KR102149188B1 - 기판의 열처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판의 열처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 디스플레이등 대면적 기판의 전면적에 걸쳐 고른 열처리를 수행하고 안정적인 승온 및 냉각이 가능한 기판의 열처리 장치의 구조에 관한 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판의 열처리 장치는 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 내부에 제공하는 챔버(100), 상기 챔버를 구성하는 챔버 월(200), 상기 챔버(100) 내부에 서로 이격되어 배치되는 발열부(300) 및 상기 발열부(300)의 사이에 상기 기판이 수납되도록 기판을 지지하는 기판 지지부(400)를 포함하고, 상기 챔버(100)를 구성하는 챔버 월(200) 중 적어도 한 면에 냉각 유닛(500)이 설치된 것을 특징으로 할 수 있다.

Description

기판의 열처리 장치{HEAT TREATMENT APPARATUS FOR SUBSTRATE}
본 발명은 기판의 열처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 디스플레이등 대면적 기판의 전면적에 걸쳐 고른 열처리를 수행하고 안정적인 승온 및 냉각이 가능한 기판의 열처리 장치의 구조에 관한 것이다.
평판 디스플레이 제조 시 사용되는 대면적 기판 처리 시스템은 크게 증착 장치와 어닐링 장치로 구분될 수 있다.
증착 장치는 평판 디스플레이의 핵심 구성을 이루는 투명 전도층, 절연층, 금속층 또는 실리콘층을 형성하는 단계를 담당하는 장치로서, LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 같은 화학 증착 장치와 스퍼터링(sputtering)과 같은 물리 증착 장치가 있다.
어닐링(annealing) 장치는 평판 디스플레이 기판상에 증착되어 있는 소정의 박막에 대하여 결정화, 상 변화 등의 공정을 위한 필수적인 열처리를 담당하는 장치로서, 반도체 또는 태양전지에서 사용되는 실리콘 웨이퍼나 글래스와 같은 기판의 열처리에도 적용될 수 있다.
이와 같은 열처리 공정을 수행하기 위해서는 기판의 가열이 가능한 열처리 장치가 있어야 하며, 적정한 어닐링 효과를 위해서는 최소한 300℃ 이상의 온도로 승온하는 기판 열처리 장치가 필요하다.
일반적으로, 기판 열처리 장치는 하나의 기판을 열처리하는 매엽식(Single Substrate Type)과 복수의 기판을 한번에 열처리 하는 배치식(Batch Type)이 있다. 매엽식 기판 처리 장치는 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있으며 대량 생산에는 배치식 기판 처리 장치를 많이 적용하고 있다.
도 1은 종래기술에 따른 배치식 열처리 장치의 구성을 나타내는 도면으로서, 배치식 열처리 장치는 열처리 공간을 제공하는 챔버(10), 복수개의 기판을 상기 챔버 내부에 지지하여 적층하는 보트(20), 상기 챔버(20) 내부의 승온을 위해 챔버(20)의 주위를 감싸도록 배치되는 히터(30)를 포함하여 구성되는 것이 일반적이다
따라서, 종래의 배치식 열처리 장치는 히터(30)가 원통형 챔버(20)의 외벽(wall)쪽에 설치되어 있기 때문에 열처리 과정에서 기판의 중심부와 주변부의 온도 차이가 발생하여 기판의 전면적에 걸쳐서 균일한 열처리가 힘든 현상이 발생하게 된다.
기판의 전면적에 걸쳐서 균일한 열처리가 이루어지지 못하면 열처리되는 박막의 성질이 균일하지 못하게 되어 제조되는 평판 디스플레이나 태양전지의 성능이 저하되는 문제점이 있다.
특히, 근래에는 평판 디스플레이 및 태양전지용 글래스 기판의 사이즈가 대면적화됨에 따라 생산성 향상 및 온도 균일화 문제가 이슈가 되고 있으며 가능한 종래보다 높은 400℃ 이상의 고온 열처리를 하여 공정시간을 줄이려는 시도가 계속되고 있다.
따라서, 종래보다 높은 고온의 열처리를 위하여 고온의 히터를 사용하고 대면적 기판에 따라 챔버 내부의 공간이 커지게 되면, 기판의 전면적에 걸쳐 균일한 열처리가 더욱 어려운 문제점이 있다.
또한, 챔버 내부가 가열되면 가열된 공기가 대류하게 되고 뜨거운 공기가 상부쪽으로 집중되어 챔버 전체적으로 균일한 온도를 유지하기 어려운 현상도 발생하게 된다.
나아가, 열처리 공정이 끝난 후 기판을 열처리 장비에서 배출하기 위해서는 기판의 이동시 안전상 기판의 온도가 200℃ 내외로 낮추는 것이 필요한데, 고온 열처리 장비를 구현하게 되면 상대적으로 챔버 내부의 온도를 낮추는데 매우 많은 시간이 소요되어 생산성이 저하되는 단점이 있다.
본 발명은 전술한 바와 같은 점을 감안하여 안출된 것으로서, 기판의 열처리 장치에 있어서 기판의 균일한 열처리를 수행하고 챔버 내부의 온도 제어를 용이하게 할 수 있으며, 열처리 후 빠른 냉각이 가능한 기판의 열처리 장치를 제공하는 데 목적이 있다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판의 열처리 장치는 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 내부에 제공하는 챔버(100), 상기 챔버를 구성하는 챔버 월(200), 상기 챔버(100) 내부에 서로 이격되어 배치되는 발열부(300) 및 상기 발열부(300)의 사이에 상기 기판이 수납되도록 기판을 지지하는 기판 지지부(400)를 포함하고, 상기 챔버(100)를 구성하는 챔버 월(200) 중 적어도 한 면에 냉각 유닛(500)이 설치된 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 발열부(300)는 상기 챔버(100) 내부의 상측에 배치되는 제1 발열부(310) 및 상기 챔버(100) 내부의 하측에 각각 배치되는 제2 발열부(320)로 구성되고, 상기 기판은 상기 제1 발열부(310) 및 상기 제2 발열부(320)에 각각 인접하도록 배치되는 2개의 기판으로 구성되어 처리하는 것을 특징으로 할 수 있다.
나아가, 상기 발열부(300)는 복수의 발열체로 구성되며,상기 발열체는 각각 상기 챔버(100) 내부에 대하여 착탈 가능하도록 결합하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 냉각 유닛(500)은 상기 챔버 월(200)에 마련되어, 상기 챔버(100) 내부 열처리 공간의 온도를 낮출 수 있는 것을 특징으로 할 수 있다.
그리고, 상기 냉각 유닛(500)은 상기 챔버(100)의 상부를 구성하는 상부 챔버 월(210)에 마련될 수 있으며, 상기 냉각 유닛(500)은 냉각 유체를 순환시키는 냉각 라인을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 챔버(100)는 상기 기판을 출납하기 위한 기판 출납부(600)를 더 포함하고,상기 기판 출납부(600)는 기판의 수납 위치에 각각 대응되도록 복수로 마련된 것을 특징으로 할 수 있다.
그리고, 상기 챔버(100)는 상기 챔버(100)를 외부에 대하여 고정할 수 있는 고정 유닛(700)을 더 포함하고, 상기 고정 유닛(700)을 통하여 상기 챔버(100)는 복수개가 적층될 수 있는 것을 특징으로 할 수 있다.
나아가, 상기 챔버(100)는 상하 분리 가능하며, 상기 발열부(300)는 분리된 상하 챔버에 각각 배치되는 것을 특징으로 할 수 있다.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명에 따른 기판의 열처리 장치는 챔버 내부의 상 하부에 배치된 히터에 의해 수납된 기판이 각각 대응하여 가열됨으로써 기판의 전면적에 걸쳐 열처리가 균일하게 이루어지는 효과가 있다.
또한, 하나의 챔버에 2장의 기판이 수납되어 열처리가 되므로 종래의 배치형 열처리 장치에 비하여 기판에 대해 균일한 승온 및 온도 조절이 매우 용이한 장점이 있다.
그리고, 챔버 월의 냉각수단에 의해 열처리 공정 중 챔버 내부의 온도를 균일하게 제어할 수 있으며, 열처리 후 챔버의 냉각시 종래의 열처리 장비에 비해 냉각시간을 대폭 줄일 수 있는 효과가 있다.
또한, 상기 열처리 장비는 고정 유닛을 통해 각 챔버를 제조 공정 및 현장 상황에 따라 최적의 수로 적층하여 구성하는 것이 가능하므로 종래의 매엽식의 단점을 극복하면서 배치식의 장점을 구현할 수 있으므로 최적의 기판 열처리 장치를 제공할 수 있다.
나아가, 상기 발열부는 복수의 발열체로 구성되고 각각 챔버에 착탈 가능한 구조를 가지므로 유지보수가 간편하고, 챔버 자체가 분리구조를 가질 수 있으므로 각각의 발열부에 대한 교체 및 수리가 용이한 장점이 있다.
도 1은 종래의 배치식 열처리 장치를 개략적으로 나타낸 도면.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 열처리 장치의 구조를 나타낸 도면.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 열처리 장치의 기판 수납구조를 설명하는 도면.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 열처리 장치에서 기판 및 발열부의 배치 구조를 설명하기 위한 도면.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 열처리 장치에서 냉각 유닛의 설치 예를 설명하기 위한 도면.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 열처리 장치에서 기판 수납부의 설치 예를 설명하기 위한 도면.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 열처리 장치에서 고정 유닛의 설치 예를 설명하기 위한 도면.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 열처리 장치에서 고정 유닛을 활용한 실시 예를 설명하기 위한 도면.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 열처리 장치에서 분리형 챔버의 실시 예를 설명하기 위한 도면.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 열처리 장치에서 분리형 챔버의 내부 구조의 실시 예를 설명하기 위한 도면.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술 되어있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 열처리 장치에 대해서 설명한다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 열처리 장치는 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 내부에 제공하는 챔버(100), 상기 챔버를 구성하는 챔버 월(200), 상기 챔버(100) 내부에 서로 이격되어 배치되는 발열부(300) 및 상기 발열부(300)의 사이에 상기 기판이 수납되도록 기판을 지지하는 기판 지지부(400)를 포함한다.
상기 챔버(100)는 일반적으로 직육면체인 박스 형태를 가지며 내부에 기판을 수용하고 열처리하는 공간을 제공하고, 상기 챔버 월(200)은 직육면체 챔버 형상의 각 면을 구성하게 된다.
상기 챔버(100)의 내부에는 수납되는 기판을 가열하여 열처리를 수행할 수 있는 발열부(300)를 포함하며, 일반적으로 상기 챔버 내부에 서로 이격되어 평행하게 배치되는 구조를 가질 수 있다.
또한, 상기 발열부(300)는 상기 챔버(100) 내부의 상측에 배치되는 제1 발열부(310) 및 상기 챔버(100) 내부의 하측에 각각 배치되는 제2 발열부(320)로 구성될 수 있으며, 상기 기판은 상기 제1 발열부(310) 및 상기 제2 발열부(320)에 각각 인접하도록 배치되는 2개의 기판을 수납하여 처리하는 구조를 가질 수 있다.
도 4를 참조하면, 상기 발열부(300)는 발열 플레이트나 봉 형상의 복수의 히터로 구성되는 히터 유닛의 형태 등으로 제공될 수 있으며, 평판 형태의 기판 전체에 대하여 고르게 열을 전달할 수 있는 다양한 형태의 발열수단으로 구성될 수 있다.
그리고, 상기 발열부(300)는 다양한 형태를 가진 복수의 발열체로 구성될 수 있으며, 상기 발열체는 각각 상기 챔버(100) 내부에 대하여 착탈 가능하도록 결합하여 일부 발열체가 이상이 있으면 손쉽게 유지보수 및 교체가 가능하다.
피처리물인 기판은 상기 발열부(300)의 사이에 배치되어 상기 발열부(300)에 의해 열을 전달받아 열처리되므로, 상기 기판 지지부(400)는 챔버 내부의 상기 발열부(300)의 사이에 상기 기판이 수납되도록 기판을 지지하는 구조를 가진다.
일반적으로 기판은 상기 발열부(300)에 대해서 서로 평행하게 배치되어 기판 전면에 걸쳐 발열부와의 거리가 일정하게 유지하는 구조를 가지고, 기판 전체가 일정한 온도로 가열되도록 하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 챔버(100)는 상기 제1 발열부(310) 및 상기 제2 발열부(320)에 각각 인접하도록 배치되는 2개의 기판을 수납하여 처리하는 구조를 가질 수 있으므로 종래의 배치식 열처리 장치에 비하여 수납되는 기판의 수가 적고 챔버 내부의 공간이 작아 온도 조절이 용이하고 챔버 내부의 온도를 균일하게 관리하는 것이 가능하다.
나아가, 각각의 발열부(300)가 수납되는 기판을 직접 가열하는 구조이고 챔버 내부 공기의 대류에 의한 온도 영향은 상대적으로 적으므로, 종래의 열처리 장비에 비해 온도 상승 및 온도의 정확한 제어가 가능하여 효율적인 고온의 대형 기판 열처리 장치의 구현이 가능한 장점이 있다.
도 5를 참조하면, 상기 챔버(100)를 구성하는 6개의 챔버 월(200) 중 적어도 한 면에 냉각 유닛(500)이 설치될 수 있으며, 특히 6면의 챔버 월(200) 중 상기 챔버(100)의 상부를 구성하는 상부 챔버 월(210)에 설치되는 것이 바람직하다.
챔버 내부 공기가 가열되면서 소정의 대류 현상이 발생하여 뜨거운 공기가 챔버 상부 쪽으로 집중되는 현상이 발생할 수 있으므로, 상대적으로 챔버의 상부 쪽이 하부에 비해 온도가 높아지므로 상부 챔버 월(210)에 냉각 유닛을 부가하여 전체적으로 온도를 균일하게 할 수 있다.
나아가, 상기 냉각 유닛(500)은 챔버의 형상 및 크기에 따른 내부 온도 분포에 따라 적정하게 챔버를 구성하는 6면의 챔버 월(200) 모두 또는 일부에 설치되어 최적의 챔버 내부의 온도 제어를 구현할 수 있다.
상기 냉각 유닛(500)은 일반적으로 상기 챔버 월(200)의 내부에 마련되어 상기 챔버(100) 내부 열처리 공간의 온도를 낮출 수 있는 것을 특징으로 할 수 있으며, 상기 냉각 유닛(500)은 냉각 유체를 순환시키는 냉각 라인을 포함하여 구성될 수 있다.
도 6을 참조하면, 상기 챔버(100)는 상기 기판을 출납하기 위한 기판 출납부(600)를 더 포함하고, 상기 기판 출납부(600)는 기판의 수납 위치에 각각 대응되도록 복수로 마련될 수 있다.
예를 들어, 상기 챔버(100)에 기판이 2장 수납되어 열처리 되는 구조라면 상기 챔버(100)의 전면에 각각의 기판의 수납 위치에 대응되는 기판 출납부(600)를 마련하고 이를 개폐하는 것으로 챔버의 일면을 전부 개방하지 않고 열처리하는 기판을 챔버에 삽입 또는 배출할 수 있다.
따라서, 상기 기판 출납부(600)를 통해 수납되는 기판의 어느 하나만 교체 또는 수납할 수 있으며 기판 수납시 개방되는 면을 줄이므로 챔버 내부와 외부의 열 교환을 최소화하여 챔버 내부의 온도를 일정하게 유지하는데 매우 유리한 구조를 갖는다.
상기 기판 출납부(600)는 챔버의 단열을 유지하는데 최적의 수단으로 제공되는 것이 바람직하며, 슬롯 또는 셔터 형식 등 다양한 형태로 구현될 수 있다.
도 7을 참조하면, 상기 챔버(100)는 상기 챔버(100)를 외부에 대하여 고정할 수 있는 고정 유닛(700)을 더 포함할 수 있으며, 상기 고정 유닛(700)을 통하여 상기 챔버(100)는 복수개가 적층될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 열처리 장치는 하나의 챔버에 2장의 기판을 수납하고 각각의 기판에 대응되는 가열부를 포함하여 최적의 열처리 효과를 얻는 것을 기본으로 하고 있으며, 이러한 챔버를 하나의 모듈 형식으로 활용할 수 있다.
즉, 생산 현장의 상황에 따라 복수의 챔버를 적층하여 열처리 장비를 구성할 수 있으며, 적층 되는 챔버의 수에 따라 하나의 장비에서 열처리되는 기판의 수를 증대할 수 있다.
도 8을 참조하면, 예를 들어 상기 고정 유닛(700)을 통해 상기 챔버(100)를 수납할 수 있는 외부 랙(800)에 고정하고 다수의 챔버를 적층하여 고정하면 마치 다수의 챔버가 하나의 열처리 장비로 구성이 되어 다양한 조합의 열처리 장비를 구현할 수 있는 것이다.
이러한 외부 랙(800)은 복수의 챔버를 수용하여 하나의 장치로 현장에 설치하는 구성요소로서 생산 현장의 상황 및 사용자의 요구에 따라 다양한 형태로 구성될 수 있을 것이다.
예컨대, 외부 랙(800)은, 도 8에 도시한 바와 같이, 횡방향 외부 랙(810), 종방향 외부 랙(820) 및 돌출편(830)으로 이루어지며, 챔버(100)를 수납한다.
횡방향 외부 랙(810)은 챔버(100)의 상, 하부에 배치된다.
종방향 외부 랙(820)은 챔버(100)의 측부에 배치되어, 챔버(100) 상, 하부에 배치된 횡방향 외부 랙(810)과 결합된다.
돌출편(830)은 종방향 외부 랙(820)으로부터 복수개가 내측으로 돌출된다.
챔버(100)는 고정 유닛(700)에 의해 외부 랙(800)의 돌출편(830)에 지지된다. 이로써, 복수개의 챔버(100)는 이격된 상태로 외부 랙(800)에 수납된다.
도 9 및 도 10을 참조하면, 상기 챔버(100)는 상하 분리 가능한 구조로 제공될 수 있으며, 상기 발열부(300)는 분리된 상하 챔버에 각각 배치되는 것을 특징으로 할 수 있다.
발열부는 발열 램프, 발열 코일, 핫 플레이트 등 다양한 발열체로 제공될 수 있으며, 이러한 발열체는 수명이 있으며 발열 램프의 경우 사용중 파손되는 사례가 많아 빈번하게 교체를 해야하는 경우가 발생한다.
이때 챔버가 상하 분리되어 분리된 상하 챔버에 발열부가 배치되면 발열체의 위치에 상관없이 용이하게 교체 및 수리할 수 있으므로, 정상인 발열체를 포함한 챔버 전부 분해하는 것 없이 열처리 장치를 유지 보수할 수 있는 장점이 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
그러므로, 이상에서 기술한 실시예는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명은 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
100; 챔버 200; 챔버 월
210; 상부 챔버 월 300; 발열부
310; 제1 발열부 320; 제2 발열부
400; 기판 지지부 500; 냉각 유닛
600; 기판 출납부 700; 고정 유닛

Claims (9)

  1. 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 내부에 제공하는 챔버(100);
    상기 챔버(100)를 구성하는 챔버 월(200);
    상기 챔버(100) 내부에 서로 이격되어 배치되는 발열부(300); 및
    상기 발열부(300)의 사이에 상기 기판이 수납되도록 기판을 지지하는 기판 지지부(400);
    상기 챔버(100)를 구성하는 챔버 월(200) 중 적어도 한 면에 설치되는 냉각 유닛(500);
    상기 챔버(100)의 양측 외벽에 구비되어 상기 챔버(100)를 외부에 대하여 고정할 수 있는 고정 유닛(700); 및
    상기 챔버(100)의 상, 하부에 배치되는 횡방향 외부 랙(810), 상기 챔버(100)의 측부에 배치되는 종방향 외부 랙(820) 및 상기 종방향 외부 랙(820)으로부터 내측으로 돌출된 복수의 돌출편(830)으로 이루어져, 상기 챔버(100)를 수납하는 외부 랙(800);을 포함하고,
    상기 챔버(100)는, 복수개가 구비되며, 상기 고정 유닛(700)에 의해 상기 외부 랙(800)의 상기 돌출편(830)에 지지되고,
    복수개의 상기 챔버(100)는, 이격된 상태로 상기 외부 랙(800)에 수납되는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 발열부(300)는 상기 챔버(100) 내부의 상측에 배치되는 제1 발열부(310) 및 상기 챔버(100) 내부의 하측에 각각 배치되는 제2 발열부(320)로 구성되고,
    상기 기판은 상기 제1 발열부(310) 및 상기 제2 발열부(320)에 각각 인접하도록 배치되는 2개의 기판으로 구성되어 처리하는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 발열부(300)는 복수의 발열체로 구성되며,
    상기 발열체는 각각 상기 챔버(100) 내부에 대하여 착탈 가능하도록 결합하는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 냉각 유닛(500)은 상기 챔버 월(200)에 마련되어, 상기 챔버(100) 내부 열처리 공간의 온도를 낮출 수 있는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 냉각 유닛(500)은 상기 챔버(100)의 상부를 구성하는 상부 챔버 월(210)에 마련되는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  6. 제 4항에 있어서,
    상기 냉각 유닛(500)은 냉각 유체를 순환시키는 냉각 라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  7. 제 2항에 있어서,
    상기 챔버(100)는 상기 기판을 출납하기 위한 기판 출납부(600)를 더 포함하고,
    상기 기판 출납부(600)는 기판의 수납 위치에 각각 대응되도록 복수로 마련된 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  8. 삭제
  9. 제 1항 내지 7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 챔버(100)는 상하 분리 가능하며,
    상기 발열부(300)는 분리된 상하 챔버에 각각 배치되는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
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