CN101315876B - 基板清洗用双流体供给模块及利用该模块的清洗装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及向喷嘴侧供给用于基板清洗的气液两相的双流体的双流体供给模块及利用该模块的清洗装置。本发明所公开的基板清洗用双流体供给模块具有清洗液流入口、空气流入口、清洗液流路、空气流路、清洗液流出口以及空气流出口，从而能够向基板清洗用上部喷嘴模块和下部喷嘴模块分别供给用于形成双流体泡沫的清洗液和空气，并且所述双流体供给模块支撑所述上部喷嘴模块和所述下部喷嘴模块。根据本发明，利用了双流体的基板清洗装置，其结构简单而具有制造、安装以及维修简便的有益效果，并且对设备的布局也非常有利。

Description

基板清洗用双流体供给模块及利用该模块的清洗装置
技术领域
本发明涉及基板清洗用装置，尤其涉及向喷嘴侧供给用于基板清洗的气液两相的双流体的双流体供给模块及利用该模块的清洗装置。
背景技术
诸如平板显示器(FPD：Flat Panel Display)所用基板等各种基板经过各种制造工艺而制造。在这些制造工艺中，所谓表面处理工艺是指向基板的表面喷射清洗液、蚀刻液或显影液等处理液，从而对基板进行清洗(cleaning)、蚀刻(etching)、显影(developing)或者去膜(stripping)的工艺。即，在表面处理工艺中，向通过输送机等移送装置以一定速度水平移动的基板的上面或下面或者上下两面涂覆或喷射所述的处理液，由此对基板进行清洗、蚀刻、显影或者去膜。
另外，由于在执行包含所述表面处理工艺的各种制造工艺的过程中，基板的表面会因颗粒(particle)或污染物而受污染，所以为了去除这些颗粒或污染物，在一些制造工艺的前/后会执行清洗工艺。清洗工艺是用于清洁基板表面的工艺，例如由药液处理工艺、漂洗(rinse)工艺以及烘干工艺构成，尤其在所述药液处理工艺中，为了去除基板表面的颗粒和污染物，用去离子水(deionized water)或化学制剂(chemical)等清洗液对基板的表面进行处理。
另外，在清洗工艺中为了去除颗粒和污染物，将清洗液喷射到基板上。同时为了提高清洗能力，将由清洗液和净化干燥空气(clean dry air，以下简称为“空气”)构成的双流体混合及放大之后，以泡沫(bubble)形态冲洗基板的表面。
图1是使用于如前所述清洗工艺的已有泡沫喷射型清洗装置的立体图。
如图1所示，已有的泡沫喷射型清洗装置具有上下对称的上部喷嘴模块1和下部喷嘴模块2。尤其，上部喷嘴模块1由上部清洗液分配管1a、上部空气分配管1b以及上部喷嘴1c构成。而且，下部喷嘴模块2由下部清洗液分配管2a、下部空气分配管2b以及下部喷嘴2c构成。通过上部清洗液分配管1a和下部清洗液分配管2a供给去离子水等清洗液，通过上部空气分配管1b和下部空气分配管2b供给空气。欲清洗的基板从这种上部喷嘴模块1与下部喷嘴模块2之间通过。
另外，在上部清洗液分配管1a上通过多个连接部3a连接有上部清洗液供给管3，以用于从外部的清洗液供给源(未图示)接收清洗液，而且在下部清洗液分配管2a上也通过多个连接部4a连接有下部清洗液供给管4，以用于从外部的清洗液供给源接收清洗液。另外，在上部空气分配管1b上也通过多个连接部5a连接有上部空气供给管5，以用于从外部的空气供给源(未图示)接收空气，而且在下部空气分配管2b上也通过多个连接部6a连接有下部空气供给管6，以用于从外部的空气供给源接收空气。
据此，清洗液从上部清洗液供给管3供给到上部清洗液分配管1a并流向上部喷嘴1c，并且清洗液从下部清洗液供给管4供给到下部清洗液分配管2a并流向下部喷嘴2c。与此同时，空气从上部空气供给管5供给到上部空气分配管1b并流向上部喷嘴1c，并且空气从下部空气供给管6供给到下部空气分配管2b并流向下部喷嘴2c。此时，从上部喷嘴1c喷射出的清洗液和空气相混合而成为泡沫状态，从下部喷嘴2c喷射出的清洗液和空气也相混合而成为泡沫状态，并以此喷射到基板上。
但是，对如上所述结构的已有的泡沫喷射型清洗装置而言，连接在上部喷嘴模块1侧的上部清洗液供给管3和上部空气供给管5、以及连接在下部喷嘴模块2侧的下部清洗液供给管4和下部空气供给管6以单独的较长配管的形式设置。从而，这种已有的清洗装置结构复杂且空间占有率大，所以不利于设备的布局(lay-out)。
发明内容
本发明是为了解决上述问题而提出，其目的在于提供一种向上部喷嘴模块和下部喷嘴模块分别供给清洗液和空气的结构简单的基板清洗用双流体供给模块以及利用该模块的清洗装置。
为了实现上述目的，本发明所提供的基板清洗用双流体供给模块，用来支撑用于清洗基板的上部喷嘴模块和下部喷嘴模块，同时向所述上部喷嘴模块和下部喷嘴模块侧分别供给用于形成双流体泡沫的清洗液和空气，所述双流体供给模块包括：清洗液流入口，以用于使清洗液从外部流入；空气流入口，以用于使空气从外部流入；清洗液流出口，以用于使流入到所述清洗液流入口的清洗液向所述上部喷嘴模块和下部喷嘴模块侧流出；空气流出口，以用于使流入到所述空气流入口的空气向所述上部喷嘴模块和下部喷嘴模块侧流出；清洗液流路，以用于连通所述清洗液流入口和所述清洗液流出口；以及空气流路，以用于连通所述空气流入口和所述空气流出口。
尤其，所述清洗液流入口、所述空气流入口、所述清洗液流路、所述空气流路、所述清洗液流出口以及所述空气流出口可以包括：与所述上部喷嘴模块相连通的第一清洗液流入口、第一空气流入口、第一清洗液流路、第一空气流路、第一清洗液流出口以及第一空气流出口；和与所述下部喷嘴模块相连通的第二清洗液流入口、第二空气流入口、第二清洗液流路、第二空气流路、第二清洗液流出口以及第二空气流出口。
另外，本发明所提供的基板清洗装置，包括如上所述的双流体供给模块、上部喷嘴模块、下部喷嘴模块以及支撑块。其中，所述上部喷嘴模块可以具有向欲清洗的基板的上面喷射清洗液和空气的双流体泡沫的多个上部喷嘴、从所述双流体供给模块的清洗液流出口接收清洗液而分配到所述上部喷嘴的上部清洗液分配管、以及从所述双流体供给模块的空气流出口接收空气而分配到所述上部喷嘴的上部空气分配管。而且，所述下部喷嘴模块可以具有向所述基板的下面喷射清洗液和空气的双流体泡沫的多个下部喷嘴、从所述双流体供给模块的清洗液流出口接收清洗液而分配到所述下部喷嘴的下部清洗液分配管、以及从所述双流体供给模块的空气流出口接收空气而分配到所述下部喷嘴的下部空气分配管。并且，所述支撑块与所述双流体供给模块一同支撑所述上部喷嘴模块和所述下部喷嘴模块。
如上所述，本发明的双流体供给模块在基板清洗装置的左右长度方向的端部与支撑块一同支撑着上部喷嘴模块和下部喷嘴模块，同时双流体供给模块本身具有分别与上部喷嘴模块和下部喷嘴模块相连通的双流体供给流路。
从而，本发明的清洗装置不再需要设置如同已有泡沫喷射型清洗装置中的分别设置于上部喷嘴模块与下部喷嘴模块侧的复杂结构的清洗液供给管和空气供给管等配管。
进而，根据如上所述的本发明，利用了双流体的基板清洗装置，其结构简单而具有制造、安装以及维修简便的有益效果，并且对设备的布局也非常有利。
附图说明
图1为已有的泡沫喷射型清洗装置的立体图；
图2为根据本发明的实施例所提供的双流体供给模块的立体图；
图3为表示从图2所示双流体供给模块通向喷嘴的流路的模式图；
图4为安装有图2所示双流体供给模块的清洗装置的立体图。
*主要标号说明*
100：基板清洗装置         110：上部喷嘴模块
111：上部喷嘴             112：上部清洗液分配管
113：上部空气分配管       120：下部喷嘴模块
121：下部喷嘴             122：下部清洗液分配管
123：下部空气分配管       130：双流体供给模块
131：第一空气流入口       131′：第二空气流入口
132：第一清洗液流入口     132′：第二清洗液流入口
133：第一空气流路         133′：第二空气流路
134：第一清洗液流路       134′：第二清洗液流路
135：第一空气流出口       135′：第二空气流出口
136：第一清洗液流出口     136′：第二清洗液流出口
140：支撑块               150、160：连接托架
具体实施方式
以下，参照附图详细说明本发明的实施例。以下的实施例是为了使本技术领域的普通技术人员充分理解本发明的内容而提供，其可以有各种其他的变形例子，本发明的保护范围并非局限在以下将要说明的实施例。
图2为根据本发明的实施例所提供的双流体供给模块的立体图，图3为表示从图2所示双流体供给模块通向喷嘴的流路的模式图，图4为安装有图2所示双流体供给模块的清洗装置的立体图。
首先，如图4所示，在本发明中公开的基板清洗装置100包括：以欲进行清洗的基板S为基准布置在基板S上侧的上部喷嘴模块110；布置在基板S下侧的下部喷嘴模块120；支撑上、下部喷嘴模块110、120的同时供给双流体的双流体供给模块130；以及支撑上、下部喷嘴模块110、120的支撑块140。
上部喷嘴模块110具有上部喷嘴111、上部清洗液分配管112以及上部空气分配管113。多个上部喷嘴111朝向基板S的上面并排一列而设置，从而能够向欲清洗的基板S的上面喷射清洗液和空气的双流体泡沫。上部清洗液分配管112向上部喷嘴111分配用于形成双流体泡沫的清洗液，而上部空气分配管113向上部喷嘴111分配用于形成双流体泡沫的空气。由此被供给到上部喷嘴111的清洗液和空气相混合而成为泡沫状态，并以此喷射到基板S的上面而对基板S的上面进行清洗。
下部喷嘴模块120也如同上部喷嘴模块110具有下部喷嘴121、下部清洗液分配管122以及下部空气分配管123。多个下部喷嘴121与所述上部喷嘴111相对称地朝向基板S的下面并排一列而设置，从而能够向欲清洗的基板S的下面喷射清洗液和空气的双流体泡沫。并且，下部清洗液分配管122向下部喷嘴121分配用于形成双流体泡沫的清洗液，而下部空气分配管123向下部喷嘴121分配用于形成双流体泡沫的空气。由此被供给到下部喷嘴121的清洗液和空气相混合而成为泡沫状态，并以此喷射到基板S的下面而对基板S的下面进行清洗。
另外，根据本实施例所提供的双流体供给模块130，在所述基板清洗装置100的左右长度方向的端部与支撑块140一同对上部喷嘴模块110和下部喷嘴模块120进行支撑。
双流体供给模块130被上下区分为连接上部喷嘴模块110的部分和连接下部喷嘴模块120的部分，从而通过连接托架150、160以及衬垫(Packing，未图示)与上部喷嘴模块110和下部喷嘴模块120相连接。尤其，在双流体供给模块130设有分别与上部喷嘴模块110侧和下部喷嘴模块120侧相连接而用于供给清洗液和空气的装置，其结构具体如下。
首先，如图2和图3所示，在双流体供给模块130的下侧并排一列形成有第一空气流入口131、第二空气流入口131′、第二清洗液流入口132′以及第一清洗液流入口132。这些流入口131、131′、132′、132分别与外部的空气供给源(未图示)以及清洗液供给源(未图示)相连，从而接收空气和清洗液。
从如上所述的第一空气流入口131、第二空气流入口131′、第二清洗液流入口132′以及第一清洗液流入口132分别连接有通向上部喷嘴模块110和下部喷嘴模块120的流路。即，从第一空气流入口131形成有延长至上部喷嘴模块110的上部空气分配管113侧的第一空气流路133，从第二空气流入口131′形成有延长至下部喷嘴模块120下部空气分配管123侧的第二空气流路133′。而且，从第一清洗液流入口132形成有延长至上部喷嘴模块110的上部清洗液分配管112侧的第一清洗液流路134，从第二清洗液流入口132′形成有延长至下部清洗液分配管122侧的第二清洗液流路134′。
另外，与所述上部空气分配管113相接触的第一空气流路133的末端部形成有第一空气流出口135，与上部清洗液分配管112相接触的第一清洗液流路134的末端部形成有第一清洗液流出口136。而且，与下部空气分配管123相接触的第二空气流路133′的末端部形成有第二空气流出口135′，与下部清洗液分配管122相接触的第二清洗液流路134′的末端部形成有第二清洗液流出口136′。
通过具有如上所述结构的双流体供给模块，以如下方式供给双流体。
首先，用于形成双流体泡沫的清洗液从清洗液供给源流入到双流体供给模块130的第一清洗液流入口132和第二清洗液流入口132′。并且，用于形成双流体泡沫的空气从空气供给源流入到双流体供给模块130的第一空气流入口131和第二空气流入口131′。
被流入到第一清洗液流入口132的清洗液流经第一清洗液流路134而流动至第一清洗液流出口136之后，供给到与该第一清洗液流出口136相结合的上部喷嘴模块110的上部清洗液分配管112，接着再分配到一系列的上部喷嘴111。而且，被流入到第一空气流入口131的空气流经第一空气流路133而通过第一空气流出口135供给到上部喷嘴模块110的上部空气分配管113，之后再分配到一系列的上部喷嘴111。据此，分别被分配到上部喷嘴111的清洗液和空气在上部喷嘴111相混合之后以泡沫状态喷射出，从而对基板S的上面以泡沫喷射方式进行清洗。
同理，被流入到第二清洗液流入口132′的清洗液流经第二清洗液流路134′而通过第二清洗液流出口136′供给到下部喷嘴模块120的下部清洗液分配管122，之后再分配到一系列的下部喷嘴121。而且，被流入到第二空气流入口131′的空气流经第二空气流路133′而通过第二空气流出口135′供给到下部喷嘴模块120的下部空气分配管123，之后再分配到一系列的下部喷嘴121。据此，分别被分配到下部喷嘴121的清洗液和空气在下部喷嘴121相混合之后以泡沫状态喷射出，从而对基板S的下面以泡沫喷射方式进行清洗。
为了使双流体泡沫从一系列的上部喷嘴111和下部喷嘴121以均匀的压力喷射出，应当使从清洗液供给源分别供给至上部清洗液分配管112及下部清洗液分配管122的清洗液的供给压力、和从空气供给源分别供给至上部空气分配管113及下部空气分配管123的空气的供给压力大于上部喷嘴111和下部喷嘴121的规定喷射压力。
以上，根据本发明的优选实施例进行了说明，但本发明并不局限于上述实施例，在本发明技术思想的范围内本技术领域的普通技术人员能够做出各种变形的例子。

Claims (3)

1.一种基板清洗用双流体供给模块，用来支撑用于清洗基板的上部喷嘴模块和下部喷嘴模块，同时向所述上部喷嘴模块和下部喷嘴模块侧分别供给用于形成双流体泡沫的清洗液和空气，所述双流体供给模块包括：
清洗液流入口，以用于使清洗液从外部流入；
空气流入口，以用于使空气从外部流入；
清洗液流出口，以用于使流入到所述清洗液流入口的清洗液向所述上部喷嘴模块和下部喷嘴模块侧流出；
空气流出口，以用于使流入到所述空气流入口的空气向所述上部喷嘴模块和下部喷嘴模块侧流出；
清洗液流路，以用于连通所述清洗液流入口和所述清洗液流出口；以及
空气流路，以用于连通所述空气流入口和所述空气流出口。
2.根据权利要求1所述的基板清洗用双流体供给模块，其特征在于所述清洗液流入口、所述空气流入口、所述清洗液流路、所述空气流路、所述清洗液流出口以及所述空气流出口包括：
与所述上部喷嘴模块相连通的第一清洗液流入口、第一空气流入口、第一清洗液流路、第一空气流路、第一清洗液流出口以及第一空气流出口；和
与所述下部喷嘴模块相连通的第二清洗液流入口、第二空气流入口、第二清洗液流路、第二空气流路、第二清洗液流出口以及第二空气流出口。
3.一种基板清洗装置，包括：
如权利要求1所述的双流体供给模块；
上部喷嘴模块，其具有向欲清洗的基板的上面喷射清洗液和空气的双流体泡沫的多个上部喷嘴、从所述双流体供给模块的清洗液流出口接收清洗液而分配到所述上部喷嘴的上部清洗液分配管、以及从所述双流体供给模块的空气流出口接收空气而分配到所述上部喷嘴的上部空气分配管；
下部喷嘴模块，其具有向所述基板的下面喷射清洗液和空气的双流体泡沫的多个下部喷嘴、从所述双流体供给模块的清洗液流出口接收清洗液而分配到所述下部喷嘴的下部清洗液分配管、以及从所述双流体供给模块的空气流出口接收空气而分配到所述下部喷嘴的下部空气分配管；以及
与所述双流体供给模块一同支撑所述上部喷嘴模块和所述下部喷嘴模块的支撑块。
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