CN101275277A - 一种硅酸镓钡铌晶体及其制备方法和用途 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种硅酸镓钡铌晶体及其制备方法和用途,化学式为Ba3NbGa3Si2O14,属于P321空间群,其晶胞参数为a=8.42,c=5.16。通过固相合成方法在高温下烧结获得BNGS化合物,然后采用提拉法生长出单晶体,该晶体具有良好压电性能。
Description
技术领域
本发明涉及一种硅酸镓钡铌晶体及其制备方法和用途,属于压电晶体领域。
背景技术
声表面波器件(Surface Acoustic Waves,SAW)是压电晶体在电子应用方面最重要的器件。声表面波器件具有尺寸小、性能稳定、抗辐射能力强、动态范围大、能实现多种复杂信号处理等优点,大量应用于民用技术领域。近年来,随着半导体工艺水平提高,高频声表面波器件与谐振器生产已成为可能,应用领域不断扩大,几乎覆盖了全部通信领域。例如,自上世纪80年代后期起,SAW器件在移动通信领域得到了十分广泛的应用。
α-石英晶体是“古老”的压电晶体,是SAW器件最广泛使用的基片材料,它具有频率温度系数为零、能力流动角为零、高Q值切型等特点,用作高稳定窄带滤波器与谐振器基片。近年来,由于通信(尤其是移动通信)领域快速发展,对α-石英晶体及器件的需求不断增加。
铌酸锂晶体(LiNbO3)是另一种用于SAW器件基片的压电晶体材料。它最突出的特点是具有高的机电耦合系数,可用作宽带低插损滤波器基片,但是频率温度稳定性能差是制约其应用的最大瓶颈。
近年来,随着电子通信产业发展,尤其是移动通信终端设备从2G向2.5G、3G过渡,迫使研究人员寻找综合压电性能优于α-石英晶体的新型压电晶体材料。法国电信中心Bagneux实验室,俄罗斯科学院晶体研究所等均开展了新型压电晶体研究,包括新型压电晶体生长、性能表征与相关器件开发。
硅酸镓镧晶体(La3Ga5SiO14,LGS)是近年来备受关注的新型压电晶体,其具有压电系数大(α-石英的2~3倍)、机电耦合系数高(α-石英的2~3倍)、存在零频率温度系数的切型、高温无相变等优点。该晶体属三方晶系,32点群,空间群P321。该晶体结构中包含4种不同的阳离子位,称为A、B、C、D四种晶格位置,见附图1。其中A位阳离子处于由8个氧离子构成的十面体中心位置,B位阳离子处于由6个氧离子构成的八面体中心位置,C位和D位阳离子分别处于由4个氧离子构成的四面体中心位置,D位阳离子所在四面体略小于C位阳离子所在四面体。所以La3Ga5SiO14晶体结构又被表述为A3BC3D2O14。在La3Ga5SiO14晶体中,La3+占据A位,Ga3+分别占据着B位和C位,同时与Si4+“混合”占据着D位,即D位是由Ga3+和Si4+共同随机占据的。这种D位离子的随机性直接影响了晶体成分的均一性,故而不利于晶体性能的稳定性,所以La3Ga5SiO14晶体被称之为是无序的。在La3Ga5SiO14晶体的这种结构中,A、B、C、D位四种阳离子能被其它离子替换,形成多达一百多种的硅酸镓镧异质同构体化合物。近年来,为了探索性能更优异且容易生长的压电晶体,人们对硅酸镓镧的异质同构体化合物也开展了广泛的研究,已报到的晶体包括La3Nb0.5Ga5.5O14(LGN)、La3Ta0.5Ga5.5O14(LGT)、Sr3NbGa3Si2O14(SNGS)、Sr3TaGa3Si2O14(STGS)、Ca3NbGa3Si2O14(CNGS)和Ca3TaGa3Si2O14(CTGS)等。
本发明源于利用第一性原理计算方法对A3BC3D2O14类结构晶体进行计算和筛选,并结合固相合成和晶体生长试验,获得了新型压电晶体Ba3NbGa3Si2O14,报道了其结构参数及其压电常数。
发明内容
本发明涉及一种硅酸镓钡铌晶体,化学式为Ba3NbGa3Si2O14晶体属P321空间群,晶胞参数为其与La3Ga5SiO14晶体具有同样的结构,其中,Ba2+、Nb5+、Ga3+、Si4+分别占据A、B、C、D四种阳离子位,不存在La3Ga5SiO14晶体中Ga3+和Si4+共同随机占据D位的情况,这样就保证了晶体成分的均一性和性能的稳定性,所以Ba3NbGa3Si2O14晶体是有序结构的。该晶体可用于制作声表面波或声体波等压电器件。
本发明涉及的制备方法为:
将纯度为99.99%的原料BaCO3或BaO、Nb2O5、Ga2O3、SiO2按化学式配料:
原料经充分混合后,在1000℃至1200℃温度范围内烧结使原料进行固相反应,烧结时间控制在12小时至24小时范围内。经固相反应后可获得基本完全反应的Ba3NbGa3Si2O14化合物原料,X射线粉末衍射分析表明,其结构同硅酸镓镧晶体。
可采用提拉法生长晶体,坩埚使用铱金或铂金坩埚,其中使用铱金坩埚时要使用N2或Ar气等惰性气氛保护,避免坩埚发生氧化。使用中频电源感应加热2-3小时使温度升至1300℃-1600℃左右,原料完全熔化,熔体经2-24小时适当保温使熔体状态稳定后可开始晶体生长,生长工艺采用转速5-30rpm,提拉速度0.1-5mm/h,生长过程经下种、收颈、放肩、等径等阶段,生长结束将晶体提离熔体后,以每小时60-120℃的速度使晶体温度降至室温,得到Ba3NbGa3Si2O14单晶体。
BNGS晶体同LGS晶体相比具有如下优点:
LGS属于无序型A3BC3D2O14结构类晶体,D位由Ga3+和Si4+随机占据,致使晶体成分和性能的均匀性和稳定性均受到影响。BNGS是有序型A3BC3D2O14结构类晶体,分别占据四种阳离子位的离子相对固定,有利于保证晶体成分和性能的均匀性和稳定性。
其次,影响LGS晶体应用的一个重要因素就是该晶体中Ga2O3含量较高,其在原料中的质量百分比达46.06%,而且Ga2O3的价格偏高,致使该晶体成本高。降低晶体中的Ga2O3含量可以降低晶体成本。相比LGS晶体,Ga2O3在生长BNGS晶体的原料中的质量百分比为24.96%,所需Ga2O3原料明显减少,使晶体成本有所下降,利于晶体的应用推广。
附图说明
无
具体实施方式
实施例1
提拉法生长BNGS晶体:
将纯度为99.99%的原料BaCO3、Nb2O5、Ga2O3、SiO2按化学式配料:
原料经充分混合后,压块,在1100℃经24小时烧结可获得接近完全固相反应的Ba3NbGa3Si2O14化合物原料。
采用中频感应加热提拉炉,使用铱金坩埚,经2小时升温至1500℃使烧结料熔化,保温3小时使熔体稳定,下种温度1436℃,采用a方向籽晶提拉生长。生长过程中,转速采用15rpm,提拉速度为1mm/h,经过下种、放肩、等径等阶段后,采用每小时80℃的速度降温至室温,最终得到Ba3NbGa3Si2O14单晶体。
晶体的压电常数和弹性模量见表1和表2,并与La3Ga5SiO14(LGS)晶体进行了比较。
表1.BNGS晶体压电常数
表2.BNGS晶体弹性常数
实施例2
提拉法生长BNGS晶体:
将纯度为99.99%的原料BaCO3、Nb2O5、Ga2O3、SiO2按化学式配料:
原料经充分混合后,压块,于1200℃经24小时烧结获得Ba3NbGa3Si2O14化合物原料。
采用中频感应加热提拉炉,将原料置于铱金坩埚中,经2小时30分种升温至1480℃烧结料完全熔化,并保温2小时使熔体稳定。采用a方向籽晶,在1396℃下种开始生长,生长过程中,转速采用20rpm,提拉速度为0.7mm/h,经过下种、放肩、等径等阶段,生长结束后,以每小时65℃的速度降温至室温,最后得到Ba3NbGa3Si2O14晶体。
Claims (7)
2、按权利要求1所述的一种硅酸镓钡铌晶体的制备方法,其特征在于,采用将纯度为99.99%的原料BaCO3或BaO、Nb2O5、Ga2O3、SiO2按化学式配原料,采用提拉法生长晶体。
3、按权利要求2所述的一种硅酸镓钡铌晶体的制备方法,其特征在于包括下述步骤:
(1)将原料混合压块,在1000℃至1200℃温度范围内烧结12小时至24小时,得到化合物原料;
(2)使用铱或铂坩埚,加热2-3小时使温度升至1300℃-1600℃左右,原料熔化后放入籽晶,控制转速5-30rpm,提拉速度0.1-5mm/h;
(3)生长结束后将晶体提离熔体,晶体降温至室温。
4、按权利要求3所述的一种硅酸镓钡铌晶体的制备方法,其特征在于加温方式采用中频电源感应。
5、按权利要求3或4所述的一种硅酸镓钡铌晶体的制备方法,其特征在于使用铱金坩埚时要使用惰性气氛保护。
6、按权利要求3或4所述的一种硅酸镓钡铌晶体的制备方法,其特征在于晶体降温速率为每小时60-120℃。
7、按权利要求1所述的一种硅酸镓钡铌晶体用于制作声表面波或声体波压电器件。
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