CN101165854A - 基板处理装置和基板处理方法 - Google Patents

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Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102468118A (zh) * 2010-11-12 2012-05-23 北大方正集团有限公司 治具及清洗机
CN102576670A (zh) * 2009-12-25 2012-07-11 东京毅力科创株式会社 基板干燥装置以及基板干燥方法
CN102759860A (zh) * 2011-04-26 2012-10-31 东京毅力科创株式会社 涂敷处理装置、涂敷显影处理系统和涂敷处理方法
CN103208416A (zh) * 2013-04-03 2013-07-17 无锡华润上华半导体有限公司 一种空腔结构刻蚀后清洗和干燥的方法
CN104128292A (zh) * 2013-04-30 2014-11-05 细美事有限公司 基板处理装置以及基板处理方法
CN105026058A (zh) * 2013-03-14 2015-11-04 东京毅力科创株式会社 用于衬底漂洗和干燥的方法和设备
CN105204288A (zh) * 2015-10-14 2015-12-30 中国电子科技集团公司第四十五研究所 光刻版自动翻转装置
CN106847665A (zh) * 2012-11-08 2017-06-13 斯克林集团公司 基板处理方法以及基板处理装置
CN107731717A (zh) * 2013-09-27 2018-02-23 斯克林集团公司 基板处理装置以及基板处理方法
CN107755204A (zh) * 2016-08-18 2018-03-06 株式会社斯库林集团 基板处理方法
CN107799439A (zh) * 2016-08-31 2018-03-13 株式会社斯库林集团 基板处理方法
CN107799389A (zh) * 2016-08-31 2018-03-13 株式会社斯库林集团 基板处理方法
CN109219865A (zh) * 2016-06-24 2019-01-15 株式会社斯库林集团 基板处理方法及基板处理装置
CN109427548A (zh) * 2017-08-31 2019-03-05 株式会社斯库林集团 基板处理方法以及基板处理装置
CN110313052A (zh) * 2017-03-27 2019-10-08 株式会社斯库林集团 基板处理装置及基板处理方法
CN111902914A (zh) * 2018-03-26 2020-11-06 株式会社斯库林集团 衬底处理方法及衬底处理装置
CN113363187A (zh) * 2014-09-30 2021-09-07 芝浦机械电子株式会社 基板处理装置

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6242135B2 (ja) * 2013-09-27 2017-12-06 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理方法および基板処理装置
JP6350080B2 (ja) * 2014-07-31 2018-07-04 Jsr株式会社 半導体基板洗浄用組成物
CN109107810B (zh) * 2018-09-13 2024-04-26 韶关市中都工业新技术开发有限公司 铸铁厨具植物油防锈生产线使用方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100501931C (zh) * 2004-04-23 2009-06-17 东京毅力科创株式会社 基板清洗方法、基板清洗装置
JP4324527B2 (ja) * 2004-09-09 2009-09-02 東京エレクトロン株式会社 基板洗浄方法及び現像装置

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102576670A (zh) * 2009-12-25 2012-07-11 东京毅力科创株式会社 基板干燥装置以及基板干燥方法
CN102468118A (zh) * 2010-11-12 2012-05-23 北大方正集团有限公司 治具及清洗机
CN102759860A (zh) * 2011-04-26 2012-10-31 东京毅力科创株式会社 涂敷处理装置、涂敷显影处理系统和涂敷处理方法
CN102759860B (zh) * 2011-04-26 2016-06-01 东京毅力科创株式会社 涂敷处理装置、涂敷显影处理系统和涂敷处理方法
CN106847665B (zh) * 2012-11-08 2019-07-26 斯克林集团公司 基板处理方法以及基板处理装置
CN106847665A (zh) * 2012-11-08 2017-06-13 斯克林集团公司 基板处理方法以及基板处理装置
CN105026058A (zh) * 2013-03-14 2015-11-04 东京毅力科创株式会社 用于衬底漂洗和干燥的方法和设备
CN103208416A (zh) * 2013-04-03 2013-07-17 无锡华润上华半导体有限公司 一种空腔结构刻蚀后清洗和干燥的方法
CN104128292A (zh) * 2013-04-30 2014-11-05 细美事有限公司 基板处理装置以及基板处理方法
US11094529B2 (en) 2013-09-27 2021-08-17 SCREEN Holdings Co., Ltd. Substrate processing apparatus and substrate processing method
CN107731717A (zh) * 2013-09-27 2018-02-23 斯克林集团公司 基板处理装置以及基板处理方法
CN107731717B (zh) * 2013-09-27 2021-10-29 斯克林集团公司 基板处理装置以及基板处理方法
US11710629B2 (en) 2013-09-27 2023-07-25 SCREEN Holdings Co., Ltd. Substrate processing apparatus and substrate processing method
CN113363187A (zh) * 2014-09-30 2021-09-07 芝浦机械电子株式会社 基板处理装置
CN113363187B (zh) * 2014-09-30 2024-03-22 芝浦机械电子株式会社 基板处理装置
CN105204288B (zh) * 2015-10-14 2019-05-17 中国电子科技集团公司第四十五研究所 光刻版自动翻转装置
CN105204288A (zh) * 2015-10-14 2015-12-30 中国电子科技集团公司第四十五研究所 光刻版自动翻转装置
CN109219865A (zh) * 2016-06-24 2019-01-15 株式会社斯库林集团 基板处理方法及基板处理装置
CN109219865B (zh) * 2016-06-24 2023-04-25 株式会社斯库林集团 基板处理方法及基板处理装置
CN107755204A (zh) * 2016-08-18 2018-03-06 株式会社斯库林集团 基板处理方法
CN107755204B (zh) * 2016-08-18 2020-12-04 株式会社斯库林集团 基板处理方法
CN107799439B (zh) * 2016-08-31 2021-07-13 株式会社斯库林集团 基板处理方法
CN107799389A (zh) * 2016-08-31 2018-03-13 株式会社斯库林集团 基板处理方法
CN107799439A (zh) * 2016-08-31 2018-03-13 株式会社斯库林集团 基板处理方法
CN110313052A (zh) * 2017-03-27 2019-10-08 株式会社斯库林集团 基板处理装置及基板处理方法
CN110313052B (zh) * 2017-03-27 2023-07-07 株式会社斯库林集团 基板处理装置及基板处理方法
CN109427548A (zh) * 2017-08-31 2019-03-05 株式会社斯库林集团 基板处理方法以及基板处理装置
CN111902914A (zh) * 2018-03-26 2020-11-06 株式会社斯库林集团 衬底处理方法及衬底处理装置

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JP5253592B2 (ja) 2013-07-31

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