KR102170150B1 - 분리형 기판 열처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 분리형 기판 열처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 디스플레이등 대면적 기판의 전면적에 걸쳐 고른 열처리를 수행하고 안정적인 승온 및 냉각이 가능하며 유지보수가 용이한 분리형 기판 열처리 장치의 구조에 관한 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 분리형 기판 열처리 장치는 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 내부에 제공하며 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120)로 분리 가능한 챔버(100), 상기 챔버(100) 내부에 서로 이격되어 배치되는 발열부(200) 및 상기 발열부(200)의 사이에 상기 기판이 수납되도록 기판을 지지하는 기판 지지부(300)를 포함하고, 상기 발열부(200)는 상기 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120)에 각각 배치되고, 상기 기판 지지부(300)는 상기 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120)에 각각 배치되는 것을 특징으로 한다.

Description

분리형 기판 열처리 장치{SEPARATION TYPE HEAT TREATMENT APPARATUS FOR SUBSTRATE}
본 발명은 분리형 기판 열처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 디스플레이 등 대면적 기판의 전면적에 걸쳐 고른 열처리를 수행하고 안정적인 승온 및 냉각이 가능하며 유지보수가 용이한 분리형 기판 열처리 장치의 구조에 관한 것이다.
평판 디스플레이 제조 시 사용되는 대면적 기판 처리 시스템은 크게 증착 장치와 어닐링 장치로 구분될 수 있다.
증착 장치는 평판 디스플레이의 핵심 구성을 이루는 투명 전도층, 절연층, 금속층 또는 실리콘층을 형성하는 단계를 담당하는 장치로서, LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 같은 화학 증착 장치와 스퍼터링(sputtering)과 같은 물리 증착 장치가 있다.
어닐링(annealing) 장치는 평판 디스플레이 기판상에 증착되어 있는 소정의 박막에 대하여 결정화, 상 변화 등의 공정을 위한 필수적인 열처리를 담당하는 장치로서, 반도체 또는 태양전지에서 사용되는 실리콘 웨이퍼나 글래스와 같은 기판의 열처리에도 적용될 수 있다.
이와 같은 열처리 공정을 수행하기 위해서는 기판의 가열이 가능한 열처리 장치가 있어야 하며, 적정한 어닐링 효과를 위해서는 최소한 300℃ 이상의 온도로 승온하는 기판 열처리 장치가 필요하다.
일반적으로, 기판 열처리 장치는 하나의 기판을 열처리하는 매엽식(Single Substrate Type)과 복수의 기판을 한번에 열처리 하는 배치식(Batch Type)이 있다. 매엽식 기판 처리 장치는 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있으며 대량 생산에는 배치식 기판 처리 장치를 많이 적용하고 있다.
도 1은 종래기술에 따른 배치식 열처리 장치의 구성을 나타내는 도면으로서, 배치식 열처리 장치는 열처리 공간을 제공하는 챔버(10), 복수개의 기판을 상기 챔버 내부에 지지하여 적층하는 보트(20), 상기 챔버(20) 내부의 승온을 위해 챔버(20)의 주위를 감싸도록 배치되는 히터(30)를 포함하여 구성되는 것이 일반적이다
따라서, 종래의 배치식 열처리 장치는 히터(30)가 원통형 챔버(20)의 외벽(wall)쪽에 설치되어 있기 때문에 열처리 과정에서 기판의 중심부와 주변부의 온도 차이가 발생하여 기판의 전면적에 걸쳐서 균일한 열처리가 힘든 현상이 발생하게 된다.
기판의 전면적에 걸쳐서 균일한 열처리가 이루어지지 못하면 열처리되는 박막의 성질이 균일하지 못하게 되어 제조되는 평판 디스플레이나 태양전지의 성능이 저하되는 문제점이 있다.
특히, 근래에는 평판 디스플레이 및 태양전지용 글래스 기판의 사이즈가 대면적화됨에 따라 생산성 향상 및 온도 균일화 문제가 이슈가 되고 있으며 가능한 종래보다 높은 400℃ 이상의 고온 열처리를 하여 공정시간을 줄이려는 시도가 계속되고 있다.
따라서, 종래보다 높은 고온의 열처리를 위하여 고온의 히터를 사용하고 대면적 기판에 따라 챔버 내부의 공간이 커지게 되면, 기판의 전면적에 걸쳐 균일한 열처리가 더욱 어려운 문제점이 있다.
또한, 챔버 내부가 가열되면 가열된 공기가 대류하게 되고 뜨거운 공기가 상부쪽으로 집중되어 챔버 전체적으로 균일한 온도를 유지하기 어려운 현상도 발생하게 된다.
나아가, 열처리 공정이 끝난 후 기판을 열처리 장비에서 배출하기 위해서는 기판의 이동시 안전상 기판의 온도가 200℃ 내외로 낮추는 것이 필요한데, 고온 열처리 장비를 구현하게 되면 상대적으로 챔버 내부의 온도를 낮추는데 매우 많은 시간이 소요되어 생산성이 저하되는 단점이 있다.
또한, 복수의 램프나 코일을 사용한 바(bar) 형태의 히터를 사용하는 기판 열처리 장치의 경우 장비의 운용 중 히터의 일부가 파손되거나 수명 도달시 히터를 교체하기 위해서는 기기를 완전히 분해하여야하므로 정비 시간이 과다하게 소요되어 장비를 장시간 정지함으로 인한 생산성 저하가 문제된다.
본 발명은 전술한 바와 같은 점을 감안하여 안출된 것으로서, 기판 열처리 장치에 있어서 기판의 균일한 열처리를 수행하고 챔버 내부의 온도 제어를 용이하게 할 수 있으며, 발열부 및 내부 구조의 유지보수가 용이한 분리형 기판 열처리 장치를 제공하는 데 목적이 있다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 분리형 기판 열처리 장치는 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 내부에 제공하며 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120)로 분리 가능한 챔버(100), 상기 챔버(100) 내부에 서로 이격되어 배치되는 발열부(200) 및 상기 발열부(200)의 사이에 상기 기판이 수납되도록 기판을 지지하는 기판 지지부(300)를 포함하고, 상기 발열부(200)는 상기 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120)에 각각 배치되고, 상기 기판 지지부(300)는 상기 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120)에 각각 배치되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 상부 챔버(110)와 하부 챔버(120)는 상호 이격되는 방향으로 분리되며, 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)가 수평방향으로 이동하여 상호 탈착 결합 가능한 것을 특징으로 할 수 있다.
그리고, 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 상호 이격되는 방향으로의 이동을 안내하는 이격 가이드 부(400) 및 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 수평방향으로 이동을 안내하는 슬라이딩 가이드 부(500)를 더 포함할 수 있다.
나아가, 상기 슬라이딩 가이드 부(500)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 수평방향으로 이동시 움직임을 안내하는 가이드 레일(510) 및 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)에 마련되고 상기 가이드 레일(510)과 접촉하여 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 이동을 안내하는 가이드 안내부(520)를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 이격 가이드 부(400)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 좌우 양측에 배치되는 적어도 1쌍의 복수로 구성되고, 상기 슬라이딩 가이드 부(500)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 좌우 양측에 배치되는 적어도 1쌍의 복수로 구성되며, 상기 이격 가이드 부(400)와 상기 슬라이딩 가이드 부(500)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 좌우 양측에서 서로 결합하여 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 이동을 안내하는 것을 특징으로 할 수 있다.
그리고, 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 어느 일 측에 배치된 상기 이격 가이드 부(400) 및 슬라이딩 가이드 부(500)에 있어서, 상기 이격 가이드 부(400)와 슬라이딩 가이드 부(500)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 측 방향 신축에 대응하면서 지지 가능하도록 결합하는 구조인 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 어느 일 측에 배치된 이격 가이드 부(400) 및 슬라이딩 가이드 부(500) 중 어느 하나에는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 측 방향 신축에 대응하여 지지 가능한 방향으로 배치된 지지 구름부(600)를 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
나아가, 상기 상부 챔버(110)에 있어서 상부 벽을 구성하는 상부 챔버 월 또는 상기 하부 챔버(120)에 있어서 하부 벽을 구성하는 하부 챔버 월 중 적어도 어느 하나에 냉각 유닛(700)이 설치된 것을 특징으로 할 수 있다.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명에 따른 분리형 기판 열처리 장치는 챔버 내부의 상 하부에 배치된 히터에 의해 수납된 기판이 각각 대응하여 가열됨으로써 기판의 전면적에 걸쳐 열처리가 균일하게 이루어지며 승온 및 온도 조절이 유리한 장점이 있다.
또한, 상부 및 하부 챔버가 분리 탈착 결합가능하여 상부 및 하부 챔버가 완전히 개방될 수 있는 구조를 제공하므로, 복수로 구성된 발열체 또는 내부 구조물의 위치에 상관없이 용이하게 교체 및 수리할 수 있으므로 챔버를 전부 분해하는 것 없이 열처리 장치를 유지 보수할 수 있는 장점이 있다.
그리고, 이격 가이드 부 및 슬라이딩 가이드 부가 제공되어 손쉽게 상하부 챔버를 안전하고 편리하게 분리 탈착 결합할 수 있으므로 유지 보수 시간이 절감되며 작업자가 편리하게 기기를 운용할 수 있다.
또한, 상부 챔버의 측 방향으로의 온도 변화에 따른 신축에 대응하는 구조를 포함하여 이격 가이드 부 및 슬라이딩 가이드 부의 안정적인 구동을 제공할 수 있다.
나아가, 챔버 월의 냉각수단에 의해 열처리 공정 중 챔버 내부의 온도를 균일하게 제어할 수 있으며, 열처리 후 챔버의 냉각시 종래의 열처리 장비에 비해 냉각시간을 대폭 줄일 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래의 배치식 열처리 장치를 개략적으로 나타낸 도면.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 분리형 기판 열처리 장치의 구조를 나타낸 도면.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 분리형 기판 열처리 장치의 분리 탈착 구조를 설명하는 도면.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 분리형 기판 열처리 장치에서 상부 챔버가 슬라이딩하여 상하부 챔버가 개방되는 구조를 설명하기 위한 도면.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 분리형 기판 열처리 장치에서 하부 챔버가 슬라이딩하여 상하부 챔버가 개방되는 구조를 설명하기 위한 도면.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 분리형 기판 열처리 장치에서 슬라이딩 가이드 부의 구조를 설명하기 위한 도면.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 분리형 기판 열처리 장치에서 이격 가이드 부가 작동하지 않을 때 상하부 챔버가 결합된 상태를 설명하기 위한 도면.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 분리형 기판 열처리 장치에서 이격 가이드 부에 의해 상하부 챔버가 이격된 상태를 설명하기 위한 도면.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 분리형 기판 열처리 장치에서 구름 지지부의 실시 예를 설명하기 위한 도면.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술 되어있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 분리형 기판 열처리 장치에 대해서 설명한다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 분리형 기판 열처리 장치는 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 내부에 제공하는 챔버(100), 상기 챔버(100) 내부에 서로 이격되어 배치되는 발열부(200) 및 상기 발열부(200)의 사이에 상기 기판이 수납되도록 기판을 지지하는 기판 지지부(300)를 포함한다.
상기 챔버(100)는 일반적으로 직육면체인 박스 형태를 가지며 내부에 기판을 수용하고 열처리하는 공간을 제공하고, 상기 챔버(100)는 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120)로 분리 가능한 구조를 갖는다.
또한, 상기 챔버(100)의 내부에는 수납되는 기판을 가열하여 열처리를 수행할 수 있는 발열부(200)를 포함하며, 일반적으로 상기 챔버 내부에 서로 이격되어 평행하게 배치되는 구조로서 상기 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120)에 각각 배치되는 것을 특징으로 한다.
그리고, 상기 기판 지지부(300)는 상기 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120)에 각각 배치되어, 상기 기판은 상기 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120)에서 상기 발열부(200)에 각각 인접하도록 배치되는 2개의 기판을 수납하여 처리하는 구조를 가질 수 있다.
피처리물인 기판은 상기 발열부(200)의 사이에 배치되어 상기 발열부(200)에 의해 가열되어 열처리되므로, 상기 기판 지지부(300)는 챔버 내부의 상기 발열부(200)의 사이에 상기 기판이 수납되도록 기판을 지지하는 구조를 가진다.
일반적으로 기판은 상기 발열부(200)에 대해서 서로 평행하게 배치되어 기판 전면에 걸쳐 발열부와의 거리가 일정하게 유지하는 구조를 가지고, 기판 전체가 일정한 온도로 가열되도록 하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 챔버(100)는 상기 발열부(200)에 각각 인접하도록 배치되는 2개의 기판을 수납하여 처리하는 구조를 가질 수 있으므로 종래의 배치식 열처리 장치에 비하여 수납되는 기판의 수가 적고 챔버 내부의 공간이 작아 온도 조절이 용이하고 챔버 내부의 온도를 균일하게 관리하는 것이 가능하다.
나아가, 각각의 발열부(200)가 수납되는 기판을 직접 가열하는 구조이고 챔버 내부 공기의 대류에 의한 온도 영향은 상대적으로 적으므로, 종래의 열처리 장비에 비해 온도 상승 및 온도의 정확한 제어가 가능하여 효율적인 고온의 대형 기판 열처리 장치의 구현이 가능한 장점이 있다.
상기 발열부(200)는 발열 플레이트나 봉 형상의 복수의 히터로 구성되는 히터 유닛의 형태 등으로 제공될 수 있으며, 평판 형태의 기판 전체에 대하여 고르게 열을 전달할 수 있는 다양한 형태의 발열수단으로 구성될 수 있다.
상기 발열부(200)는 발열 램프, 발열 코일, 핫 플레이트 등 다양한 발열체로 제공되고, 이러한 발열체는 수명이 있으며 발열 램프의 경우 사용중 파손되는 사례가 많아 빈번하게 교체를 해야하는 경우가 발생한다.
따라서, 상기 발열부(200)는 각각 상기 챔버(100)의 내부에 대하여 착탈 가능하도록 결합하여, 그 중 일부에 이상이 있으면 이상이 있는 부분만 유지보수 및 교체가 가능하도록 제공되는 것이 바람직하다.
다만, 챔버가 개방이 불가한 일체형 박스 타입으로 제공되면 이러한 발열부 및 내부 구조에 대해 완전 분해하여야 교체가 가능한 단점이 있으므로, 전술한 바와 같이 상기 챔버(100)는 상하 분리 가능한 구조로 제공된다.
즉, 상하 분리된 상하부 챔버(110)(120)에 발열부(200) 및 기판 지지부(300)가 배치되므로 복수로 구성된 발열체 또는 내부 구조물의 위치에 상관없이 용이하게 교체 및 수리할 수 있으므로 챔버를 전부 분해하는 것 없이 열처리 장치를 유지 보수할 수 있는 장점이 있다.
도 3 내지 도 5를 참조하여 상기 챔버(100)의 분리 가능한 구조를 자세히 살펴보면, 상기 상부 챔버(110)와 하부 챔버(120)는 상호 이격되는 방향으로 분리되며, 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)가 수평방향으로 이동하여 상호 탈착 결합 가능한 구조로 제공될 수 있다.
일반적으로 열처리 장비는 고열이 발생하게 되어 챔버는 두꺼운 챔버 월로 구성되고 최근 대면적 기판의 처리를 위해 대형화되는 추세이므로 챔버의 크기와 무게가 상당히 크고 무거우며, 상하부 챔버의 분리구조를 가지더라도 이를 상호 접촉하면서 서랍식으로 슬라이딩하는 것은 안전상 문제가 있다.
따라서, 상기 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120)는 상호 이격되는 방향으로 분리된 후 상부 챔버 또는 하부 챔버가 수평방향으로 이동하여 탈착 결합 가능한 구조로 제공되어 상하부 챔버의 충돌 및 마찰로 인한 안전상의 문제를 예방할 수 있다.
결국, 상기 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120)가 상호 이격된 후에는 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120) 중 어느 하나가 상대 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)에 대하여 수평방향으로 이동하면 챔버 내부가 개방되어 유지 보수를 간편하게 수행할 수 있다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 분리형 기판 열처리 장치는 상기 상부 챔버(110)와 하부 챔버(120)가 상호 이격되는 방향으로의 이동을 안내하는 이격 가이드 부(400) 및 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 수평방향으로 이동을 안내하는 슬라이딩 가이드 부(500)를 포함하는 구조를 가질 수 있다.
상기 이격 가이드 부(400)는 유압, 공압 또는 전동 실린더 등 상하부 챔버가 상호 이격되는 방향으로 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 이동을 구현할 수 있는 다양한 수단으로 제공될 수 있다.
그리고, 상기 슬라이딩 가이드 부(500)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 수평방향으로 이동시 움직임을 안내하는 가이드 레일(510) 및 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)에 마련되고 상기 가이드 레일(510)과 접촉하여 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 이동을 안내하는 가이드 안내부(520)를 포함하여 구성될 수 있다.
일반적으로, 상기 가이드 레일(510)은 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 외부에 마련되어 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 수평방향 이동 경로에 따라 배치되며, 상하부 챔버(110)(120)가 완전히 개방될 정도의 길이로 제공되는 것이 바람직할 것이다.
또한, 상기 가이드 안내부(520)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 측부에 결합하여 상기 가이드 레일(510)과 접촉하면서 가이드 레일의 배치에 따라 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 이동을 안내하는 구성요소이다.
이러한 가이드 레일 및 가이드 안내부는 레일 및 롤러 또는 LM가이드 등 직선 왕복운동을 안내할 수 있는 다양한 수단에 의하여 구현될 수 있으며, 작업자가 수동으로 움직이거나 사용상 편의를 이용하여 전동식으로 제공될 수도 있을 것이다.
이러한 챔버의 분리 탈착 결합 구조는 상기 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120)가 상호 이격되는 방향으로 분리된 후 상부 챔버 또는 하부 챔버 중 어느 하나가 수평방향으로 이동하는 것으로 달성될 수 있으나, 상부 챔버(110)가 하부 챔버(120)에 대하여 이격되는 방향으로 분리되고, 상기 상부 챔버(110)는 상기 하부 챔버(120)에 대하여 수평방향으로 이동하여 탈착 결합 가능한 구조로 제공되는 것이 바람직할 것이다.
열처리 장치의 챔버는 장치가 운용되는 평상시에는 결합상태이며 유지보수가 필요한 경우에만 상하 챔버를 분리하게 된다.
하부 챔버에 이격 가이드부 및 슬라이딩 가이드 부를 결합하여 하부 챔버를 아래로 이격시켜 슬라이딩하는 경우, 평상시에 계속 하부 챔버를 상부로 지지하여야 상하부 챔버가 결합상태가 되므로 이격 가이드 부 및 슬라이딩 가이드 부에 하부 챔버의 하중에 의한 부담이 가해지기 때문이다.
따라서, 하부 챔버를 고정하고 상부 챔버에 이격 가이드 부 및 슬라이딩 가이드 부를 결합하여 상부 챔버를 이격 및 슬라이딩하고 평상시에는 자연스럽게 상부 챔버를 하부 챔버에 안착시켜 결합상태를 유지하는 것이 상부 챔버의 하중을 이용하여 안정적인 결합을 하는데 유리하다.
이하 도면에서, 상기 상부 챔버(110)에 상기 이격 가이드 부(400) 및 슬라이딩 가이드 부(500)가 배치되어 상부 챔버(110)가 하부 챔버(120)에 대해 이격되는 방향으로 이동되고, 하부 챔버(120)에 대하여 수평 방향으로 이동하는 실시 예를 중심으로 도시하였다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 상기 이격 가이드 부(400)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 좌우 양측에 배치되는 적어도 1쌍의 복수로 구성되고, 상기 슬라이딩 가이드 부(500)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 좌우 양측에 배치되는 적어도 1쌍의 복수로 구성되어, 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 움직임을 안정적으로 안내할 수 있다.
상기 이격 가이드 부(400) 및 슬라이딩 가이드 부(500)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 크기 및 무게에 따라 안정적인 움직임을 위하여 2쌍 이상 복수로 제공될 수 있으며, 이격 가이드 부 및 슬라이딩 가이드 부의 배치 및 갯수는 다양한 형태로 제공될 수 있을 것이다.
즉, 도 7과 같이 상하부 챔버(110)(120)가 서로 결합되어 있는 상태에서, 이격 가이드 부(400)의 작동에 의하여 도 8과 같이 상하부 챔버(110)(120)가 소정 간격으로 이격된 상태가 되어 상부 챔버(110)의 안전한 수평 이동을 구현할 수 있다.
또한, 상기 이격 가이드 부(400)와 상기 슬라이딩 가이드 부(500)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 좌우 양측에서 서로 결합하여 상기 상부 챔버(110)의 이동을 안내하는 것을 특징으로 할 수 있다.
이러한 경우, 이격 가이드 부(400)와 슬라이딩 가이드 부(500)가 최소한의 공간을 차지하면서 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 탈착 결합 이동을 구현할 수 있으며, 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 이송을 담당하는 구성이 동일한 위치에 제공되므로 유지 보수에 유리한 장점이 있다.
나아가, 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 어느 일 측에 배치된 상기 이격 가이드 부(400) 및 슬라이딩 가이드 부(500)에 있어서, 상기 이격 가이드 부(400)와 슬라이딩 가이드 부(500)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 측 방향 신축에 대응하여 지지 가능하도록 결합하는 구조인 것을 특징으로 할 수 있다.
챔버는 기판의 열처리가 이루어지는 구성요소로서 고온으로 가열되는 부위므로, 열처리 공정에 따라 열팽창 및 수축이 발생하게 되므로, 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 외부 구성 요소인 상기 이격 가이드 부(400) 및 슬라이딩 가이드 부(500)와 결합에서 상부 챔버의 신축에 대응하는 구조가 제공되는 것이 바람직하다.
이러한, 신축 대응 구조는 신축 방향에 배치되는 롤러 또는 LM 가이드 등 다양한 구성요소에 의해서 구현될 수 있을 것이며, 이러한 구조는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 양 측 중 적어도 어느 일 측에 배치된 상기 이격 가이드 부(400) 및 슬라이딩 가이드 부(500)에 적용되어야 신축에 대응할 수 있을 것이다.
도 8을 참조하면, 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 어느 일 측에 배치된 이격 가이드 부(400) 및 슬라이딩 가이드 부(500) 중 어느 하나에는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 측 방향 신축에 대응하여 지지 가능한 방향으로 배치된 지지 구름부(600)를 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
상기 지지 구름부(600)는 일반적으로 롤러 또는 휠과 같은 구름 부재로 제공되어 상기 이격 가이드 부(400) 및 슬라이딩 가이드 부(500)가 결합하여 접촉하는 사이에 배치되고, 상기 이격 가이드 부(400) 또는 슬라이딩 가이드 부(500) 중 어느 하나에 결합하여 지지되는 구조를 가질 수 있다.
나아가, 상기 지지 구름부(600)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 양측에 배치된 이격 가이드 부(400)와 슬라이딩 가이드 부(500)에 모두 적용될 수 있으며, 이 경우 상부 챔버의 양측 방향으로의 신축에 모두 대응할 수 있을 것이다.
도 9에서는 상기 지지 구름부(600)가 상기 슬라이딩 가이드 부(500)에 마련되고 상기 이격 가이드 부(400)가 상기 지지 구름부(600)에 의해 지지 되면서 상기 상부 챔버(110)의 움직임을 안내하는 실시 예를 도시하고 있다.
나아가, 상기 상부 챔버(110)에 있어서 상부 벽을 구성하는 상부 챔버 월 또는 상기 하부 챔버(120)에 있어서 하부 벽을 구성하는 하부 챔버 월 중 적어도 어느 하나에 냉각 유닛(700)이 설치될 수 있다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 상기 챔버(100)를 구성하는 6개의 챔버 월 중 적어도 한 면에 냉각 유닛(700)이 설치될 수 있으며, 특히 6면의 챔버 월 중 가장 면적이 넓고 외부에 노출된 상부 챔버 월 및 하부 챔버 월에 냉각 유닛(700)이 설치되는 것이 냉각 효과 면에서 바람직할 것이다.
또한, 상기 냉각 유닛(700)은 챔버의 형상 및 크기에 따른 내부 온도 분포에 따라 챔버 월에 배치되어 냉각 유체를 순환시키는 냉각 라인을 포함하여 구성될 수 있으며, 최적의 챔버 내부의 온도 제어 및 외부 작업자의 안전을 보장할 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
그러므로, 이상에서 기술한 실시예는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명은 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
100; 챔버 110; 상부 챔버
120; 하부 챔버 200; 발열부
300; 기판 지지부 400; 이격 가이드 부
500; 슬라이딩 가이드 부 510; 가이드 레일
520; 가이드 안내부 600; 지지 구름부
700; 냉각 유닛

Claims (8)

  1. 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 내부에 제공하며 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120)로 분리 가능한 챔버(100);
    상기 챔버(100) 내부에 서로 이격되어 배치되는 발열부(200); 및
    상기 발열부(200)의 사이에 상기 기판이 수납되도록 기판을 지지하는 기판 지지부(300);를 포함하고,
    상기 발열부(200)는, 상기 상부 챔버(110)의 상부 및 상기 하부 챔버(120)의 하부에 각각 배치되어 있고,
    상기 기판 지지부(300)는, 상부에 기판을 지지하도록 상기 상부 챔버(110)의 하부 및 상기 하부 챔버(120)의 하부에 각각 배치되어 있고,
    상기 상부 챔버(110)와 하부 챔버(120)는 상호 이격되는 방향으로 분리되며, 상기 상부 챔버(110) 또는 상기 하부 챔버(120)가 수평방향으로 이동하여 상호 탈착 결합 가능한 것을 특징으로 하는 분리형 기판 열처리 장치.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 상호 이격되는 방향으로의 이동을 안내하는 이격 가이드 부(400) 및
    상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 수평방향으로 이동을 안내하는 슬라이딩 가이드 부(500)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 분리형 기판 열처리 장치.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 슬라이딩 가이드 부(500)는,
    상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 수평방향으로 이동시 움직임을 안내하는 가이드 레일(510) 및
    상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)에 마련되고 상기 가이드 레일(510)과 접촉하여 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 이동을 안내하는 가이드 안내부(520)를 포함하는 것을 특징으로 하는 분리형 기판 열처리 장치.
  5. 제 3항에 있어서,
    상기 이격 가이드 부(400)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 좌우 양측에 배치되는 적어도 1쌍의 복수로 구성되고,
    상기 슬라이딩 가이드 부(500)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 좌우 양측에 배치되는 적어도 1쌍의 복수로 구성되며,
    상기 이격 가이드 부(400)와 상기 슬라이딩 가이드 부(500)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 좌우 양측에서 서로 결합하여 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 이동을 안내하는 것을 특징으로 하는 분리형 기판 열처리 장치.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 어느 일 측에 배치된 상기 이격 가이드 부(400) 및 슬라이딩 가이드 부(500)에 있어서,
    상기 이격 가이드 부(400)와 슬라이딩 가이드 부(500)는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 측 방향 신축에 대응하면서 지지 가능하도록 결합하는 구조인 것을 특징으로 하는 분리형 기판 열처리 장치.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 어느 일 측에 배치된 이격 가이드 부(400) 및 슬라이딩 가이드 부(500) 중 어느 하나에는 상기 상부 챔버(110) 또는 하부 챔버(120)의 측 방향 신축에 대응하여 지지 가능한 방향으로 배치된 지지 구름부(600)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 분리형 기판 열처리 장치.
  8. 제 1 항 및 제 3 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 상부 챔버(110)에 있어서 상부 벽을 구성하는 상부 챔버 월 또는 상기 하부 챔버(120)에 있어서 하부 벽을 구성하는 하부 챔버 월 중 적어도 어느 하나에 냉각 유닛(700)이 설치된 것을 특징으로 하는 분리형 기판 열처리 장치.
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