有出射在放电空间S内产生的紫外线的光出射部58。

根据此种构成的准分子灯50，通过在被曝露于放电容器51的放电空间S中的表面上设有紫外线反射膜，在设有紫外线反射膜的区域中，在放电空间S内产生的紫外线由紫外线反射膜反射，因此不会入射至二氧化硅玻璃，而在构成光出射部58的区域中，紫外线透射二氧化硅玻璃并放射至外部，所以基本上可以有效地利用在放电空间S内产生的紫外线，而且可将构成光出射部58以外的区域的二氧化硅玻璃的紫外线应变所致的损坏抑制得较小，而可防止产生裂痕。

专利文献1：日本专利第3580233号公报

近几年来，对于具备准分子灯的照射真空紫外光的装置的一种愿望，要求进一步提升处理效率，作为对于此种愿望的措施，考虑了有效地使用从准分子灯所放射的更短波长的光。该理由是波长短的光能量较大，因此即使少光的量也可得到大的作用。

然而，现有的准分子灯的紫外线反射膜，不具有如波长150nm附近的光的反射特性，因此无法实现上述愿望。

发明内容

因此，本申请发明人考虑到，即使为微量，只要能形成可反射波长150nm附近的光的紫外线反射膜而有效率地利用该波长的光，就可提升具备该准分子灯的照射真光紫外光的装置的处理能力，从而完成了本发明。

本发明的目的在于，提供一种可有效率地利用波长150nm附近的短波长的光、而可构成为具有高处理能力的准分子灯。

本发明的准分子灯，包括具有放电空间的由二氧化硅玻璃构成的放电容器，在夹着形成该放电容器的二氧化硅玻璃的状态下设有一对电极，并且在放电空间内封入有氙气体，在上述放电容器的放电空间内产生准分子放电，其特征在于，在上述放电容器的曝露于放电空间中的表面上，形成由二氧化硅粒子与氧化铝粒子形成的紫外线反射膜，该紫外线反射膜所含的除了硅及铝以外的杂质金属的浓度为700wtppm以下。

根据本发明的准分子灯，紫外线反射膜由二氧化硅粒子与氧化铝粒子形成，除了硅及铝以外的杂质金属的浓度为700wtppm以下，从而可将该紫外线反射膜构成为不仅反射波长170nm附近的光、而且反射波长150nm附近的更短波长的光的功能，并且形成放电容器的二氧化硅玻璃具有透射波长140-150nm以上的光的特性，因此可有效率地出射通过准分子放电产生的真空紫外光，因此可有效地利用包含能量大的150nm附近的短波长的光的真空紫外光，可构成为具有高处理能力。

附图说明

图1是表示本发明的准分子灯的一例的构成概略的说明用截面图，(a)是表示沿着放电容器的长度方向的截面的截面图，(b)是表示(a)的A-A线截面图。

图2是表示封入有氙气体的准分子灯的准分子放电发光光谱的图表。

图3是用于说明二氧化硅粒子及氧化铝粒子的粒径的定义的说明图。

图4是表示针对在实验例所制作的紫外线反射膜的、特定波长的光的反射光强度及紫外线反射膜所含的杂质金属的浓度的关系的图表。

图5是用于说明为了测定针对在实验例所制作的紫外线反射膜的反射光强度所使用的装置的测定原理的图。

图6是表示本发明的准分子灯的另一例子的构成概略的说明用截面图，(a)是表示沿着放电容器的长度方向的截面的横截面图，(b)是表示(a)的A-A线截面图。

图7是表示本发明的准分子灯的其他例子的构成概略的说明用截面图，(a)是表示沿着放电容器的长度方向的截面的截面图，(b)是表示垂直于(a)的纸面的平面下的截面的截面图。

具体实施方式

图1是表示本发明的准分子灯的一例的构成的概略的说明用截面图，(a)是表示沿着放电容器的长度方向的截面的横截面图，(b)是表示(a)的A-A线截面图。

该准分子灯10具备两端被气密地封闭而形成有放电空间S的截面矩形状的中空长条状的放电容器11，在该放电容器11的内部，作为放电用气体封入有氙气体。在此，氙气体的封入量设定为使压力在如10～60kPa(100～600mbar)的范围内。

放电容器11是由良好地透射真空紫外光的二氧化硅玻璃、例如合成石英玻璃构成，具有作为电介质的功能。

在放电容器11的长边面的外表面，以在长度方向延伸的方式相对地配置有一对栅格状电极、即作为高电压供给电极发挥功能的一个电极15及作为接地电极发挥功能的另一个电极16，从而成为在一对电极15、16之间夹着作为电介质发挥功能的放电容器11的状态。

此种电极例如可以通过将金属构成的电极材料糊膏涂布于放电容器11上、或通过照片印刷形成。

在该准分子灯10中，向一个电极15供给点灯电力时，经由作为电介质发挥的放电容器11的壁而在两电极15、16间产生放电，从而形成有准分子分子，并且产生从该准分子分子放射真空紫外光的准分子放电，通过使氙气体的封入压力在如10～60kPa(100～600mbar)的范围内，而放射在波长150nm附近具有峰值的真空紫外光。

具体上，例如，如图2(イ)所示，在氙气体的封入压力为50mbar时，在波长150nm附近具有峰值P1的、从波长145nm左右到波长190nm为止的波长区域的光发光。此外，如图2(口)所示，在氙气体的封入压力为100mbar时，在波长150nm附近及波长170nm附近具有峰值P2、P3的、从波长145nm左右到波长190nm为止的波长区域的光发光。此外，图2(ハ)是氙气体的封入压力为680mbar时的准分子放电发光光谱。

如上所述，放电容器11由二氧化硅玻璃、尤其是杂质少的合成石英玻璃构成，由于合成石英玻璃玻璃具有透射波长140～150nm以上的波长的光的特性，因此在氙气体的封入压力例如为10～60kPa(100～600mbar)的范围内的上述构成的准分子灯10中，放射波长为140～150nm以上、且在波长150nm附近及波长170nm附近具有峰值的真空紫外光。

然而，在上述准分子灯10中，为了有效率地利用通过准分子放电产生的真空紫外光，例如在放电容器11的曝露在放电空间S中的表面上，设有由二氧化硅粒子与氧化铝粒子形成的紫外线反射膜20。

紫外线反射膜20例如在放电容器11的长边面的与作为高电压供给电极发挥功能的一个电极15对应的内表面区域、及与该区域连续的短边面的内表面区域的一部分上形成，而在放电容器11的长边面的与作为接地电极发挥功能的另一个电极16对应的内表面区域上，通过未形成有紫外线反射膜20来构成光出射部(孔径部)18。

紫外线反射膜20的膜厚例如优选10～100μm。

紫外线反射膜20，在至少曝露于放电空间S中的表面层部分，即受到随着准分子放电所产生的等离子体的影响而使得二氧化硅粒子熔融并产生粒界消失的部分、例如在深度约2μm的范围内，氧化铝粒子与二氧化硅粒子混合存在，例如可通过二氧化硅粒子与氧化铝粒子的堆积体构成。

紫外线反射膜20具有重复产生反射与折射的“扩散反射”的功能，具体原理如下：二氧化硅粒子及氧化铝粒子自身具有高折射率从而具有真空紫外光透射性，因此到达二氧化硅粒子或氧化铝粒子的真空紫外光的一部分在粒子表面被反射，同时其它的部分折射而入射至粒子内部，进而入射至粒子内部的大部分光被透射(一部分被吸收)，而再出射之际被折射。

此外，紫外线反射膜20由二氧化硅粒子与氧化铝粒子构成，即由陶瓷构成，具有不会产生杂质气体、且耐于放电的特性。

构成紫外线反射膜20的二氧化硅粒子，例如可使用将二氧化硅玻璃粉末状地作成细粒子后的物质等。

二氧化硅粒子的如下定义的粒径例如在0.01～20μm的范围内，中心粒径(数均粒径的峰值)例如优选为0.1～10μm，更优选为0.3～3μm。

此外，具有中心粒径的二氧化硅粒子的比率优选为50％以上。

构成紫外线反射膜20的氧化铝粒子的如下定义的粒径例如在0.1～10μm的范围内，中心粒径(数均粒径的峰值)例如优选为0.1～3μm，更优选为0.3～1μm。

此外，具有中心粒径的氧化铝粒子的比率优选为50％以上。

构成紫外线反射膜20的二氧化硅粒子及氧化铝粒子的“粒径”是指：将紫外线反射膜20在与其表面垂直的方向上切剖时的切剖面中的厚度方向的大约中间位置作为观察范围，通过扫描型电子显微镜(SEM)取得放大投影图像，而以一定方向的两条平行线夹着该放大投影图像的任意粒子时的该平行线的间隔、即费雷特(Feret)直径。

如图3(a)所示，具体上，在以单独存在大约球状的粒子A及具有粉碎粒子形状的粒子B等的粒子时，将以朝着一定方向(例如紫外线反射膜20的厚度方向)延伸的两条平行线夹着该粒子时的对应平行线的间隔作为粒径DA、DB。

此外，对于具有初始材料的粒子熔融而接合的形状的粒子C，如图3(b)所示地，对于被判别为初始材料的粒子C1、C2的部分中的各球状部分，测定由朝一定方向(例如紫外线反射膜20的厚度方向)延伸的2条平线夹着时的该平行线的间隔，将此作为该粒子的粒径DC1、DC2。

构成紫外线反射膜20的二氧化硅粒子及氧化铝粒子的“中心粒径”是指：将如上得到的各粒子的粒径的最大值和最小值的粒径的范围，例如以0.1μm的范围分成多个区分、例如分成的15区分左右后，属于各个区分的粒子个数(度数)最大的区分的中心值。

二氧化硅粒子及氧化铝粒子通过具有与真空紫外光的波长相同程度的上述范围的粒径，而可有效率地扩散反射真空紫外光。

然而，在上述准分子灯10中，通过紫外线反射膜20含有氧化铝粒子，除了作为二氧化硅粒子的主成分的硅及作为氧化铝粒子的主成分的铝以外的杂质金属会不可避免地混入，但例如在二氧化硅粒子的纯度及氧化铝粒子的纯度的关系中，可通过调整以使构成紫外线反射膜20的二氧化硅粒子与氧化铝粒子的混合比为适当范围，而将紫外线反射膜20所含的杂质金属的浓度(合计)限制在700wtppm以下。

紫外线反射膜20所含的氧化铝粒子的比率，优选为二氧化硅粒子与氧化铝粒子的合计的例如1wt％以上，更优选为5wt％以上，进一步优选为10wt％。

此外，优选为二氧化硅粒子与氧化铝粒子的合计的70％wt以下，更优选为40wt％以下。

通过使二氧化硅粒子与氧化铝粒子为上述混合比来构成紫外线反射膜20，即使长时间点灯时，也可确实地抑制二氧化硅粒子熔融而把紫外线反射膜20的反射率会大幅度地降低，并且不会因氧化铝粒子混入而导致紫外线反射膜20相对于放电容器11的粘合性大幅度地降低，因此可确实地防止紫外线反射膜20剥落，而且可使杂质金属的浓度为预定值以下的状态。

此种紫外线反射膜20例如可通过称为“流下法”的方法形成。即，在组合了水与PEO树脂(聚氧化乙烯)的具有粘性的溶剂中混合二氧化硅粒子及氧化铝粒子来调配分散液，通过将该分散液流进放电容器形成材料内，在附着于放电容器形成材料的内表面的所定区域之后，利用干燥、烧成，把水与PEO树脂予以蒸发，从而可形成紫外线反射膜20。在此，烧成温度例如为500-1100℃。

形成紫外线反射膜20时所用的二氧化硅粒子及氧化铝粒子的制造，可利用固相法、液相法、气相法的任何方法，但其中，由于可确实地得到亚微细粒、微米尺寸的粒子，而优选气相法、尤其是化学蒸镀法(CVD)。

具体上，例如二氧化硅粒子可以通过将氯化硅与氧在900～1000℃予以反应而合成，氧化铝粒子可以通过将原料的氯化铝与氧在1000～1200℃予以加热反应而合成，粒径可通过控制原料浓度、反应场所的压力、反应温度来调整。

一般，在准分子灯中，公知随着准分子放电而产生等离子体，但在如上构成的准分子灯中，等离子体大约直角地入射于紫外线反射膜而施以作用，因此紫外线反射膜的温度会局部地急剧上升，如果紫外线反射膜仅例如仅由二氧化硅粒子构成，则会通过等离子体的热而使得二氧化硅粒子熔融从而粒界消失，因此无法扩散反射真空紫外光，反射率下降。

然而，紫外线反射膜20由二氧化硅粒子与氧化铝粒子构成，从而根据上述构成的准分子灯10，基本上即使被曝露在由等离子体产生的热中时，由于熔点高于二氧化硅粒子的氧化铝粒子不会熔融，因此可以防止在粒子之间结合着互相邻接的二氧化硅粒子与氧化铝粒子，粒界得到维持，因此即使长时间点灯时，也可有效率地扩散反射真空紫外光，而可维持初期的反射率。此外，氧化铝粒子具有比二氧化硅粒子高的折射率，因此与仅由二氧化硅粒子形成的紫外线反射膜相比较，可得到高反射率。

而且，根据上述构成的准分子灯10，通过使除了作为紫外线反射膜20所含的二氧化硅粒子的主成分的硅及作为氧化铝粒子的主成分的铝以外的杂质金属的浓度为700wtppm以下，如下述实验例的结果所示，可将紫外线反射膜20构成为不仅波长170nm附近的光、而且波长150nm附近的光也具有反射特性，因此形成放电容器的二氧化硅玻璃具有透射波长140-150nm以上的光的特性，所以可有效率地利用在通过准分子放电产生的、在波长150nm附近及波长170nm附近具有峰值的真空紫外光，具有高处理能力。

此外，通过在被曝露在产生准分子发光的放电空间S中的放电容器11内表面上形成有紫外线反射膜20，可将随着放电空间S内的真空紫外线入射于构成光出射部18以外区域的二氧化硅玻璃上产生的紫外线应变所致的损伤予以减小，而可防止产生裂痕。

以下说明为了确认本发明的效果而进行的实验例。

(实验例1：紫外线反射膜的反射特性)

准备纯度为99.99％、99.9％及纯度99.8％的3种二氧化硅粒子、和纯度为99.99％、99.9％及纯度99.8％的3种氧化铝粒子，适当地变更二氧化硅粒子与氧化铝粒子的组合，并且使二氧化硅粒子与氧化铝粒子的混合比(二氧化硅粒子:氧化铝粒子)在20:80-80:20的范围内适当变更，而在由合成石英玻璃构成的厚度1mm的基材上，通过流下法形成紫外线反射膜，从而制作出多种试验片。在此，形成紫外线反射膜时的烧成温度是1100℃，膜厚是30μm。

任何纯度的二氧化硅粒子，粒径范围为0.3-1.0μm，中心粒径为0.3μm，具有中心粒径的粒子比率为50％。

任何纯度的氧化铝粒子，粒径范围为0.2-0.7μm，中心粒径为0.4μm，具有中心粒径的粒子比率为50％。

针对各个试验片的紫外线反射膜，测定该紫外线反射膜所含的除了硅及铝以外的杂质金属的浓度，并且测定波长150nm的光的反射光强度及波长170nm的光的反射光强度。结果示于图4中。

(杂质金属浓度的测定方法)

以纯水清洗试验片并使之干燥后进行试验片的秤量，使用特弗隆(Teflon)(注册商标)胶带来遮蔽试验片的基材所露出的部分(未形成有紫外线反射膜的二氧化硅玻璃部分)，在该状态下，通过浸渍在氟酸中并加热来进行蚀刻处理，在以目视无法确认试验片的紫外线反射膜的时刻取出试验片，进行该试验片的秤量，比较进行蚀刻处理前后的试验片的秤量值，从而算出紫外线反射膜的质量。

然后，对含有通过蚀刻在氟酸中溶解的二氧化硅粒子(成分)、未溶解而粒状地残留的氧化铝粒子、及杂质金属成分的氟酸液进行加温，首先使与氟酸反应的二氧化硅成分作为SiF₄蒸发，并将由此成为残渣而残留的氧化铝成分和杂质成分放进由85％磷酸6.5ml、97％硫酸3.55ml构成的混酸中，通过微波炉溶解氧化铝成分与杂质成分之后，添加纯水而稀释成为合计30ml的溶液。

然后，利用ICP发光光谱分析装置，根据稀释溶液中的杂质金属的浓度来测定杂质金属的质量，对应于杂质金属相对于作为测定对象的紫外线反射膜的质量0.5g的质量比，得到紫外线反射膜中含有的残留杂质金属的浓度。

作为一例，例如由纯度99.99％的二氧化硅粒子30wt％、与纯度99.8％的氧化铝70wt％构成的紫外线反射膜中的、杂质金属成分及其浓度如下述表1所示。另外，杂质金属是指含有铍/镁的碱土类金属、或属于过渡金属的元素。

表1

(反射光强度的测定方法)

针对紫外线反射膜的、波长150nm的光的反射光强度、及波长170nm的光的反射光强度的测定，使用ACTON RESEARCH制的“VM-502”。该装置的测定部，由如图5所示的直入射型光学系统构成，将放射从波长120nm以下的光到可见光为止的连续光的重氢灯60用作为光源。在该装置中，将从重氢灯60所放射的光一旦接触于凹面光栅61之后，经过狭缝62而照射在试验片TS上，使由该试验片TS反射的反射光(散射光)在0°-180°的范围内调整受光面的角度的同时利用光电倍增管65受光，通过对由此得到的测定值进行积分，而得到针对于特定波长的光的反射光强度。

具体说明反射光强度的测定方法，首先，对不具有紫外线反射膜的基材(合成石英玻璃)，取得散射光的波长150nm的光及波长170nm的光的各自的反射光强度(基准值)，之后，设置形成有紫外线反射膜的试验片，测定散射光的波长150nm的光及波长170nm的光的各自的反射光强度，通过用基准值(不具有紫外线反射膜的基材的测定值)来除算由此得到的各测定值，而得到波长150nm的光的反射光强度及波长170nm的光的反射光强度。

由图4所示的结果可知，波长150nm的反射光强度与波长170nm的光的反射光强度、及杂质金属的浓度是线形的关系，可通过直线来近似。

并且，150nm的光的反射光强度为0.000时的杂质金属的浓度是700wtppm，170nm的光的反射光强度为0.000时的杂质金属的浓度是1181wtppm，因此可以确认，通过将紫外线反射膜所含的杂质金属的浓度，控制成至少为700wtppm以下的状态，就确实地具有不仅反射170nm的光、而且反射150nm的光的功能。

因此，在实际的准分子灯中，通过将紫外线反射膜中的杂质金属的浓度限制在700wtppm以下，可有效率地利用通过准分子放电产生的包含波长150nm的光的真空紫外光。

(实验例2)

紫外线反射膜由纯度为99.9％的二氧化硅粒子、及纯度为99.8％的氧化铝粒子形成，并将氧化铝粒子的含有比率变更为0wt、10wt％、33wt％、50wt％，通过将该紫外线反射膜以膜厚30μm通过流下法形成在平板状的由合成石英玻璃构成的厚1mm的基材上，来制作4种试验片。

并且，针对各试验片，将紫外线反射膜加热成1000℃时、及加热成1300℃时的各个情形下的波长170nm的光的反射光强度，使用ACTON RESEARCH制的“VM-502”并通过上述方法进行测定，可以确认，在紫外线反射膜中的氧化铝粒子的含有比率为0wt％时、即在不含氧化铝粒子时，与被加热成相当于形成紫外线反射膜时的烧成温度的温度1000℃时的反射光强度相比，在被加热成相当于等离子体作用于紫外线反射膜时的加热温度的温度1300℃的情形下，反射光强度会大幅度降低，由此可推定在实际的准分子灯中，在紫外线反射膜由等离子体接触到的部位，反射光强度会局部地降低，准分子灯的照度分布成为不均匀，当准分子灯长时间点灯时，等离子体会接触到紫外线反射膜全体，反射率降低。

另一方面，在添加10wt％氧化铝粒子的紫外线反射膜中，即使被加热成1300℃时，反射光强度会比未添加氧化铝粒子时高，可将因热产生的紫外线反射膜的反射率的降低程度抑制70％左右。此外，随着氧化铝粒子的含有比率增加，可进一步将因热产生的紫外线反射膜的反射率的降低程度抑制得较小，例如在添加50wt％氧化铝粒子时，被加热成1000℃时的反射光强度，与被加热成1300℃时的反射光强度一致，从而确认可抑制因热导致紫外线反射膜的反射率降低。

因此，在实际的准分子灯中，通过紫外线反射膜添加有10wt％以上的氧化铝粒子，即使在准分子灯长时间点灯而使紫外线反射膜曝露于等离子体的热中时，也可抑制因二氧化硅粒子熔融导致的反射率的降低。

另外，在该实验例2中制作的试验片的含有氧化铝粒子的紫外线反射膜，杂质金属的浓度均为700wtppm以下。

以上，对本发明的实施方式进行说明，但本发明是并不限定于上述实施方式，可进行各种变更。

本发明是并不被限定于上述构成的准分子灯，也可适用于图6所示的双重管构造的准分子灯、或图7所示的所谓“四方型”的准分子灯。

图6所示的准分子灯50，具有由二氧化硅玻璃形成的圆筒状的外侧管52、及在该外侧管52内沿其管轴配置的具有比该外侧管52的内径小的外径的例如由二氧化硅玻璃形成的圆筒状内侧管53，外侧管52与内侧管53在两端部被熔融接合而在外侧管52与内侧管53之间具备形成有环状放电空间S的双重管构造的放电容器51，例如由金属形成的一个电极(高电压供给电极)55密接设于内侧管53的内周面，并且例如由金属网等的导电性材料形成的另一个电极56密接设于外侧管52的外周面，在放电空间S内，例如填充有氙气体等通过准分子放电形成准分子分子的放电用气体。

在此种构成的准分子灯50中，例如在放电容器51的内侧管53的内表面的全周设有上述紫外线反射膜20，并且在外侧管52的内表面，除了形成光出射部58的一部分区域以外，设有上述紫外线反射膜20。

此外，图7所示的准分子灯40例如具备由合成二氧化硅玻璃构成的截面长方形的放电容器41，将由金属构成的一对外侧电极45、45以在放电容器41的管轴方向延伸的方式配设于放电容器41的彼此相对的外表面上，而且放电用气体的例如氙气体被填充于放电容器41内。在图7中，符号42是排气管，符号43是由钡形成的吸气器。

在此种构成的准分子灯40中，在放电容器41的内表面中与各个外侧电极45，45对应的区域及与该区域连续的一个内面区域上，设有上述紫外线反射膜20，并通过不设置紫外线反射膜20而形成光出射部44。

Claims (1)

1.一种准分子灯，包括具有放电空间的由合成石英玻璃构成的放电容器，在夹着形成该放电容器的二氧化硅玻璃的状态下设有一对电极，并且在放电空间内以10～60kPa封入有氙气体，在上述放电容器的放电空间内产生准分子放电，其特征在于，

在上述放电容器的曝露于放电空间中的表面上，形成由二氧化硅粒子与氧化铝粒子形成的紫外线反射膜，该紫外线反射膜所含的除了硅及铝以外的杂质金属的浓度为700wtppm以下。

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