CN101206403B - 光敏树脂组合物及由其制备的有机绝缘膜 - Google Patents

Abstract

提供了一种光敏树脂组合物。该组合物含有丙烯酸共聚物、光致酸产生剂和溶剂。丙烯酸共聚物含有在说明书中描述的式1、2、3和4表示的结构单元。该组合物在机械和热性能、透光率、绝缘性能、透明性、可显影性、残膜率、耐热性、平坦度等方面显示出优异的性能特征。具体地，该组合物的使用促进了形成作为层间绝缘膜的图案。该组合物还可用来制备具有高透光率的厚膜。因此，该组合物有效地用作LCD生产过程中层间绝缘层的材料。还提供了使用该组合物制备的有机绝缘膜。

Description

光敏树脂组合物及由其制备的有机绝缘膜

相关申请的交叉参考

本中请要求2006年12月19日提交的韩国专利申请No.10-2006-0130489的优先权，该申请在此全文引入作为参考。

技术领域

本发明涉及一种光敏树脂组合物及由该光敏树脂组合物制备的有机绝缘膜。

背景技术

近来对用于电视及监视器的液晶显示屏(LCD)面板的膨胀需求增大了对大尺寸玻璃及高清晰度面板的需求。这使得对适用于加工大尺寸玻璃的光致抗蚀剂的需求大大增长。

在大尺寸玻璃上进行的光学处理(photo process)对确定生产量是非常重要的。在光学处理中，光致抗蚀剂膜的特性，例如应用特性、透明性(不含光缺陷)、显色对比度、分辨率、对基材的附着性、膜保持性及敏感性，直接影响到在后续工序中制备的微电路的质量。尤其，在光学处理中制备的光致抗蚀剂的敏感性是影响大规模生产线生产节拍(tact time)的重要因素。因此，使用具有高敏感性的光致抗蚀剂可以提高生产率。

目前，由适用于i线的2，1，5-重氮萘醌(下文称为‘DNQ’)及丙烯酸组成的正性系统广泛用作LCD的抗蚀剂材料。以光照射时该系统进行光反应。该系统的光反应通过DNQ发生，DNQ未经光照不溶于碱溶液，光照时溶于碱。当以碱性显影剂水溶液来显影溶于碱的DNQ时，曝光区域被溶解掉。

本身溶于碱的丙烯酸树脂与DNQ交联以使丙烯酸树脂不溶于碱溶液中。相应地，系统中暴露于光的区域由于DNQ的分解而溶解，而在系统中未暴露于光的区域，丙烯酸树脂与DNQ交联而没有溶解。因此，在显影过程中，掩模的形状显示出来。

DNQ的作用是阻止高度碱可溶性的丙烯酸树脂溶解，因此被称为“溶解抑制剂”。已知此种系统具有约300至约400mJ/cm²的光敏性。在LCD的生产工艺中，需要系统具备高敏感性以增大生产量并提高反应性。

已经研制出由光致酸产生剂(photoacid generator)(PAG)和与溶解抑制剂组合的聚合物组成的化学放大光致抗蚀剂以增大系统的敏感性。当化学放大光致抗蚀剂经受光照时，键接到聚合物主链的溶解抑制剂通过由光致酸产生剂所产生酸的催化作用而水解，导致聚合物极性的变化。用极性或非极性溶剂显影极性改变的聚合物来形成正性或负性光敏膜图案。美国专利4,491,628公开了一种以叔丁氧基羰基基团保护的聚乙烯基苯酚作为用于化学放大光致抗蚀剂的树脂的例子。

在薄膜晶体管(TFT)型液晶显示屏装置及集成电路装置中，使用层间绝缘膜来绝缘各层。生产具有所需成形图案的层间绝缘膜，要求能够简单加工并能够具有很好平坦度的光敏材料。随着液晶显示屏(LCD)清晰度的增加，TFT型液晶显示屏装置的结构也发生变化。例如，有些具有较差绝缘性能的层间绝缘膜必须很厚以提供高平坦度。但是，这种很厚的层间绝缘膜的透明性不可避免地降低。

发明内容

本发明提供了一种具有优异的机械性能和热性能、很大改善的透光率、优异的绝缘性能和改善的物理性能的光敏树脂组合物。本发明还提供了一种使用该光敏树脂组合物制备的有机绝缘膜。

根据本发明的一个方面，提供了一种含有粘接剂树脂、光致酸产生剂和溶剂的光敏树脂组合物，其中，所述粘接剂树脂是具有由式1、2、3和4所表示的结构单元的丙烯酸共聚物：

其中，R₁和R₂各自独立地是氢或甲基；

其中，R₃和R₄各自独立地是氢或甲基，R₅是氢、氟、羟基，或者C₁-C₃₀链烷基或环烷基、羟烷基、烷氧基、环氧基、烷氧基烷基、酯或被酸离解或未被酸离解的多环基团；

其中，R₆和R₇各自独立地是氢或甲基，R₈是氢、氟、羟基，或者C₁-C₃₀链烷基或环烷基、羟烷基、烷氧基、环氧基、烷氧基烷基、酯或被酸离解或未被酸离解的多环基团；

其中，R₉和R₁₀各自独立地是氢或甲基，R₁₁是甲基、乙基、异丙基、叔丁基、叔戊基、异冰片基、四氢吡喃基、萘基(naphthalenyl)、异

基(isomenthyl)、三环癸基(tricyclodecanyl)、降冰片基(norbornyl)、四环十二烷基、萘烷基(decalinyl)、环己基、金刚烷基(adamantyl)、甲基金刚烷基、乙基金刚烷基或烷氧基烷基。

所述共聚物的分子量(M_w)为约1000至约200000。

以100重量份的溶剂为基准，所述共聚物以约10至约30重量份的量存在。

所述光致酸产生剂可以是含有C₁-C₁₀氟烷基磺酸离子(fluoroalkylsulfonate ion)作为阴离子的鎓盐化合物。

以100重量份的丙烯酸共聚物为基准，所述光致酸产生剂以约0.01至约15重量份的量存在。

本发明的组合物还含有树脂、表面活性剂、增粘剂(adhesion promoter)和/或附着改进剂(attachment improver)。

根据本发明的另一方面，提供了使用所述光敏树脂组合物制备的有机绝缘膜。

在随后的发明详述中将更完整地描述本发明，其中，对部分但非全部实施方式予以描述。事实上，本发明可以以多种不同的形式实现，而不应被解释为仅限于本文所列出的实施方式；更确切地说，提供这些实施方式使本公开满足适用的法规。

本发明提供了一种含有粘接剂树脂、光致酸产生剂和溶剂的光敏树脂组合物。

所述粘接剂树脂可以是具有由式1、2、3和4所表示的结构单元的丙烯酸共聚物：

其中，R₁和R₂各自独立地是氢或甲基；

其中，R₃和R₄各自独立地是氢或甲基，R₅是氢、氟、羟基，或者C₁-C₃₀链烷基或环烷基、羟烷基、烷氧基、环氧基、烷氧基烷基、酯或被酸离解或未被酸离解的多环基团；

其中，R₆和R₇各自独立地是氢或甲基，R₈是氢、氟、羟基，或者C₁-C₃₀链烷基或环烷基、羟烷基、烷氧基、环氧基、烷氧基烷基、酯或被酸离解或未被酸离解的多环基团；

其中，R₉和R₁₀各自独立地是氢或甲基，R₁₁是甲基、乙基、异丙基、叔丁基、叔戊基、异冰片基、四氢吡喃基、萘基、异

基、三环癸基、降冰片基、四环十二烷基、萘烷基、环己基、金刚烷基、甲基金刚烷基、乙基金刚烷基或烷氧基烷基。

用于本发明的丙烯酸共聚物显示出优异的机械和热性能、高透光率和低介电常数。该共聚物的环氧基团带来增大的机械强度。本丙烯酸共聚物适用于正性抗蚀剂，在少量酸产生剂的存在下，可以由碱性显影剂来显影。

所述共聚物的分子量(M_w)为约1000至约200000，例如约3000至约50000。分子量低于约1000的共聚物太软而无法形成光致抗蚀剂薄膜。同时，用分子量高于约200000的共聚物形成的光致抗蚀剂薄膜偏脆，可能会导致形成不稳定的图案。

丙烯酸共聚物可以具有式5所示的结构：

其中，R₁₂是H、F、羟基，或者C₁-C₃₀链烷基或环烷基、羟烷基、烷氧基、环氧基、烷氧基烷基、酯或者被酸离解或未离解的多环基团，或芳基或苯基；R₁₃和R₁₄各自独立地是H、F、羟基，或者C₁-C₃₀链烷基或环烷基、羟烷基、烷氧基、环氧基、烷氧基烷基、酯或者被酸离解或未被酸离解的多环基团；R₁₅是甲基、乙基、异丙基、叔丁基、叔戊基、异冰片基、四氢吡喃基、萘基、异

基、三环癸基、降冰片基、四环十二烷基、萘烷基、环己基、金刚烷基、甲基金刚烷基、乙基金刚烷基或烷氧基烷基；a、b、c、d和e各自代表各结构单元的摩尔比，且各大于0小于1，a、b、c、d和e之和为1。

这里所用的术语，羟烷基、烷氧基和烷氧基烷基可以包括C₁-C₂₀羟烷基、C₁-C₂₀烷氧基和C₁-C₂₀烷氧基烷基，术语环氧基和酯可以包括C₂-C₂₀环氧基和C₂-C₂₀酯基，术语多环基团可以包括C₅-C₂₀多环基团，术语芳基可以包括C₆-C₂₀芳基。

本发明的光敏树脂组合物中粘接剂树脂的含量可以根据各种因素而变化，如，溶剂和所用酸产生剂的类型和所采用的光刻条件。本发明的示例性的实施方式包括溶解在100重量份溶剂中的约10至约30重量份的粘接剂树脂。

粘接剂树脂的用量少于约10重量份会导致在曝光和未曝光区域之间仅有很小的溶解度差异，使得很难形成图案。同时，粘接剂树脂的用量大于约30重量份会导致在碱性水溶液中的溶解度增大，其结果是，仍难以形成图案。

本发明中使用的光致酸产生剂是一种被光分解而产生酸的化合物。对光致酸产生剂没有任何特别的限制，可以使用本领域中使用的任何已知的光致酸产生剂。

用于可以描述为化学放大光致抗蚀剂组合物的本发明的组合物的示例性光致酸产生剂可以包括，含有C₁-C₁₀氟烷基磺酸离子作为阴离子的鎓盐化合物。合适的鎓盐化合物的例子包括碘鎓盐、锍盐、磷鎓盐、重氮盐和吡啶鎓盐。这种鎓盐化合物的具体例子包括但不限于，二叔丁基苯基碘鎓-9，10-二乙氧基蒽-2-磺酸盐、二苯基碘鎓三氟甲烷磺酸盐、二苯基碘鎓九氟甲烷磺酸盐、双(4-叔丁基苯)碘鎓三氟甲烷磺酸盐、三苯基锍三氟甲烷磺酸盐、三苯基锍九氟甲烷磺酸盐、二苯基-4-甲苯基锍三氟甲烷磺酸盐、三苯基锍对甲苯磺酸盐、三苯基锍10-樟脑磺酸盐、二甲基(4-萘酚)锍三氟甲烷磺酸盐、二甲基(4-萘酚)锍对甲苯磺酸盐、二甲基(4，7-二羟基萘)锍三氟甲烷磺酸盐、二甲基(4，7-二羟基萘)锍10-樟脑磺酸盐、二甲基(4，7-二羟基萘)锍对甲苯磺酸盐、二甲基(4，7-二羟基萘)锍九氟甲烷磺酸盐和二甲基(4，7-二羟基萘)锍3-吡啶磺酸盐。这些鎓盐化合物可以单独使用或者以两种或更多种的混合物使用。

以100重量份的粘接剂树脂为基准，光致酸产生剂的含量为0.01至15重量份。光酸化合物的用量小于约0.01重量份会导致在曝光和未曝光区域之间仅有很小的溶解度差异，使得很难形成图案。同时，大于约15重量份的过量光酸化合物在光辐射很短时间时会保持未反应，并会降低组合物在碱性水溶液中的溶解度，使得组合物显影困难。

可以使用任何通常的有机溶剂来制备本发明的光致抗蚀剂组合物。有机溶剂的例子包括，但不限于，乙二醇一甲醚、乙二醇一乙醚、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、二乙二醇一甲醚、二乙二醇一乙醚、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯、二乙二醇二甲醚、乳酸乙酯、甲苯、二甲苯、甲基乙基酮、环己酮、2-庚酮、3-庚酮、4-庚酮等、以及它们的混合物。

如果需要，除了这些有机溶剂，N-甲基甲酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、N-甲基乙酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、三苯基咪唑、醇、以及它们的混合物可以用作辅助溶剂。

只要不影响本发明的目的，如需要，还可以添加任何与本发明的光敏树脂组合物相容的添加剂。例如，可以使用选自树脂、表面活性剂、增粘剂和附着改进剂的至少一种添加剂来改善抗蚀剂膜的性能。

根据常规光敏树脂组合物的已知的制备方法，通过在有机溶剂中溶解粘接剂树脂和光致酸产生剂(PAG)并通过微纤维过滤器过滤该溶液来制备本发明的光敏树脂组合物。

通过如喷涂、辊涂或旋涂的已知的涂覆技术将由此制备的光敏树脂组合物施覆到基底上以形成光致抗蚀剂薄膜，并在后续步骤中图案化形成光致抗蚀剂图案。下文中，将说明在生产LCD中形成抗蚀剂图案的示例的方法。

下面将给出使用化学放大光敏树脂组合物形成膜的说明。首先，将本发明的光敏树脂组合物施覆在玻璃或硅片基底的上部，并在加热板上以80-150℃预烘烤1-15分钟形成光致抗蚀剂膜。将掩模放置在该光致抗蚀剂薄膜上之后，照射UV光，接着在加热板上以80-150℃曝光后烘烤(post-exposurebaking)(PEB)1-15分钟。然后，通过先前的已知技术(例如浸渍、搅炼(puddling)或喷涂)，将所得的结构用显影剂，例如氢氧化四甲铵水溶液(TMAH，0.1-5重量％)显影30-180秒以形成光致抗蚀剂图案。用蒸馏水清洗光致抗蚀剂图案30-90秒以去除其不需要的部分，并干燥形成图案。在加热器(例如，烘箱)中以150-250℃固化图案30-90秒形成最终图案。

在下文中，将参考下述实施例更加详细地说明本发明。但是，给出这些实施例只是为了说明的目的，并不是限制本发明。

实施例

合成例1

在装配有冷凝器和搅拌器的聚合反应烧瓶中加入20g甲基丙烯酸，10g苯乙烯，30g叔丁氧基羰基苯乙烯，30g甲基丙烯酸缩水甘油酯和10g甲基丙烯酸2-甲基金刚烷基酯。将10g 2，2’-偶氮二异丁腈作为聚合引发剂加入到该聚合反应烧瓶中，然后，再加入200g提纯的四氢呋喃以溶解该混合物。在氮气气氛下，使该溶液在65℃的温度下聚合24小时。在聚合反应完成后，将聚合产物在石油醚/乙基醚中沉淀，经过玻璃过滤器过滤并于室温下在真空中干燥24小时以提供重均分子量为10500的式6的聚合物，

其中，a，b，c，d和e各自大于0小于1，且a，b，c，d和e之和为1。

合成例2

在装配有冷凝器和搅拌器的聚合反应烧瓶中加入20g甲基丙烯酸，10g苯乙烯，30g叔丁氧基羰基苯乙烯，30g甲基丙烯酸2-羟乙酯和10g甲基丙烯酸2-甲基金刚烷基酯。将10g 2，2’-偶氮二异丁腈作为聚合引发剂加入到该聚合反应烧瓶中，然后，再加入200g提纯的四氢呋喃以溶解该混合物。在氮气气氛下，使该溶液在65℃的温度下聚合24小时。在聚合反应完成后，将聚合产物在石油醚/乙基醚中沉淀，经过玻璃过滤器过滤并于室温下在真空中干燥24小时以提供重均分子量为14600的式7的聚合物，

其中，a，b，c，d和e各自大于0小于1，且a，b，c，d和e之和为1。

合成例3

在装配有冷凝器和搅拌器的聚合反应烧瓶中加入20g甲基丙烯酸，10g苯乙烯，30g叔丁氧基苯乙烯，30g甲基丙烯酸缩水甘油酯和10g甲基丙烯酸2-甲基金刚烷基酯。将10g 2，2’-偶氮二异丁腈作为聚合引发剂加入到该聚合反应烧瓶中，然后，再加入200g提纯的四氢呋喃以溶解该混合物。在氮气气氛下，使该溶液在65℃的温度下聚合24小时。在聚合反应完成后，将聚合产物在石油醚/乙基醚中沉淀，经过玻璃过滤器过滤并于室温下在真空中干燥24小时以提供重均分子量为9600的式8的聚合物，

其中，a，b，c，d和e各自大于0小于1，且a，b，c，d和e之和为1。

合成例4

在装配有冷凝器和搅拌器的聚合反应烧瓶中加入20g甲基丙烯酸，10g苯乙烯，30g叔丁氧基苯乙烯，30g 2-羟基甲基丙烯酸酯(2-hydroxymethacrylate)和10g甲基丙烯酸2-甲基金刚烷基酯。将10g 2，2’-偶氮二异丁腈作为聚合引发剂加入到该聚合反应烧瓶中，然后，再加入200g提纯的四氢呋喃以溶解该混合物。在氮气气氛下，使该溶液在65℃的温度下聚合24小时。在聚合反应完成后，将聚合产物在石油醚/乙基醚中沉淀，经过玻璃过滤器过滤并于室温下在真空中干燥24小时以提供重均分子量为10500的式9的聚合物，

其中，a，b，c，d和e各自大于0小于1，且a，b，c，d和e之和为1。

合成例5

在装配有冷凝器和搅拌器的聚合反应烧瓶中加入20g甲基丙烯酸，10g苯乙烯，30g叔丁基苯乙烯，30g甲基丙烯酸缩水甘油酯和10g甲基丙烯酸2-甲基金刚烷基酯。将10g 2，2’-偶氮二异丁腈作为聚合引发剂加入到该聚合反应烧瓶中，然后，再加入200g提纯的四氢呋喃以溶解该混合物。在氮气气氛下，使该溶液在65℃的温度下聚合24小时。在聚合反应完成后，将聚合产物在石油醚/乙基醚中沉淀，经过玻璃过滤器过滤并于室温下在真空中干燥24小时以提供重均分子量为10500的式10的聚合物，

其中，a，b，c，d和e各自大于0小于1，且a，b，c，d和e之和为1。

合成例6

在装配有冷凝器和搅拌器的聚合反应烧瓶中加入20g甲基丙烯酸，10g苯乙烯，30g丙烯酸叔丁基酯，30g 2-羟基甲基丙烯酸酯和10g甲基丙烯酸2-甲基金刚烷基酯。将10g 2，2’-偶氮二异丁腈作为聚合引发剂加入到该聚合反应烧瓶中，然后，再加入200g提纯的四氢呋喃以溶解该混合物。在氮气气氛下，使该溶液在65℃的温度下聚合24小时。在聚合反应完成后，将聚合产物在石油醚/乙基醚中沉淀，经过玻璃过滤器过滤并于室温下在真空中干燥24小时以提供重均分子量为10500的式11的聚合物，

其中，a，b，c，d和e各自大于0小于1，且a，b，c，d和e之和为1。

实施例1

将1.0g由合成例1制备的用叔丁氧羰基保护的并用环氧基取代的丙烯酸聚合物与0.03g作为光致酸产生剂的三苯基锍三氟甲磺酸盐溶解在3.0g丙二醇单甲醚乙酸酯中。通过0.2μm的注射过滤器(syringe filter)过滤该溶液，制备溶液形式的光敏树脂组合物。

实施例2

按与实施例1中同样方法制备溶液形式的光敏树脂组合物，不同的是，使用合成例2制备的丙烯酸聚合物代替合成例1制备的丙烯酸聚合物。

实施例3

按与实施例1中同样方法制备溶液形式的光敏树脂组合物，不同的是，使用合成例3制备的丙烯酸聚合物代替合成例1制备的丙烯酸聚合物。

实施例4

按与实施例1中同样方法制备溶液形式的光敏树脂组合物，不同的是，使用合成例4制备的丙烯酸聚合物代替合成例1制备的丙烯酸聚合物。

对比例1

按与实施例1中同样方法制备溶液形式的光敏树脂组合物，不同的是，使用合成例5制备的丙烯酸聚合物代替合成例1制备的丙烯酸聚合物。

对比例2

按与实施例1中同样方法制备溶液形式的光敏树脂组合物，不同的是，使用合成例6制备的丙烯酸聚合物代替合成例1制备的丙烯酸聚合物。

使用实施例1-4和对比例1和2中制备的光敏树脂组合物按如下步骤制备图案化的膜。

将溶液形式的各组合物以2000rpm旋涂于玻璃基底上，在120℃的温度下预烘烤90秒，以300-600mJ/cm²的照射剂量通过图案化的掩模用光照射，并在120℃的温度下进行曝光后烘烤(PEB)90秒，形成图案。用氢氧化四甲铵水溶液(TMAH，2.38重量％)作为显影剂将该图案显影40-70秒，以蒸馏水冲洗，并在烘箱中在200℃的温度下固化60分钟，制得具有0.5微米(μm)线条/间隔(line/space)图案的图案化的膜。

通过如下各方法评价每个图案的物理性能。所得结果见表1。

1)以形成图案的最小照射剂量来测定感光度。

2)将分辨率定义为图案化的膜中的最小线条尺寸。

3)以显影前后膜的厚度变化来评价残膜率。

4)通过用分光光度仪测量图案化的膜在400nm的透光率来评价透明性。

5)在烤箱中以200℃的温度加热基底60分钟，通过测量图案化的膜在加热前后的透光率变化来评价耐热性和耐脱色性。当没有发生变化时，判定耐热性和耐脱色性为“良好”，当观察到变化时，判定为“差”。

表1

实施例	聚合物	感光度(mJ/cm2)	UV透光率(400nm，％)	分辨率(μm)	残膜率	耐热性
							实施例1	合成例1	200	98	5	91	良好
实施例2	合成例2	180	97	5	90	良好
							实施例3	合成例3	190	98	5	91	良好
实施例4	合成例4	190	98	5	92	良好
							对比例1	合成例5	400	86	10	87	差
对比例2	合成例6	400	86	10	85	差

表1的结果表明，与对比例1和2中制备的组合物相比，使用以非极性光敏保护基团(例如，叔丁氧基羰基或叔丁氧基)取代的丙烯酸衍生物和光致酸产生剂(PAG)的组合物(实施例1-4)显示出更好的透光率，感光度，透明性，残膜率和耐热性。因此，可以使用实施例1-4制备的组合物来生产高平坦度的厚层间绝缘膜。

从上述描述可以明显地看出，本发明的光敏树脂组合物显示出高透光率，高感光度，改善的残膜率和很好的耐热性。因此，本发明的光敏树脂组合物适用于生产用于半导体和液晶显示装置的层间绝缘膜。

另外，粘结剂树脂中的环氧基团可以使本发明的光敏树脂组合物在固化过程后呈现改善的机械性能和高平坦度。而且，即使比常规的溶解抑制型光致抗蚀剂组合物具有更少量的酸产生剂，本发明的正性光敏树脂组合物依然可以生产出具有高感光度和透光率的绝缘膜。

本领域的技术人员可以想到，许多改变及其它实施方式使本发明仍适合具有前述说明书中的教导的优点。因此，应该理解，本发明并不限于所公开的具体实施方式，且旨在将变化和其它实施方式包括在所附的权利要求范围内。尽管这本文采用了专用术语，但它们仅用于一般的和描述性的含义而不是为了限制的目的，本发明的范围限定在权利要求中。

Claims (14)

1.一种光敏树脂组合物，该组合物含有粘接剂树脂、光致酸产生剂和溶剂，其中，所述粘接剂树脂是含有由式1、2、3和4表示的结构单元的丙烯酸共聚物：

其中，R₁和R₂各自独立地为氢或甲基；

其中，R₃和R₄各自独立地为氢或甲基，R₅为C₁-C₂₀羟烷基、C₂-C₂₀环氧基或2-甲基金刚烷基；

其中，R₆和R₇各自独立地为氢或甲基，R₈为C₆-C₂₀芳基；以及

其中，R₉和R₁₀各自独立地为氢或甲基，R₁₁为甲基、乙基、异丙基、叔丁基、叔戊基或叔丁氧基羰基，

所述粘接剂树脂的分子量M_w为1000至200000；以100重量份所述溶剂为基准，该组合物含有10至30重量份的所述粘接剂树脂；以100重量份所述粘接剂树脂为基准，该组合物含有0.01至15重量份的所述光致酸产生剂。

2.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物，其中，所述粘接剂树脂具有由式5表示的结构：

其中，R₁₂为C₆-C₂₀芳基；R₁₃为2-甲基金刚烷基；R₁₄为C₁-C₂₀羟烷基或C₂-C₂₀环氧基；R₁₅为甲基、乙基、异丙基、叔丁基、叔戊基或叔丁氧基羰基；a、b、c、d和e代表各结构单元的摩尔比，各自大于0小于1，且a、b、c、d和e之和为1。

3.根据权利要求2所述的光敏树脂组合物，其中，所述R₁₄为C₂-C₂₀环氧基。

4.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物，其中，所述光致酸产生剂是含有C₁-C₁₀氟烷基磺酸离子作为阴离子的鎓盐化合物。

5.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物，其中，该组合物还含有选自树脂、表面活性剂、增粘剂、附着改进剂、以及它们的混合物中的至少一种添加剂。

6.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物，其中，所述粘接剂树脂具有由式6表示的结构：

其中，a、b、c、d和e各自大于0小于1，且a、b、c、d和e之和为1。

7.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物，其中，所述粘接剂树脂具有由式7表示的结构：

其中，a、b、c、d和e各自大于0小于1，且a、b、c、d和e之和为1。

8.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物，其中，所述粘接剂树脂具有由式8表示的结构：

其中，a、b、c、d和e各自大于0小于1，且a、b、c、d和e之和为1。

9.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物，其中，所述粘接剂树脂具有由式9表示的结构：

其中，a、b、c、d和e各自大于0小于1，且a、b、c、d和e之和为1。

10.一种由光敏树脂组合物制备的有机绝缘膜，所述组合物含有粘接剂树脂、光致酸产生剂和溶剂，其中，所述粘接剂树脂是含有由式1、2、3和4表示的结构单元的丙烯酸共聚物：

其中，R₁和R₂各自独立地为氢或甲基；

其中，R₃和R₄各自独立地为氢或甲基，R₅为C₁-C₂₀羟烷基、C₂-C₂₀环氧基或2-甲基金刚烷基；

其中，R₆和R₇各自独立地为氢或甲基，R₈为C₆-C₂₀芳基

其中，R₉和R₁₀各自独立地为氢或甲基，R₁₁为甲基、乙基、异丙基、叔丁基、叔戊基或叔丁氧基羰基，

所述粘接剂树脂的分子量M_w为1000至200000，以100重量份所述溶剂为基准，该组合物含有10至30重量份的所述粘接剂树脂，以100重量份所述粘接剂树脂为基准，该组合物含有0.01至15重量份的所述光致酸产生剂。

11.根据权利要求10所述的有机绝缘膜，其中，所述粘接剂树脂具有由式5表示的结构：

其中，R₁₂为C₆-C₂₀芳基；R₁₃为2-甲基金刚烷基；R₁₄为C₁-C₂₀羟烷基或C₂-C₂₀环氧基；R₁₅为甲基、乙基、异丙基、叔丁基、叔戊基或叔丁氧基羰基；a、b、c、d和e表示各结构单元的摩尔比，各自大于0小于1，且a、b、c、d和e之和为1。

12.根据权利要求11所述的有机绝缘膜，其中，所述R₁₄为C₂-C₂₀环氧基。

13.一种包括有机绝缘膜的显示装置，所述有机绝缘膜由含有粘接剂树脂、光致酸产生剂和溶剂的光敏树脂组合物制成，其中，所述粘接剂树脂是含有由式1、2、3和4表示的结构单元的丙烯酸共聚物：

其中，R₁和R₂各自独立地为氢或甲基；

其中，R₃和R₄各自独立地为氢或甲基，R₅为C₁-C₂₀羟烷基、C₂-C₂₀环氧基或2-甲基金刚烷基；

其中，R₆和R₇各自独立地为氢或甲基，R₈为C₆-C₂₀芳基；以及

其中，R₉和R₁₀各自独立地为氢或甲基，R₁₁为甲基、乙基、异丙基、叔丁基、叔戊基或叔丁氧基羰基，

所述粘接剂树脂的分子量M_w为1000至200000，以100重量份所述溶剂为基准，该组合物含有10至30重量份的所述粘接剂树脂，以100重量份所述粘接剂树脂为基准，该组合物含有0.01至15重量份的所述光致酸产生剂。

14.根据权利要求13所述的显示装置，其中，所述粘接剂树脂具有由式5表示的结构：

其中，R₁₂为C₆-C₂₀芳基；R₁₃为2-甲基金刚烷基；R₁₄为C₁-C₂₀羟烷基或C₂-C₂₀环氧基；R₁₅为甲基、乙基、异丙基、叔丁基、叔戊基或叔丁氧基羰基；a、b、c、d和e代表各结构单元的摩尔比，各自大于0小于1，且a、b、c、d和e之和为1。