CN101121108A - 真空处理装置 - Google Patents

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Abstract

一种真空处理装置，包括上壳体和下壳体，彼此可分离地连接，以形成操作空间；以及分离单元，具有凸轮单元，用于通过转动，可分离地将上壳体与下壳体相连接。

Description

真空处理装置
技术领域
本发明涉及一种真空处理装置，并且更具体地是涉及一种用于在基板，例如用于液晶显示屏(LCD)面板的玻璃、用于半导体装置的晶圆等上应用真空操作，例如蚀刻、沉积等等的真空处理装置。
背景技术
真空处理装置适用于通过使用物理反应或者化学反应，例如真空状态下的等离子体而蚀刻或者沉积基板，例如用于LCD面板的玻璃、用于半导体装置的晶圆等。
真空处理装置通常包括上壳体及下壳体，彼此可分离地连接，并且形成处理空间。
上壳体和下壳体需要被设置而开启和关闭，以便于真空处理装置的修复处理或者保护处理。
图1是示出了根据现有技术的具有可开启上壳体的真空处理装置的透视图。
参照图1，在用于处理小面积的基板的真空处理装置中，上壳体3通过使用铰链5和气缸7而从/至腔体1开启和关闭。然而，因为完全地开启上壳体3是困难的，所以腔体1内部的任意模块并不容易替换为新的。
此外，当被处理的基板是较大的时，为了开启上壳体，并且修补或替换安装在腔体中的模块(未示出)，由于上壳体及模块的沉重的重量，升降设备等将被使用。此处，由于上壳体3并未完全地开启，模块并没有被升降设备支撑。
通过增加图1中的真空处理装置的尺寸180°完全打开上壳体3是可能的。然而，增加了开启和关闭装置的尺寸，并且，上壳体的开启状态不稳定。
图2是示出了根据现有技术的另一实施例的真空处理装置的透视图。
在韩国公开专利Laid-Open No.10-2001-0067439中公开的真空处理装置中，上壳体13从腔体11通过旋转和提升单元15以特定高度开启。然后，上壳体13通过移动单元17向上移动至可转动的位置。旋转和提升单元15通过旋转上壳体13而开启和关闭上壳体13。
然而，由于开启和关闭装置的旋转和提升单元及水平方向的移动单元构成一个组件，整个结构是复杂的，并且安装过程也是复杂的。
此外，在用于真空处理装置的开启和关闭装置中，上壳体13从腔体11开启，因而水平地移动。因此，开启和关闭过程是复杂的，并且花费了大量的时间以从/至腔体11开启和关闭上壳体，从而需要大量的时间以修复真空处理装置。
由于该真空处理装置具有较大的尺寸，用于腔体的真空压力增大，由此造成腔体具有更厚的厚度。因此，腔体的上壳体的重量也增加。
当上壳体在没有平衡状态的情况下移动时，上壳体的重量造成机械缺陷，例如磨损开启和关闭装置。因此，真空处理装置不得不频繁地修复。
发明内容
因此，本发明的目的是提供能够通过无需顺序提升和水平移动过程的简单结构而从下壳体分离上壳体的真空处理装置。
本发明的另一个目的是提供能够通过单个移动而从下壳体分离上壳体的真空处理装置。
本发明的另一个目的是提供真空处理装置，其能够精确地和稳定地从下壳体分离上壳体，并且然后移动上壳体。
为了实现这些和其他的优点，并且根据本发明的目的，如此处具体和广泛地描述，提供了真空处理装置，包括：上壳体和下壳体，彼此可分离地连接，以形成操作空间；以及分离单元，用于与下壳体可分离地连接或者分离上壳体，通过相对于下壳体，沿水平的方向倾斜地移动。
分离单元包括：一对导向单元，设置在下壳体的相对侧，该导向单元具有导向槽，相对于下壳体的水平面是倾斜的；以及移动模块，用于支撑上壳体，该移动模块连接于导向单元，所以上壳体可以沿着导向槽移动。导向单元可以连接于下壳体的每一侧，或者可以通过支撑框架而被支撑。
移动模块可以包括一对下支撑单元，连接于导向单元并且沿着导向槽移动；一对上支撑单元连接于上壳体的侧面，用于支撑上壳体，并且连接于下支撑单元；以及线性驱动单元，用于沿着导向槽移动下支撑单元。
上支撑单元可以包括转动单元，用于转动上壳体。
线性驱动单元可以包括齿条部分，形成于导向单元；转动电机，连接于上支撑单元；以及小齿轮部分，连接于转动电机的转动轴，并且连接于齿条部分。
下支撑单元可以包括支撑构件，用于支撑上支撑单元；以及导向块，连接于支撑构件，并且沿着形成在导向单元处的导向槽移动。
导向单元可以包括第一导向单元，对应于侧面长度而连接于下壳体；以及第二导向单元，可转动地连接于第一导向单元的端部，可折叠至下壳体的侧面，并且形成导向槽。
同时，分离单元可以包括一对导向单元，分别地设置在下壳体的相对侧，并且具有至少三个斜面；以及移动模块，具有挡块，分别地设置在斜面处，并且以上壳体和下壳体彼此连接的状态而沿倾斜面移动。
导向单元可以包括第一导轨，具有第一斜面；以及一对第二导轨，平行的设置在第一导轨两侧，并且具有第二斜面，而没有与第一斜面重叠。
移动模块可以包括一个或多个第一辊子，当上壳体和下壳体彼此连接时，设置在第一斜面上，并且沿着第一导轨移动；一个或多个第二辊子，当上壳体和下壳体彼此连接时，设置在第二斜面上，并且沿着第二导轨移动；以及支架，用于可转动地将第一辊子以及第二辊子连接至上支撑单元的下表面。
另外，分离单元可以包括导向单元，其包括第一导轨，具有第一斜面和第二斜面，这其间具有间隙，以及第二导轨，与第一导轨平行的设置，并且具有第一斜面和第二斜面，这其间具有间隙；以及移动模块，包括第一辊子单元和第二辊子单元，每一个均具有一对辊子，可移动地沿着第一导轨和第二导轨设置，并且当上壳体和下壳体对应于第一导轨和第二导轨而彼此连接时，每一个设置在第一和第二斜面上。
根据本发明的另一方面，提供真空处理装置，包括：上壳体和下壳体，彼此可分离地连接，以形成操作空间；以及分离单元，具有凸轮单元，用于通过转动而将上壳体与下壳体可分离地连接或分离。
分离单元可以包括一对挡块(block)，连接于上壳体的对应侧，用于支撑上壳体，并且凸轮单元可以包括一个或多个凸轮件，可转动地设置在各自的挡块处，通过由一对设置在下壳体的相对侧处的支撑单元而支撑的转动，用于将上壳体与下壳体可分离地连接或分离；以及凸轮转动单元，用于转动凸轮件。
另外，分离单元可以包括一对导向单元，构成设置在下壳体的相对侧处的一对支撑单元，以支撑凸轮件，用于水平地移动挡块；以及线性驱动模块，包括水平的驱动单元，其沿着导向单元移动挡块。
所述一对挡块可以可转动地支撑上壳体。
凸轮件可以包括一个或多个辊子，通过被导向单元支撑而转动；以及凸轮成型部，偏轴地连接于辊子的转动轴，并且可转动地连接于挡块。
凸轮件可以包括支撑轴，连接于挡块；以及凸轮成型部，连接于支撑轴，并且形成凸轮。
线性移动模块可以进一步包括支撑块(supporting block)，通过导向单元支撑，并且设置在导向单元和挡块之间，用于支撑该挡块。
支撑单元可以固定于下壳体的每侧，并且挡块可以实现为一对导向单元，用于水平地移动支撑块。
分离单元可以包括：一对支撑块，设置在上壳体的相对侧，用于支撑上壳体，并且沿着挡块移动；以及水平的驱动单元，用于沿着导向单元移动支撑块。
导向单元可以包括：第一导向单元，设置在下壳体的侧面，用于通过凸轮件的转动可以上下移动；以及第二导向单元，当第一导向单元通过凸轮件的转动而向上地移动时，在一定高度上(height implemented)连接于第一导向单元。
当结合附图时，本发明的前述和其它目的、特征、方面和优点从本发明的下述详细的描述中将变得更加显而易见。
附图说明
附图，包括提供对本发明的进一步的理解，并且结合和构成说明书的一部分，解释本发明的实施例，并且与描述一起用于解释本发明的原理。
在附图中：
图1是根据现有技术的具有可开启上壳体的真空处理装置的透视图；
图2是根据现有技术的另一实施例的真空处理装置的透视图；
图3是根据本发明的第一实施例的真空处理装置的透视图；
图4是图3的真空处理装置的平面视图；
图5是图3的真空处理装置的剖视图；
图6是图3的真空处理装置的侧视图；
图7是图3的真空处理装置的透视图；
图8A和图8B是示出了用于开启和关闭图7的真空处理装置的过程的视图；
图9A是根据本发明的第二实施例的真空处理装置的透视图；
图9B是图9A的真空处理装置的平面视图；
图10A是图9A的真空处理装置的透视图；
图10B是示出了图10A的真空处理装置的上壳体处于被移开的状态的透视图；
图11是图10A的真空处理装置的分离单元的透视图；
图12是图10A的真空处理装置的分离单元的导向单元的透视图；
图13A是图10A的真空处理装置的分离单元的辊子挡块的透视图；
图13B是图13A的辊子挡块的正视图；
图14A至图14C示出了图10A的分离单元的辊子挡块的移动状态的侧视图；
图14D示出了通过密封件的压缩的图10A的辊子挡块的微小移动状态的侧视图；
图15是根据一个修改的示例的图11的分离单元的侧视图；
图16是根据另一个修改的示例的图11的分离单元的侧视图；
图17A至图17B示出了图16的分离单元的辊子挡块的移动状态的侧视图；
图18A是根据本发明的第三实施例的真空处理装置的透视图，其示出了上壳体和下壳体彼此相连接的状态；
图18B是根据本发明的第三实施例的真空处理装置的透视图，其示出了上壳体与下壳体分离的状态；
图19是图18A的真空处理装置的分离单元的透视图；
图20是图18A的真空处理装置的凸轮单元的局部剖视图；
图21A和图21B是示出了用于开启和关闭的图18A的真空处理装置的过程的视图；
图22A至图22C是示出了根据本发明的另一实施例的用于开启和关闭图18A的真空处理装置的过程的视图；
图23A至图23C是示出了根据本发明的另一实施例的用于开启和关闭图18A的真空处理装置的过程的视图；
图24A至图24C是示出了根据本发明的另一实施例的用于开启和关闭图18A的真空处理装置的过程的视图。
具体实施方式
以下将参照附图中描述的示例，详细描述本发明的优选实施例。
图3是根据本发明的第一实施例的真空处理装置的透视图，而图4是图3的真空处理装置的平面视图。
参照图3和图4，至少一个根据本发明的第一实施例的真空处理装置200可以作为多复室系统而实现，进一步包括传递腔室120及连接于传递腔室120的负荷锁定腔室130。
每一个真空处理装置200可以包括上壳体210和下壳体220，彼此可分离地的连接，以形成操作空间。用于基板的真空处理，在减压情况下的操作空间中执行例如蚀刻或者沉积。
提供有排气系统的真空处理装置200包括泵，使操作空间、排放管等减压；气体供给系统，用于供给气体，以在操作空间中实现真空操作；电源系统用于形成等离子及其他。并且方便起见，省略了详细描述。
同时，上壳体210和下壳体220需要彼此分离，以致于容易地修复或保养真空处理装置200。
图5是图3的真空处理装置的剖视图，图6是图3的真空处理装置的侧视图，而图7是图3的真空处理装置的透视图。
如图3至图7所示，根据本发明的第一实施例的真空处理装置200包括分离单元300，用于通过沿着水平方向，使上壳体210相对于下壳体220倾斜地移动而使上壳体210与下壳体220可分离地连接或分离。
上壳体210和下壳体220彼此可分离地连接，因而形成用于真空操作的操作空间。下壳体220可以通过设置在其下的支撑框架410而支撑。用于密封操作空间的密封件230设置在上壳体210和下壳体220的至少一个接触面处。
开启部分(未示出)，用于将基板放入或取出操作空间，形成于传递腔室120和真空处理装置200之间的连接部。用于支撑基板的基板支撑板240设置在通过支撑件241而被支撑的下壳体220的下表面。
参照图5，附图标记250标记出用于排出操作空间中的气体的排气系统，260标记出用于向操作空间供给操作气体的气体供给管，并且270标记出用于在操作空间中形成等离子体的外部电源。
上壳体210和下壳体220具有有内部空间的容器结构。然而，上壳体210可以作为板状件而实现。
如图5和图6中所示，分离单元300可以包括：一对导向单元310，设置在下壳体220的相对侧处，并且具有导向槽312，与下壳体的水平面是倾斜的；以及移动模块320，用于支撑上壳体210，移动模块320连接于导向单元310，从而上壳体210可以沿着导向槽312移动。
导向单元310包括一对导向件311，设置在下壳体220的相对侧处。导向件311可以具有连同移动模块210的下支撑单元321不同的结构。如图7中所示，导向单元310可以固定于下壳体220的侧壁，或者可以被安装以通过支撑结构410而被支撑。
一对导向单元310设置在下壳体220的对应侧处。为了减少用于真空处理装置的安装空间，在具有开启部(未示出)的下壳体220的侧面处，导向单元310被优选地设置，其中基板被放入/拿出操作空间，并且在侧表面的相对侧处，具有开启部。
此处，导向单元310连接于具有开启部的下壳体220的侧面，与开启部具有确定的间隙，用于安装或修复用于开启和关闭开启部的闸阀。同样，导向单元310设置在具有开启部的下壳体的侧面处，考虑到与开启部的干涉，安装在上壳体210的上侧面或接近上侧面。
如图5中所示，导向件311可以具有“U”形横截面，因而导槽312可以沿着纵向形成。导槽312被形成以与下壳体220的水平面倾斜。此处，移动模块的下支撑单元321插入到导槽312，因而沿着导槽312移动。
导向单元310可以包括第一导向单元，连接于下壳体220，而与下壳体220的侧面长度相对应；以及第二导向单元，可转动地连接于第一导向单元的端部，被可折叠于下壳体220的侧面，并且形成导槽312。由于导向单元310被构为可折叠，由导线单元310占用的空间减少以提高对于真空处理装置200的空间利用率。
第一导向单元和第二导向单元可以被设置，以彼此是可分离的并且其中至少一个是可上下移动的。第二导向单元可以通过支撑框架410而被支撑，可上下移动。第二导向单元可以被构成为，在上壳体210转动之后向下地移动，从而上壳体210能够被容易地修补。
如图7中所示，移动模块320可以包括一对下支撑单元321，连接于导向单元310，并且沿着导槽312移动；一对上支撑单元322，连接于上壳体210的侧面，用于支撑上壳体210，并且连接于下支撑单元321；以及线性驱动单元323，用于沿着导槽312移动下支撑单元321。
下支撑单元321可以包括一个或多个用于支撑上支撑单元322的支撑件321b；以及导向挡块321a，连接于支撑件321b，并且沿着形成在导向单元310处的导槽312移动。
支撑件321b被构成为一个或多个，在其一端连接于导向挡块321a的状态下支撑上支撑单元322。一对支撑件321b设置在上壳体210的一侧处。支撑件321b可以进一步包括高度控制器(未示出)，用于控制支撑件的每一个高度，从而上壳体可以保持水平的状态。高度控制器作为液压缸或气缸而实现，并且通过控制支撑件321b的每一个高度而移动上壳体210而保持上壳体210的水平的状态。
导向单元310可以被设置，从而只有导槽312的一部分能够与下壳体220的水平面是倾斜的。此处，由于该斜面，下壳体220的倾斜状态被高度控制器阻止。
同时，上支撑单元322可以包括支撑体322a，被支撑件321b支撑，并且通过转动轴211而连接于上壳体210的相对侧；以及转动单元322b，设置在支撑体322a处，并且转动上壳体210。
支撑体322a通过转动轴211而连接于上壳体210，从而上壳体210是可转动的。转动单元322b作为电机而实现，其设置在用于通过旋转转动轴211而转动上壳体210的转动轴211的至少一端处。
同时，线性驱动单元323被设置，以沿着导槽312而完全地移动移动模块320，并且可以具有不同的修改。线性驱动单元323可以包括齿条部323a，形成或安装在导向单元310处；电力或液压性转动电机连接于上支撑单元322；以及小齿轮部323c，连接于转动电机323b的转动轴，并且连接于齿条部323a。液压驱动装置可以作为线性驱动单元323而使用。
尽管未示出，用于啮合移动模块320的下支撑单元321的多个齿轮凹槽可以沿纵向的方向在导槽312处形成。
此处，下支撑单元321可以提供有可转动的齿轮部(未示出)，以及用于转动齿轮部的驱动单元。这样，导向单元310及下支撑单元321用作移动模块320的线性驱动单元323。
导向单元310及下支撑单元321被设置，从而下支撑单元321可以沿着导槽312移动，并且因此上壳体210可以移动并且与下壳体220分离。
同时，如图3和图4中所示，导向单元310和分离单元300的移动模块320可以沿着与上壳体210连接于传递腔室120的方向垂直的方向而安装，因此减少真空处理装置占用的空间。
用于开启和关闭真空处理装置的操作将参照图8A和图8B而被说明。
当上壳体210与真空处理装置200的下壳体220分离，操作空间被控制以具有真空压力的气压。
然后，移动模块320的线性驱动单元323启动以被操作，并且下支撑单元321启动以沿着导向单元310的导槽312移动，沿着与下壳体220的水平面倾斜的方向平行的方向。
随着下支撑单元321移动，通过被移动模块320支撑的上壳体210通过如图8A中所示的单个移动而与下壳体220分离。
一旦上壳体210如图8B中所示移动而与下壳体220分离，上支撑单元322的转动单元322b以特定角度转动，由此通过替换或修补内置模块而执行维修或修复操作。
在完成上壳体210的维修或修复操作之后，上壳体210连接于下壳体220。此处，该连接通过转动和移动上壳体210而实现，以图8B至图8A的顺序。
本发明的分离单元用于通过单个移动将上壳体与下壳体分离，并且可以具有各种不同的修改。在下文中，将描述具有根据第二实施例的修改的分离单元的真空处理装置。
第二实施例在分离单元方面与第一实施例是不同的，因而除了分离单元，具有与第一实施例相同的附图标记和术语。
图9A是根据本发明的第二实施例的真空处理装置的透视图，图10A是图9A的真空处理装置的透视图，图10B是示出了图10A的真空处理装置的上壳体处于被移开的状态的透视图，图11是图10A的真空处理装置的分离单元的透视图，图12是图10A的真空处理装置的分离单元的导向单元的透视图，图13A是图10A的真空处理装置的分离单元的辊子挡块的透视图，图13B是图13A的辊子挡块的正视图，图14A至图14C是示出了图10A的分离单元的辊子挡块的移动状态的侧视图，以及图14D是示出了通过密封件的压缩的图10A的辊子挡块的微小移动状态的侧视图。
如图9A至图14D中所示，根据本发明的第二实施例的分离单元800可以包括：一对导向单元810，设置在下壳体220的相对侧；以及移动模块820，连接于导向单元810，从而上壳体210可以沿着导向单元810移动，以与下壳体220相分离。
导向单元810设置在下壳体220的相对侧处。为了减少用于真空处理装置的安装空间，在具有开启部109的下壳体220的侧面处，导向单元810被优选地设置，其中基板被放入/拿出操作空间，并且在相对侧处，设置于具有开启部109的侧面。
此处，导向单元810连接于具有开启部109的下壳体220的侧面，与开启部109具有确定的间隙，以致于安装或修复用于开启和关闭开启部109的闸阀。同样，导向单元810设置在具有开启部109的下壳体220的侧面处，考虑到与开启部109的干涉，安装在上壳体210的上侧面或接近上侧面。
导向单元810可以包括第一导轨811，具有第一斜面811a，以及第二斜面811b，沿纵向方向彼此间隔；以及第二导轨812，与第一导轨811平行设置，并且具有第一斜面812a和第二斜面812b，沿纵向方向彼此间隔。
第一导轨811及第二导轨812可以彼此单独的形成，或者彼此整体的形成。第一导轨811的第一和第二斜面811a和811b形成以没有彼此重叠的偏离第二导轨812的第一和第二斜面812a和812b。第一导轨811和第二导轨812被形成，从而只有其中的第一和第二斜面811a、811b、812a和812b与上壳体210的水平面是倾斜的，并且其它的可以是平面。
第一导轨811和第二导轨812可以连接于下壳体220的侧壁，或者可以被安装，以致于被支撑框架410支撑。开启部109通过基板被放入/拿出操作空间，而设置在第一和第二导轨811和812之下，以阻止与基板干涉。
线性驱动单元823的齿条部823a沿着纵向方向设置在第一和第二导轨811和812的每一个侧面或者每一个上表面处。
移动模块820可以包括一对上支撑单元822，可转动地连接于上壳体210的侧面，以支撑上壳体210；辊子挡块830设置在上支撑单元822的每一个下表面处，并且沿着导向单元810是可移动的；以及线性驱动单元823，用于沿着导向单元810移动辊子挡块830。
上支撑单元822可以包括支撑体822a，通过转动轴211而连接于上壳体210的两侧；以及转动单元822b，设置在支撑体822a处，并且转动上壳体210。
辊子挡块830可以包括第一辊子单元831以及第二辊子单元832，分别地沿着导向单元810的第一导轨811和第二导轨812移动，其中导向单元810连接于上支撑单元822的下表面，其间具有间隙。
第一辊子单元831可以包括一对辊子831a和832a，当上壳体210和下壳体220彼此相互连接并且沿着第一和第二导轨811和812移动时，分别地设置在第一斜面811a和812a处；以及支架833，用于可转动地将辊子831a和832a连接至上支撑单元822的下表面。
第二辊子单元832可以包括一对辊子831b和832b，当上壳体210和下壳体220彼此相互连接并且沿着第一和第二导轨811和812移动时，分别地设置在第二斜面811b和812b处；以及支架833，用于可转动地将辊子831b和832b连接至上支撑单元822的下表面。
由于辊子挡块830需要以水平的状态支撑上壳体210，用于支撑辊子挡块830的第一导轨811的第一和第二斜面811a和811b优选地设置在第二导轨812的第一和第二斜面812a和812b之间或外侧。
如图11中所示，线性驱动单元823可以被设置以完全地沿着导向单元810移动模块820。线性驱动单元823可以包括齿条部823a，设置在导向单元810的一侧处；转动电机823b连接于上支撑单元822；以及小齿轮部823c，连接于转动电机823b的转动轴，并且齿轮连接于齿条部823a。由于小齿轮部823c随着上壳体210的移动而向上地移动一点，齿条部823a和小齿轮部823c优选地以充分的高度设置。
在与第一实施例相同的方式中，液压驱动装置可以作为线性驱动单元823而使用。
根据本发明第二实施例的真空处理装置中的用于将上壳体210与下壳体220分离的操作将被描述。
首先，线性驱动装置823连接于上支撑单元821被操作，由此沿着导向单元810的纵向方向移动上支撑单元821。
随着上支撑单元821的移动，第一和第二辊子单元831和832连接于分别地如图10A和10B以及图14A至图14C中所示沿着第一和第二导轨811和812移动的上支撑单元821。
此处，第一和第二辊子单元831和832的辊子831a、832a、831b及832b分别地沿着第一斜面811a和812a以及第二斜面811b和812b移动，然后沿着下壳体220的平面移动至上壳体210的转动位置。
此处，辊子831a、832a、831b及832b中的一些越过第二斜面811b和812b之上，以被其它辊子的支撑的非接触状态。
在根据本发明的真空处理装置中，操作空间需要被减压至用于真空操作的真空压力。上壳体210及下壳体220彼此相互连接，处于密封件230插入到其中的状态之下。当操作空间被减压至真空压力，压力被施加于上壳体210和下壳体220的外侧，通过大气压。如图14D中所示，通过向下地，极微地移动，上壳体210需要粘附于下壳体220，使得在操作空间中形成真空压力。
分离单元800可以进一步设置有闭合单元880，用于向下地闭合上壳体210至下壳体220，而没有水平地移动。
闭合单元880可以不同方式实施，从而上壳体210可以向下地并且极微地移动以压缩密封件230，并且闭合至下壳体220，当真空压力形成在操作空间中时。如图13A和图13B中所示，闭合单元880包括一个或多个导向槽881，沿着导向单元810的纵向的方向设置在第一和第二辊子单元831和832上；以及一个或多个导向件882，用于可移动地连接支撑体822a和导向槽811。
如图14中所示，导向件882设置在导向槽881处，以沿着导向槽881是可移动的，从而上壳体210能够通过向下地并且极微地移动而闭合至下壳体220。
为了防止真空压力于操作空间中形成之前，上壳体210相对于第一和第二辊子单元831和832移动，闭合单元880可以被设置，从而第一和第二辊子单元831和832能够保持固定于支撑体822a的状态，从而导向件882能够通过液压装置等沿着导向槽881极微地移动。
分离单元800的特征在于其中的导向单元具有至少一个斜面。分离单元800的导向单元和移动模块彼此不同地连接，这对于本领域技术人员而言是显而易见的。
如图16中所示，分离单元800的导向单元810可以被设置，具有三个或更多个斜面851a、851b和851c。辊子挡块830可以由辊子861a、861b和861c构成，其中辊子通过导向单元810的斜面851a、851b和851c支撑而移动。斜面851a、851b和851c可以被形成，使得具有一个或多个通道。优选地，斜面851a、851b和851c沿着纵向的方向连续地形成，在其间具有不同的间隙。
当斜面851a、851b和851c及辊子861a、861b和861c以三个或更多个分别地实施时，如果挡块861a、861b和861c之一穿过斜面中的一个，剩余的两个挡块支撑上壳体210。因此，上壳体210能够被稳定地移动。(参见图15中的①、②、③)。
如图16至图17B中所示，分离单元800的导向单元910可以包括第一导轨951，具有第一斜面951a；以及一对第二导轨952，设置在与第一导轨951平行的相对侧，并且每一个具有第二斜面952a，并没有与第一斜面951a重叠。
移动模块的辊子挡块可以包括一个或多个第一辊子931，当上壳体210和下壳体220彼此连接，并且沿着第一导轨951移动时，设置在第一斜面951a处；一个或多个第二辊子932，当上壳体210和下壳体220彼此连接，并且沿着第二导轨952移动时，设置在第二斜面952a处；以及支架933，用于可转动地将第一辊子931和第二辊子932连接至上支撑单元822的下表面。
分离单元800如图18A至图18B操作时，由此将上壳体210与下壳体220分离。
上壳体210和下壳体220需要彼此分离，用于修复本发明的真空处理装置200。考虑到从下壳体220分离时其中的重量，上壳体210需要更精确地支撑并且上下移动。
图18A是根据本发明的第三实施例的真空处理装置的透视图，其示出了上壳体和下壳体彼此相连接的状态，图18B是根据本发明的第三实施例的真空处理装置的透视图，其示出了上壳体与下壳体分离的状态，图19是图18A的真空处理装置的分离单元的透视图，图20是图18A的真空处理装置的凸轮单元的局部剖视图，图21A和图21B是示出了用于开启和关闭图18A的真空处理装置的过程的视图，图22A至图22C是示出了根据本发明的另一实施例的用于开启和关闭图18A的真空处理装置的过程的视图，图23A至图23C是示出了根据本发明的另一实施例的用于开启和关闭图18A的真空处理装置的过程的视图，图24A至图24C是示出了根据本发明的另一实施例的用于开启和关闭图18A的真空处理装置的过程的视图。
如图18A至图20中所示，根据本发明的第三实施例的真空处理装置300可以包括分离单元，具有凸轮单元，用于通过转动上壳体210，将上壳体210与下壳体220可分离地连接或分离。
分离单元被设置，从而真空处理装置能够容易地维修或修复，在上壳体210与下壳体220分离，然后移动至预设位置之后。
分离单元可以被设置，从而支撑上壳体210，并且可以被设置具有用于转动上壳体210的转动单元770。
分离单元可以包括一个或多个挡块731，连接于上壳体210的相对侧，用于可转动地支撑上壳体210。
凸轮单元可以包括一个或多个凸轮件751，可转动地设置在各自的挡块731处，用于通过由一对设置在上壳体210相对侧的支撑单元而支撑的转动，将上壳体210与下壳体220可分离地连接或分离；以及凸轮转动部752，用于转动凸轮件751。
如图19至20中所示，凸轮转动单元752可以包括：转动杆752a，固定地连接于凸轮件751的转动单元或凸轮轴，用于转动凸轮件751；以及驱动单元752b，连接于转动杆752a，用于转动定心在凸轮轴的转动杆752a。
分离单元需要设置有线性移动模块，用于水平地移动上壳体210。线性移动模块可以包括一对导向单元710，设置在下壳体220的相对侧，由此构成支撑凸轮件751的支撑单元，用于水平地移动挡块731；以及线性驱动单元720，用于沿着导向单元710移动挡块731。
导向单元710直接地连接于下壳体220的相对侧，或者由额外的支撑件支撑，并且支撑/导向凸轮件751。
导向单元710可以在支撑凸轮件751的一个或多个表面上设置有一个或多个斜面，从而凸轮件751能够倾斜地移动，以上下移动上壳体210。
随着凸轮件751沿垂直方向在不同位置移动，斜面用于相对于下壳体220移动上壳体210。优选地，当上壳体210和下壳体220彼此相互连接时，斜面设于凸轮件751的设置处。
线性驱动单元720用于沿着导向单元710移动挡块731，并且可以不同地设置。如图所示，线性驱动单元720可以通过将齿条部和小齿轮部彼此相互连接而设置。
凸轮件751用于通过转动将上壳体210与下壳体220可分离地连接或分离，并且可以具有不同的结构。
如图20至图21B中所示，凸轮件751可以包括一个或多个辊子761，通过由导向单元710支撑而转动；凸轮成形部751a偏轴地连接于辊子761的转动轴762，并且通过可转动地连接于挡块731而形成凸轮轴。
如图22A至图22C中所示，凸轮件753可以包括支撑轴753b，连接于挡块731；以及凸轮成形部753a，连接于支撑轴753b，并且形成凸轮。此处凸轮成形部753a可以在导向单元710上滑行地移动。
如图23A至图23C所示，线性驱动模块可以进一步包括支撑块780，由导向单元710支撑，并且设置在导向单元710和挡块731之间，用于支撑挡块731。
支撑块780可以包括挡块体781，用于支撑挡块731；以及一个或多个辊子782，通过转动沿着导向单元710移动。
同时，图23A至图23C中所示的挡块和支撑块的位置可以替换。如图24A至24C中所示，凸轮件753可以通过支撑单元713支撑，设置在下壳体220的两侧。同样，挡块可以用作导向单元710，设置在下壳体220的两侧，用于移动支撑块781。
导向单元710可以被设置，从而第一导向单元711和第二导向单元712能够彼此相分离。第一导向单元711设置在下壳体220的侧面处，以使得通过凸轮件753的转动而上下移动。同样，第二导向单元712可以连接于第一导向单元711，以一定高度实施，当第一导向单元711通过凸轮件753的转动而向上地移动时。
根据本发明的真空处理装置的操作将被描述。
如图21A、22A、23A和24A中所示，上壳体210移动以与下壳体220间隔。如图18B所示，上壳体210移动至预设位置或者通过转动单元770以90°或180°转动，由此执行修复或维修操作。
当上壳体210闭合于下壳体220时，凸轮件751和753如图21B、22B、22C、23B、23C、24B和24C中所示而转动。
更具体地，当凸轮件751和753连接于沿第一方向转动的挡块731时，上壳体210和导向单元710之间的距离减少，并且挡块731向上壳体220移动。因此，连接于挡块731的上壳体210移动以邻接下壳体220，由此密封地连接于下壳体220。
相反，当上壳体210与下壳体220分离时，连接于挡块731的凸轮件751和753沿着第二方向转动。因此，上壳体210和导向单元710之间的距离增加，并且挡块731移动以与下壳体220间隔。因此，连接于挡块731的上壳体210与下壳体220分离。
一旦上壳体210通过凸轮单元与下壳体220相分离，分离单元通过线性驱动单元720将上壳体210移动至预设位置。
同时，由于真空处理装置的操作空间内的压力从大气压减少到真空压力，或者从真空压力增加到大气压，设置在上壳体210和下壳体220之间的密封件膨胀或压缩。上壳体210需要相对于下壳体220需要极微地移动。
此处，凸轮件751和753极微地转动，从而上壳体210能够通过密封件的膨胀量或压缩量而移动。优选地，上壳体210被设置，当极微地移动时，不会与下壳体不对齐。
本发明的真空处理装置并不需要一个由用于转动、提升以及水平地移动上壳体使得从下壳体分离上壳体的装置构成的组件。因此，真空处理装置的整个结构被简化。
当真空处理装置被修补时，上壳体仅仅通过单个移动与下壳体相分离。因此，用于从下壳体分离上壳体的操作被简化。
前述实施例和优点仅仅是典型地并且并不解释为限制本发明。本说明能够容易地应用于装置的其它类型。该说明用于解释，而不用于限制权利要求的范围。对于本领域技术人员而言，多种替换方法，修改及变化将是显而易见的。这里描述的典型实施例的特征、结构、方法以及其它特征可以以多种方式结合，以获得另外的和/或替换的典型实施例。
本发明的特点可以表现为几种形式，而没有与其中的特征相分离，也可以理解为上述实施例并不由前述说明的任意细节所限制，除非另有说明，但应当广泛地解释为在附属权利要求限制的范围之内，并且由此所有的变化和修改属于权利要求的界限和范围，或者这些界限和范围的等同物，所以被确定为被附属权利要求所包含。

Claims (27)

1.一种真空处理装置，包括：
上壳体和下壳体，彼此可分离地连接，以形成操作空间；以及
分离单元，用于通过相对于所述下壳体，沿水平的方向倾斜地移动所述上壳体，将所述上壳体与所述下壳体可分离地连接或者分离。
2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述分离单元包括：
一对导向单元，设置在所述下壳体的相对侧，并且具有相对于所述下壳体的水平面是倾斜的导向槽；以及
移动模块，连接于所述导向单元，从而所述上壳体可以沿着所述导向槽移动，用于支撑所述上壳体。
3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述导向单元连接于所述下壳体的每一侧，或者通过支撑框架而被支撑。
4.根据权利要求2或3所述的装置，其中，所述移动模块包括：
一对下支撑单元，连接于所述导向单元并且沿着所述导向槽移动；
一对上支撑单元连接于所述上壳体的侧面，支撑所述上壳体，并且连接于所述下支撑单元；以及
线性驱动单元，用于沿着所述导向槽移动所述下支撑单元。
5.根据权利要求4所述的装置，其中，所述上支撑单元包括转动单元，用于转动所述上壳体。
6.根据权利要求4所述的装置，其中，所述线性驱动单元包括：
齿条部分，位于所述导向单元处；
转动电机，连接于所述上支撑单元；以及
小齿轮部分，连接于所述转动电机的转动轴，并且连接于所述齿条部分。
7.根据权利要求4所述的装置，其中，所述下支撑单元包括：
支撑元件，用于支撑所述上支撑单元；以及
导向块，连接于所述支撑元件，并且沿着形成在导向单元处的导向槽移动。
8.根据权利要求1所述的装置，其中，所述分离单元包括：
一对导向单元，分别地设置在所述下壳体的相对侧，并且具有至少三个斜面；以及
移动模块，具有挡块，分别地设置在斜面处，并且以所述上壳体和所述下壳体彼此连接的状态而沿着倾斜面移动。
9.根据权利要求8所述的装置，其中，所述导向单元包括：
第一导轨，具有第一斜面；以及
一对第二导轨，平行的设置在所述第一导轨相对侧，并且具有没有与所述第一斜面重叠的第二斜面；
其中移动模块包括：
一个或多个第一辊子，当所述上壳体和所述下壳体彼此连接时，设置在所述第一斜面上，并且沿着所述第一导轨移动；
一个或多个第二辊子，当所述上壳体和所述下壳体彼此连接时，设置在所述第二斜面上，并且沿着所述第二导轨移动；以及
支架，用于可转动地将所述第一辊子以及所述第二辊子连接至上支撑单元的下表面。
10.根据权利要求1所述的装置，其中，所述分离单元包括：
导向单元，包括第一导轨，具有第一斜面和第二斜面，这其间具有间隙，以及第二导轨，与第一导轨平行的设置，并且具有第一斜面和第二斜面，这其间具有间隙；以及
移动模块，包括第一辊子单元和第二辊子单元，每一个均具有一对辊子，可移动地沿着所述第一导轨和所述第二导轨设置，并且当所述上壳体和所述下壳体对应于所述第一导轨和所述第二导轨而彼此连接时，每一个设置在所述第一斜面上。
11.根据权利要求10所述的装置，其中，所述第一导轨的所述第一和第二斜面被形成以偏离所述第二导轨的所述第一和第二斜面，而没有彼此重叠。
12.根据权利要求8至10之一所述的装置，其中所述移动模块包括：
一对上支撑单元，可转动地连接于所述上壳体的侧面，支撑所述上壳体；
辊子挡块，设置在所述上支撑单元的每一个下表面处，并且沿着所述导向单元是可移动的；以及
线性驱动单元，用于沿着所述导向槽移动所述辊子挡块。
13.根据权利要求12所述的装置，其中，所述上支撑单元包括：
支撑体，通过转动轴而连接于所述上壳体的相对侧；以及
转动单元，设置在所述支撑体处，用于转动所述上壳体。
14.根据权利要求12所述的装置，其中，所述线性驱动单元包括：
齿条部分，形成在所述导向单元处；
转动电机，连接于所述上支撑单元；以及
小齿轮部分，连接于所述转动电机的转动轴，并且连接于所述齿条部分。
15.根据权利要求12所述的装置，其中，所述分离单元进一步包括闭合单元，用于当真空压力在操作空间中形成时，向下地将所述上壳体闭合至所述下壳体，而没有水平地移动。
16.根据权利要求15所述的装置，其中，所述闭合单元包括：
一个或多个导向槽，沿着所述导向单元的纵向的方向设置在所述第一和第二辊子单元上；以及
一个或多个导向件，用于可移动地将所述上支撑单元连接至所述导向槽。
17.根据权利要求9或10所述的装置，其中，所述两个导向单元中的一个设置在所述下壳体的侧面处，具有开启部，通过放入到操作空间的基板，并且所述两个导向单元中的另一个设置在所述侧面的相对侧处，具有开启部。
18.根据权利要求17所述的装置，其中，所述导向单元设置在具有开口的所述下壳体的所述侧面处，被定位在开口之上。
19.一种真空处理装置，包括：
上壳体和下壳体，彼此可分离地连接，以形成操作空间；以及
分离单元，具有凸轮单元，用于通过转动而将所述上壳体与所述下壳体可分离地连接或分离。
20.根据权利要求19所述的装置，其中，所述分离单元包括：
一对挡块，连接于所述上壳体的相对侧，用于支撑所述上壳体，以及
其中所述凸轮单元包括：
一个或多个凸轮件，可转动地设置在各自的所述挡块处，用于通过由一对设置在所述下壳体的相对侧处的支撑单元而支撑的转动，将所述上壳体与所述下壳体可分离地连接或分离；以及
凸轮转动部，用于转动所述凸轮件。
21.根据权利要求20所述的装置，其中，所述分离单元包括：
一对导向单元，构成设置在所述下壳体的相对侧处的所述支撑单元，以支撑所述凸轮件，用于水平地移动所述挡块；以及
线性驱动模块，包括沿着所述导向单元移动所述挡块的水平驱动单元。
22.根据权利要求20或21所述的装置，其中，一对挡块可旋转地支撑所述上壳体。
23.根据权利要求21所述的装置，所述凸轮件包括：
一个或多个辊子，通过被所述导向单元支撑而转动；以及
凸轮成型部，偏轴地连接于所述辊子的转动轴，并且可转动地连接于所述挡块。
24.根据权利要求20或21所述的装置，其中，所述凸轮件包括：
支撑轴，连接于所述挡块；以及
凸轮成型部，连接于所述支撑轴，并且形成凸轮。
25.根据权利要求21所述的装置，其中，所述线性移动模块进一步包括支撑块，通过所述导向单元支撑，并且设置在所述导向单元和所述挡块之间，用于支撑所述挡块。
26.根据权利要求20所述的装置，其中，所述支撑单元固定于所述下壳体的相对侧，并且所述挡块可以实施为一对导向单元，用于水平地移动支撑块，以及
其中分离单元包括：
一对支撑块，设置在所述上壳体的相对侧，用于支撑所述上壳体，并且沿着所述挡块移动；以及
水平的驱动部分，用于沿着所述导向单元移动所述支撑块。
27.根据权利要求20所述的装置，其中，所述导向单元包括：
第一导向单元，设置在所述下壳体的侧面处，通过所述凸轮件的转动可以上下移动；以及
第二导向单元，当所述第一导向单元通过所述凸轮件的转动而向上地移动时，在一定高度上连接于所述第一导向单元。
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