CN101120620A - 绘图设备的校准方法和绘图设备 - Google Patents

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Abstract

提供了一种绘图设备的校准方法,此方法校准围绕对准照相机光轴方向上的偏差,并且能够改进相对绘图介质的绘图偏差的校正精度。通过对准照相机拍摄校准参考标记,并且采用照相机视场中校准参考标记的坐标数据计算对准照相机围绕其光轴的转动量。基于计算的数据校正对准照相机在对准期间采集的读数。

Description

绘图设备的校准方法和绘图设备
技术领域
本发明涉及一种绘图设备的校准方法和绘图方法,特别是涉及一种曝光设备的校准方法及曝光设备。
背景技术
通常,在进行扫描和对感光材料例如基底进行曝光的曝光设备中,在曝光之前进行对准(曝光位置调整)以精确调整感光材料在X和Y方向上的曝光位置。曝光设备采用对准照相机例如CCD照相机以拍摄对准标记,此标记位于感光材料上并用做曝光位置标准。通过基于该拍摄获得的标记测量位置(标准位置数据)将曝光位置调整到正确的位置以进行对准。因为曝光设备用于曝光尺寸和对准标记位置不同的各种感光材料,所以即使当对准标记在扫描方向和垂直于此方向的位置改变时对准照相机也必须能够拍摄。例如日本专利申请公开(JP-A)8-222511描述了由驱动机构例如滚珠螺杆驱动并由设备例如沿与扫描方向垂直的方向(X方向)延伸的引导件引导的对准照相机。这样的对准照相机可选地移动并设置在待曝光目标的X方向上的尺寸范围内的任何指定位置。随后,通过位置检测单元例如线性尺度单元检测和测量对准照相机的位置,而此位置用作进行上述对准的标准。
另外,为保证这种对准功能(曝光位置调整功能)的精度,当制造设备或者对其进行维护时,执行在对准测量中涉及的每个部分的校准。
对曝光设备已经提出了各种与对准功能的校准相关的常规技术,这些设备采用通过以激光照射感光材料而扫描曝光图像的方法。激光进行辐照,同时主扫描在副扫描方向上移动的感光材料。
JP-A 2000-329523中描述了这种技术的实例。在设置在底座上的印刷电路板上进行处理单元中的预定处理,并且在此之前以如下方式校准测量印刷电路板的对准仪(调准用示波器)的位置。在底座上提供以标准图案形成的标准标记,并且在对准仪移至标准图案的预定位置后,基于标准图案的顶点和对准仪视场中心之间的偏移量校准对准仪的位置。
但是,在采用数字扫描曝光方法或者以激光进行主扫描的扫描方法中,存在下面的情况,在曝光之前的对准期间,对准照相机可沿围绕光轴的方向转动(θz转动),并且,当对准照相机移向拍摄对准标记的位置时,因为组成照相机驱动机构的部件的精度或者其组件本身的精度的缺陷等,此转动发生微小变化。
因此,在从初始位置偏离和照相机的转动相对应的量的位置拍摄对准标记和坐标。因为不能简单地通过X和Y方向上的位置校准校正围绕光轴方向上的偏移,对准测量的结果可出现偏差。
但是,在常规技术中,没有考虑在围绕对准照相机光轴的方向上的这种偏移的影响。因此,即使进行对准功能的对准调整或者校准,也不能校正围绕光轴方向上的偏移,也因此不能准确校正曝光偏移。
发明概述
本发明提供一种绘图设备的校准方法,在所述绘图对准功能上,其能够校准围绕拍摄绘图介质上的对准标记的对准照相机光轴的方向上的偏移,并能够改进相对于绘图介质的绘图偏移的校正精度。本发明还提供一种绘图设备,其中改进了相对于绘图介质的绘图校正精度。
本发明的第一方面是一种校准绘图设备的绘图对准功能的校准方法,其中绘图设备基于通过读取绘图位置参考标记而获得的标准位置数据相对绘图介质进行绘图对准,这些参考标记提供在具有读取机构的绘图介质中,绘图设备还在相对于基本上与具有移动机构的绘图介质的绘图表面平行的方向移动绘图介质的同时,根据图像数据形成图像,其中在读取机构读取绘图位置参考标记之前,通过读取设置在检测测量装置处的至少一个标记,相对于检测测量装置,检测读取机构围绕在与基本上平行于绘图介质的绘图表面的表面垂直的方向上的轴的转动偏移量。
根据上述方面,可校准读取机构转动失调的量,并改进相对绘图介质的绘图偏移的校正精度。
在本发明的第一方面中,绘图可以是采用根据图像数据调制的光束曝光感光材料的曝光。
根据上述结构,可改进相对感光材料的曝光偏移的校正精度。
在本发明的第一方面中,可通过校正机构校正读取机构的转动偏移量。
此外,在上述方面中校正机构可以为围绕在和基本上平行于绘图表面的表面垂直的方向上的轴转动读取机构的电动机和驱动力传递机构。
根据上述结构,可校准读取机构转动偏移的量,并改进相对绘图介质的绘图偏移的校正精度。
在本发明的第一方面中,校正机构可通过校正读取机构读取的标准位置数据为校正读取机构的转动偏移量。
根据上述结构,可精确地相对绘图介质进行绘图对准。
本发明的第二方面是一种绘图设备绘图对准功能的校准方法,其中由对准照相机读取通过绘图设备提前识别的作为形状数据和位置数据中的至少一个的校准标记,从读取的校准标记的图像数据检测校准标记围绕在与扫描表面垂直的方向上的轴相对对准照相机从扫描表面上的预定位置转动的量,并基于检测结果校准对准照相机围绕光轴相对预定位置的转动。
根据上述结构,校准对准照相机围绕光轴的转动,并可改进绘图偏移的校正精度。
在本发明的第二方面中,可通过校准对准照相机获得的对准标记的坐标数据来校准对准照相机围绕光轴的转动。
根据上述结构,可改进绘图偏移的校正精度。
在本发明的第二方面中,对准照相机沿至少一个方向可移动,并且可通过用对准照相机读取校准标记获得对准照相机在至少一个方向上的位置。
另外,在上述方面中,可采用在相同位置上的对准照相机获得对准照相机在至少一个方向上的位置数据,以及校准标记相对对准照相机的转动量。
还可根据这些结构改进绘图偏移的校正精度。
本发明的第三方面是一种绘图设备的绘图对准功能的校准方法,其包括:采用读取机构读取在绘图设备上提供的校准标记;基于读取结果,检测读取机构围绕在垂直于和绘图介质绘图表面基本上平行的表面的方向上的轴的转动偏移量;和基于检测结果校准绘图对准功能。
根据上述结构,可改进相对于绘图介质的绘图偏移的校正精度。
在本发明的第三方面中,可通过校正读取机构校准绘图对准功能。
根据上述结构,校准读取机构的转动偏移,并可改进相对于绘图介质的绘图偏移的校正精度。
在本发明的第三方面中,可通过校正读取机构所读取的绘图对准标记的读取结果而校准绘图对准功能。
根据上述结构,可非常精确地相对绘图介质进行绘图对准。
在本发明的第三方面中,从已读取的校准标记位置数据可检测校准标记相对预定位置围绕在与基本上平行于绘图介质的绘图表面的表面垂直的方向上的轴的转动量,并且可基于校准标记转动量的检测结果检测读取机构相对预定位置的转动偏移量。
另外,在本发明的第三方面中,可通过绘图设备识别校准标记形状数据和相对于绘图介质绘图表面的校准标记位置数据中的至少一个。
根据每个上述结构,可校准读取机构的转动偏移,还可改进相对于绘图介质的绘图偏移的校正精度。
本发明的第四方面是一种绘图设备的绘图对准功能的校准方法,其中由对准照相机读取校准标记,对于校准标记,绘图设备预先识别形状数据和相对于绘图设备扫描表面的位置数据中的至少一个;基于预先识别的形状数据和位置数据中的至少一个,从对准照相机读取的数据检测校准标记在扫描表面上围绕在与扫描表面垂直的方向上的轴的转动量;基于检测的校准标记转动量获得对准照相机围绕光轴相对于预定位置的转动量;以及基于所获得的对准照相机转动量校准绘图设备的绘图对准功能。
根据上述结构,校准对准照相机围绕其光轴的转动,并改进绘图偏移的校正精度。
在本发明的第四方面中,可基于已获得的对准照相机围绕其光轴的转动量校正对准照相机所获得的对准标记的坐标数据。
根据上述结构,可改进绘图偏移的校正精度。
本发明的第五方面为一种绘图设备,其具有基于来自绘图介质的标准位置数据相对绘图介质进行绘图对准的绘图对准功能。绘图设备包括读取机构、校准参考部分、控制部分,其中控制部分保留来自校准参考部分的校准参考数据,基于读取机构获得的来自校准参考部分的数据和校准参考数据计算读取设备从预定位置围绕在垂直于和绘图表面基本上平行的表面的方向上的轴的转动量,并基于所述转动量校准读取机构获得的来自绘图介质的标准位置数据。
根据上述结构,可非常精确地校准读取机构从预定位置围绕在垂直于和绘图表面基本上平行的表面的方向上的轴的转动量,并改进绘图设备绘图偏移的校正精度。
在上述结构中,校准参考数据至少为来自校准参考部分的形状数据和来自校准参考部分的相对于和绘图表面基本上平行的表面的位置数据之一。
根据本发明,可校准在围绕读取机构的光轴的方向上的偏移、改进绘图对准功能的校准精度和改进相对于绘图介质的绘图偏移的校正精度。
附图说明
图1是示出和本发明校准方法相关的曝光设备的透视图。
图2是示出和本发明校准方法相关的对准单元的透视图。
图3是示出和本发明校准方法相关的对准单元的透视图。
图4A示出了在本发明的校准方法中,检测在围绕对准照相机的光轴的方向上的转动量的方法。
图4B示出了在本发明的校准方法中,另一种检测在围绕对准照相机光轴的方向上的转动量的方法。
具体实施方式
图1示出了根据本发明实施例的曝光设备。
如图1所示,曝光设备10具有受四个脚16支承的厚矩形板形状的底板18。提供两个引导件20以在底板18的上表面上纵向延伸,在两个引导件20上设置有矩形板状的台4。设置台14以使其纵向和引导件20的延伸方向对应,并受引导件20支承从而其可在底板18上前后移动。台14受驱动机构(未示出)驱动,并沿着引导件20在图1所示出的箭头Y方向上前后移动。
作为爆光对象的矩形板形状的感光材料12由位置设定部分(未示出)设置在台14上表面中的预定位置上并处于设定的位置状态。在台14的上表面上(即感光材料安装表面)形成多槽部分(未示出)。由于负压供应源使槽部分显示出负压,从而感光材料12被吸至台14的上表面上并保持在那里。另外,感光材料12具有多个示出标准曝光位置的对准标记13。本实施例中,由圆形通孔组成的总共四个对准标记13每一个都设置在感光材料12四个角的其中一个角附近。
U形门22设置在底板18的中心部分处,从而其横跨在台14的移动路径上。门22的每个端部固定在底板18任一侧的表面上。门22一侧是曝光感光材料12的扫描仪24,另一侧是具有多个(例如两个)拍摄感光材料12上的对准标记13的CCD照相机26的对准单元100。
另外,检测辐射束位置及其光量并检测对准功能偏移的检测设备设置在台14的移动方向(箭头Y方向)上、对准测量方向的下游(曝光方向上游)。检测设备具有连至对准测量方向下游的台14的端沿部分上的参考板70和可移动地安装在参考板70的相反侧的光传感器(未示出)。校准参考标记77设置在参考板70上,并且在制造或者维护曝光设备10期间采用校准参考标记77校准对准功能。
由CCD照相机26读取对准标记13,其设置在感光材料上并用作曝光位置参考。在此之前,校准曝光设备10的曝光对准功能。参考板70设置在使其可由CCD照相机读取的位置,其具有以预定间隔排列在CCD照相机26移动方向上的校准参考标记77。由设置在读取对准标记13位置上的CCD照相机读取多个校准参考标记77的至少一个,并基于通过此读取获得的用于CCD照相机26的位置数据采集校准参考标记77围绕绘图光轴(镜头光轴)的偏移数据,并且例如基于此采集数据计算校准数据。然后在对准标记的标准位置数据中反映此校准数据。
所以,改进了校准曝光对准功能,其精度受伴随CCD照相机26移动的位置变化因子影响,还可改进相对感光材料12的曝光偏移的校正精度。另外,照相机无论何时移动,都可采用校准参考标记精确测量照相机的位置。
图2和3示出根据本发明第一实施例的对准单元。
如图2所示,对准单元100具有连至门22的矩形单元底部102。在容纳照相机一侧上的单元底部102的表面还具有一对在和台14移动方向(箭头Y的方向)垂直的方向(箭头X的方向)上延伸的导轨104。每个CCD照相机26被设置为可沿一对导轨104滑动,并且每个CCD照相机26还单独具有滚珠螺杆机构106和驱动滚珠螺杆机构106的驱动源例如步进电动机(未示出)。CCD照相机26因此在与台14移动方向垂直的方向上独立移动。另外,每个CCD照相机26具有连接至照相机机身26A端部并朝下的镜头单元26B。定位每个CCD照相机使得镜头光轴基本上垂直于X方向,并将环形闪光灯26C(即LED闪光灯)连接至镜头单元26B的端部。
当CCD照相机26拍摄感光材料12的对准标记13时,上述驱动源和滚珠螺杆机构106使CCD照相机26在箭头X方向上移动,并且其每一个CCD照相机26设置在预定的拍摄位置。换言之,镜头光轴设置为与随着台14一起移动的感光材料12的对准标记13经过的位置匹配。一旦对准标记13到达预定的拍摄位置,则闪光灯26C以固定间隔发光。闪光灯照射感光材料12,并且反射离开感光材料12上表面的光通过镜头单元26B输入照相机机身26A,从而拍摄对准标记13。
另外,如图3所示,CCD照相机26分别具有转动设备26D,并且围绕光轴(轴z)的转动角(θz)可调整。转动设备26D内部具有电动机26E,并且如后面所述,基于通过检测在围绕CCD照相机26光轴(θz转动)方向上的转动量而获得的数据,校正围绕光轴方向上的转动量。电动机26E转动CCD照相机26的机身从而校正CCD照相机26围绕其光轴的转动。
另外,台14的驱动设备、扫描仪24、CCD照相机26和移动CCD照相机26的驱动源都连接至控制它们的控制器28。控制器28控制台14在曝光设备10(下面描述)曝光期间以预定速度移动。控制设置在预定位置的CCD照相机26按照预定时间或者连续地拍摄感光材料12的对准标记13。控制扫描仪24以使其以预定时间曝光感光材料12。
当曝光设备10的曝光操作开始时,由控制器28和使感光材料吸至其上表面的台14控制驱动设备,驱动设备开始沿着引导件20从上游侧至下游侧在对准测量方向上以恒速沿移动方向(箭头Y的方向)移动。控制器28控制每个CCD照相机26在对应台移动开始的时间或者比感光材料12前沿到达CCD照相机26正下方位置稍早时工作。随着台14的移动,当感光材料12经过CCD照相机26下面时以CCD照相机26进行对准测量。
对准测量首先涉及以预定时间拍摄对准标记13的每个CCD照相机26。当感光材料12移动方向(前沿侧)下游侧的角落附近的两个对准标记13到达相应的CCD照相机26正下面(在镜头光轴上)时进行此操作。拍摄的图像数据输出至作为控制器28数据处理单元的CPU。图像数据包括对准标记13所示出的标准位置数据并表示标准曝光位置。在拍摄对准标记13后,台14向下游方向的移动重新开始。
而且,和本实施例的感光材料12相同,在感光材料12具有沿移动方向(扫描方向)设置的多个对准标记13的情况下,当下一个对准标记(即在移动方向上游角落附近即在后沿侧设置的两个对准标记13)到达每个CCD照相机26正下面时,和上述过程相似,每个CCD照相机26以预定时间拍摄相应的对准标记13,并将图像数据输出至控制器28的CPU。
CPU基于标记位置、来自为每个对准标记13输入的图像数据(标准位置数据)的图像内确定的标记之间的间距、以及在拍摄相应对准标记13时台14的位置和CCD照相机26的位置处理计算。从这些计算,CPU例如确定感光材料12在台14上的安装位置的偏差、感光材料12相对移动方向的偏差以及感光材料12中的尺寸精度误差,并计算相对待曝光感光材料12表面的校正曝光位置。接下来,当以扫描仪24进行图像曝光时,基于存储在存储器(未示出)中的曝光图案的图像数据产生控制信号,该控制信号使校正的曝光位置被调整和包括在其中,从而进行图像曝光的校正控制(对准)。
当感光材料12经过CCD照相机26的下面并且CCD照相机26的对准测量完成时,台14由驱动设备在相反方向上驱动,从而沿引导件在曝光方向上移动。随着台14的移动,感光材料12在扫描仪24下面以及曝光方向下游移动。一旦待曝光表面的图像曝光区域到达曝光开始位置时,扫描仪24的每个曝光头部30辐射光束,从而开始待曝光感光材料12的表面的图像曝光。
在本实施例的曝光设备10中,CCD照相机26的移动造成CCD照相机26的定位偏差(摇摆、俯仰和偏转),并且存在下面的情况,置于拍摄位置的拍摄镜头的光轴中心从正常位置偏离。因此,即使当采用对准功能校正曝光位置时进行图像曝光,曝光位置从正常位置的偏差也可超过容许界限。
为校正CCD照相机26定位偏差所引起的对准功能缺陷,例如当制造或者维护曝光设备10时,采用参考板70上的校准参考标记77校正对准功能。
但是,即使当进行上述校正时,也不能消除围绕对准照相机光轴方向上的偏移。换言之,围绕CCD照相机26光轴的移动(转动)与伴随CCD照相机26移动的位置偏差(摇摆、俯仰和偏转)不同,并且因为不能通过上述校正实现校准,对准标记13的坐标偏离其原始位置达到CCD照相机26围绕其光轴转动的程度。
因此,如图4A和4B所示,在本发明的第一实施例中,通过检测围绕光轴方向上转动的量(θz)进行精确校准。
图4A和4B示出了根据本发明第一实施例检测对准照相机转动量的方法。
如图4A所示,在如上所述CCD照相机26移动至读取对准标记13的位置(沿X方向)时,CCD照相机拍摄在照相机视场26G内的多个校准参考标记77。可与为X方向上的位置测量进行的拍摄同时进行此过程。
当拍摄的校准参考标记77设为A和B时,CCD照相机26拍摄照相机视场内的A和B,并将图像数据输出至控制器28的CPU。CPU从校准参考标记77(A和B)的输入图像数据基于照相机视场26G获得X坐标数据和Y坐标数据。当这样获得的坐标数据设为(Ax,Ay)和(Bx,By)时,通过下式计算CCD照相机26在围绕光轴方向上的转动量(θz)。
θz=tan-1((By-Ay)/(Bx-Ax))
基于由上述方法计算的θz值,驱动图3所示出的电动机26E并调整对θz的校正。因此,可准确校准CCD照相机26在围绕光轴方向上的未对准。
另外,代替采用图3的转动设备26D转动CCD照相机,可采用对准时θz的偏差数据进行调整以校正CCD照相机视场内对准标记的图像数据,通过基于软件的方法校正θz。此外,可组合使用上述两种方法。
另外,可通过如图4B所示仅仅拍摄一个校准参考标记77计算θz。换言之,当校准参考标记的形状为非圆形从而其在转动方向上为不对称标记时,通过图像处理计算θz。
具体而言,可以采用与上述方法相同的方法通过提供具有如图4B所示在X方向上(或者Y方向上)延伸的直线部分的校准参考标记77,以及将θz当作在直线部分和照相机视场26G的X方向(或者Y方向)之间形成的角,校准CCD照相机26围绕光轴的转动。因为此方法允许按照测量精度通过拍摄一个校准参考标记77而计算θz,尽管此方法可能在拍摄多个校准参考标记77的方法之后,但是对于测量点可获得更大的自由度。
本发明的上述实施例提供了相对感光设备进行曝光的曝光设备的实例;但是,本发明不限于此而是例如可用于采用喷墨记录头等形成图像的绘图设备。
工业实用性
如上所述,根据本发明,改进了绘图设备绘图对准功能的校准精度,并且改进了相对于绘图目标的绘图位置偏差的校正精度。本发明作为曝光设备的校准方法特别有用。

Claims (19)

1.一种校准绘图设备的绘图对准功能的校准方法,其中绘图设备基于通过读取绘图位置参考标记而获得的标准位置数据相对绘图介质进行绘图对准,这些参考标记设置在具有读取机构的绘图介质中,绘图设备还在相对于基本上平行于具有移动机构的绘图介质的绘图表面的方向移动绘图介质的同时,根据图像数据形成图像,并且其中
在读取机构读取绘图位置参考标记之前,通过读取设置在检测测量装置上的至少一个标记,检测读取机构围绕在与基本上平行于绘图介质的绘图表面的表面垂直的方向上的轴、相对检测测量装置的转动偏移量,所述检测测量装置为校准参考板。
2.如权利要求1所述的校准绘图设备的绘图对准功能的校准方法,其中采用根据图像数据调制的光束在感光材料上曝光来进行绘图。
3.如权利要求1所述的校准绘图设备绘图对准功能的校准方法,其中在校准时通过校正机构校正读取机构的转动偏移量。
4.如权利要求3所述的校准绘图设备的绘图对准功能的校准方法,其中校正机构包括电动机和驱动力传递机构,所述电动机在围绕在与基本上平行于绘图介质的绘图表面的表面垂直的方向上的轴的转动方向上转动读取机构。
5.如权利要求3所述的校准绘图设备的绘图对准功能的校准方法,其中校正机构通过校正读取机构读取的标准位置数据来校正转动偏移量。
6.一种绘图设备的绘图对准功能的校准方法,包括:
由对准照相机读取通过绘图设备提前识别的作为形状数据和位置数据中的至少一个的校准标记;
从来自读取的校准标记的图像数据检测校准标记围绕在与扫描表面垂直的方向上的轴从扫描表面上的预定位置开始相对对准照相机的转动量;以及
基于检测结果校准对准照相机围绕光轴相对预定位置的转动。
7.如权利要求6所述的绘图设备的绘图对准功能的校准方法,其中通过校准对准照相机获得的对准标记的坐标数据来校准围绕对准照相机光轴的转动。
8.如权利要求6所述的绘图设备的绘图对准功能的校准方法,其中对准照相机沿至少一个方向可移动,并且通过用对准照相机读取校准标记来获得对准照相机在所述至少一个方向上的位置数据。
9.如权利要求8所述的绘图设备的绘图对准功能的校准方法,其中使用处于相同位置的对准照相机获得对准照相机在所述至少一个方向上的位置数据,以及校准标记相对对准照相机的转动量。
10.一种绘图设备的绘图对准功能的校准方法,包括:
使用读取机构读取设置在绘图设备处的校准标记;
基于读取结果,检测读取机构围绕在垂直于和绘图介质的绘图表面基本上平行的表面的方向上的轴的转动偏移量;和
基于检测结果校准绘图对准功能。
11.如权利要求10所述的绘图设备的绘图对准功能的校准方法,其中,通过校正读取机构来校准绘图对准功能。
12.如权利要求10所述的绘图设备的绘图对准功能的校准方法,其中,通过校正读取机构所读取的绘图对准标记的读取结果来校准绘图对准功能。
13.如权利要求10所述的绘图设备的绘图对准功能的校准方法,其中,从已读取的校准标记位置数据检测校准标记围绕在与基本上平行于绘图介质的绘图表面的表面垂直的方向上的轴相对预定位置的转动量,并且可相对预定位置基于校准标记转动量的检测结果检测读取机构的转动偏移量。
14.如权利要求10所述的绘图设备的绘图对准功能的校准方法,其中,通过绘图设备识别校准标记形状数据和相对与绘图介质的绘图表面基本上平行的表面的校准标记的位置数据中的至少一个。
15.一种绘图设备的绘图对准功能的校准方法,包括:
由对准照相机读取校准标记,对于该校准标记,绘图设备预先识别相对于绘图设备的扫描表面的形状数据和位置数据中的至少一个;
基于所述预先识别的形状数据和位置数据中的至少一个,从对准照相机所读取的数据检测校准标记在扫描表面上围绕在与扫描表面垂直的方向上的轴的转动量;
基于所检测的校准标记的转动量,获得对准照相机围绕光轴相对于预定位置的转动量;以及
基于所获得的对准照相机的转动量,校准绘图设备的绘图对准功能。
16.如权利要求15所述的绘图设备的绘图对准功能的校准方法,其中基于所获得的对准照相机围绕光轴的转动量,校正对准照相机获得的对准标记的坐标数据。
17.如权利要求15所述的绘图设备的绘图对准功能的校准方法,其中对准照相机沿至少一个方向可移动,并且通过用对准照相机读取校准标记来获得对准照相机在所述至少一个方向上的位置数据。
18.一种绘图设备,具有相对绘图介质、基于来自绘图介质的标准位置数据进行绘图对准的绘图对准功能,包括:
读取机构;
校准参考部分;和
控制部分;其中
控制部分保留来自校准参考部分的校准参考数据,基于读取机构所获得的来自校准参考部分的数据和校准参考数据,计算读取设备从预定位置围绕在垂直于和绘图表面基本上平行的表面的方向上的轴的转动量,并基于转动量校准读取机构所获得的绘图介质的标准位置数据。
19.如权利要求18所述的绘图设备,其中校准参考数据至少为来自校准参考部分的形状数据和来自校准参考部分的、相对于基本上平行于绘图表面的表面的位置数据之一。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106647180A (zh) * 2016-11-28 2017-05-10 湖北凯昌光电科技有限公司 直写曝光机中基于标定板的误差校正和补偿方法及其装置
CN107644183A (zh) * 2017-09-01 2018-01-30 福建联迪商用设备有限公司 一维码cmos摄像引擎的解码方法及终端
CN108632487A (zh) * 2017-03-23 2018-10-09 柯尼卡美能达株式会社 图像形成装置以及校准方法
CN109466189A (zh) * 2018-12-21 2019-03-15 昆山森特斯印刷技术有限公司 套印定位设备及具有该套印定位设备的套印定位系统
CN109572251A (zh) * 2018-12-21 2019-04-05 昆山森特斯印刷技术有限公司 打印方法、打印控制装置、打印设备及介质
CN110793506A (zh) * 2019-11-28 2020-02-14 江西瑞普德测量设备有限公司 一种测量仪的相机x轴与工作台x轴平行调试方法
CN110864672A (zh) * 2019-11-28 2020-03-06 江西瑞普德测量设备有限公司 调节装置、影像测量仪及其光轴与z轴平行调节方法
CN110907300A (zh) * 2019-11-19 2020-03-24 李昂钊 一种多功能绘图教具的精准检测装置
CN111213226A (zh) * 2017-08-28 2020-05-29 株式会社新川 相对于对象物使移动体直线移动的装置及方法
CN116819907A (zh) * 2023-08-28 2023-09-29 成都思越智能装备股份有限公司 一种曝光机光罩位置校准方法及系统

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8594983B2 (en) * 2006-03-20 2013-11-26 Duetto Integrated Systems, Inc. System for manufacturing laminated circuit boards
KR101435124B1 (ko) * 2008-04-29 2014-08-29 삼성전자 주식회사 노광 장치의 정렬 방법, 이를 이용한 감광막의 노광 방법및 감광막의 노광 방법을 수행하기 위한 노광 장치
JP5704606B2 (ja) * 2011-08-03 2015-04-22 株式会社ブイ・テクノロジー 被露光基板のアライメント補正方法及び露光装置
JP6352133B2 (ja) 2014-09-26 2018-07-04 株式会社Screenホールディングス 位置検出装置、基板処理装置、位置検出方法および基板処理方法
JP2017053805A (ja) * 2015-09-11 2017-03-16 セイコーエプソン株式会社 測色装置、及び印刷装置
CN113847868B (zh) * 2021-08-05 2024-04-16 乐仓信息科技有限公司 一种具有矩形支脚的物料承载装置的定位方法及系统
CN116953910B (zh) * 2023-07-21 2024-02-06 广州市明美光电技术有限公司 一种扫描设备倾角调节装置及方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4273440A (en) * 1977-08-30 1981-06-16 Horst Froessl Method and apparatus for data collection and preparation
US5132808A (en) * 1988-10-28 1992-07-21 Canon Kabushiki Kaisha Image recording apparatus
US5198907A (en) * 1991-08-23 1993-03-30 Eastman Kodak Company Method and appratus for automatically locating predefined exposure areas in a scanned image
US5430666A (en) * 1992-12-18 1995-07-04 Dtm Corporation Automated method and apparatus for calibration of laser scanning in a selective laser sintering apparatus
US6122078A (en) * 1995-08-24 2000-09-19 Vexcel Imaging Gmbh Self calibrating scanner with single or multiple detector arrays and single or multiple optical systems
MXPA99004289A (es) * 1996-11-08 2003-10-15 Nat Comp Systems Inc Exploracion optica con salida calibrada por pixel.
CN100521883C (zh) * 1997-12-11 2009-07-29 伊比登株式会社 多层印刷电路板的制造方法
AT408038B (de) * 1998-03-17 2001-08-27 Keba Rondo Gesmbh Leseeinheit für ein dokument
US6396561B1 (en) * 1998-11-10 2002-05-28 Maniabarco N.V. Method and device for exposing both sides of a sheet
JP3644848B2 (ja) * 1999-05-24 2005-05-11 大日本スクリーン製造株式会社 アライメントスコープの位置校正装置及びその方法
US6470099B1 (en) * 1999-06-30 2002-10-22 Hewlett-Packard Company Scanner with multiple reference marks
US6628434B1 (en) * 1999-07-12 2003-09-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method and system for image transfer and image signal output apparatus and terminal used therefor
US6701197B2 (en) * 2000-11-08 2004-03-02 Orbotech Ltd. System and method for side to side registration in a printed circuit imager
GB2378073B (en) * 2001-07-27 2005-08-31 Hewlett Packard Co Paper-to-computer interfaces
JP2004012903A (ja) * 2002-06-07 2004-01-15 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106647180A (zh) * 2016-11-28 2017-05-10 湖北凯昌光电科技有限公司 直写曝光机中基于标定板的误差校正和补偿方法及其装置
CN106647180B (zh) * 2016-11-28 2018-09-28 湖北凯昌光电科技有限公司 直写曝光机中基于标定板的误差校正和补偿方法
CN108632487A (zh) * 2017-03-23 2018-10-09 柯尼卡美能达株式会社 图像形成装置以及校准方法
CN111213226A (zh) * 2017-08-28 2020-05-29 株式会社新川 相对于对象物使移动体直线移动的装置及方法
CN111213226B (zh) * 2017-08-28 2023-07-07 株式会社新川 相对于对象物使移动体直线移动的装置及方法
CN107644183A (zh) * 2017-09-01 2018-01-30 福建联迪商用设备有限公司 一维码cmos摄像引擎的解码方法及终端
CN109466189A (zh) * 2018-12-21 2019-03-15 昆山森特斯印刷技术有限公司 套印定位设备及具有该套印定位设备的套印定位系统
CN109572251A (zh) * 2018-12-21 2019-04-05 昆山森特斯印刷技术有限公司 打印方法、打印控制装置、打印设备及介质
CN110907300A (zh) * 2019-11-19 2020-03-24 李昂钊 一种多功能绘图教具的精准检测装置
CN110907300B (zh) * 2019-11-19 2020-06-23 李昂钊 一种多功能绘图教具的精准检测装置
CN110793506A (zh) * 2019-11-28 2020-02-14 江西瑞普德测量设备有限公司 一种测量仪的相机x轴与工作台x轴平行调试方法
CN110864672A (zh) * 2019-11-28 2020-03-06 江西瑞普德测量设备有限公司 调节装置、影像测量仪及其光轴与z轴平行调节方法
CN116819907A (zh) * 2023-08-28 2023-09-29 成都思越智能装备股份有限公司 一种曝光机光罩位置校准方法及系统
CN116819907B (zh) * 2023-08-28 2023-11-14 成都思越智能装备股份有限公司 一种曝光机光罩位置校准方法及系统

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