JP2009099263A - エキシマランプ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 放電空間を有するシリカガラスよりなる放電容器を備え、当該放電容器を形成するシリカガラスが介在する状態で一対の電極が設けられると共に、放電空間内にキセノンガスが封入されてなり、放電容器の放電空間内においてエキシマ放電を発生させるエキシマランプであって、放電空間に曝される表面に、シリカ粒子とアルミナ粒子とからなる紫外線反射膜が形成されており、当該紫外線反射膜に含まれる、ケイ素およびアルミニウム以外の不純物金属の濃度が700wtppm以下とされている。
【選択図】 図1
Description
具体的には、例えば、図6を参照して説明すると、紫外線を透過するシリカガラスよりなる放電容器(51)を備え、この放電容器(51)の内側と外側にそれぞれ電極(55,56)が設けられてなるエキシマランプ(50)において、放電容器(51)の放電空間(S)に曝される表面に、紫外線反射膜(20)を形成することが記載されており、紫外線反射膜としては、シリカ粒子のみからなるもの、およびアルミナ粒子のみからなるものが実施例に例示されている(特許文献1参照)。
このエキシマランプ(50)においては、放電容器(51)の一部に、紫外線反射膜(20)が形成されていないことにより放電空間(S)内で発生した紫外線を出射する光出射部(58)が形成されている。
しかしながら、従来におけるエキシマランプの紫外線反射膜は、例えば波長150nm付近の光についての反射特性を有さないものであるため、上記要望を達成することができないのが実情であった。
本発明の目的は、波長150nm付近の短波長の光を有効に利用することができ、高い処理能力を有するものとして構成することのできるエキシマランプを提供することを目的とする。
前記放電容器の放電空間に曝される表面に、シリカ粒子とアルミナ粒子とからなる紫外線反射膜が形成されており、当該紫外線反射膜に含まれる、ケイ素およびアルミニウム以外の不純物金属の濃度が700wtppm以下であることを特徴とする。
このエキシマランプ10は、両端が気密に封止されて内部に放電空間Sが形成された、断面矩形状の中空長尺状の放電容器11を備えており、この放電容器11の内部には、放電用ガスとして、キセノンガスが封入されている。ここに、キセノンガスは、圧力が例えば10〜60kPa(100〜600mbar)の範囲内となる封入量とされる。
放電容器11は、真空紫外光を良好に透過するシリカガラス、例えば合成石英ガラスよりなり、誘電体としての機能を有する。
このような電極は、例えば、金属よりなる電極材料を放電容器11にペースト塗布することにより、あるいは、プリント印刷することによって形成することができる。
具体的には、例えば、図2(イ)に示すように、キセノンガスの封入圧力が50mbarである場合には、波長150nm付近にピーク値P1を有する、波長145nmあたりから波長190nmまでの波長域の光が発光している。また、図2(ロ)に示すように、キセノンガスの封入圧力が100mbarである場合には、波長150nm付近および波長170nm付近にピーク値P2,P3を有する、波長145nmあたりから波長190nmまでの波長域の光が発光している。なお、図2(ハ)は、キセノンガスの封入圧力が680mbarである場合のエキシマ放電発光スペクトルである。
上述したように、放電容器11がシリカガラス、特に不純物の少ない合成石英ガラスにより構成されることにより、合成石英ガラスは波長140〜150nm以上の波長の光を透過する特性を有することから、キセノンガスの封入圧力が例えば10〜60kPa(100〜600mbar)の範囲内とされている上記構成のエキシマランプ10においては、波長140〜150nm以上であって、波長150nm付近および波長170nm付近にピーク値を有する真空紫外光が放射される。
紫外線反射膜20は、例えば、放電容器11における長辺面の、高電圧給電電極として機能する一方の電極15に対応する内表面領域とこの領域に連続する短辺面の内表面領域の一部にわたって形成されており、放電容器11における長辺面の、接地電極として機能する他方の電極16に対応する内表面領域において紫外線反射膜20が形成されていないことによって光出射部(アパーチャ部)18が構成されている。
紫外線反射膜20の膜厚は、例えば10〜100μmであることが好ましい。
紫外線反射膜20は、シリカ粒子およびアルミナ粒子それ自体が高い屈折率を有する真空紫外光透過性を有するものであることから、シリカ粒子またはアルミナ粒子に到達した真空紫外光の一部が粒子の表面で反射されると共に他の一部が屈折して粒子の内部に入射され、さらに、粒子の内部に入射される光の多くが透過され(一部が吸収)、再び、出射される際に屈折される、このような反射、屈折が繰り返し起こる「拡散反射(散乱反射)」をさせる機能を有する。
また、紫外線反射膜20は、シリカ粒子およびアルミナ粒子、すなわちセラミックスにより構成されていることにより、不純ガスを発生させず、また、放電に耐えられる特性を有する。
シリカ粒子は、以下のように定義される粒子径が例えば0.01〜20μmの範囲内にあるものであって、中心粒径(数平均粒子径のピーク値)が、例えば0.1〜10μmであるものが好ましく、より好ましくは0.3〜3μmであるものである。
また、中心粒径を有するシリカ粒子の割合が50%以上であるものであることが好ましい。
また、中心粒径を有するアルミナ粒子の割合が50%以上であるものであることが好ましい。
具体的には、図3(a)に示すように、略球状の粒子Aおよび粉砕粒子形状を有する粒子Bなどの粒子が単独で存在している場合には、当該粒子を一定方向(例えば紫外線反射膜20の厚み方向)に伸びる2本の平行線で挟んだときの当該平行線の間隔を粒径DA,DBとする。
また、出発材料の粒子が溶融して接合した形状を有する粒子Cについては、図3(b)に示すように、出発材料である粒子C1,C2と判別される部分における球状部分のそれぞれについて、一定方向(例えば紫外線反射膜20の厚み方向)に伸びる2本の平行線で挟んだときの当該平行線の間隔を測定し、これを当該粒子の粒径DC1,DC2とする。
また、シリカ粒子とアルミナ粒子との合計の70wt%以下であることが好ましく、より好ましくは40wt%以下である。
紫外線反射膜20がシリカ粒子とアルミナ粒子とが上記混合比で構成されていることにより、長時間点灯された場合であっても、シリカ粒子が溶融されて紫外線反射膜20の反射率が大幅に低下してしまうことを確実に抑制することができると共にアルミナ粒子が混入されることによる紫外線反射膜20の放電容器11に対する結着性(接着性)が大幅に低下することがないため、紫外線反射膜20が剥がれることを確実に防止することができ、しかも、不純物金属の濃度を所定の値以下となる状態とすることができる。
紫外線反射膜20を形成するに際して用いられるシリカ粒子およびアルミナ粒子の製造は、固相法、液相法、気相法のいずれの方法も利用することができるが、これらのうちでも、サブミクロン、ミクロンサイズの粒子を確実に得ることができることから、気相法、特に化学蒸着法(CVD)が好ましい。
具体的には、例えば、シリカ粒子は、塩化ケイ素と酸素を900〜1000℃で反応させることにより、アルミナ粒子は、原料の塩化アルミニウムと酸素を1000〜1200℃で加熱反応させることにより、合成することができ、粒子径は、原料濃度、反応場での圧力、反応温度を制御することにより調整することができる。
然るに、紫外線反射膜20が、シリカ粒子とアルミナ粒子とからるものであることにより、上記構成のエキシマランプ10によれば、基本的には、プラズマによる熱にさらされた場合であっても、シリカ粒子より高い融点を有するアルミナ粒子は溶融しないため、互いに隣接するシリカ粒子とアルミナ粒子とが粒子同士で結合されることが防止されて粒界が維持されるので、長時間点灯された場合であっても、真空紫外光を効率よく拡散反射させることができて初期の反射率を実質的に維持することができる。また、アルミナ粒子はシリカ粒子よりも高い屈折率を有するため、シリカ粒子のみからなる紫外線反射膜に比して、高い反射率を得ることができる。
しかも、上記構成のエキシマランプ10によれば、紫外線反射膜20に含有されるシリカ粒子の主成分となるケイ素およびアルミナ粒子の主成分となるアルミニウムを除いた不純物金属の濃度が700wtppm以下とされていることにより、後述する実験例の結果に示されるように、紫外線反射膜20を、波長170nm付近の光だけでなく、波長150nm付近の光についても反射特性を有するものとして構成することができるので、放電容器を形成するシリカガラスが波長140〜150nm以上の光を透過する特性を有することから、エキシマ放電によって発生する、波長150nm付近および波長170nm付近にピークを有する真空紫外光を効率よく利用することができ、高い処理能力を有するものとなる。
〔実験例1;紫外線反射膜の反射特性〕
純度が99.99%、99.9%および純度が99.8%である3種類のシリカ粒子と、純度が99.99%、99.9%および純度が99.8%である3種類のアルミナ粒子とを用意し、シリカ粒子とアルミナ粒子とを組み合わせを適宜に変更すると共に、シリカ粒子とアルミナ粒子との混合比(シリカ粒子:アルミナ粒子)を20:80〜80:20の範囲内で適宜変更して、合成石英ガラスよりなる厚み1mmの基材上に、紫外線反射膜を流下法によって形成することにより、複数種類の試験片を作製した。ここに、紫外線反射膜を形成するに際しての焼成温度は1100℃であり、膜厚は30μmである。
シリカ粒子は、いずれの純度のものも、粒子径範囲が0.3〜1.0μm、中心粒子径が0.3μm、中心粒子径を有する粒子の割合が50%であるものである。
アルミナ粒子は、いずれの純度のものも、粒子径範囲が0.2〜0.7μm、中心粒子径が0.4μm、中心粒子径を有する粒子の割合が50%であるものである。
各々の試験片における紫外線反射膜について、当該紫外線反射膜に含有される、ケイ素およびアルミニウム以外の不純物金属の濃度を測定すると共に、波長150nmの光の反射光強度および波長170nmの光の反射光強度を測定した。結果を図4に示す。
試験片を純水で洗浄、乾燥させた後、試験片の秤量を行い、試験片の基材が露出した部分(紫外線反射膜が形成されていないシリカガラス部分)をテフロン(登録商標)テープにてマスキングし、この状態で、フッ酸中に浸して加熱することによりエッチング処理を行い、試験片における紫外線反射膜が目視で確認できなくなった時点で試験片を取り出し、当該試験片の秤量を行い、エッチング処理が行われる前後の試験片の秤量値を比較することにより紫外線反射膜の質量を算出する。
次いで、エッチングによりフッ酸にて溶解したシリカ粒子(成分)と、溶解せずに粒状に残ったアルミナ粒子と、不純物金属成分とを含んだフッ酸液を、加温して、先ず、フッ酸と反応したシリカ成分をSiF4 として蒸発させ、これにより残渣となって残ったアルミナ成分と不純物成分とを、85%燐酸6.5ml、97%硫酸3.55mlからなる混酸中に入れ、マイクロウェーブオーブンによってアルミナ成分と不純物成分とを溶解させた後、純水を加えて計30mlの溶液となるように希釈する。
そして、ICP発光分光分析装置により、希釈溶液中の不純物金属の濃度に基づいて不純物金属の質量を測定し、測定対象とした紫外線反射膜の質量0.5gに対する不純物金属の質量比に応じて、紫外線反射膜中に含まれる残存不純物金属の濃度が得られる。
紫外線反射膜についての、波長150nmの光の反射光強度と、波長170nmの光の反射光強度との測定は、ACTON RESEARCH製「VM−502」を使用した。この装置における測定部は、例えば図5に示すような直入射型光学系により構成されており、波長120nm以下の光から可視光までの連続光が放射される重水素ランプ60が光源として用いられている。この装置においては、重水素ランプ60から放射される光を、凹面グレーティング61に一旦度当てた後、スリット62を通過させて試験片TSに照射し、当該試験片TSによって反射された反射光(散乱光)を、受光面の角度を0°〜180°の範囲内で調整しながら、フォトマル65に受光させることにより得られる測定値を積分することにより特定の波長の光についての反射光強度が得られる。
反射光強度の測定方法について具体的に説明すると、先ず、紫外線反射膜を有さない基材(合成石英ガラス)について、散乱光における波長150nmの光および波長170nmの光の各々の反射光強度(基準値)を取得しておき、次に、紫外線反射膜が形成された試験片を設置して、散乱光における波長150nmの光および波長170nmの光の各々の反射光強度を測定し、これにより得られた各々の測定値を、基準値(紫外線反射膜を有さない基材の測定値)で割り算することにより、波長150nmの光の反射光強度および波長170nmの光の反射光強度が得られる。
そして、150nmの光の反射光強度が0.000となるときの不純物金属の濃度は700wtppmであり、170nmの光の反射光強度が0.000となるときの不純物金属の濃度は1181wtppmであり、従って、紫外線反射膜に含有される不純物金属の濃度を、少なくとも700wtppm以下となる状態にコントロールすることにより、170nmの光だけでなく、150nmの光を反射する機能を確実に有するものとなることが確認された。
従って、実際のエキシマランプにおいては、紫外線反射膜が不純物金属の濃度が700wtppm以下に規制されたものであることにより、エキシマ放電によって発生する波長150nmの光を含む真空紫外光を効率よく利用することができるものとなる。
純度が99.9%であるシリカ粒子と、純度が99.8%であるアルミナ粒子とからなり、アルミナ粒子の含有割合を、0wt%、10wt%、33wt%、50wt%と変更した紫外線反射膜を30μmの膜厚で平板状の合成石英ガラスよりなる厚み1mmの基材上に流下法によって形成することにより、4種類の試験片を作製した。
そして、各試験片について、紫外線反射膜を1000℃に加熱したときと、1300℃に加熱したときの、それぞれの場合における、波長170nmの光の反射光強度を、ACTON RESEARCH製「VM−502」を用いて上記の方法により測定したところ、紫外線反射膜におけるアルミナ粒子の含有割合が0wt%であるとき、すなわち、アルミナ粒子を含まない場合には、紫外線反射膜を形成するに際しての焼成温度に相当する温度である1000℃に加熱されたときの反射光強度に対して、紫外線反射膜にプラズマが作用したときの加熱温度に相当する温度である1300℃に加熱された場合には、反射光強度が大幅に低下してしまうことが確認され、このことから、実際のエキシマランプにおいては、紫外線反射膜におけるプラズマが当たった箇所では、局所的に反射光強度が低下して、エキシマランプの照度分布が不均一になり、エキシマランプが長時間点灯されると、紫外線反射膜の全体にプラズマが当たり、反射率が低下するものと想定される。
従って、実際のエキシマランプにおいては、紫外線反射膜がアルミナ粒子が10wt%以上添加されたものであることにより、エキシマランプが長時間点灯されて紫外線反射膜がプラズマの熱にさらされた場合であっても、シリカ粒子が溶融することによる反射率の低下を抑制することができる。
なお、この実験例2において作製した試験片における、アルミナ粒子を含む紫外線反射膜は、いずれのものも、不純物金属の濃度が700wtppm以下であるものである。
本発明は、上記構成のエキシマランプに限定されるものではなく、図6に示すような、二重管構造のエキシマランプや、図7に示すような、いわゆる「角型」のエキシマランプにも適用することができる。
図6に示すエキシマランプ50は、シリカガラスよりなる円筒状の外側管52と、この外側管52内においてその管軸に沿って配置された、当該外側管52の内径より小さい外径を有する例えばシリカガラスよりなる円筒状の内側管53とを有し、外側管52と内側管53とが両端部において溶融接合されて外側管52と内側管53との間に環状の放電空間Sが形成されてなる二重管構造の放電容器51を備えており、例えば金属よりなる一方の電極(高電圧供給電極)55が内側管53の内周面に密接して設けられていると共に、例えば金網などの導電性材料よりなる他方の電極56が外側管52の外周面に密接して設けられており、放電空間S内に、例えばキセノンガスなどのエキシマ放電によってエキシマ分子を形成する放電用ガスが充填されて、構成されている。
このような構成のエキシマランプ50においては、例えば放電容器51の内側管53の内表面における全周にわたって上記紫外線反射膜20が設けられると共に、外側管52の内表面に、光出射部58を形成する一部分の領域を除いて上記紫外線反射膜20が設けられる。
このような構成のエキシマランプ40においては、放電容器41の内表面における、各々の外側電極45,45に対応する領域およびこれらの領域に連続する一方の内面領域にわたって、上記紫外線反射膜20が設けられ、紫外線反射膜20が設けられていないことにより光出射部44が形成されている。
11 放電容器
15 一方の電極(高電圧供給電極)
16 他方の電極(接地電極)
18 光出射部(アパーチャ部)
20 紫外線反射膜
40 エキシマランプ
41 放電容器
42 排気管
43 ゲッター
44 光出射部
45 外側電極
50 エキシマランプ
51 放電容器
52 外側管
53 内側管
55 一方の電極(高電圧供給電極)
56 他方の電極
58 光出射部
60 重水素ランプ
61 凹型グレーティング
62 スリット
65 フォトマル
TS 試験片
S 放電空間
Claims (1)
- 放電空間を有するシリカガラスよりなる放電容器を備え、当該放電容器を形成するシリカガラスが介在する状態で一対の電極が設けられると共に、放電空間内にキセノンガスが封入されてなり、前記放電容器の放電空間内においてエキシマ放電を発生させるエキシマランプであって、
前記放電容器の放電空間に曝される表面に、シリカ粒子とアルミナ粒子とからなる紫外線反射膜が形成されており、当該紫外線反射膜に含まれる、ケイ素およびアルミニウム以外の不純物金属の濃度が700wtppm以下であることを特徴とするエキシマランプ。
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