KR20150122885A - 기판의 열처리 장치 - Google Patents

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KR20150122885A
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heater
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이주형
이승훈
모성원
기범수
이현재
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주식회사 제우스
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Abstract

본 발명은 기판의 열처리 장치에 관한 것으로서, 기판의 열처리공간을 제공하는 챔버부와, 이 챔버부에 기판을 수납하는 기판지지부와, 기판의 열처리공간에서 구역별로 발열량을 다르게 형성하여 기판을 열처리하는 발열부와, 챔버부에 기판을 출입하도록 개폐하는 개폐부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서 본 발명은 기판의 열처리공간에서 구역별로 발열량을 다르게 발열부를 형성하여 기판을 열처리함으로써, 열처리공간의 온도편차에 의한 불균일한 기판의 열처리를 방지하여 기판을 균일하게 열처리할 수 있는 효과를 제공한다.

Description

기판의 열처리 장치{HEAT TREATMENT APPARATUS FOR SUBSTRATE}
본 발명은 기판의 열처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 디스플레이등 대면적 기판의 전면적에 걸쳐 고른 열처리를 수행하고 안정적인 승온 및 냉각이 가능한 기판의 열처리 장치에 관한 것이다.
평판 디스플레이 제조 시 사용되는 대면적 기판 처리 시스템은 크게 증착 장치와 어닐링 장치로 구분될 수 있다.
증착 장치는 평판 디스플레이의 핵심 구성을 이루는 투명 전도층, 절연층, 금속층 또는 실리콘층을 형성하는 단계를 담당하는 장치로서, LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 같은 화학 증착 장치와 스퍼터링(sputtering)과 같은 물리 증착 장치가 있다.
어닐링(annealing) 장치는 평판 디스플레이 기판상에 증착되어 있는 소정의 박막에 대하여 결정화, 상 변화 등의 공정을 위한 필수적인 열처리를 담당하는 장치로서, 반도체 또는 태양전지에서 사용되는 실리콘 웨이퍼나 글래스와 같은 기판의 열처리에도 적용될 수 있다.
이와 같은 열처리 공정을 수행하기 위해서는 기판의 가열이 가능한 열처리 장치가 있어야 하며, 적정한 어닐링 효과를 위해서는 최소한 300℃ 이상의 온도로 승온하는 기판의 열처리 장치가 필요하다.
이러한 기판의 열처리 장치로는 1매의 기판을 열처리하는 매엽식(Single Substrate Type) 열처리 장치와, 복수매의 기판을 한번에 열처리 하는 배치식(Batch Type) 열처리 장치가 있다. 매엽식 열처리 장치는 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있으며, 대량 생산에는 배치식 열처리 장치를 많이 적용하고 있다.
또한, 다른 형식의 열처리 장치로는, 별도의 열원에 의해 공기를 가열한 열풍을 이용하여 기판을 열처리하는 열풍식 열처리 장치와, 기판의 둘레에 히터를 설치하여 히터의 발열에 의해 기판을 열처리하는 히터식 열처리 장치가 있다.
히터식 열처리 장치는 전원에 의해 발열하는 히터를 사용하므로, 기판의 열처리 분포가 균일하게 이루어지나 열처리 설비의 사이즈가 대형화되어야 하고, 히터식 열처리 장치는 설비에 히터를 다량 설치해야 하므로, 설비의 제작비용이 증가하게 된다.
특히, 히터식 열처리 장치는, 기판의 열처리시 히터에 승화물이나 오염물이나 불순가스 등과 같은 이물질이 부착되어 히터의 발열 불량이 발생되는 문제점이 있었다.
또한, 히터식 열처리 장치가 일체형의 박스로 이루어져 내부에 설치된 히터의 교체 및 수리가 어렵다는 문제가 있었고, 이로 인해 히터식 열처리 장치의 유지 보수 비용이 증가하게 되는 문제도 있었다.
특히, 히터식 열처리 장치의 내부에는 외기와 접하는 양쪽 가장자리부위와 중앙부위의 사이에 온도 편차가 발생하게 된다. 즉 히터식 열처리 장치 내의 양쪽 가장자리부위는 외기로 인한 열손실로 인해 장치 내의 중앙부위보다 승온온도가 낮게 형성된다.
이러한 가장자리부위의 낮은 승온온도는 히터의 발열부에 영향을 미쳐 발열부의 양쪽 가장자리 부분도 온도가 낮아져 발열부 역시 중앙부분과 양쪽 가장자리 부분 간의 온도 편차가 발생하게 된다.
따라서, 이러한 온도 편차는 글라스 커링(Glass Curing) 온도의 분균형을 초래하게 되므로, 대면적 기판의 열처리효율이 저하될 뿐만 아니라 열처리된 기판의 품질이 저하되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해소하기 위해 안출한 것으로서, 열처리공간의 온도편차에 의한 불균일한 기판의 열처리를 방지하여 기판을 균일하게 열처리할 수 있는 기판의 열처리 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 발열부의 발열량을 열처리공간의 구역별로 용이하게 변경하거나 제어할 수 있는 기판의 열처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 발열히터의 발열량을 열처리공간의 구역별로 용이하게 변경시킬 수 있는 기판의 열처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 열처리공간에서 온도편차가 심한 양쪽 가장자리부위에 대한 발열량의 조절이 용이하게 되는 기판의 열처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 제1 내지 제3 히터 사이의 결합부위의 중첩에 의한 열처리공간의 열손실을 감소시킬 수 있는 기판의 열처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 열처리공간에 설치된 발열부와 기판지지부에 대한 유지 및 보수작업을 용이하게 하는 기판의 열처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 기판의 열처리공간에 대한 냉각효율을 향상시킬 수 있는 기판의 열처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 기판의 열처리공간에 부분적이나 전체적으로 발열하여 열처리공간의 열처리효율을 향상시킬 수 있는 기판의 열처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 열처리공간에 수납되는 기판의 매수를 증가시켜 열처리공간의 공간효율성을 향상시킬 수 있는 기판의 열처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 상부공간과 하부공간으로 분할된 열처리공간의 각각에 대한 냉각효율을 향상시킬 수 있는 기판의 열처리 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 기판의 열처리공간을 제공하는 챔버부(10); 상기 챔버부(10)에 기판을 수납하는 기판지지부(20); 상기 기판의 열처리공간에서 구역별로 발열량을 다르게 형성하여 기판을 열처리하는 발열부(30); 및 상기 챔버부(10)에 기판을 출입하도록 개폐하는 개폐부(40);를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 상기 발열부(30)는, 상기 챔버부(10)의 내부에 하나의 열로 배치된 하나 이상의 발열히터로 이루어져 있는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 상기 발열히터는, 발열량이 서로 다른 발열구간이 형성되어 있는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 상기 발열히터는, 중앙부위에 설치된 제1 히터; 상기 제1 히터의 일단부위에 배치된 제2 히터; 및 상기 제1 히터의 타단부위에 배치된 제3 히터;를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 상기 발열히터의 상기 제1 내지 제3 히터는, 발열량이 서로 다르게 개별적으로 제어되는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 상기 발열히터의 상기 제1 내지 제3 히터의 길이는, 인접한 발열히터의 제1 내지 제3 히터의 길이와 서로 다르거나 동일하게 형성되어 있는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 상기 발열부(30)는, 상기 열처리공간의 가장자리부위의 발열량이 상기 열처리공간의 중앙부위의 발열량 보다 더 큰 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 상기 챔버부(10)는, 상부 벽 및 하부 벽 중 적어도 하나에 복수개의 단위 벽체가 서로 연결되어 있는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 상기 복수개의 단위 벽체 중 일부 또는 전체에 상기 발열부(30)가 설치되어 있는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 상기 단위 벽체에는 냉각 유로가 형성되어 있는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 상기 챔버부(10)에는 기판의 열처리공간을 분할하는 반사판이 설치되어 있고, 상기 분할된 열처리공간에는 상기 기판지지부(20)가 각각 설치되어 있는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 상기 반사판에는 냉각 유로가 형성되어 있는 것을 특징으로 할 수 있다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 기판의 열처리공간에서 구역별로 발열량을 다르게 발열부를 형성하여 기판을 열처리함으로써, 열처리공간의 온도편차에 의한 불균일한 기판의 열처리를 방지하여 기판을 균일하게 열처리할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 발열부로서 챔버부의 내부에 하나의 열로 배치된 하나 이상의 발열히터를 구비함으로써, 발열부의 발열량을 열처리공간의 구역별로 용이하게 변경하거나 제어할 수 있게 된다.
또한, 발열히터에 발열량이 서로 다른 발열구간을 형성함으로써, 발열히터의 발열량을 열처리공간의 구역별로 용이하게 변경시킬 수 있게 된다.
또한, 열처리공간의 중앙부위에 제1 히터를 설치하고, 열처리공간의 양쪽 가장자리부위에 제2 히터 및 제3 히터를 배치하여 개별적으로 발열량을 제어함으로써, 열처리공간에서 온도편차가 심한 양쪽 가장자리부위에 대한 발열량의 조절이 용이하게 된다.
또한, 발열히터의 제1 내지 제3 히터의 길이를 인접한 발열히터의 제1 내지 제3 히터의 길이와 서로 다르거나 동일하게 형성함으로써, 제1 내지 제3 히터 사이의 결합부위의 중첩에 의한 열처리공간의 열손실을 감소시킬 수 있게 된다.
또한, 챔버부의 상부 벽이나 하부 벽에 복수개의 단위 벽체가 연결되어 조립형 벽체로 열처리공간을 제공하고 여기에 각각의 히터를 설치함으로써, 열처리공간에 설치된 발열부와 기판지지부에 대한 유지 및 보수작업을 용이하게 한다.
또한, 단위 벽체에 냉각 유로를 형성함으로써, 기판의 열처리공간에 대한 냉각효율을 향상시킬 수 있게 된다.
또한, 발열부가 복수개의 단위 벽체 중 일부 또는 전체에 하나의 열로 배치된 하나 이상의 히터로 이루어짐으로써, 기판의 열처리공간에 부분적이나 전체적으로 발열하여 열처리공간의 열처리효율을 향상시킬 수 있게 된다.
또한, 열처리공간을 반사판에 의해 상부공간과 하부공간으로 분할하고 기판지지부를 각각 설치함으로써, 열처리공간에 수납되는 기판의 매수를 증가시켜 열처리공간의 공간효율성을 향상시킬 수 있게 된다.
또한, 반사판에 냉각 유로를 형성함으로써, 상부공간과 하부공간으로 분할된 열처리공간의 각각에 대한 냉각효율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판의 열처리 장치를 나타내는 평면도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판의 열처리 장치를 나타내는 측면도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판의 열처리 장치를 나타내는 단면도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판의 열처리 장치의 단위 벽체를 나타내는 확대단면도.
도 5 내지 도 8은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판의 열처리 장치의 발열히터의 다른예를 나타내는 구성도.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 더욱 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판의 열처리 장치를 나타내는 평면도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판의 열처리 장치를 나타내는 측면도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판의 열처리 장치를 나타내는 단면도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판의 열처리 장치의 단위 벽체를 나타내는 확대단면도이고, 도 5 내지 도 8은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판의 열처리 장치의 발열히터의 다른예를 나타내는 구성도이다.
도 1 내지 도 3에 나타낸 바와 같이, 본 실시예에 의한 기판의 열처리 장치는, 챔버부(10), 기판지지부(20), 발열부(30) 및 개폐부(40)를 포함하여 이루어져 히터의 발열에 의해 기판을 열처리하는 기판의 열처리 장치이다.
챔버부(10)는, 기판의 열처리공간을 제공하는 챔버부재로서, 상부 벽(11), 하부 벽(12), 측부 벽(13), 반사판(14), 단위 벽체(15), 냉각 유로(16) 및 보호패널(17)로 이루어져 있다.
상부 벽(11)은, 기판의 열처리공간을 구성하는 챔버의 상면에 설치된 상판부재로서, 기판의 열처리시 승온을 위해 발열부(30)가 여기에 설치되고 냉각을 위해 냉각홀(11a)이 형성되어 있다.
하부 벽(12)은, 기판의 열처리공간을 제공하는 챔버의 하면에 설치된 하판부재로서, 기판의 열처리시 승온을 위해 발열부(30)가 여기에 설치되고 냉각을 위해 냉각홀이 형성되어 있다.
측부 벽(13)은, 기판의 열처리공간을 제공하는 챔버 둘레의 측면에 설치된 상판부재로서, 측부 벽 중 일방의 측벽에는 기판을 열처리공간으로 출입하도록 개폐부(40)가 설치되어 있다.
반사판(14)은, 기판의 열처리공간을 제공하는 챔버의 중간 분할면에 수평으로 설치된 분할부재로서, 기판의 열처리공간을 상부공간과 하부공간으로 분할하여 복수개의 기판을 함께 열처리하도록 열처리공간을 복수개로 분할하게 되며, 이와 같이 분할된 열처리공간에는 기판을 수납하는 기판지지부(20)가 각각 설치되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 반사판(14)은, 발열부(30)의 열기를 반사하여 기판의 상면 뿐만 아니라 하면에도 공급하게 되므로, 기판의 열처리공간에 열기를 균일하게 공급할 수 있게 된다.
또한, 반사판(14)에는 기판의 열처리 완료후 상하로 분할된 각각의 열처리공간을 냉각시킬 수 있도록 복수개의 냉각 유로(14a)가 수평으로 형성되어, 열처리공간의 냉각시간을 단축시키는 것도 가능함은 물론이다.
단위 벽체(15)는, 도 2 내지 도 4에 나타낸 바와 같이 상부 벽(11) 및 하부 벽(12) 중 적어도 하나에 서로 연결되어 설치되며, 이러한 단위 벽체(15)가 도 5 내지 도 8에 나타낸 바와 같이 하나 이상의 열을 이루고, 이러한 단위 벽체(15)의 열이 복수개로 이루어져 있는 것도 가능함은 물론이다.
또한, 단위 벽체(15)는, 중간부위에 설치된 제1 단위 벽체(15a)와, 이 제1 단위 벽체(15a)의 일단에 결합된 제2 단위 벽체(15b)와, 제1 단위 벽체(15a)의 타단에 결합된 제3 단위 벽체(15c)로 이루어며 서로 일렬로 배치되어 있는 것이 바람직하다.
특히, 도 8에 나타낸 바와 같이, 단위 벽체(15)의 제1 내지 제3 단위 벽체(15a, 15b, 15c)의 각각의 길이는, 인접한 단위 벽체의 제1 내지 제3 단위 벽체의 각각의 길이와 서로 다르거나 동일하게 형성되어 있는 것도 가능함은 물론이다.
따라서, 단위 벽체의 제1 단위 벽체(15a)와 제2 단위 벽체(15b) 사이의 연결부위 및 제1 단위 벽체(15a)와 제3 단위 벽체(15c) 사이의 연결부위가, 인접한 단위 벽체의 제1 내지 제3 단위 벽체 사이의 연결부위와 서로 중첩되지 않게 되므로, 챔버부(10)의 내부에서 이들 연결부위에 의한 열손실을 방지할 수 있게 된다.
즉, 이러한 단위 벽체(15)는, 제1 단위 벽체(15a), 제2 단위 벽체(15b) 및 제3 단위 벽체(15c)가 일렬로 배치되며, 상부 벽(11)와 하부 벽(12)의 벽체에 복수개의 단위 벽체(15)가 서로 평행하게 병렬로 배치되어 복수개의 열을 이루게 된다.
냉각 유로(16)는, 일렬로 배치된 단위 벽체(15)에 하나 이상이 수평으로 형성되어 기판의 열처리 완료후 열처리공간을 냉각시킬 수 있게 되므로, 열처리공간의 냉각시간을 단축시키는 것이 가능함은 물론이다.
보호패널(17)은, 단위 벽체(15)의 내향면에 설치되어 단위 벽체(15)에 설치되는 발열부(30)를 보호하는 동시에 발열부(30)의 열기를 열처리공간의 내부로 투과시키게 된다.
기판지지부(20)는, 챔버부(10)의 내부에 형성된 기판의 열처리공간에 기판을 수납하도록 지지하는 기판지지수단으로서, 바닥에 설치된 받침판이나 반사판에 복수개의 지지핀이 격자형태로 배치되도록 입설되어 있다.
이러한 기판지지부(20)는, 반사판(14)에 의해 분할된 열처리공간의 상부공간과 하부공간에 각각 설치되며, 상부공간에 설치된 기판지지부(20)는 제1 받침판(21)에 복수개의 제1 지지핀(22)이 격자형태로 배치되도록 입설되어 있고, 하부공간에 설치된 기판지지부(20)는 제2 받침판(23)에 복수개의 제2 지지핀(24)이 격자형태로 배치되도록 입설되어 있다.
발열부(30)는, 챔버부(10)의 내부에 형성된 기판의 열처리공간에 설치되어 기판의 열처리공간에서 구역별로 발열량을 다르게 형성하여 기판을 열처리하도록 발열하는 발열부재이다.
이러한 발열부(30)는, 복수개의 단위 벽체(15) 중 일부 또는 전체에 설치되며, 단위 벽체(15)에 하나의 열로 배치된 대략 "U"자 형상이나 "L"자 형상으로 형성된 하나 이상의 발열히터로 이루어져 있는 것이 바람직하다.
또한, 발열히터는, 발열량이 서로 다른 발열구간이 형성되어 있는 것이 바람직하다. 구체적으로 이러한 발열구간의 중앙부위 형성된 제1 발열구간(30a)과, 이 제1 발열구간(30a)의 일단부위에 형성된 제2 발열구간(30b)과, 제1 발열구간(30a)의 타단부위에 형성된 제3 발열구간(30c)으로 이루어져 있다.
발열히터는, 열처리공간의 중앙부위에 설치된 제1 히터(31)와, 이 제1 히터(31)의 일단부위에 즉, 열처리공간의 가장장리부위에 배치된 제2 히터(32)와, 이 제1 히터(32)의 타단부위에 즉, 열처리공간의 가장자리부위에 배치된 제3 히터(33)를 포함하여 이루어지는 것도 가능함은 물론이다.
특히, 발열히터는, 제1 단위 벽체(15a), 제2 단위 벽체(15b) 및 제3 단위 벽체(15c)가 일렬로 배치된 단위 벽체(15)에 대응해서 설치되도록 제1 히터(31), 제2 히터(32) 및 제3 히터(33)로 이루어져 있는 것도 가능함은 물론이다.
또한, 제1 히터(31)의 발열량은, 제2 히터(32) 및 제3 히터(33)의 발열량과 서로 다르게 설정되어 있거나 별도의 제어수단에 의해 개별적으로 제어되는 것이 바람직하다. 구체적으로, 열처리공간의 가장자리부위에 배치된 제2 히터(32) 및 제3 히터(33)의 발열량이, 열처리공간의 중앙부위에 배치된 제1 히터(31)의 발열량 보다 더 크게 설정되거나 개별적으로 제어되어, 기판의 중앙부위와 가장자리 부위의 승온온도를 균일하게 열처리할 수 있게 된다.
따라서, 발열부(30)의 중앙부위와 양쪽 가장자리부위의 발열량에 대한 개별적인 조절이나 제어에 의해 발열온도가 다르게 형성되어, 발열부의 중앙부위와 양쪽 가장자리부위 사이의 온도 편차없이 발열부 전체의 온도조절이 균일하게 이루어져, 기판의 중앙부위와 양쪽 가장자리부위의 열처리가 균일하게 이루어진다.
또한, 도 7 및 도 8에 나타낸 바와 같이 발열히터의 제1 히터(31), 제2 히터(32) 및 제3 히터(33)의 길이는, 인접한 발열히터의 제1 히터(31), 제2 히터(32) 및 제3 히터(33)의 길이와 서로 다르게 형성되어 있는 것이 바람직하다.
따라서, 발열히터의 제1 히터(31)와 제2 히터(32) 사이의 연결부위 및 제1 히터(31)와 제3 히터(33) 사이의 연결부위가, 인접한 발열히터의 각 히터 사이의 연결부위와 서로 중첩되지 않게 되므로, 열처리공간의 내부에서 이들 연결부위에 의한 열손실을 방지할 수 있게 된다.
개폐부(40)는, 챔버부(10)의 내부에 형성된 열처리공간에 기판을 출입하도록 챔버부(10)를 개폐하는 개폐부재로서, 챔버부(10)의 전방을 개폐하도록 제1 전방도어(41)와 제2 전방도어(42)로 이루어져 반사판(14)에 의해 분할된 열처리공간의 상부공간과 하부공간을 각각 개폐할 수 있게 된다.
따라서, 개폐부(40)로서 챔버부(10)의 전방을 개폐하도록 제1 전방도어(41)와 제2 전방도어(42)를 구비한 경우에는, 열처리공간의 전방으로 기판을 투입하고 열처리공간의 전방으로 열처리된 기판을 취출하게 된다.
또한, 이러한 개폐부(40)는, 챔버부(10)의 후방을 개폐하도록 제1 후방도어(43)와 제2 후방도어(44)를 더 구비하여, 열처리공간의 전방으로 기판을 투입하고 열처리공간의 후방으로 열처리된 기판을 취출하는 것도 가능함은 물론이다.
또한, 개폐부(40)로서 챔버부(10)의 후방을 개폐하도록 제1 후방도어(43)와 제2 후방도어(44) 만을 구비한 경우에는, 열처리공간의 후방으로 기판을 투입하고 열처리공간의 후방으로 열처리된 기판을 취출하는 것도 가능함은 물론이다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면 기판의 열처리공간에서 구역별로 발열량을 다르게 발열부를 형성하여 기판을 열처리함으로써, 열처리공간의 온도편차에 의한 불균일한 기판의 열처리를 방지하여 기판을 균일하게 열처리할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 발열부로서 챔버부의 내부에 하나의 열로 배치된 하나 이상의 발열히터를 구비함으로써, 발열부의 발열량을 열처리공간의 구역별로 용이하게 변경하거나 제어할 수 있게 된다.
또한, 발열히터에 발열량이 서로 다른 발열구간을 형성함으로써, 발열히터의 발열량을 열처리공간의 구역별로 용이하게 변경시킬 수 있게 된다.
또한, 열처리공간의 중앙부위에 제1 히터를 설치하고, 열처리공간의 양쪽 가장자리부위에 제2 히터 및 제3 히터를 배치함으로써, 열처리공간에서 온도편차가 심한 양쪽 가장자리부위에 대한 발열량의 조절이 용이하게 된다.
또한, 발열히터의 제1 내지 제3 히터의 길이를 인접한 발열히터의 제1 내지 제3 히터의 길이와 서로 다르거나 동일하게 형성함으로써, 제1 내지 제3 히터 사이의 결합부위의 중첩에 의한 열처리공간의 열손실을 감소시킬 수 있게 된다.
또한, 챔버부의 상부 벽이나 하부 벽에 복수개의 단위 벽체가 연결되어 조립형 벽체로 열처리공간을 제공하고 여기에 각각의 히터를 설치함으로써, 열처리공간에 설치된 발열부와 기판지지부에 대한 유지 및 보수작업을 용이하게 한다.
또한, 단위 벽체에 냉각 유로를 형성함으로써, 기판의 열처리공간에 대한 냉각효율을 향상시킬 수 있게 된다.
또한, 발열부가 복수개의 단위 벽체 중 일부 또는 전체에 하나의 열로 배치된 하나 이상의 히터로 이루어짐으로써, 기판의 열처리공간에 부분적이나 전체적으로 발열하여 열처리공간의 열처리효율을 향상시킬 수 있게 된다.
또한, 열처리공간을 반사판에 의해 상부공간과 하부공간으로 분할하고 기판지지부를 각각 설치함으로써, 열처리공간에 수납되는 기판의 매수를 증가시켜 열처리공간의 공간효율성을 향상시킬 수 있게 된다.
또한, 반사판에 냉각 유로를 형성함으로써, 상부공간과 하부공간으로 분할된 열처리공간의 각각에 대한 냉각효율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
이상 설명한 본 발명은 그 기술적 사상 또는 주요한 특징으로부터 벗어남이 없이 다른 여러 가지 형태로 실시될 수 있다. 따라서 상기 실시예는 모든 점에서 단순한 예시에 지나지 않으며 한정적으로 해석되어서는 안 된다.
10: 챔버부 20: 기판지지부
30: 발열부 40: 개폐부

Claims (12)

  1. 기판의 열처리공간을 제공하는 챔버부(10);
    상기 챔버부(10)에 기판을 수납하는 기판지지부(20);
    상기 기판의 열처리공간에서 구역별로 발열량을 다르게 형성하여 기판을 열처리하는 발열부(30); 및
    상기 챔버부(10)에 기판을 출입하도록 개폐하는 개폐부(40);를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 발열부(30)는, 상기 챔버부(10)의 내부에 하나의 열로 배치된 하나 이상의 발열히터로 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 발열히터는, 발열량이 서로 다른 발열구간이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 발열히터는,
    중앙부위에 설치된 제1 히터;
    상기 제1 히터의 일단부위에 배치된 제2 히터; 및
    상기 제1 히터의 타단부위에 배치된 제3 히터;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 발열히터의 상기 제1 내지 제3 히터는, 발열량이 서로 다르게 개별적으로 제어되는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 발열히터의 상기 제1 내지 제3 히터의 길이는, 인접한 발열히터의 제1 내지 제3 히터의 길이와 서로 다르거나 동일하게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 발열부(30)는, 상기 열처리공간의 가장자리부위의 발열량이 상기 열처리공간의 중앙부위의 발열량 보다 더 큰 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 챔버부(10)는, 상부 벽 및 하부 벽 중 적어도 하나에 복수개의 단위 벽체가 서로 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 복수개의 단위 벽체 중 일부 또는 전체에 상기 발열부(30)가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 단위 벽체에는 냉각 유로가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 챔버부(10)에는 기판의 열처리공간을 분할하는 반사판이 설치되어 있고, 상기 분할된 열처리공간에는 상기 기판지지부(20)가 각각 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 반사판에는 냉각 유로가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 열처리 장치.
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