CN101156203B - 光记录介质 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种光记录介质，该光记录介质可以在高速记录用途中得到良好的记录读取特性。因此，在基板上以叙述顺序具有反射层、含色素的记录层、透明树脂层的光记录介质中，在上述记录层和上述树脂层之间设置阻隔层，同时用于上述阻隔层的材料作为块体在300K时的导热率M为70W/m·K以上，并且上述阻隔层的膜厚t小于5nm。

Description

光记录介质
技术领域
本发明涉及光记录介质，更详细地说，涉及可以得到高速记录且良好的记录读取特性的光记录介质。
背景技术
近年，DVD-RW、DVD-R等各种光记录介质因存储大容量的信息和随机存取容易而作为计算机等信息处理装置中的外部存储装置为人们广泛认识。例如，具有有机色素记录层的代表性的DVD-R等为层积结构，用激光通过基板进行记录·读取，其中在透明光盘基板上以叙述顺序具有色素记录层和反射层，并且具有覆盖这些记录层或反射层的保护层。此外，为了使这些光记录介质的记录容量进一步大容量化，人们开发出在1片介质上设置了两个以上记录层的多层型光记录介质，例如，已经公开了在盘状的透明的第1基板上具有2个色素记录层的双层型光记录介质，所述2个色素记录层中间夹持有由紫外线固化性树脂构成的中间层。
对于这样的双层型光记录介质，已知有使用透明压模的2P(光聚合)法、以及形成两片由记录层和反射层层积而成的光盘基板并通过光固性树脂层将两片基板贴合的方法。在这两种情况中，均在位于激光的入射面的最内侧的基板上以叙述顺序层积有反射层、含色素的记录层(以下，也称为记录层(1)或第2层记录层)。
其中，在贴合两片由记录层和反射层层积而成的光盘基板的方法中，形成在形成有记录轨道用的导向槽的基板上以叙述顺序层积了记录层和反射层(以下，将形成有槽的透明树脂层看作基板，因而有时将这样的层积体或层积结构称为“正层积体”或“正层积结构”)的第1光盘基板、和在与上述同样的基板上以叙述顺序层积了反射层和记录层(以下，有时将这样的层积体或层积结构称为“反层积体”或“反层积结构”)的第2光盘基板，在各光盘基板上涂布光固性树脂后，使所述涂布面之间相互贴合，使光固性树脂固化，从而进行制造。在2个记录层中，使用从第1光盘基板侧入射的记录读取光来记录·读取光信息。将2片这样的光盘基板贴合的方法不需要如2P法那样的转印透明压模的凹凸形状的工序，可以认为可实现优异的生产率和低成本化。
在上述反层积结构中，在记录层和光固性树脂之间设置称为“阻隔层”的层是为人们所知的(参见专利文献1、2)。
专利文献1：特开2000-311384号公报(段落[0052]、[0053]，实施例2)
专利文献2：特开2002-373451号公报(段落[0034]、[0035]，实施例)
发明内容
本来，在具有含有有机色素的记录层的光记录介质中，存在希望进一步抑制在高速记录用途中发生信号串扰的课题。根据本发明人的研究，该课题的主要原因在于，有机色素的导热率远小于其他公知的无机类记录介质(例如DVD-RW)的记录层的导热率。
即，在含有有机色素的记录层中，形成记录部时，通常吸收被聚光的记录用激光的色素分解且光学常数发生变化，或者所述部分的膜厚减小的同时，压力升高，并且暴露于高温的记录层周边发生变化，等等。这种情况中，由于难以发生热扩散，特别是难以发生记录层面内方向的散热，因此记录部具有扩大到邻接轨道部的趋势，并且在2个以上的轨道进行记录时信号串扰具有增大的趋势。可以认为，由于这些趋势，产生难以得到良好的抖晃(jitter)的现象。
此外，在高速记录时，由于记录脉冲短小化，因此需要使用比低速记录时的能量更高的记录用激光来分解色素。其结果，记录层暴露于比低速记录时更高的温度，因此信号串扰的增大易变得显著。
在上述的2P法制造的双层型光记录介质中有时也可以看到发生这样的信号串扰，但特别是对于由贴合2片光盘基板的方法而形成的双层型光记录介质，在位于记录读取光的入射面的内侧的记录层(以下，有时将其称为“第2层记录层”)中可明显看到发生这样的信号串扰。如上所述，由贴合2片光盘基板的方法而形成的双层型光记录介质的第2层记录层设置在于基板上层积反射层和记录层的反层积体上。在这样的反层积体中，在基板的槽间部记录光信息时，为了确保记录调制度，需要增加槽间部的记录层的膜厚。这种情况中，记录部的邻接轨道为基板的槽部，因此记录层膜厚容易变得比槽间部厚。因此，槽部的记录层膜厚变厚，相应地记录标记易于横向扩大，并且信号串扰易于增大。在涂布有机色素溶液时易于产生这样的槽部和槽间部的记录膜厚之差。
此外，对于在双层型光记录介质中的设置在记录读取光的入射面的内侧的第2光盘基板，为了确保记录读取光的反射率，将导向槽的深度设置得比现有技术的槽浅。因此，导向槽的物理的屏障效果变小，并且容易产生记录时基板树脂的流动变形等导致的过度变形，并且信号串扰易于增大。
本发明是为了解决这样的课题而作出的。
即，本发明的目的在于提供一种包含反层积结构的光记录介质，所述反层积结构可以在高速记录用途中得到良好的记录读取特性。
此外，本发明的另一目的在于提供一种双层型光记录介质，其是具有高速记录方面特别优异的第2层记录层的光记录介质。
本发明人进行了深入研究，结果发现，由作为块体(bulk)导热率高的材料来形成设置在记录层和透明树脂层之间的阻隔层的同时，减小阻隔层膜厚使其非常薄，由此有效地解决了上述课题。
此外，本发明人发现，通过使双层型光记录介质的第2层记录层中包含高速记录方面特别优异的特定的色素，可以解决第2层记录层所要求的各种课题，而且可以维持足够的耐光性，从而完成了本发明。
即，本发明的要点在于一种光记录介质，所述光记录介质为在基板上以叙述顺序具有反射层、含色素的记录层、透明树脂层的光记录介质，其特征在于，在上述记录层和上述树脂层之间设置阻隔层，同时用于上述阻隔层的材料作为块体在300K时的导热率M为70W/m·K以上，并且上述阻隔层的膜厚t小于5nm(权利要求1)。
此外，本发明的另一要点在于一种光记录介质，所述光记录介质为在第1基板上以叙述顺序具有第1反射层、含色素的第1记录层、透明树脂层、含色素的第2反射层、第2记录层以及第2基板的光记录介质，其特征在于，上述第1记录层(第二层记录层)至少含有由下述通式(1)表示的偶氮类化合物和Zn金属离子构成的含金属偶氮色素作为色素(权利要求8)，
Figure S2006800110274D00041
(通式(1)中，
R1表示氢原子或以CO2R3表示的酯基，在此，R3表示直链或者支链的烷基、或环烷基，
R2表示直链或支链的烷基，
X1和X2之中至少任意一个表示NHSO2Y基，在此，Y表示有至少2个氟原子取代的直链或支链的烷基，同时剩余的基团表示氢原子，
R4和R5各自独立地表示氢原子、直链或者支链的烷基、或者直链或者支链的烷氧基，
R6、R7、R8和R9各自独立地表示氢原子或碳原子数1或者2的烷基，
此外，H+从上述NHSO2Y基脱离，从而形成NSO2Y-(阴性)基，上述通式(1)表示的偶氮类化合物与金属离子形成配位键。)
此外，在上述本发明的再一要点中作为上述透明树脂层还包含具有导向槽的中间层(以下，有时将其称为“2P层”。)，所述中间层位于由上述2P法在中间层中形成导向槽的双层型光记录介质中。
这样，根据本发明，可以获得在高密度、高速记录用途中可得到良好记录读取特性的光记录介质。
附图说明
图1(a)为示意表示本发明的第1实施方式中的光记录介质的构成的截面图，图1(b)为示意表示本发明的第2实施方式中的光记录介质的构成的截面图。
图2是表示实验例1中制作的光记录介质的反层积体中的、阻隔层的材料块体的导热率和Δjitter的关系的曲线图。
图3是表示实验例2中制作的光记录介质的反层积体中的、阻隔层的膜厚和Δjitter的关系的曲线图。
图4是表示实验例1中制作的光记录介质的反层积体中的、阻隔层的材料和ST(％)、MT(％)的关系的曲线图。
图5是示意表示本发明的第3实施方式中的光记录介质的构成的截面图。
图6中图6(a)是表示实验例4中制作的光记录介质的反层积体中的、抖晃和不对称性的关系的曲线图，图6(b)是表示实验例4中制作的光记录介质的反层积体中的、抖晃和记录功率的关系的曲线图。
图7是表示实验例5中制作的光记录介质的记录层(1)中的、抖晃和不对称性的关系的曲线图。
符号说明
11反层积体
12正层积体
100，200，300光记录介质
101，308基板(1)
102，306反射层(1)
103，305记录层(1)
104，204阻隔层
105，205透明树脂层
304透明树脂层(2P层)
106保护涂层
107，303反射层(2)
108，302记录层(2)
109，301基板(2)
110，210，310激光
201基板
202反射层
203记录层
307粘结层
具体实施方式
以下，对实施本发明的最佳方式(适宜简称为“发明的实施方式”。)进行说明。此外，本发明不限于以下实施方式，可以在其要点的范围内进行各种变形来实施。
[本发明的基本概念1]
本发明的第1光记录介质在基板上以叙述顺序具有反射层、含色素的记录层以及透明树脂层作为其基本构成。此外，根据需要在上述记录层和上述树脂层之间设置有阻隔层。
此外，本发明的一个特征在于，将高导热率的材料用于上述阻隔层。如此，通过将高导热率的材料用于阻隔层，可以使反层积体的记录层在记录时的热量释放，可以抑制记录时的过度变形等，并可以降低信号串扰。
此外，本发明的另一个特征在于，使上述阻隔层的膜厚小于5nm。通过如此减小膜厚，即使以衰减系数大的金属膜或合金膜作为阻隔层，也可以抑制记录光的衰减，不使反层积结构的记录灵敏度降低，并可以得到良好的记录特性。此外，如后所述，认为，还可以形成良好的记录边缘部。
本发明中的信号串扰降低效果在下述情况中得以显著发挥：将用于反层积体的基板的槽形状，特别是将槽深度设置在通常的正层积或第2光盘基板的槽深度的约1/5以下。即，为了确保光盘反射率，并抑制记录灵敏度的降低，将反层积体的基板的槽设置得较浅时，可以显著发挥本发明的效果。
这是因为，在槽深度较浅时，难以得到基板的槽的壁产生的物理屏蔽，即，难以得到色素或流动的记录时的基板的树脂等物质移动的障壁效果，因而在记录时发生记录部的过度变形等，从而发生信号串扰变得非常大这样的问题。因而，本发明优选适用于使用了具有比现有技术浅的槽的基板的反层积体。
此外，所述的阻隔层的导热率和记录特性的关系也可以从后述的〔实验例1〕的图2确认。在此，在2个以上的轨道进行记录，并将读取记录于邻接的两侧的轨道的信号时的抖晃称为MT(％)。此外，将在邻接的轨道中没有记录的状态下读取只记录于一个轨道的部分而得到的抖晃称为ST(％)。MT(％)中包含信号串扰的影响，与此相对，ST(％)中不包含信号串扰的影响。
此外，Δjitter为上述MT(％)和ST(％)的差值，并且该值越大，意味着信号串扰越大。该Δjitter的值优选为2％以下。这是因为，Δjitter大于2％的情况中，即使例如ST(％)为7％时良好，但由于MT(％)大于9％，因此也不优选。
基于上述情况，见图2可知，在实施例中，导热率为70W/m·K以上且低于2％，可以得到良好的特性。
另一方面，如可从后述的〔实验例2〕的表3确认的那样，可知在高导热率的阻隔层中，阻隔层的膜厚以5nm为界限，难以改善抖晃。其原因之一可以认为是，由于膜厚变厚，因而记录光的强度衰减，并且记录灵敏度变差。此外，还可认为，与膜厚变厚所导致的膜在形态学上的恶化有关。该膜的形态学可以通过喷镀的成膜条件或膜的组成等在某种程度上进行调整。
此外，对于本发明的光记录介质，在上述的基本构成中在与反层积体接触的透明树脂层的、与反层积体侧的相对侧进一步顺序地设置第2反射层、第2记录层和透明基板，由此可以发展成多层型光记录介质。
[第1实施方式]
图1(a)是示意表示本发明的第1实施方式中的光记录介质的构成的截面图。图1(a)表示双层型光记录介质100，所述双层型光记录介质100具有在透明基板上层积有反射层和记录层的光盘基板(反层积体11)和在透明基板上顺次层积有记录层和反射层的光盘基板(正层积体12)。
如图1(a)所示，光记录介质100中作为反层积体11具有形成有槽和槽脊或预制凹坑的盘状的透光性基板(1)101；设置在该基板(1)101的激光110的入射面侧的反射层(1)102；含色素的记录层(1)103；和阻隔层104。此外，作为正层积体12具有形成有槽和槽脊或预制凹坑的盘状的透光性基板(2)109；设置在基板(2)109上的含色素的记录层(2)108；将从基板(2)109侧入射的激光110的能量减弱的半透明的反射层(2)107；设置在反射层(2)107上的保护涂层106。使透明树脂层105介于所述反层积体11和正层积体12之间来进行层积，使得阻隔层104和保护涂层106相对置，从而构成双层型光记录介质100。此外，在记录层(1)103和记录层(2)108中，利用从正层积体12的基板(2)109侧入射的激光110，可以进行光信息的记录读取。
〔反层积体〕
下面，对反层积体11的各层进行说明。如上所述，反层积体11由基板(1)101、层积在基板(1)101上的反射层(1)102、记录层(1)103和阻隔层104(以下，有时将所述反射层(1)102、记录层(1)103以及阻隔层104总称为“L1层”。)构成。
<基板(1)>
优选构成基板(1)101的材料具有透光性且双折射率小等，在光学特性上优异。此外，优选易于注射成型等，在成型性上优异。此外，还优选吸湿性小。进一步优选光记录介质100具备形状稳定性以具有某种程度的刚性。对这样的材料没有特别的限制，例如可以举出丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、聚碳酸酯树脂、聚烯烃类树脂(特别是无定形聚烯烃)、聚酯类树脂、聚苯乙烯树脂、环氧树脂、玻璃等。此外，也可使用在玻璃等基体上设置了由光固性树脂等放射线固化性树脂构成的树脂层的基板等。这些之中，从光学特性、成型性等高生产率、成本、低吸湿性、形状稳定性等方面考虑，优选聚碳酸酯。此外，从耐化学试剂性、低吸湿性等方面考虑，优选无定形聚烯烃。此外，从高速响应性等方面考虑，优选玻璃基板。
此外，基板(1)101不必是透光性的，因此为了提高机械稳定性并增大刚性，可以设置由适当的材料构成的衬底。作为这样的材料，例如，可举出以Al为主成分的Al-Mg合金等Al合金基板；以Mg为主成分的Mg-Zn合金等Mg合金基板；硅、钛、陶瓷、纸等基板或者这些的组合。
将记录读取波长设为λ，构成反层积体11的基板(1)101的导向槽部的槽深度通常为λ/100以上，优选为2λ/100以上，更优选为2.2λ/100以上。例如，记录读取光的波长(记录读取波长)λ＝660nm时，基板(1)101的槽深度为通常为6.6nm以上，优选为13nm以上，更优选为14.5nm以上。
此外，优选反层积体11中的基板(1)101的槽深度的上限设定为110nm以下。特别是在本实施方式的光记录介质100的情况中，通过基板(2)109和透明树脂层105而入射到记录层(1)103的激光110的光量和反射光量被记录层(2)108和反射层(2)107减弱，反射率降低，因此7λ/100以下成为优选的槽深度的上限。例如，将记录读取波长设为λ＝660nm时，基板(1)101的槽深度优选设定为46.2nm以下。更优选为6λ/100以下。
如上所述，优选使反层积体11中的基板(1)的槽深度比后述的正层积体12的构成中的基板(2)的槽的深度浅，具体地说，基板(1)的槽深度相对于基板(2)的槽深度的比例通常为1/3以下，优选为1/4以下，更优选为1/5以下。
将轨道间距设为T，反层积体11中的基板(1)101的槽宽通常为T/10以上，优选为2T/10以上，更优选为3T/10以上。但是，通常为8T/10以下，优选为7T/10以下，更优选为6T/10以下。只要基板(1)101的槽宽为该范围，就可以进行良好的循轨，并可以得到足够的反射率。例如，将轨道间距设为740nm时，基板(1)101的槽宽通常为74nm以上，优选为148nm以上，更优选为222nm以上。此外，基板(1)101的上限通常为592nm以下，更优选为518nm以下，进一步优选为444nm以下。此外，在本说明书中，基板的“槽宽”是指槽的最大深度的一半深度处的槽宽(即，半值宽度)。
基板(1)101优选具有一定程度的厚度，基板(1)101的厚度通常优选为0.3mm以上。但是，通常为3mm以下，优选为1.5mm以下。
<反射层(1)>
对于构成反层积体11的反射层(1)102的材料没有特别的限制，例如，可以单独使用Au、Al、Ag、Cu、Ti、Ni、Pt、Ta、Pd、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi、稀土金属等金属和准金属中的任意一种，或者将任意两种以上制成合金来使用。这些之中，优选Au、Al、Ag，特别是从成本低且反射率高的方面考虑，优选含有50％以上的Ag的金属材料。
其中，反射层(1)102优选为以Ag为主成分并含有0.1～15原子％的选自由Ti、Zn、Cu、Pd、Au和稀土金属组成的组中的至少一种元素的合金。含有在Ti、Bi、Zn、Cu、Pd、Au和稀土金属之中的两种以上的元素的情况中，各含量可以分别为0.1～15原子％，但是它们的总含量优选为0.1～15原子％。
更优选的反射层(1)102的合金组成以Ag为主成分并含有0.1～15原子％的选自由Ti、Bi、Zn、Cu、Pd、Au组成的组中的至少一种元素，并且根据必要含有0.1～15原子％的至少一种稀土元素。在稀土金属之中，特别优选钕。具体地说，为AgPdCu、AgCuAu、AgCuAuNd、AgCuNd、AgBi、AgBiNd等。此外，本实施方式中所使用的合金的组成比为上述的范围。
只由Au构成的反射层(1)102晶粒小，耐腐蚀性优异，是优选的。此外，也可使用包含Si的层作为反射层(1)102。此外，以金属以外的材料将低折射率薄膜和高折射率薄膜交互层积形成多层膜，其也可用作反射层。
作为形成反射层(1)102的方法，例如，可以举出喷镀法、离子电镀法、化学蒸镀法、真空蒸镀法等。
反层积体11中的反射层(1)102优选具有高反射率且高耐久性。为了确保高反射率，反射层(1)102的厚度通常为30nm以上，优选为40nm以上，更优选为50nm以上。但是，为了缩短生产上的作业时间并降低成本，通常为400nm以下，优选为300nm以下。
<记录层(1)>
反层积体11中的记录层(1)103通常含有与用于单面型记录介质(例如CD-R、DVD-R、DVD+R等)的记录层相同程度的灵敏度的色素。优选这样的色素在350～900nm左右的可见光～近红外区域具有最大吸收波长λmax，并且是适合以蓝色～近微波激光记录的色素化合物。其中更优选为适合利用以下激光进行记录的色素：通常用于CD-R这样的波长770～830nm左右的近红外激光(例如，780nm、830nm)、用于DVD-R这样的波长620～690nm左右的红色激光(例如，635nm、660nm、680nm)、波长405nm或515nm等所谓的蓝激光等。此外，也可以使用相变化型材料。
对记录层(1)103所使用的色素没有特别的限制，然而通常使用有机色素材料。作为有机色素材料，例如，可举出大环状氮杂轮烯类色素(酞菁色素、萘酞菁色素、卟啉色素等)、吡咯亚甲基类色素、聚甲炔类色素(花青色素、部花青色素、方酸内鎓色素等)、蒽醌类色素、薁鎓类色素、含金属偶氮类色素、金属络合物靛苯胺类色素等。这些之中，优选含金属偶氮类色素，因为其记录灵敏度优异，且耐久性、耐光性优异。可以单独使用这些色素中的1种，也可以两种以上混合使用。
此外，记录层(1)103还包含除色素以外的其他成分。
例如，为了提高记录层的稳定性或耐光性，记录层(1)103可以含有过渡金属螯合化合物(例如，乙酰丙酮螯合物、二苯基二硫醇、水杨醛肟、双二硫-α-二酮等)等作为单线态氧猝灭剂，或者为了提高记录灵敏度，记录层(1)103也可以含有金属类化合物等记录增敏剂(記録感度向上剤)。在此，金属类化合物是指过渡金属等金属以原子、离子、簇等形式被包含在化合物中所得到的化合物，例如，可以举出乙二胺类络合物、偶氮甲碱类络合物、苯基羟基胺类络合物、菲咯啉类络合物、二羟基偶氮苯类络合物、二肟类络合物、亚硝基氨基苯酚类络合物、吡啶基三嗪类络合物、乙酰丙酮类络合物、茂金属类络合物、卟啉类络合物这样的有机金属化合物。对金属原子没有特别的限制，然而优选过渡金属。
此外，记录层(1)103中可根据需要并用粘合剂、均化剂、消泡剂等。作为优选的粘合剂，可举出聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、硝基纤维素、醋酸纤维素、酮类树脂、丙烯酸类树脂、聚苯乙烯类树脂、氨酯类树脂、聚乙烯醇缩丁醛、聚碳酸酯、聚烯烃等。
但是，在上述记录层(1)中，为了使高速记录特性更优异，优选与特定的色素的组合。对此将后述。
对记录层(1)103的成膜方法没有特别的限制，通常可以举出，真空蒸镀法、喷镀法、刮刀法、浇注法、旋涂法、浸渍法等常用的薄膜形成法，但从大量生产性、成本方面考虑，优选旋涂法等湿式成膜法。此外，从可以得到均匀的记录层方面考虑，优选真空蒸镀法。
在利用旋涂法的成膜的情况中，转速优选为10～15000rpm。旋涂之后，一般进行加热处理，去除溶剂。对由刮刀法、浇注法、旋涂法、浸渍法等涂布方法来形成记录层的情况中的涂布溶剂没有特别限定，只要是不侵害基板的溶剂即可。例如，可举出二丙酮醇、3-羟基-3-甲基-2-丁酮等酮醇类溶剂；甲基溶纤剂、乙基溶纤剂等溶纤剂类溶剂；正己烷、正辛烷等链状烃类溶剂；环己烷、甲基环己烷、乙基环己烷、二甲基环己烷、正丁基环己烷、叔丁基环己烷、环辛烷等环状烃类溶剂；四氟丙醇、八氟戊醇、六氟丁醇等全氟烷基醇类溶剂；乳酸甲酯、乳酸乙酯、2-羟基异丁酸甲酯等羟基羧酸酯类溶剂等。
从去除溶剂且利用简便设备进行处理方面考虑，用于去除这些溶剂的加热处理通常在略低于使用的溶剂的沸点的温度下进行，通常在60℃～100℃的范围内进行。此外，对加热处理的方法没有特别的限制，例如可以举出，将含色素的溶液涂布成膜以在基板(1)101上形成记录层(1)103后，以规定温度保持规定时间(通常为5分钟以上，优选为10分钟以上，此外通常为30分钟以内，优选为20分钟以内)的方法。此外，也可以为短时间照射红外线、远红外线(例如，5秒间～5分钟)、加热基板(1)101的方法。
在真空蒸镀法的情况中，通过以下方式进行：例如，将有机色素和根据需要添加的各种添加剂等记录层成分放入设置于真空容器内的坩锅中，利用适当的真空泵将真空容器内排气到10-2～10-5Pa程度后，加热坩锅以使记录层成分蒸发，从而使记录层成分蒸镀到与坩锅相对向放置的基板上。
反层积体11的记录层(1)103的厚度通常为40nm以上，优选为50nm以上，但通常为150nm以下，优选为100nm以下。只要记录层(1)103的厚度设为该范围，就可以在确保足够的记录信号振幅的同时，抑制灵敏度的降低。此外，如果记录层(1)103的厚度过大，则灵敏度会降低。
<阻隔层>
阻隔层104设置在反层积体11上。为了防止从透明树脂层105渗出的成分污染或溶解记录层(1)103，一般将阻隔层104设置于记录层(1)103和透明树脂层105之间。
在本发明中，除上述目的以外，还为了确保在记录层103上的散热性以抑制高速记录中的信号串扰而使用阻隔层104。因此，在本发明中，不使用目前在合金或介电体方面为人们所知的较厚的膜，而使用块体导热率高的材料，制成非常薄的膜，由此可以得到极好的特性。
首先，如上所述，块体导热率以70W/m·K为界限特性急剧提高。在将后述实施例的数据的一部分进行了归纳的图2中可知，如果导热率进一步为90W/m·K以上，特别是如果除去作为半导体的Si和C，则Δjitter低于1％，可以得到极好的特性。对本发明中的阻隔层104的导热率的上限不必限制，一般认为只要所述导热率为700W/m·K足以。一般认为，对于单质而言，作为半导体的Si、C等通过合金化或使用添加物等来使导电性增加，从而显示出更好的特性。
另一方面，当阻隔层104的膜厚大于5nm时，如上所述，可以看到特性显著劣化。因此，将阻隔层104的膜厚设在通常小于5nm、优选为4nm以下、更优选为3.5nm以下的范围内。另一方面，膜厚的下限值通常为0.5nm以上，更优选为1nm以上，进一步优选为1.5nm以上。从后面给出的[实施例]项的表2所列的元素中取Mo、Co为例，如图3所示，可知虽然由于导热率的不同而其最佳值不同，但是在该范围中，Δjitter以及ST(％)、MT(％)稳定且达到良好的值。
此外，还可以认为，由于制成所述薄膜，所以与导热率低的玻璃质的介电体膜不同，通过将具有延展性的高导热率的材料的薄膜用于阻隔层104，可以精确地追踪记录层的色素分解产生的变化，并且抖晃变得更好。
作为本发明的阻隔层104的材料，优选Mg、Cr、Mn、Fe、Ni、Zn、Ru、Rh、Pd、In、Os、Ir、Pt、Mo、Al、W、Co、Cr、Cu、Ag、Au的单质或者合金。可更优选地举出Cu、Al、Au、Co、Cr、Mo、Si、W、C、Ag的单质或者合金。进一步优选为选自由Mo、W、Cu、Co、Cr以及Al组成的组中的金属元素的单质或以这些金属元素为主成分的合金。此外，某种金属元素为“主成分”意味着该金属元素占合金组成的50重量％以上。特别是Mo、W、Cu，其特性极好，并且Co和Cr在4倍速记录、8倍速记录下灵敏度均良好且抖晃也均良好。此外，对于Ag、Al、Si、C，通过合金化或光固性树脂的改良等，有可能形成记录特性和耐候性良好的阻隔层104。
根据本发明人的研究可知，即使使用以上举出的材料来形成阻隔层104时，也可以充分得到记录层不溶入与其接触的光固性树脂这样的阻隔效果。此外，可以认为，阻隔层104为致密且平滑的膜时效果好。这是由于，在岛状结构等膜内存在密度的疏密时，由于高温高湿度试验等的温度、湿度的变化，产生粒界，或者粒径增大，从而会引起噪音的上升或膜缺陷的增加。
此外，一般认为，该阻隔层104的致密且平滑的结构除取决于其构成成分或组成外，还取决于形成阻隔层104时的条件。阻隔层104由真空蒸镀法、喷镀法等常用的成膜方法来形成，但其中优选由喷镀法来形成。在此，以喷镀法的情况为例，为了得到致密且平滑的结构的阻隔层，喷镀前对靶进行预喷镀。将该预喷镀的时间设定为长于通常的时间，尽可能地除去吸附于靶的水分或表面氧化层，然后开始喷镀，或者将氩气压设定得尽可能低，等等，优选将喷镀的条件调整到适当的范围来进行喷镀。此外，由于本发明的阻隔层104为薄膜，所以可以认为阻隔层104的膜的表面状态会影响记录。因此，由于得到致密且平滑的膜结构，所以可以使记录特性提高。
在本说明书中，作为“导热率”，使用キツテル著的《固体物理学入门上卷》(第6版)的第117页的表1“德拜温度和导热率”所记载的在300K下的导热率值。上述表所记载的主要的材料的导热率的值列于下表1。
表1
  在300K下的导热率(W/m·K)     在300K下的导热率(W/m·K)
  C   129     Ru     117
  Mg   156     Rh     150
  Al   237     Pd     72
  Si   148     Ag     429
  Cr   94     Cd     97
  Fe   80     In     82
  Co   100     Sn     67
  Ni   91     W     174
  Cu   401     Os     88
  Zn   116     Ir     147
  Mo   138     Pt     72
  Ti   22     Au     317
已报道了几种以实际的薄膜测定导热率的方法，但这些实验中需要特殊装置(例如光交流法薄膜热常数测定装置等)或特殊样品的制作方法。因此，这些方法没有得到一般的普及，很多时候在测定中需要过度的劳动。因此，在本发明中，使用上述的普通的块体的导热率(bulk thermalconductivity)。
此外，在合金等由两种以上的组成构成阻隔层104的情况中，如下所述，各组成的块体的导热率乘以其组成的比例，将由所得到的值求得的导热率的值确定为用于阻隔层104的材料的作为块体的导热率。例如，对于由95原子％的Al和5原子％的Cr构成的合金的导热率，由Al的块体的导热率(237W/m·K)和Cr的块体的导热率(94W/m·K)，求得237×0.95+94×0.05＝229.9W/m·K。如此，同样计算出例如3元系或4元系的块体的导热率。
此外，对于上述的キツテル 著的《固体物理学入门上卷》(第6版)的第117页的表1“德拜温度和导热率”中未记载的材料的导热率，由因特网的WWW站点(http://www.als.cojp/thermal/db/prop_met.htm等)或《理科年表》(丸善)、《物理学辞典》(培风馆)等给出的“导热率的表”等有可以取得最新物理性能值的可能性的数据库，来判断其值。
此外，在基板(1)101和记录层(1)103之间、基板(2)109和记录层(2)108之间、记录层(2)108和反射层(2)107之间等分别可以设置由与阻隔层104相同的材料构成的层。
〔透明树脂层〕
下面，对与反层积体11的激光110的入射面侧相接设置的透明树脂层105进行说明。本实施方式的双层型光记录介质100中的透明树脂层105通常由以下材料构成，该材料具有可使从基板(2)109侧入射的激光110达到记录层(1)103的程度的透光性。透明树脂层105优选由玻璃化转变温度Tg为150℃以上的透明树脂构成。此外，该透明树脂层105可以由1层形成也可以由2层以上形成。可以认为，通过使用这样的透明树脂来构成透明树脂层，从而使透明树脂层的硬度增大，并改善抖晃。
理想的是，构成透明树脂层105的树脂在30℃下的弹性模量通常为1000MPa以上，优选为2000MPa以上，更优选为3000MPa以上，进一步优选为4000MPa以上。通过使用弹性模量为1000MPa以上的树脂来构成透明树脂层105，从而在L1层(图1)的记录·读取中，可以进一步提高所谓的封闭效果。但是，弹性模量的上限通常为6000MPa以下。通过使用弹性模量为6000MPa以下的树脂，可以利用例如涂布等溶液法制膜形成透明树脂层105，这在工业上是有利的。由于构成透明树脂层105的树脂具有上述范围的弹性模量，因此在反层积体11的记录层(1)103的光信息的记录中，可以抑制达到邻接的轨道部的过度的变形。其结果，光记录介质100在L1层的高速记录下的信号串扰降低，并且抖晃得到改善。在此，透明树脂层105的“透明”是指不具有将入射到光记录介质100的激光110散射的结构。
此外，为了将2层以上的记录层层积并分别进行聚焦，优选在记录层间具有一定距离。因此，透明树脂层105的膜厚取决于聚焦伺服机构，但其厚度通常为5μm以上，优选为10μm以上。
此外，该层过厚时，例如对通过透明树脂层105实施聚焦伺服的记录层(1)调整聚焦伺服有时需要时间。而且，有时物镜的移动距离也会变长。此外，紫外线固化也会需要时间，且生产率有可能会降低。由于上述方面，优选透明树脂层105通常为100μm以下。
下面，对构成透明树脂层105的材料的具体例进行说明。
作为构成透明树脂层105的材料，例如可举出热塑性树脂、热固性树脂、电子射线固化性树脂、紫外线固化性树脂(包括延迟固化型)等。构成透明树脂层105的材料从这些之中适当选择。热塑性树脂、热固性树脂等可以根据需要溶解于适当的溶剂，制备成涂布液，涂布所述涂布液并进行干燥(加热)，由此形成透明树脂层105。紫外线固化性树脂可以直接涂布或者溶解于适当的溶剂而制备成涂布液后进行涂布，并进行紫外光照射以使其固化，由此形成透明树脂层105。这些材料可以单独使用或混合使用。
作为形成透明树脂层105的方法，例如可使用旋涂法或浇注法等涂布法等，但其中优选旋涂法。高粘度的树脂也可以利用丝网印刷等进行涂布，从而形成透明树脂层105。紫外线固化性树脂优选使用在20℃～40℃为液态的紫外线固化性树脂。这是因为，由于不必使用溶剂就可以涂布，因此生产率良好。此外，优选调整涂布液的粘度，以使所述粘度通常为20mPa·s～1000mPa·s。
从透明度高、固化时间短、制造上有利方面考虑，在构成透明树脂层105的材料中，特别优选紫外线固化性树脂。作为紫外线固化性树脂可举出自由基类紫外线固化性树脂和阳离子类紫外线固化性树脂，这两种均可以使用。
作为自由基类紫外线固化性树脂，可以使用含有紫外线固化性化合物和光聚合引发剂作为必要成分的组合物。
作为紫外线固化性化合物，可以使用聚合性单体成分单官能(甲基)丙烯酸酯和多官能(甲基)丙烯酸酯。这些成分可以分别单独使用1种，也可以并用两种以上。此外，在本说明书中，将“丙烯酸酯”和“甲基丙烯酸酯”并称为“(甲基)丙烯酸酯”。
作为单官能(甲基)丙烯酸酯，例如，可以举出具有以下基团作为取代基的(甲基)丙烯酸酯等：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、2-乙基己基、辛基、壬基、十二烷基、十六烷基、十八烷基、环己基、苄基、甲氧基乙基、丁氧基乙基、苯氧基乙基、壬基苯氧基乙基、四氢糠基、缩水甘油基、2-羟基乙基、2-羟基丙基、3-氯-2-羟基丙基、二甲基氨基乙基、二乙基氨基乙基、壬基苯氧基乙基四氢糠基、己内酯改性的四氢糠基、异冰片基、二环戊基、二环戊烯基或二环戊烯基氧乙基等。
作为多官能(甲基)丙烯酸酯，例如可举出1，3-丁二醇、1，4-丁二醇、1，5-戊二醇、3-甲基-1，5-戊二醇、1，6-己二醇、新戊二醇、1，8-辛二醇、1，9-壬二醇、三环癸烷二甲醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、二丙二醇、三丙二醇、聚丙二醇等的二(甲基)丙烯酸酯、三(2-羟基乙基)异氰脲酸酯的二(甲基)丙烯酸酯等。
此外，还可举出，将4摩尔以上的环氧乙烷或者环氧丙烷加成到1摩尔的新戊二醇而得到的二醇的二(甲基)丙烯酸酯、将2摩尔的环氧乙烷或者环氧丙烷加成到1摩尔的双酚A而得到的二醇的二(甲基)丙烯酸酯、将3摩尔以上的环氧乙烷或者环氧丙烷加成到1摩尔的三羟甲基丙烷而得到的三醇的二(甲基)丙烯酸酯或三(甲基)丙烯酸酯、将4摩尔以上的环氧乙烷或者环氧丙烷加成到1摩尔的双酚A而得到的二醇的二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇的聚(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性磷酸(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性烷基化磷酸(甲基)丙烯酸酯等。
此外，作为可以与上述聚合性单体同时并用的物质，可以举出聚合性低聚物聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、氨酯(甲基)丙烯酸酯等。
另一方面，作为光聚合引发剂，优选分子裂解型光聚合引发剂或夺氢型光聚合引发剂。
作为分子裂解型光聚合引发剂，例如，可以举出安息香异丁基醚、2，4-二乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、苄基、2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁烷-1-酮、双(2，6-二甲氧基苯甲酰基)-2，4，4-三甲基戊基氧化膦等。此外，还可以并用1-羟基环己基苯基酮、安息香乙基醚、苄基二甲基缩酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮和2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮等。
此外，作为夺氢型光聚合引发剂，例如，还可以举出二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、间苯二酰基苯基酮(isophthalphenone)、4-苯甲酰基-4’-甲基-二苯硫醚等。
此外，可以与这些光聚合引发剂一起并用敏感剂。作为敏感剂，例如，可以举出三甲基胺、甲基二甲醇胺、三乙醇胺、对二乙氨基苯乙酮、对二甲氨基苯甲酸乙酯、对二甲氨基苯甲酸异戊酯、N，N-二甲基苄基胺和4，4’-二(二乙基氨基)二苯甲酮等。
另一方面，作为阳离子类紫外线固化性树脂，例如，可举出包含阳离子聚合型的光引发剂的环氧树脂。作为环氧树脂，例如可举出，双酚A-表氯醇型、脂环式环氧、长链脂肪族型、溴化环氧树脂、缩水甘油基酯型、缩水甘油基醚型、杂环式系等。作为环氧树脂，优选使用游离的氯和氯离子含量较少的环氧树脂。氯的量优选为1重量％以下，更优选为0.5重量％以下。
每100重量份的阳离子型紫外线固化性树脂中的阳离子聚合型光引发剂的比例为如下范围：通常为0.1重量份以上，优选为0.2重量份以上，此外通常为20重量份以下，优选为5重量份以下。此外，为了更有效地利用紫外线光源的波段的近紫外区或可见光区的波长，可以并用公知的光敏剂。作为此时的光敏剂，例如可以举出蒽、吩噻嗪、苄基甲基缩酮、二苯甲酮、苯乙酮等。
此外，为了改善紫外线固化性树脂的各种特性，根据需要可以向紫外线固化性树脂中进一步添加以热阻聚剂、受阻酚、受阻胺、亚磷酸酯等为代表的抗氧化剂、增塑剂和以环氧硅烷、巯基硅烷、(甲基)丙烯酸硅烷等为代表的硅烷偶合剂等作为其他的添加剂。在这些物质中，选择并使用对紫外线固化性化合物具有优异的溶解性的物质、不阻碍紫外线透过的物质。
本实施方式的光记录介质100的透明树脂层105中，对用于得到较高弹性模量的树脂的具体方法没有特别的限制，通常可举出以下方法。例如，作为上述的紫外线固化性树脂，增大在分子内具有2个以上、优选3个以上的甲基丙烯酰基的单体成分的组成的方法；增大与直链高分子二醇混合的聚酯二醇等含侧链的高分子二醇成分的组成的方法；降低主链为硬段的低聚物成分的侧链的分子量，使分子内键合增大的方法；添加规定量的聚异氰酸酯化合物、氨基树脂、环氧化合物、硅烷化合物、金属螯合化合物等交联剂的方法等。
特别是为了得到具有足够硬度的树脂，使用以下多官能(甲基)丙烯酸酯，这样可以提高交联密度而且还可以增大收缩率，所以是优选的。所述多官能(甲基)丙烯酸酯为：三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、将3摩尔以上的环氧乙烷或者环氧丙烷加成到1摩尔的三羟甲基丙烷而得到的三醇的三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯或季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、将4摩尔以上的环氧乙烷或者环氧丙烷加成到1摩尔的季戊四醇而得到的四醇的三(甲基)丙烯酸酯或四醇的四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇的五(甲基)丙烯酸酯或二季戊四醇的六(甲基)丙烯酸酯、将6摩尔以上的环氧乙烷或者环氧丙烷加成到1摩尔的二季戊四醇而得到的六醇的五(甲基)丙烯酸酯或六醇的六(甲基)丙烯酸酯，等等。
其中，进一步特别优选三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
此外，存在降莰烷二甲醇二丙烯酸酯、降莰烷二乙醇二(甲基)丙烯酸酯、将2摩尔的环氧乙烷或环氧丙烷加成到降莰烷二甲醇而得到的二醇的二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二乙醇二(甲基)丙烯酸酯、将2摩尔环氧乙烷或环氧丙烷加成到三环癸烷二甲醇而得到的二醇的二(甲基)丙烯酸酯、五环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、五环十五烷二乙醇二(甲基)丙烯酸酯、将2摩尔环氧乙烷或环氧丙烷加成到五环十五烷二甲醇而得到的二醇的二(甲基)丙烯酸酯、将2摩尔的环氧乙烷或环氧丙烷加成到五环十五烷二乙醇而得到的二醇的二(甲基)丙烯酸酯等，尤其作为高弹性模量的树脂，也优选以下在交联结构中具有刚性的环状结构的丙烯酸酯：三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、五环十五烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、双(2-丙烯酰氧基乙基)羟基乙基异氰脲酸酯、双(2-丙烯酰氧基丙基)羟基丙基异氰脲酸酯、双(2-丙烯酰氧基丁基)羟基丁基异氰脲酸酯、双(2-甲基丙烯酰氧基乙基)羟基乙基异氰脲酸酯、双(2-甲基丙烯酰氧基丙基)羟基丙基异氰脲酸酯、双(2-甲基丙烯酰氧基丁基)羟基丁基异氰脲酸酯、三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、三(2-丙烯酰氧基丙基)异氰脲酸酯、三(2-丙烯酰氧基丁基)异氰脲酸酯、三(2-甲基丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、三(2-甲基丙烯酰氧基丙基)异氰脲酸酯、三(2-甲基丙烯酰氧基丁基)异氰脲酸酯等。
其中，特别优选三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三环十五烷二乙醇二(甲基)丙烯酸酯。
此外，优选使交联密度升高这样的丙烯酸单体和交联结构中具有刚性的环状结构的丙烯酸单体适当组合。
此外，紫外线固化性树脂之中，特别优选低光散射性、低粘度且可以利用旋涂法涂布的阳离子型紫外线固化性树脂。此外，从种类多、混合比和组成的自由度大方面出发，或者在透明树脂层105的厚度为10μm以上时从不必考虑氧阻碍固化方面出发，优选使用自由基类紫外线固化性树脂。
〔正层积体〕
下面，对正层积体12的各层进行说明。如上所述，正层积体12由基板(2)109和层积在基板(2)109上的记录层(2)108、反射层(2)107和保护涂层106(以下，有时将所述记录层(2)108、反射层(2)107和保护涂层106总称为“L0层”。)构成。
<基板(2)>
正层积体12的基板(2)109由与反层积体11的基板(1)101相同的材料构成。但是，基板(2)109必须具有透光性。以T为轨道间距，基板(2)109的槽宽通常为2T/10以上，优选为3T/9以上。只要在此范围内，就可以充分确保反射率。例如，如果轨道间距为740nm，则基板(2)109的槽宽通常为148nm以上，优选为246nm以上。但是，基板(2)109的槽宽通常为7T/10以下，优选为6T/10以下。例如，如果将轨道间距设为740nm，则透光性的基板(2)109的槽宽通常为518nm以下，优选设为444nm以下，此时可以使槽形状的转印性良好，因此是优选的。
以λ为记录读取光波长时，基板(2)109的槽深度通常设定为λ/10以上，可以充分确保反射率，因此是优选的。更优选为λ/8以上，进一步优选为λ/6以上。例如，记录读取光的波长(记录读取波长)λ＝660nm时，基板(2)109的槽深度通常为66nm以上，优选为82.5nm以上，进一步优选为110nm以上。但是，基板(2)109的槽深度的上限通常为2λ/5以下，这样可以使槽形状的转印性良好，因此是优选的，更优选为2λ/7以下。例如，记录读取波长为660nm时，槽深度通常为264nm以下，优选为188.6nm以下。
<记录层(2)>
正层积体12的记录层(2)108中含有与反层积体11的记录层(1)103相同的色素。对于正层积体12的记录层(2)108的厚度，根据记录方法等的不同，适合的膜厚不同，因此对膜厚没有特别的限制，然而为了得到充分的调制度，膜厚通常为20nm以上，优选为30nm以上，特别优选为40nm以上。但是，由于需要使光透过，因此膜厚通常为200nm以下，优选为180nm以下，更优选为150nm以下。此外，记录层(2)108的厚度表示为厚膜部的膜厚(基板(2)109的槽部的记录层(2)108的厚度)。
<反射层(2)>
正层积体12的反射层(2)107由与反层积体11的反射层(1)102相同的材料构成。正层积体12的反射层(2)107对作为从基板(2)109侧入射的记录读取光的激光110的吸收较小，光透过率通常为40％以上且通常需要具有30％以上的适度光反射率。例如，通过将高反射率的金属设置得较薄来使反射层(2)107具有适度的透过率。此外，优选具有一定程度的耐腐蚀性。进一步，优选具有这样的屏蔽性：使位于反射层(2)107的下层的记录层(2)108不受从反射层(2)107的上层(在此为透明树脂层105)渗出的其他的成分的影响。
为了确保通常为40％以上的透光率，反射层(2)107的厚度通常为50nm以下，优选为30nm以下，更优选为25nm以下。为了确保30％以上的适度的光反射率，反射层(2)107的厚度通常为3nm以上，优选为5nm以上。
<保护涂层>
为了防止反射层(2)107的氧化、防尘或防损伤等，正层积体12的保护涂层106设置在反射层(2)107的透明树脂层105侧。对保护涂层106的材料没有特别限定，只要是保护反射层(2)107的材料即可。作为有机物质的材料，可以举出热塑性树脂、热固性树脂、电子射线固化性树脂、紫外线固化性树脂等。此外，作为无机物质，可以举出氧化硅、氮化硅、氟化镁(MgF2)、氧化锡(IV)(SnO2)等介电体。其中优选层积紫外线固化性树脂层。保护涂层106的厚度为以下范围：通常为1μm以上，优选为3μm以上，此外，通常为100μm以下，优选为30μm以下，更优选为10μm以下。如果保护涂层106的厚度不满足此范围，则会发生氧阻碍固化的情况，另一方面，如果超过此范围，光盘有可能弯曲或者易产生膜厚不均。此外，不一定要设置保护涂层106，也可以在反射层(2)107上直接形成透明树脂层105。
可以将地址信息、介质的种类信息、记录脉冲条件以及最佳记录功率等信息记录到本实施方式的光记录介质上。作为记录这些信息的形式，可以使用例如DVD-R、DVD+R的标准说明书中所记载的LPP或ADIP的格式等。
[第2实施方式]
图1(b)为示意表示本发明的第2实施方式中的光记录介质的构成的截面图。图1(b)中表示膜面入射型的光记录介质200，其利用从与基板侧的相反侧入射的记录读取光来进行光信息的记录读取。如图1(b)所示，光记录介质200中，在反层积体(由基板201、设置在基板201上的反射层202、层积在反射层202上的记录层203和为了保护记录层203而设置的阻隔层204构成)上进一步在激光210的入射面侧层积透明树脂层205。光记录介质200利用从透明树脂层205侧照射到记录层203上的激光210来进行信息的记录·读取。
构成反层积体的基板201是用与第1实施方式的光记录介质100中的反层积体11的基板(1)101相同的材料形成的。此外，构成反射层202、记录层203和阻隔层204的材料同样可以分别使用与第1实施方式的光记录介质100中的反层积体11的反射层(1)102、记录层(1)103和阻隔层104中说明的材料相同的材料。此外，各层的厚度等为与光记录介质100中说明的范围相同的范围。
此外，透明树脂层205是使用与上述光记录介质100中的透明树脂层105相同的材料构成的，并且，透明树脂层205的弹性模量和厚度被调整到与第1实施方式的光记录介质100中的透明树脂层105相同的范围。
此外，在上述各实施方式中，也可以在不损害作为光记录介质100的功能的范围内，在各层之间设置任意其他层。
[本发明的基本概念2]
接下来，对作为本发明的第2光记录介质的、特别是适合高速记录的双层型光记录介质，以第2层记录层的构成为中心，进行以下说明。
本发明的第2光记录介质的双层型光记录介质具有如下构成：在基板(有时将其称为“第1基板”。)上以叙述顺序具有第1反射层、含色素的第1记录层以及透明树脂层，并进一步在上述透明树脂层上以叙述顺序设置了第2反射层、第2记录层以及透明基板(有时将其称为“第2基板”。)。
对上述基本概念的具体例，使用图1(a)和图5说明如下。
即，图1(a)和图5中的“基板(1)”对应上述“第1基板”。
并且，图1(a)和图5中的“反射层(1)”对应上述“第1反射层”。
同样地，图1(a)和图5中的“记录层(1)”对应上述“第1记录层”。
并且，图1(a)和图5中的“反射层(2)”对应上述“第2反射层”。
同样地，图1(a)和图5中的“记录层(2)”对应上述“第2记录层”。
并且，图1(a)和图5中的“基板(2)”对应上述“透明基板”即“第2基板”。
此外，上述第1记录层(第2层记录层)至少含有由下述通式(1)表示的偶氮系化合物和Zn金属离子构成的含金属偶氮色素(以下，简称为“式(1)所涉及的含金属偶氮色素”。)作为色素。
Figure S2006800110274D00251
(通式(1)中，
R1表示氢原子或以CO2R3表示的酯基，在此，R3表示直链或者支链的烷基、或环烷基。
R2表示直链或支链的烷基。
X1和X2之中至少任意一个表示NHSO2Y基，在此，Y表示有至少2个氟原子取代的直链或支链的烷基，同时剩余的基团表示氢原子。
R4和R5各自独立地表示氢原子、直链或者支链的烷基、或者直链或者支链的烷氧基。
R6、R7、R8和R9各自独立地表示氢原子或碳原子数为1或者2的烷基。
此外，H+从上述NHSO2Y基脱离，形成NSO2Y-(阴性)基，从而上述通式(1)表示的偶氮系化合物与金属离子形成配位键。)
作为R3，优选乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、仲丁基等碳原子数为1～4的直链或者支链的烷基；环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基等碳原子数为3～8的环烷基。由于空间位阻小，因而特别优选甲基、乙基等碳原子数为1或者2的直链烷基；环戊基、环己基等碳原子数为3～6的环烷基。
作为R2，可优选举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基等碳原子数为1～6的直链烷基；异丙基、仲丁基、异丁基、叔丁基、2-乙基己基、环丙基、环己基甲基等碳原子数为3～8的支链烷基等。
Y表示有至少2个氟原子取代的直链或支链的烷基。作为直链或支链的烷基，优选碳原子数为1～6的直链或支链的烷基，更优选碳原子数为1～3的直链烷基。
作为R4、R5，优选氢原子、碳原子数为1～6的直链烷基、碳原子数为1～8的烷氧基。作为R4、R5，更优选氢原子、碳原子数为1或者2的烷基、或者碳原子数为1或者2的烷氧基。在上述烷基、烷氧基上优选无取代基。作为R4、R5，特别优选为氢原子、甲基、乙基或者甲氧基。
R6、R7、R8以及R9各自独立地表示氢原子或碳原子数为1或者2的烷基。通过使用氢原子或碳原子数为1或者2的烷基，易于将吸光度或折射率调整到预定的值，因此是优选的。关于碳原子数为1或者2的烷基，键合到碳原子上的氢原子可以被其他的取代基(例如卤原子)取代，但优选为无取代基的烷基。作为碳原子数为1或者2的烷基，可以举出甲基、乙基。从合成的容易性或立体结构的方面考虑、作为R6、R7、R8以及R9，最优选的是氢原子。
上述式(1)中的含金属偶氮色素被认为：不但具有(i)适度的散热量，(ii)在适当的波段具有吸收(本发明人认为(i)和(ii)是至少对热模式的反应有贡献的因子。)，而且含金属偶氮色素中(iii)激发状态的失活速度大(本发明人认为(iii)是至少对光子模式的反应有贡献的因子。)。其结果，热模式和光子模式的分解反应的平衡良好，有将抖晃降低并可以降低信号串扰的可能性。因此，上述式(1)所涉及的含金属偶氮色素与双层型光记录介质的第2层记录层组合时，易发挥特殊的效果。这是因为，如上所述，在双层型光记录介质中，抖晃或信号串扰的增大易变得显著。对于作为第2层记录层的反层积体，优选为了得到足够的反射率而使槽深度浅于现有的槽深度。所述较浅的槽是使抖晃或信号串扰增大的原因之一。此外，在相当于基板的槽间部的区域进行记录时，如上所述，为了得到充分的记录调制度，需要增厚记录层的膜厚。所述记录层的较厚的膜是使抖晃或信号串扰增大另一原因。此外，有记录速度越大，抖晃或信号串扰越大的倾向。另一方面，在后述的第3的实施方式中的、2P法制成的双层型光记录介质中，有时会发生2P层的膜厚的不均或2P的固化收缩所产生的光学上的扭曲或弯曲。因此，记录激光的光束扭曲，或产生记录部分的光束移动部分偏移，从而可能成为使特别是高速记录时的抖晃或信号串扰增大的原因。因而，通过使所述2P法制成的双层型光记录介质的第2层记录层(从激光的入射侧来看位于远侧的记录层)含有上述式(1)所涉及的含金属偶氮色素，可以得到特殊的效果。
上述式(1)所涉及的含金属偶氮色素是通过其配位体和金属的组合而在记录激光波长处能够具有高折射率的偶氮色素。此外，上述式(1)所涉及的含金属偶氮色素具有一定值以上的散热量。进一步可以认为，通过使中心金属离子与Zn2+组合，在利用记录光产生激发状态时，辐射跃迁的概率增加，或者在与其他的分子之间引起能量移动等等，从而基本不经过无辐射跃迁，而以非常高的速度进行分解。即，对于含有上述式(1)所涉及的含金属偶氮色素的记录层，可以认为分解(即，记录部分的形成)以非常短的时间完成。其结果，在双层型光记录介质的第2层记录层中易于实现高速记录下的上述干扰得到降低、抖晃或信号串扰较小的良好的高速记录。
此外，所述抖晃的降低的效果可以通过例如抖晃的不对称的容差变宽而得知。此外，除己说明的MT％和ST％外，信号串扰的降低也可以通过上述不对称容差的变宽而得知。
作为所述通式(1)的含金属偶氮色素的实例，可以举出以下列举的色素。
Figure S2006800110274D00281
Figure S2006800110274D00291
Figure S2006800110274D00301
[第3的实施方式]
接下来，对上述的本发明的第2光记录介质的实施方式(以下，将其称为“本发明的第3实施方式”。)进行说明。
图5是示意表示本发明的第3实施方式的光记录介质的构成的截面图。图5所示的光记录介质300中，在盘状的基板(2)301(第2基板)上以叙述顺序具有含色素的记录层(2)(第2记录层)302、半透明的反射层(2)303(第2反射层)、透明树脂层304、含色素的记录层(1)305(第1记录层)、反射层(1)306(第1反射层)、粘结层307以及基板(1)308(第1基板)。于是，在记录层(2)302和记录层(1)306中，利用从基板(2)109侧入射的激光310进行光信息的记录读取。此外，有时将基板(2)301、记录层(2)302以及反射层(2)303并称为“正层积体”。此外，记录层(1)305相当于上述的“第2层记录层”。
基板(2)301、记录层(2)302以及反射层(2)303的材料或形成方法等的具体情况分别与[第1实施方式]的项中说明的光记录介质100的基板(2)109、记录层(2)108以及反射层(2)107的具体情况相同。
接下来，在反射层(2)303上形成透明树脂层304。作为形成透明树脂层304的方法，通常可使用2P(光聚合，Photo Polymerization)法。使用2P法在透明树脂层304(有时也将其称为“中间层”。)上形成导向槽时，其过程通常如下。
首先，在反射层(2)303上涂布利用以紫外线等放射线为代表的光来进行固化的光固性树脂原料等，从而形成树脂原料层。接下来，在其上安装具有转印用的凹凸形状(以下，适宜地称为“转印用凹凸形状”。)的压模(stamper)。然后，使上述光固性树脂原料等固化后，剥离压模。这样，使压模的转印用凹凸形状转印到光固性树脂的表面，从而可以利用光固性树脂的固化物，形成具有凹凸形状(即，导向槽)的透明树脂层304(2P层)。此时，为了可以得到足够的反射率，只要将该导向槽的深度设定在(1/100)×λ～(1/6)×λ的范围内即可。此外，“λ”表示激光310的记录读取波长。
此外，作为上述压模，例如，可以使用以环状聚烯烃或聚苯乙烯类树脂形成的压模等。
此外，作为成为透明树脂层304的材料的光固性树脂，可以举出作为[第1实施方式]的项中说明的光记录介质100的透明树脂层105的材料而记载的、各种电子射线固化性树脂或紫外线固化性树脂。
接下来，在透明树脂层304上形成作为第2层记录层的记录层(1)305。作为记录层(1)305的色素，至少可以使用上述式(1)所涉及的含金属偶氮色素。上述式(1)所涉及的含金属偶氮色素可以单独使用任意一种，也可以以任意组合和比例并用两种以上。此外，除一种或两种以上的上述式(1)中的含金属偶氮色素以外，还可以并用其他的一种或二种以上的色素。可与上述式(1)所涉及的含金属偶氮色素并用的其他色素的种类不受特别限制。作为实例，可以举出与用于[第1实施方式]项中说明的光记录介质100的记录层(1)103的色素相同的色素。此外，关于记录层(1)305的色素以外的材料或形成方法等的具体情况，也与[第1实施方式]项中说明的光记录介质100的记录层(1)103的具体情况相同。
其次，在记录层(1)305上形成反射层(1)306。反射层(1)306的材料或形成方法等的具体情况与[第1实施方式]项中说明的光记录介质100的反射层(1)102的具体情况相同。
其后，在反射层(1)306上设置基板(1)308。基板(1)308的材料等的具体情况与[第1实施方式]项中说明的光记录介质100的基板(1)101的具体情况相同。此外，对在反射层(1)306上设置基板(1)308的方法也不特别限制，然而通常如图5所示，准备好预先成型的基板(1)308，通过粘结层307使其贴合在反射层(1)306上来在反射层(1)306上形成基板(1)308。
对粘结层307的材料等不特别限制。作为实例，可以举出与[第1实施方式]项中说明的光记录介质100的透明树脂层105相同的各种固化性树脂或者目前公知的各种粘结剂、压敏式双面胶带等。
使用固化性树脂时，通过与[第1实施方式]项中说明的光记录介质100的透明树脂层105相同的涂布法等，在反射层(1)306上形成由固化性树脂原料构成的层(固化性树脂原料层)，在其上安装基板(1)308并进行挤压，同时，在挤压过程中或挤压后给予使固化性树脂原料固化的条件(紫外线固化性树脂或放射线固化性树脂的情况中，进行紫外线或放射线的照射；热固性树脂的情况中，进行加热)，使固化性树脂原料固化，从而形成由固化性树脂构成的粘结层307，同时通过所述粘结层307将反射层(1)306和基板(1)308粘结。
使用粘结剂时，在反射层(1)306上以丝网印刷等方法涂布粘结剂，然后在其上安装基板(1)308并进行挤压，由此形成粘结层307，同时通过所述粘结层307将反射层(1)306和基板(1)308粘结。
使用双面胶带(例如，压敏式双面胶带)时，反射层(1)306和基板(1)308之间夹持压敏式双面胶带，进行挤压，由此形成粘结层307，同时通过所述粘结层307将反射层(1)306和基板(1)308粘结。
对利用以上方法形成的粘结层307的透光性不特别限制，透明也可以，不透明也可以。对粘结层307的厚度也不特别限制，通常为1μm以上，优选为3μm以上，并且，通常为300μm以下，优选为100μm以下。
以上，对第3实施方式中的光记录介质300进行了说明，但本发明的实施方式并不限于此，还可以给予任意的变形来实施。
例如，在上述的光记录介质300的各层之间也可以设置其他的任意的层。作为其他的层的实例，可以举出在反射层(2)303和透明树脂层304之间设置的保护涂层或者在透明树脂层304和记录层(1)305之间设置的阻隔层等。保护涂层和阻隔层的材料或形成方法等的具体情况与[第1实施方式]项中说明的光记录介质100的保护涂层106和阻隔层104的具体情况相同。
实施例
以下，基于实施例(实验例)，对本发明的实施方式进行更具体的说明。此外，本发明的实施方式只要不超出其要点，并不限于以下的实施例(实验例)。
[实验条件]
在后述的实验例1、2和4中，按照以下过程，制备具有反层积体的双层型光记录介质(图1(a)所示构成的光记录介质)，并测定记录在构成反层积体的记录层(1)上的光信息的MT(％)和ST(％)。
〔光记录介质的制备〕
<反层积体的制备>
首先，使用在表面形成有槽的Ni压模，将聚碳酸酯注射成型，由此形成直径120mm、厚度0.60mm的基板(1)，所述基板(1)上形成有间距0.74μm、宽340nm、深度28nm的槽。然后，在该基板(1)上利用喷镀法将Ag-Bi-Nd合金形成为厚80nm的膜，从而形成反射层(1)。接下来，作为有机色素化合物，制备分别由以下化学式表示的作为含金属偶氮色素的色素A和色素B的混合物(色素A∶色素B＝50重量％∶50重量％)的四氟丙醇溶液(浓度2重量％)，将所述溶液滴加到上述反射层(1)上，旋涂后，在70℃干燥30分钟，形成记录层(1)。基板(1)的槽部处的记录层(1)的膜厚(图1(a)中的反层积体的槽部，即，远离入射激光的部分的记录层膜厚)为约70nm，基板(1)的槽间部处的记录层(1)的膜厚(图1(a)中的反层积体的槽间部，即，接近入射激光的部分的记录层膜厚)为约60nm。记录膜的OD值为1.20。
Figure S2006800110274D00341
                        色素A
Figure S2006800110274D00342
                        色素B
接下来，形成记录层(1)后，尽快在该记录层(1)上利用喷镀法形成由后述的〔实验例1〕的表2所记载的各组成构成的阻隔层。在此，通过调整喷镀时间，从而使阻隔层的膜厚达到2nm。此外，进行阻隔层的喷镀前，实施上述的预喷镀。这样，制备出反层积体的光盘1。
<正层积体的制备>
制备形成了深度160nm、宽360nm、轨道间距740nm的导向槽的聚碳酸酯制造的基板(2)，并在该基板(2)的形成有导向槽的面上滴加上述的作为含金属偶氮色素的色素A和以下化学式表示的作为含金属偶氮色素的色素C的混合物(色素A∶色素C＝10重量％∶90重量％)的四氟丙醇溶液(浓度2重量％)，旋涂后，在70℃干燥30分钟，形成记录层(2)。记录层(2)的厚度(图1(a)处的正层积体的槽部的记录层膜厚)约为80nm。接下来，在记录层(2)上利用喷镀法将Ag-Bi合金(Bi：1.0原子％)制成膜并使厚度达到17nm，从而形成反射层(2)。进一步，在该反射层(2)上旋涂紫外线固化性树脂(大日本インキ株式会社制造的自由基类紫外线固化性树脂SD347)，使其固化，并形成膜厚3μm～4μm的保护涂层，由此制备出正层积体的光盘2。
                     色素C
<双层型光记录介质的制备>
在光盘1(以上述的方法制备的反层积体)的阻隔层上涂布树脂A(大日本インキ株式会社制造的自由基类紫外线固化性树脂：弹性模量4000MPa(30℃)、玻璃化转变温度Tg＝174℃)，并调节旋涂转速以使膜厚达到23μm。此外，在光盘2(正层积体)的保护涂层上涂布上述树脂A，并调节旋涂转速以使膜厚达到23μm。接下来，将分别涂布了树脂A的光盘1和光盘2重叠，使涂布有树脂A的面相对，然后，从光盘2(正层积体)的基板(2)侧照射紫外线，从而使树脂A固化，并形成由树脂A构成的透明树脂层，由此制备出双层型光记录介质。
此外，树脂A的弹性模量和玻璃化转变温度Tg使用动态粘弹性试验机(レオバイブロン社制造：DDVシリ一ズ)，在测定频率3.5Hz、升温速度3℃/min的条件下进行测定。
〔向光盘1(反层积体)高速记录光信息的条件〕
此外，向作为反层积体的光盘1高速记录光信息的条件如下。
作为评价机，使用パルステツク制造的DDU-1000(波长662nm、物镜的孔数NA＝0.65)。
记录速度设定为DVD的2.4倍速(线速度9.2m/s)。
作为记录脉冲策略，依照DVD+Recordable Dual Layer 8.5GbytesBasic Format Specifications version 1.1。
记录功率设定为17mW～25mW。
抖晃(数据对时钟的抖晃(data-to-clock jitter))测定是以1倍速进行读取的同时进行的。
〔MT、ST、Δjitter的评价〕
通常的光盘制品在没有空轨道的情况下进行记录，因此MT(％)成为反映其光盘的信号品质的值。MT(％)一般需要为13％以下，优选为10％以下，进一步优选为9％以下。如果大于13％，则错误有增大的倾向。
此外，ST(％)优选为10％以下，更优选为9％以下，进一步优选为8％以下。此外，无论使阻隔层的膜厚等条件或记录策略如何变化，在ST(％)为不低于10％的情况中，均可判断该阻隔层为不适合的材料。
此外，ST(％)和MT(％)之差，即，Δjitter优选为2％以下，更优选为1.6％以下，进一步优选为1％以下。如果大于所述数值，则MT(％)有可能大于13％。
[实验例1]
按照上述的过程，制作出双层型光记录介质(双层型DVD-R光盘)，该双层型光记录介质在光盘1上分别设置了由下表2所示的材料构成的2nm的阻隔层。在所得到的光记录介质的光盘1上以上述的条件进行DVD-R的2.4倍速记录，并测定ST(％)、MT(％)、Δjitter。所得到的ST(％)、MT(％)、Δjitter的结果列于下表2。此外，对于ST(％)为9％以下的材料，以导热率为横轴、以Δjitter为纵轴来作图，所得到的曲线图见图2。图2的曲线图中，“◆”对应各材料。由图2的曲线图可知，以导热率70W/m·K(Sn的导热率67W/m·K)为界限，如果导热率大于该界限，则特性急剧提高。此外还可知，对于导热率为90W/m·K以上的情况，如果除去作为半导体的Si和C，则Δjitter为1％以下，可以得到极好的特性。此外可以认为，即使对于Si和C，通过对其混合其他的金属成分来使用，可以使特性提高。
表2
阻隔层材料   阻隔层膜厚(nm)   阻隔层材料的导热率(块体)(W/m·K) ST(％) MT(％) Δjitter(％)
  Cu   2   401     7.6     7.9   0.3
  Al   2   237     6.9     7.2   0.3
  Au   2   317     9     9.5   0.5
  Co   2   100     7.8     8.5   0.7
  Cr   2   94     7.5     8.5   1
  Mo   2   138     7.1     7.2   0.1
  Nb   2   54     10.1     11   0.9
  Si   2   148     7.6     9.2   1.6
  Sn   2   67     7.7     10.3   2.6
  Ta   2   58     9.8     10.2   0.4
  W   2   174     7.5     7.8   0.3
  C   2   129     7.2     8.7   1.5
  SiO<sub>2</sub>   2   1.4<sup>*</sup>     7.8     9.5   1.7
  SiN   2   3.7<sup>**</sup>     7.9     9.7   1.8
  ZnS-SiO<sub>2</sub>   2   0.66<sup>***</sup>     7.6     9.7   2.1
*根据固体物理，21卷(1986年)，p.277，第1表。
**根据Japanese Journal of Applied Physics，Vol.31(1992)，Pt.1，No.2B，p.415，Table I。
***根据Japanese Journal of Applied Physics，Vol.35(1996)，Pt.1，No.1B，p.425，Table III。
将各种材料用于阻隔层而得到的ST(％)和MT(％)的曲线图见图4。从图4的曲线图可知，Al(导热率237W/m·K)、Mo(导热率138W/m·K)、W(导热率174W/m·K)、Cu(导热率401W/m·K)的记录特性极好。此外，Co和Cr在4倍速记录、8倍速记录下灵敏度均良好且抖晃也均良好。此外，对于Ag、Al、Si、C，通过合金化或光固性树脂的改良等有可能形成记录特性和耐候性良好的阻隔层。此外，对于Au，可以通过调整记录脉冲策略来改善MT(％)、ST(％)等特性。但是，与上述的极好的Mo、W、Cu、Co、Cr、Al相比较，可以发现Au的记录脉冲容差狭窄且有略微的不良倾向。可以认为，这是Au在高温下的膜的机械特性所导致的。
另一方面，ST(％)大于10％的Nb和Ta的Δjitter较小，分别为0.9％和0.4％，各标记(マ一ク)长的抖晃均不良，因此即使研究记录策略条件，也不能改善该抖晃的值。因而可知，不能选择Nb(导热率54W/m·K)和Ta(导热率58W/m·K)作为本发明的阻隔层的材料。
[实验例2]
将具有本发明所规定的导热率的Mo、Co(导热率100W/m·K)以及与它们作比较的介电体膜ZnS-SiO2用于材料，并按照上述过程制作出双层型光记录介质(双层型DVD-R光盘)，该双层型光记录介质在光盘1上分别设置了下表3所示的膜厚的阻隔层。在所得到的光记录介质的光盘1上，以上述的条件进行DVD-R的2.4倍速记录，并测定ST(％)、MT(％)、Δjitter。所得到的ST(％)、MT(％)、Δjitter的结果列于下表3。此外，以阻隔层的膜厚为横轴、以Δjitter为纵轴作图，所得到的曲线图见图3。
表3
阻隔层材料   阻隔层膜厚(nm)   阻隔层材料的导热率(块体)(W/m·K) ST(％) MT(％) Δjitter(％)
  Co   1   100     8.6     10.0     14
  Co   2   100     7.8     8.5     0.7
  Co   3   100     9.0     9.2     0.2
  Co   5   100     13.5     15.1     1.6
  Mo   1   138     7.5     8.7     1.2
  Mo   2   138     7.1     7.2     0.1
  Mo   3   138     7.1     7.6     0.5
  Mo   5   138     8.9     12.5     3.6
  Mo   10   138     10.6     14.7     4.1
  ZnS-SiO<sub>2</sub>   2   0.66<sup>****</sup>     7.6     9.7     2.1
  ZnS-SiO<sup>2</sup>   5   0.66<sup>****</sup>     8.7     10.6     1.9
  ZnS-SiO<sub>2</sub>   10   0.66<sup>****</sup>     9.3     10.8     1.5
****根据Japanese Journal of Applied Physics，Vol.35(1996)，Pt.1，No.2B，p.425，Table III。
如表3和图3所示可知，对于具有导热率大于70W/m·K的Mo、Co的阻隔层的光记录介质，如果膜厚薄于5nm，则可以发现有Δjitter降低的倾向，并且与ZnS-SiO2相比显示出良好的抖晃。特别是膜厚为3nm左右时，Mo、Co均稳定，从而可以得到良好的ST(％)、MT(％)和Δjitter。
另一方面可知，对于ZnS-SiO2，无论膜厚如何，如果Δjitter为2％左右，则不能得到本发明的阻隔层这样的良好特性。可以认为此差别原因在于，首先，介电体的导热率非常低，为本发明的传导率的约1/100以下。即，由于在介电体膜中不能得到充分的散热效果，因此不能得到在浅槽且反层积结构中的良好的信号串扰特性。此外，可以认为，介电体膜缺乏本发明的金属或合金、半导体的膜这样的延展性也是不能得到极好的ST(％)特性的原因。
[实验例3]
将实验例1中制作的光记录介质中使用Mo、Cr、Co(膜厚均为2nm)作为阻隔层的材料的光记录介质在记录后保存在80℃、85％相对湿度的试验槽中，250小时后取出，读取记录部的信号。可知，任一光记录介质的PI(内部奇偶校验码(Parity of Inner-code))错误均几乎不变化，且具有良好的保存稳定性。
[实验例4]
〔光记录介质的制备〕
<反层积体的制备>
首先，使用在表面形成有槽的Ni压模，将聚碳酸酯注射成型，由此形成直径120mm、厚度0.60mm的基板(1)，所述基板(1)上形成有间距0.74μm、宽340nm、深度28nm的槽。然后，在该基板(1)上利用喷镀法将Ag-Bi-Nd合金形成为厚80nm的膜，从而形成反射层(1)。接下来，作为有机色素化合物，制备上述色素A(中心金属为Ni2+)和上述色素B(中心金属为Zn2+)的混合物(色素A∶色素B＝50重量％∶50重量％)的四氟丙醇溶液(浓度2.1重量％)，将该溶液滴加到上述反射层(1)上，旋涂后，在70℃干燥30分钟，形成记录层(1)，由此得到的记录膜的OD值为1.20。
此外，上述色素B在氮气气氛中的散热量为40.7Cal/g、分解温度为278℃，可知上述色素B为至少在热模式记录中具有适度的散热量的色素。此外，对于散热量和分解温度的测定，使用セイコ一インスツルメント社制造的TG/DTA6200并在升温速度10℃/分、试样量约4mg的条件下进行测定。
此外，色素B的色素涂布膜的最大吸收波长为554.1nm和601.9(强)nm，可知色素B为如下色素：在记录波长660nm附近其最大吸收的吸光度为15.5％，即，在向双层型光记录介质的第2层记录层的记录中具有适当量的吸收。
接下来，形成记录层(1)后，尽快在该记录层(1)上利用喷镀法将ZnS-SiO2形成130nm的厚度。这样，制备出反层积体的光盘1。
<正层积体的制备>
制备形成了深度160nm、宽360nm、轨道间距740nm的导向槽的聚碳酸酯制基板(2)，并在该基板(2)的形成有导向槽的面上滴加上述色素A和上述色素C的混合物(色素A∶色素C＝10重量％∶90重量％)的四氟丙醇溶液(浓度2重量％)，旋涂后，在70℃干燥30分钟，形成记录层(2)。记录层(2)的厚度(图1(a)中的正层积体的槽部的记录层膜厚)约为80nm。然后，在记录层(2)上利用喷镀法将Ag-Bi合金(Bi：1.0原子％)制成膜并使其厚度为17nm，从而形成反射层(2)。进而，在该反射层(2)上，旋涂紫外线固化性树脂(大日本インキ株式会社制造的自由基类紫外线固化性树脂SD347)，使其固化，形成膜厚3μm～4μm的保护涂层，由此制备出正层积体的光盘2。
<双层型光记录介质的制备>
在光盘1(以上述的方法制备的反层积体)的阻隔层上涂布树脂A(大日本インキ株式会社制造的自由基类紫外线固化性树脂：弹性模量4000MPa(30℃)、玻璃化转变温度Tg＝174℃)，并调节旋涂转速以使膜厚达到23μm。此外，在光盘2(正层积体)的保护涂层上涂布上述树脂A，并调节旋涂转速以使膜厚达到23μm。然后，分别将涂布了树脂A的光盘1和光盘2以涂布有树脂A的面相对的方式叠置，接着，从光盘2(正层积体)的基板(2)侧照射紫外线，从而使树脂A固化，形成由树脂A构成的透明树脂层，由此制备出双层型光记录介质。
此外，对于树脂A的弹性模量和玻璃化转变温度Tg，使用动态粘弹性试验机(レオバイブロン社制造：DDVシリ一ズ)，在测定频率3.5Hz、升温速度3℃/min的条件下进行测定。
〔光盘1(反层积体)上的高速记录条件〕
此外，向光盘1(反层积体)高速记录光信息的条件如下。
作为评价机，使用パルステツク制造的DDU-1000(波长662nm、物镜的孔数NA＝0.65)。
记录速度设为DVD的4倍速(4×记录)(线速度15.3m/s)。
作为记录脉冲策略，依照DVD+Recordable Dual Layer 8.5GbytesB asic Format Specifications version 1.1。
脉冲的功率比设为P0/Pm＝1.7。
记录功率设定为20mW～40mW。
抖晃(data-to-clock jitter)测定以1倍速进行。
图6(a)为表示实验例4中制作的光记录介质的反层积体中的、抖晃和不对称性的关系的曲线图，图6(b)为表示实验例4中制作的光记录介质的反层积体中的、抖晃和记录功率的关系的曲线图。此外，“不对称性”是指DVD-R或DVD+R的标准说明书中规定为“asymmetry”的值。不对称性为正值时，意味着以足够大的记录功率进行记录，不对称性为负值时，意味着记录功率不足。
图6(a)中作为“色素A+色素B”而示出的曲线为在记录层(1)中包含Zn为中心金属离子的色素的反层积体的抖晃的不对称容差。尽管在双层型光记录介质上以4倍速这样的非常高的速度记录，即使使不对称性从-5％(图6(a)中相当于“-0.05”。)到稍大于+15％(图6(a)中相当于“0.15”。)的值这样的非常宽的范围内变化，也可以确保9％的抖晃这样的良好抖晃。
另一方面，在实验例4的反层积体中，将中心金属为Zn离子的色素B变换为中心金属不为Zn离子的色素C，并将色素A∶色素C设定为40重量％∶60重量％，除此以外，以与实验例4完全相同的方式考察4×记录的抖晃的不对称容差，其结果见图6(a)中作为“色素A+色素C”而示出的曲线。可知，不对称容差和底部抖晃“色素A+色素C”不比“色素A+色素B”的组合好。此外，色素C在氮气气氛中的散热量为27.6Cal/g、分解温度为348℃。并且，色素C的色素涂布膜的最大吸收波长为547.11nm和597.05nm，可知色素C为如下色素：在记录波长660nm附近其最大吸收的吸光度为14.4％。色素C的膜的吸收光谱的形状比上述的色素B平缓。
使记录激光能量变化，测定“色素A+色素B”和“色素A+色素C”的上述反层积体的4×记录的MT％，结果示于图6(b)中。可知，即使对于MT％，“色素A+色素B”的组合也比“色素A+色素C”的组合优异。
由以上结果可知，在含有以Zn2+为中心金属的本发明的色素的情况中，抖晃的不对称容差较宽，此外，抖晃值本身也良好，并且信号串扰也得到降低。
[实验例5]
实验例5中，按照以下过程，制备图5所示的构成的双层型光记录介质，并且测定记录在记录层(1)(第2层记录层)上的光信息的MT(％)和ST(％)。
首先，使用在表面形成有槽的Ni压模，将聚碳酸酯注射成型，由此形成直径120mm、厚度0.57mm的基板(2)，所述基板(2)上形成有间距0.74μm、宽0.33μm、深度160nm的槽。
然后，滴加上述色素A和上述色素C的混合物(色素A∶色素C＝10重量％∶90重量％)的四氟丙醇溶液(浓度2重量％)，旋涂后，在70℃下干燥30分钟，形成记录层(2)。进而，在记录层(2)上使用由Ag-Bi(Bi：1.0原子％)构成的Ag合金，利用喷镀法制膜形成厚度为17nm的半透明的反射层(2)。
接着，在反射层(2)上圆形地滴加用于形成透明树脂层的规定的紫外线固化性树脂〔1〕，并利用旋涂法形成厚度约25μm的膜。另一方面，在树脂压模的形成有导向槽的面上圆形地滴加规定的紫外线固化性树脂〔2〕，并利用旋涂法形成厚度约25μm的膜。
然后，以由紫外线固化性树脂〔1〕构成的树脂层和由紫外线固化性树脂〔2〕构成的树脂层相对的方式将树脂压模贴合在反射层(2)上。接着，从树脂压模侧照射紫外线，从而使这些树脂层固化进行粘结，由此形成具有透明树脂层(2P层)的粘结体，所述透明树脂层(2P层)具有导向槽。此外，所形成的透明树脂上的导向槽的轨道间距为0.74μm，槽宽为290nm，槽深度为190nm。
此外，作为紫外线固化性树脂〔1〕、〔2〕，分别使用以下的自由基类紫外线固化性树脂。在括弧中给出各紫外线固化性树脂〔1〕、〔2〕的玻璃化转变温度。
紫外线固化性树脂〔1〕：大日本インキ株式会社制造SD6036(Tg＝60℃)
紫外线固化性树脂〔2〕：日本化药株式会社制造MPZ388(Tg＝161℃)作为有机色素化合物，制备上述色素A(中心金属为Ni2+)、上述色素B(中心金属为Zn2+)和下式表示的色素D(中心金属为Zn2+)的混合物(色素A∶(色素B+色素D)＝50重量％∶(15重量％+35重量％)＝50重量％∶50重量％)的四氟丙醇溶液(浓度2.1重量％)，将所述溶液滴加到上述反射层(1)上，旋涂后，在70℃干燥30分钟，从而在上述透明树脂层(2P层)上形成记录层(1)。
Figure S2006800110274D00431
                     色素D
此外，上述色素B在氮气气氛中的散热量为40.7Cal/g、分解温度为278℃，色素D在氮气气氛中的散热量为34.1Cal/g、分解温度为251℃，可知，以Zn2+为中心金属离子的这些色素均为至少在热模式记录中具有适度的散热量的色素。此外，对于散热量和分解温度的测定，使用セイコ一インスツルメント社制造的TG/DTA6200，并在升温速度10℃/分、试样量约4mg的条件下进行测定。
此外，色素B的色素涂布膜的最大吸收波长为554.1nm和601.9(强)nm，可知色素B为如下色素：在记录波长660nm附近其最大吸收的吸光度为15.5％，即，在向双层型光记录介质的第2层记录层的记录中具有适当量的吸收。
此外，色素D的色素涂布膜的最大吸收波长为561.6nm和608.3(强)nm，可知色素D为如下色素：在记录波长660nm附近其最大吸收的吸光度为20.1％，即，在向双层型光记录介质的第2层记录层的记录中具有适当量的吸收。
接下来，使用由Ag-Bi(Bi：1.0原子％)构成的Ag合金，利用喷镀法来形成厚度为120nm的反射层(1)的膜。
进而，在反射层(1)上旋涂紫外线固化性树脂以设置粘结层。此外，在该粘结层上安装直径120mm、厚度0.6mm的聚碳酸酯基板，从而形成基板(2)，并照射紫外线，从而使其固化并粘结。如上进行，从而制造出由2P法得到的双层型光记录介质。
〔双层型光记录介质的记录层(1)上的高速记录条件〕
此外，光信息向双层型光记录介质的记录层(1)高速记录的条件如下。
作为评价机，使用パルステツク制造的ODU-1000(波长660nm、物镜的孔数NA＝0.65)。
记录速度设置为DVD的8倍速(8×记录)(线速度30.67m/s)。
作为记录脉冲策略，按照DVD+Recordable Dual Layer 8.5GbytesBasic Format Specifications version 1.1。
脉冲的功率比设置为P0/Pm＝1.3。
记录功率设置为40mW～52mW。
抖晃(data-to-clock jitter)测定在以1倍速读取的同时进行。
图7为表示实验例5中制作的光记录介质的记录层(1)中的、抖晃和不对称性的关系的曲线图。
图7中，向上述的记录层(1)的8倍速记录的抖晃的不对称容差的测定结果见作为“色素A+色素B+色素D”而示出的曲线。即使在“色素A+色素B+色素D”的记录层(1)的不对称性为+10％左右(图7中，相当于“0.1”。)这样的非常大的条件下，抖晃为9％以下时，也显示出极好的双层型光记录介质的高速记录特性。
另一方面，将上述色素B和色素D变换为中心金属离子为Ni2+的色素C，并且将色素A∶色素C设置为50重量％∶50重量％，除此以外，在以完全相同的方式得到的双层型光记录介质的记录层(1)上进行上述的8倍速记录。其结果见图7中作为“色素A+色素C”而示出的曲线。此外，色素C在氮气气氛中的散热量为27.6Cal/g、分解温度为348℃。此外，色素C的色素涂布膜的最大吸收波长为547.11nm和597.05nm，可知色素C为在记录波长660nm附近具有其最大吸收的吸光度的14.4％的吸收的色素。色素C的膜的吸收光谱的形状比上述的色素B、色素D更平缓。
由图7可知，对于色素A色素C的组合，在记录层(1)中，随着不对称性超过+6％并变大，抖晃急剧增加而恶化。由以上情况可知，通过使中心金属为Zn2+的本发明的色素B和色素D组合，可以非常好地进行双层型光记录介质的第2层记录层(记录层(1))上的8倍速记录这样的极高速度的记录。
工业实用性
本发明适于在DVD±R等红色半导体激光用的光记录介质或蓝色半导体激光用的光记录介质等的用途中利用。
此外，本申请基于2005年4月7日提出的日本申请(特愿2005-111244)和2006年4月6日提出的日本申请(特愿2006-104917)，并以引用的方式援用其全部内容。

Claims (5)

1.一种光记录介质，该光记录介质为在基板上以叙述顺序具有反射层、含有机色素的记录层、透明树脂层的光记录介质，
其特征在于，在上述记录层和上述树脂层之间设置阻隔层，同时用于上述阻隔层的材料作为块体在300K时的导热率M为70W/m·K以上，并且上述阻隔层的膜厚t小于5nm，
所述阻隔层为选自由Mg、Cr、Mn、Fe、Ni、Zn、Ru、Rh、Pd、In、Os、Ir、Pt、Mo、Al、W、Co、Cr、Cu、Ag以及Au组成的组中的金属元素单质或以上述金属元素为主成分的合金。
2.如权利要求1所述的光记录介质，其特征在于，所述M为90W/m·K以上。
3.如权利要求1或2所述的光记录介质，其特征在于，所述t为1nm～4nm。
4.如权利要求1所述的光记录介质，其特征在于，所述阻隔层为选自由Mo、W、Cu、Co、Cr以及Al组成的组中的金属元素单质或以上述金属元素为主成分的合金。
5.如权利要求1或2所述的光记录介质，其特征在于，进一步以叙述顺序在所述透明树脂层上设置第2反射层、第2记录层和透明基板。
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