KR20150129914A - 기판 열처리 장치 - Google Patents

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KR20150129914A
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이승훈
이주형
이현재
모성원
기범수
임영인
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주식회사 제우스
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Abstract

본 발명은 기판 열처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 디스플레이등 대면적 기판의 전면적에 걸쳐 고른 열처리를 수행하고 유지 보수가 용이한 기판 열처리 장치의 구조에 관한 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 열처리 장치는 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 내부에 제공하는 챔버, 상기 챔버에 삽입되며 상기 챔버에 대하여 수평방향으로 슬라이딩 가능한 구조로 탈착 결합할 수 있는 수납부, 상기 수납부 내부에 배치되는 발열부 및 상기 발열부의 상측 및 하측에서 기판을 수납 지지할 수 있는 기판 지지부를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.

Description

기판 열처리 장치 {HEAT TREATMENT APPARATUS FOR SUBSTRATE}
본 발명은 기판 열처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 디스플레이등 대면적 기판의 전면적에 걸쳐 고른 열처리를 수행하고 유지 보수가 용이한 기판 열처리 장치의 구조에 관한 것이다.
평판 디스플레이 제조 시 사용되는 대면적 기판 처리 시스템은 크게 증착 장치와 어닐링 장치로 구분될 수 있다.
증착 장치는 평판 디스플레이의 핵심 구성을 이루는 투명 전도층, 절연층, 금속층 또는 실리콘층을 형성하는 단계를 담당하는 장치로서, LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 같은 화학 증착 장치와 스퍼터링(sputtering)과 같은 물리 증착 장치가 있다.
어닐링(annealing) 장치는 평판 디스플레이 기판상에 증착되어 있는 소정의 박막에 대하여 결정화, 상 변화 등의 공정을 위한 필수적인 열처리를 담당하는 장치로서, 반도체 또는 태양전지에서 사용되는 실리콘 웨이퍼나 글래스와 같은 기판의 열처리에도 적용될 수 있다.
이와 같은 열처리 공정을 수행하기 위해서는 기판의 가열이 가능한 열처리 장치가 있어야 하며, 적정한 어닐링 효과를 위해서는 최소한 300℃ 이상의 온도로 승온하는 기판 열처리 장치가 필요하다.
일반적으로, 기판 열처리 장치는 하나의 기판을 열처리하는 매엽식(Single Substrate Type)과 복수의 기판을 한번에 열처리 하는 배치식(Batch Type)이 있다. 매엽식 기판 처리 장치는 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있으며 대량 생산에는 배치식 기판 처리 장치를 많이 적용하고 있다.
최근 평판 디스플레이 및 태양전지용 글래스 기판의 사이즈가 대면적화됨에 따라 생산성 향상 및 온도 균일화 문제가 이슈가 되고 있으며 가능한 종래보다 높은 400℃ 이상의 고온 열처리를 하여 공정시간을 줄이려는 시도가 계속되고 있다.
기판의 전면적에 걸쳐서 균일한 열처리가 이루어지지 못하면 열처리되는 박막의 성질이 균일하지 못하게 되어 제조되는 평판 디스플레이나 태양전지의 성능이 저하되는 문제점이 있다.
한 번에 처리되는 기판의 수는 한정되나 이러한 대면적 기판의 고온 열처리에는 매엽식 기판 처리장치가 유리하며, 기판의 주위에 히터를 설치하여 히터의 발열에 의해 기판을 열처리하는 히터식 열처리 장치가 개발되고 있다.
히터식 열처리 장치는 전원에 의해 발열하는 히터를 사용하므로, 기판의 열처리 분포가 균일하게 이루어지나 설비에 히터를 다량 설치해야 하고, 기판의 열처리시 히터에 승화물이나 오염물이나 불순가스 등과 같은 이물질이 부착되어 히터의 발열 불량이 발생되는 문제점이 있었다.
또한, 히터는 발열 램프, 발열 코일, 핫 플레이트 등 다양한 발열수단으로 제공될 수 있으며, 일반적으로 사용 수명이 있고 발열 램프의 경우 사용중 파손되는 사례가 많아 빈번하게 교체를 해야하는 경우가 발생한다.
그러나, 종래의 히터식 열처리 장치는 일체형의 박스로 이루어져 내부에 설치된 히터의 교체 및 수리가 어렵다는 문제가 있었고, 히터를 교체하기 위해서는 기기를 완전히 분해하여야하므로 정비 시간이 과다하게 소요되어 장비를 장시간 정지함으로 인한 생산성 저하가 문제된다.
나아가, 대면적 기판의 열처리시 히터가 다량으로 설치되더라도 기판의 일부에는 히터의 열기가 도달하지 않아 기판면에 온도 편차가 발생하게 되고 기판의 열처리 온도의 분균형을 초래하게 되므로, 대면적 기판의 열처리효율이 저하될 뿐만 아니라 열처리된 기판의 품질이 저하되는 문제점이 있었다.
결국, 이러한 히터식 기판 열처리 장치에 있어서 발열부인 히터의 유지보수에는 위와 같은 문제점이 있으며, 대면적 기판의 경우 균일한 온도 상승 및 유지를 위한 히터와 기판의 배치가 문제된다.
본 발명은 전술한 바와 같은 점을 감안하여 안출된 것으로서, 기판 열처리 장치에 있어서 기판의 균일한 열처리를 수행하고 챔버 내부의 온도 제어를 용이하게 할 수 있으며, 발열부 및 내부 구조의 유지보수가 용이한 분리형 기판 열처리 장치를 제공하는 데 목적이 있다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 열처리 장치는 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 내부에 제공하는 챔버, 상기 챔버에 삽입되며 상기 챔버에 대하여 수평방향으로 슬라이딩 가능한 구조로 탈착 결합할 수 있는 수납부, 상기 수납부 내부에 배치되는 발열부 및 상기 발열부의 상측 및 하측에서 기판을 수납 지지할 수 있는 기판 지지부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 기판 지지부는 상측 기판 지지부 및 하측 기판 지지부로 구성되고, 상기 상측 기판 지지부는 상기 수납부에 배치되고, 상기 하측 기판 지지부는 상기 챔버 내부에 배치되는 것을 특징으로 할 수 있다.
그리고, 상기 발열부는 수납되는 기판의 단변 방향에 대하여 평행하게 배치되는 상하 한 쌍의 바 형상의 히터로 구성된 복수의 히터 유닛으로 구성되며, 상기 히터 유닛의 상하 히터 사이에 삽입되는 반사 플레이트를 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 반사 플레이트는 상기 히터 유닛의 상하 히터에 대응하는 히터 반사부를 더 포함할 수 있으며, 상기 반사 플레이트는 냉각 유체를 순환시키는 냉각 라인을 포함하는 냉각 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
나아가, 상기 수납부는 기판 양측의 장변 방향에 대하여 평행하게 배치되고 기판의 길이방향으로 열을 가하는 엣지 히터부를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 엣지 히터부는 기판 양측의 길이방향으로 배치되는 바 형상의 히터로서, 적어도 상기 발열부의 상측에 수납되는 기판의 양측에 배치되는 한쌍의 상부 엣지 히터부와 상기 발열부의 하측에 수납되는 기판의 양측에 배치되는 한쌍의 하부 엣지 히터부로 제공되는 것을 특징으로 할 수 있다.
그리고, 상기 챔버의 적어도 어느 한 면에 있어서 냉각 유체를 순환시키는 냉각 라인을 포함하는 냉각 유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명에 따른 기판 열처리 장치는 하나의 챔버에 2장의 기판이 수납되어 열처리가 되므로 종래의 배치형 열처리 장치에 비하여 기판에 대해 균일한 승온 및 온도 조절이 매우 용이한 장점이 있다.
또한, 챔버 내부에 배치되는 2장의 기판에 대하여 중앙에 배치된 히터 및 반사판에 의해 수납된 기판이 고르게 가열되고, 엣지 히터부에 의해 기판의 가장자리를 별도로 가열할 수 있으므로 기판 전면적에 걸쳐 열처리가 균일하게 이루어지는 효과가 있다.
나아가, 상기 기판 열처리 장치는 수납부가 챔버에 대하여 슬라이딩 탈착 결합하는 구조로, 상기 수납부에는 발열부 및 상측 기판 지지부가 배치되어 일체로 챔버에 대해 이격 분리가 가능하므로 내부의 히터를 용이하게 유지보수 할 수 있다.
그리고, 챔버 월의 냉각수단에 의해 열처리 공정 중 챔버 내부의 온도를 균일하게 제어할 수 있으며, 열처리 후 챔버의 냉각시 종래의 열처리 장비에 비해 냉각시간을 대폭 줄일 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 장치의 구조를 나타낸 도면.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 장치의 구조를 설명하기 위한 단면도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 장치의 기판 수납 및 발열부의 구조를 설명하기 위한 도면.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 장치에서 발열부 및 반사 플레이트의 작용을 설명하기 위한 도면
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 장치에서 반사 플레이트의 히터 반사부와 히터의 구조를 설명하기 위한 도면.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 장치에서 수납부의 탈착 및 구조를 설명하기 위한 도면.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술 되어있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 장치에 대해서 설명한다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 장치는 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 내부에 제공하는 챔버(100), 상기 챔버(100)에 삽입되며 상기 챔버(100)에 대하여 수평방향으로 슬라이딩 가능한 구조로 탈착 결합할 수 있는 수납부(200), 상기 수납부(200) 내부에 배치되는 발열부(300) 및 상기 발열부(300)의 상측 및 하측에서 기판을 수납 지지할 수 있는 기판 지지부(400)를 포함한다.
상기 챔버(100)는 일반적으로 직육면체인 박스 형태로서 내부에 기판을 수용하고 열처리하는 공간을 제공하며, 상기 챔버(100)의 적어도 어느 한 면에 있어서 냉각 유체를 순환시키는 냉각 라인을 포함하는 냉각 유닛(110)을 포함할 수 있다.
또한, 상기 냉각 유닛(110)은 챔버의 형상 및 크기에 따른 내부 온도 분포에 따라 적정하게 챔버를 구성하는 6면의 챔버 월 모두 또는 일부에 설치되어 최적의 챔버 내부의 온도 제어를 구현할 수 있다.
상기 수납부(200)는 일반적으로 상부 및 하부가 개방된 서랍형태로 상기 챔버(100)에 삽입되며 수평방향으로 슬라이딩 가능한 구조로 챔버에 대하여 탈착 결합 가능한 구조로 제공된다.
상기 수납부(200)의 내부에는 수납되는 기판을 가열하여 열처리를 수행할 수 있는 발열부(300)를 포함하며, 일반적으로 상기 수납부 내부에 평행하게 배치되는 구조를 가진다.
또한, 일반적으로 기판은 상기 발열부(300)에 대해서 평행하게 배치되어 기판 전면에 걸쳐 발열부와의 거리가 일정하게 유지하는 구조를 가지고, 기판 전체가 일정한 온도로 가열되도록 하는 것이 바람직하다.
상기 기판 지지부(400)는 상기 발열부(300)의 상측 및 하측에서 기판을 수납 지지하며, 챔버 내에서 적어도 2장이 기판을 동시에 열처리할 수 있는 구조를 갖는다.
이는 종래의 배치식 열처리 장치에 비하여 수납되는 기판의 수가 적고 챔버 내부의 공간이 작아 온도 조절이 용이하고 챔버 내부의 온도를 균일하게 관리하는 것이 가능하다.
나아가, 상기 발열부(300)가 수납되는 기판을 직접 가열하는 구조이고 챔버 내부 공기의 대류에 의한 온도 영향은 상대적으로 적으므로, 종래의 열처리 장비에 비해 온도 상승 및 온도의 정확한 제어가 가능하여 효율적인 고온의 대형 기판 열처리 장치의 구현이 가능한 장점이 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 열처리 장치는 하나의 챔버에 2장의 기판을 수납하고 최적의 열처리 효과를 얻는 것을 기본으로 하고 있으며, 이러한 챔버를 하나의 모듈 형식으로 활용할 수 있다.
즉, 생산 현장의 상황 및 사용자의 요구에 따라 복수의 챔버를 적층하여 열처리 장비를 구성할 수 있으며, 적층 되는 챔버의 수에 따라 하나의 장비에서 열처리되는 기판의 수를 증대할 수 있다.
또한, 상기 기판 지지부(400)는 상측 기판 지지부(410) 및 하측 기판 지지부(420)로 구성될 수 있으며, 상기 상측 기판 지지부(410)는 상기 수납부(200)에 배치되고, 상기 하측 기판 지지부(420)는 상기 챔버(100) 내부에 배치될 수 있다.
따라서, 상기 수납부(200)가 상기 챔버(100)에 대하여 슬라이딩 분리되면 상측 기수납부(200) 수납부(200)와 함께 외부로 개방되고, 하측 기판은 상기 챔버(100) 내부에 남아 챔버에 형성된 별도의 기판 출납부 등을 통해 상측 및 하측 기판의 상태를 용이하게 확인할 수 있으며 이는 후술하도록 한다.
상기 발열부(300)는 발열 플레이트나 봉 형상의 복수의 히터로 구성되는 히터 유닛의 형태 등으로 제공될 수 있으며, 평판 형태의 기판 전체에 대하여 고르게 열을 전달할 수 있는 다양한 형태의 발열수단으로 구성될 수 있다.
또한, 상기 발열부(300)는 발열부의 열을 상측 및 하측 방향으로 열을 반사시켜 발열부의 상측 및 하측에 수납되는 기판에 열을 가하여 열처리 효과를 높일 수 있는 반사 수단을 더 포함할 수 있다.
이러한 반사 수단은 일반적으로 기판에 대하여 히터의 배면에 배치되며 히터의 배면에서 나오는 열을 반사시켜 기판으로 열을 조사하게 되어 열 효율을 상승시키는 역할을 한다.
도 3을 참조하면, 상기 발열부(300)는 수납되는 기판의 단변 방향에 대하여 평행하게 배치되는 상하 한 쌍의 바 형상의 히터로 된 복수의 히터 유닛(310)으로 구성될 수 있으며, 상기 히터 유닛(310)의 상하 히터 사이에 반사 플레이트(320)를 더 포함할 수 있다.
상기 발열부(300)는 상하 한 쌍의 바 형상 히터로 구성된 히터 유닛(310)을 기판의 길이 방향에 따라 소정 간격으로 배치하여 제공될 수 있으며, 상측 히터는 상부에 수납되는 기판을 직접 가열하게 되며, 하측 히터는 하부에 수납되는 기판을 직접 가열하는 구조를 가진다.
도 4를 참조하면, 상기 반사 플레이트(320)의 상면은 상측 히터의 기판 배면에서 상측 기판으로 열을 반사하게 되며, 마찬가지로 반사 플레이트(320)의 하면은 하측 히터의 기판 배면에서 하측 기판으로 열을 반사하게 된다.
또한, 상기 반사 플레이트(320)는 단순한 평판 형태뿐만 아니라 상기 히터 유닛의 상하 히터에 대응하는 히터 반사부(322)를 더 포함하여, 상기 히터 유닛의 열 반사 효율을 높이는 구조로 제공될 수 있다.
도 5를 참조하면, 일반적으로 상기 히터 반사부(322)는 바 형상의 상하 히터에 대응하도록 반사 플레이트(320)의 평면에 함몰된 형상으로 구성될 수 있으며, 그 단면은 반원형 (도 5a), 사각형(도 5b) 또는 사다리형 등 다양한 형태로 구현될 수 있다.
상기 히터 반사부(322)는 히터 유닛(310)의 형상 및 간격을 고려하고 기판과의 거리에 맞춰 높은 반사 효율을 얻기 위한 최적의 형태로 설계되는 것이 바람직할 것이다.
나아가, 상기 반사 플레이트(320)는 냉각 유체를 순환시키는 냉각 라인을 포함하는 냉각 수단(321)을 더 포함할 수 있으며, 상기 냉각 수단(321)에 의하여 반사 플레이트(320)의 과열을 방지하고 히터에 의한 기판 가열 온도를 용이하게 조절할 수 있다.
상기 냉각 수단(321)은 냉각 유체를 순환시키는 냉각 라인으로 제공될 수 있으며, 냉각 라인은 최적의 냉각효율을 달성하기 위해서 유체는 기체 또는 액체를 적용하며 다양한 형태로 구현될 수 있다.
도 1 및 도 3을 참조하면, 상기 수납부(200)는 기판의 장변 방향에 대하여 평행하게 배치되고 기판의 양 측의 길이방향으로 열을 가하는 엣지 히터부(500)를 더 포함할 수 있다.
대면적의 기판의 경우 전 면적에 걸쳐 일정한 온도로 열처리하기 힘들고 특히 가장자리의 경우 상대적으로 열이 용이하게 전달되기 힘든 현상이 발생하므로, 기판의 가장자리의 온도 상승을 위해 추가적인 열원이 필요하다.
특히, 발열부(300)의 바형 히터와 평행하게 배치되는 단변 방향의 가장자리는 히터와 길이방향으로 배치되어 충분한 열을 공급받을 수 있으나, 발열부(300)의 히터 양단부에 위치하는 장변 방향의 기판 가장자리는 상대적으로 열 공급이 부족할 수 있다.
따라서, 상기 엣지 히터부(500)를 기판의 양 측에 장변 방향에 대하여 평행하게 배치하여 기판의 장변 방향의 가장자리 부분을 가열하게 되므로 상기 발열부(300)와 함께 기판 전체를 균일한 온도로 가열할 수 있다.
또한, 상기 엣지 히터부(500)는 상기 기판 양측의 길이방향으로 배치되는 바 형상의 히터로 제공될 수 있으며, 적어도 상기 발열부(300)의 상측에 수납되는 기판의 양 측에 배치되는 한쌍의 상부 엣지 히터부(510)와 상기 발열부(300)의 하측에 수납되는 기판의 양 측에 배치되는 한쌍의 하부 엣지 히터부(520)로 구성될 수 있다.
따라서, 발열부(300)의 상측 및 하측에 수납되는 기판에 각각 대응되는 엣지 히터부(500)에 의하여 보다 효율적으로 온도를 상승시킬 수 있으며, 대면적 기판의 고온 열처리가 가능하게 된다.
도 6을 참조하면, 상기 수납부(200)가 챔버에 대하여 수평방향으로 슬라이딩하여 탈착 결합할 수 있으므로, 챔버에 대하여 수납부가 슬라이딩하여 발열부(300)로 이격 분리되면 내부에 마련된 발열부(300) 및 상측 기판 지지부(410)는 외부에 개방된다.
발열부는 발열 램프, 발열 코일, 핫 플레이트 등 다양한 발열수단으로 제공될 수 있으며, 발열수단은 일반적으로 사용 수명이 정해져 있고 발열 램프의 경우 사용중 파손되는 사례가 많아 빈번하게 교체해야 하는 경우가 발생한다.
특히, 상기 발열부(300) 및 엣지 히터부(500)는 복수의 바형 히터로 구성되므로 이중 일부 히터가 수명을 다하거나 고장 또는 파손의 경우 수리 및 교체하여야 한다.
이때, 수납부(200)가 챔버(100)에 대하여 슬라이딩 분리되면 수납부(200)에 배치된 발열부(300) 및 엣지 히터부(500)가 완전히 외부에 개방되므로 발열수단의 고정 위치에 상관없이 용이하게 교체 및 수리할 수 있으므로, 챔버를 전부 분해하지 않고 장비를 유지 보수할 수 있는 장점이 있다.
그리고, 기타 챔버 내부의 기판 지지부(400) 및 반사 플레이트(320)와 같은 내부 구조가 수납부(200)의 착탈로 손쉽게 외부에 개방될 수 있으므로 챔버를 분해하지 않고 내부를 매우 편리하게 점검 및 수리를 할 수 있다.
또한, 상기 챔버(100)는 상기 기판을 출납하기 위한 기판 출납부(600)를 더 포함하고, 상기 기판 출납부(600)는 기판의 수납 위치에 각각 대응되도록 복수로 마련될 수 있다.
예를 들어, 상기 챔버(100)에 기판이 2장 수납되어 열처리 되는 구조라면 상기 챔버(100)의 전면에 각각의 기판의 수납 위치에 대응되는 기판 출납부(600)를 마련하고 이를 개폐하는 것으로 챔버의 일면을 전부 개방하지 않고 열처리하는 기판을 챔버에 삽입 또는 배출할 수 있다.
따라서, 상기 기판 출납부(600)를 통해 수납되는 기판의 어느 하나만 교체 또는 수납할 수 있으며 기판 수납시 개방되는 면을 줄이므로 챔버 내부와 외부의 열 교환을 최소화하여 챔버 내부의 온도를 일정하게 유지하는데 매우 유리한 구조를 갖는다.
상기 기판 출납부(600)는 챔버의 단열을 유지하는데 최적의 수단으로 제공되는 것이 바람직하며, 슬롯 또는 셔터 형식 등 다양한 형태로 구현될 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
그러므로, 이상에서 기술한 실시예는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명은 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
100; 챔버 110; 냉각 유닛
200; 수납부 300; 발열부
310; 히터 유닛 320; 반사 플레이트
321; 냉각 수단 322; 히터 반사부
400; 기판 지지부 410: 상측 기판 지지부
420; 하측 기판 지지부 500; 엣지 히터부
510; 상부 엣지 히터부 520; 하부 엣지 히터부
600; 기판 출납부

Claims (8)

  1. 기판을 수납하여 열처리할 수 있는 공간을 내부에 제공하는 챔버;
    상기 챔버에 삽입되며 상기 챔버에 대하여 수평방향으로 슬라이딩 가능한 구조로 탈착 결합할 수 있는 수납부;
    상기 수납부 내부에 배치되는 발열부 및
    상기 발열부의 상측 및 하측에서 기판을 수납 지지할 수 있는 기판 지지부;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 열처리 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 기판 지지부는 상측 기판 지지부 및 하측 기판 지지부로 구성되고,
    상기 상측 기판 지지부는 상기 수납부에 배치되고, 상기 하측 기판 지지부는 상기 챔버 내부에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 열처리 장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 발열부는 수납되는 기판의 단변 방향에 대하여 평행하게 배치되는 상하 한 쌍의 바 형상의 히터로 구성된 복수의 히터 유닛으로 구성되며,
    상기 히터 유닛의 상하 히터 사이에 삽입되는 반사 플레이트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 열처리 장치.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 반사 플레이트는 상기 히터 유닛의 상하 히터에 대응하는 히터 반사부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 열처리 장치.
  5. 제 3항에 있어서,
    상기 반사 플레이트는 냉각 유체를 순환시키는 냉각 라인을 포함하는 냉각 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 열처리 장치.
  6. 제 3항에 있어서,
    상기 수납부는 기판 양측의 장변 방향에 대하여 평행하게 배치되고 기판의 길이방향으로 열을 가하는 엣지 히터부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 열처리 장치.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 엣지 히터부는 기판 양측의 길이방향으로 배치되는 바 형상의 히터로서, 적어도 상기 발열부의 상측에 수납되는 기판의 양측에 배치되는 한쌍의 상부 엣지 히터부와 상기 발열부의 하측에 수납되는 기판의 양측에 배치되는 한쌍의 하부 엣지 히터부로 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 열처리 장치.
  8. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 챔버의 적어도 어느 한 면에 있어서 냉각 유체를 순환시키는 냉각 라인을 포함하는 냉각 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 열처리 장치.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170126079A (ko) * 2016-05-04 2017-11-16 주식회사 제우스 열처리 장치
KR20180115118A (ko) * 2017-04-12 2018-10-22 주식회사 케이씨이노베이션 기판 열처리 장치

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KR20170126079A (ko) * 2016-05-04 2017-11-16 주식회사 제우스 열처리 장치
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