CN101118837A - 进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置 - Google Patents

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Abstract

提供一种可在1个工艺装备中，进行淋洗、吸取及干燥工艺，在涂敷或剥离基板，进行清洗工艺时，可提高时间和空间的效率的进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置。进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置，包含含有淋洗刀、气刀的刀具单元及安装上述刀具单元的、并可在基板上传送刀具单元的框架。

Description

进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置
技术领域
本发明涉及一种进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置，更详细地涉及一种在1个工艺装备中，可进行淋洗、吸取及干燥工艺，在涂敷或剥离基板，进行清洗工艺时，可提高时间和空间的效率性的进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置。
背景技术
一般在半导体制造工艺中，为形成微细图案，使用照相蚀刻工艺。照相蚀刻工艺可由，形成图案层的步骤；在被蚀刻层上涂敷如光致抗蚀膜的感光膜的步骤；使该感光膜对光进行部分曝光的步骤；通过显影已部分曝光的感光膜形成感光膜图案的步骤；通过将该感光膜作为掩膜，蚀刻被蚀刻层，形成最终的图案的步骤构成。
作为这种在多项步骤的照相蚀刻工艺中的显影方式，可使用淋洗方式、浸渍方式、喷雾方式等。
在淋洗方式中，在传送台上装载基板，边通过传送台移动基板，边利用淋洗机喷涂显影液，在基板表面形成感光膜。在感光膜形成结束后，通过用去离子水清洗基板后干燥，来形成感光膜图案。
在蚀刻工艺中，利用淋洗机喷射蚀刻药液，通过蚀刻被蚀刻层可形成最终的图案。之后，通过用去离子水清洗基板后干燥，可形成最终的图案。
因此，在该工艺中，在各项工艺之后追加用去离子水进行清洗，干燥基板的工艺，为此需要空间，增加了负担。
发明内容
发明要解决的课题
本发明是考虑到上述问题点而研究开发的，其目的是装载可进行淋洗、吸取及干燥工艺的各单元，在1个工艺处理室内进行2项或3项工艺，提高时间效率及空间效率。
本发明的目的不仅限于以上提及的目的，未提及或其他的目的，所属技术领域的技术人员通过下文能够明确理解。
解决课题的手段
为达到上述目的，本发明的一实施方式的进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置包含，含有淋洗刀、气刀的刀具单元以及安装刀具单元的、可在基板上传送刀具单元的框架。
发明效果
根据本发明，通过在1个框架上安装淋洗刀、吸取刀及气刀，进行加工工艺，可提高空间效率。
与此同时，通过在1块基板上同时顺次进行每个淋洗、吸取及干燥功能，可提高时间效率。
本发明的效果不仅限于以上提及的目的，对于未提及的或其他的效果所属技术领域的技术人员通过权利请求书能够明确理解。
附图说明
图1是本发明一实施方式的进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置的进行淋洗、吸取及干燥工艺的各刀具的立体图。
图2是本发明一实施方式的进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置的立体图。
附图标记说明
110淋洗刀
120吸取刀
130气刀
230基板装载部
210框架
具体实施方式
另外，实施方式的具体事项包含在详细说明及附图中。
对于本发明的优点及特征以及其实现方法，参照附图及后述的详细实施方式会更明确。但是，本发明不限定于以下公开的实施方式，用多种不同的方式也可实现，本实施方式仅是为了完全公开本发明的全部内容，让拥有本发明所属技术领域常识的人员完全了解本发明的范围而提供的，本发明仅根据权利要求的范围定义。在全部说明书中，相同标记表示相同的构成要素。
以下，参照附图详细说明本发明的较佳实施方式。
图1表示的是本发明一实施方式的进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置的进行淋洗、吸取及干燥工艺的各刀具的立体图，图2是本发明一实施方式的进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置的立体图。
本发明一实施方式的进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置可包含刀具单元、框架、基板装载部、驱动部。
刀具单元可包含淋洗刀110、吸取刀120及气刀130。
淋洗(In-shower)刀110的作用是，为使工艺装置进行该工艺，向基板(W)提供药液和去离子水。淋洗刀110可通过供给药液和去离子水的供给部(图中未表示)或通过刀具的出口喷射药液和去离子水。淋洗刀的出口的形状可按照符合所需的工艺进行多种多样的变化。
例如，淋洗刀110，如图1所示，刀具的出口的端部开放，通过开放的出口供给药液和去离子水。另外，可以封闭刀具的出口，在出口部位设置有多个小孔，通过小孔供给药液和去离子水。同时，还可设置有与图1所示的淋洗刀的形状不同的多个喷头，扩散药液和去离子水。
此外，可在安装多个刀具的框架210上安装多个淋洗刀。例如，利用淋洗刀进行显影工艺和蚀刻工艺，接着在供给去离子水、准备进行清洗工艺时，安装2个淋洗刀110，第1个刀具供给药液并喷射到基板上，通过第2个淋洗刀可向基板喷射去离子水。但是，也可以只用1个淋洗刀，边扫描基板边喷射药液，然后再在扫描基板的过程中，利用淋洗刀供给去离子水。
药液等可吸附在基板上，也有的药液或异物不在基板上进行加工工艺而是飞散的，吸取刀120可将其吸入。因此，在药液等充分吸附在基板上不飞散时，可不含吸取刀或不用吸取刀进行吸取工艺。
为了有效地吸取飞散的药液等，吸取刀120可通过截面较大的通孔进行吸取。
气刀(Air knife)130的作用是干燥涂敷在基板上的药液和喷射在基板上的去离子水。近年，伴随着基板的大型化，为了有效地干燥喷射在基板上的药液和去离子水，对气刀的形状和喷射角度进行了不同的尝试。与此同时，曾尝试过在设置基板的传送角度，进行倾斜传送的同时喷射空气，从基板上快速挤压出药液和去离子水的同时干燥基板。
因此，气刀可在如图1所示的倾斜状态下喷射空气，具有方向性，向基板的一个方向挤压药液和去离子水。与此同时，可利用纵向呈一定角度的气刀，使得全部的喷射空气向着倾斜方向，对基板进行干燥。
如图2所示，框架210为呈凹字状的吊车形状，在上部的下面可安装多个刀具110、120、130。例如，可顺次安装淋洗刀110、吸取刀120、气刀130。但是，由于气刀在水平面上具有一定的角度，框架的上部面可设有一定的面积。此外，考虑加工工艺速度和各刀具间的干扰，最好隔一定的间隔安装各刀具。
如图2所示，可使基板呈静止状态，移动框架210。然后，通过移动各刀具，可在基板上顺次进行加工工艺。即，在喷射药液时，可从基板的最左侧或右侧开始进行加工工艺，用驱动部(图中未表示)在一个方向上移动框架进行加工工艺。
驱动部的作用是左右移动框架。框架210可在滑道220或导轨上移动，为使其移动可利用电动机或液压活塞移动框架。为正确地控制位置，还可进一步使用链条或包含位置传感器。
与此同时，如框架是固定的构造，可左右传送基板。因此，在基板上设置转动轴和滚筒来形成基板传送部，其可包含驱动转动轴的转动轴驱动部。因此，将淋洗刀、吸取刀及气刀分别固定在框架上或固定在基板上，可边单方向传送基板边进行工艺。但是，由于在整块基板上进行工艺，因此需要比移动框架时更广的空间。
基板装载部230可具有位于工艺处理室的下部的、使基板固定在工艺过程中的基板装载部上的机械的或电子的固定部。基板装载部最好是由具有控制由电介质极化现象产生的静电力，使电介质表面吸附或脱离基板的功能的静电夹盘(Electrostatic Chuck)构成。但是也可使用具有相同功能的机械夹具(Mechanical Clamp)、真空夹盘(Vacuum Chuck)等。
如上述构成的本发明的进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置的作用如下。
例如，在显影工艺中淋洗刀110喷射显影液。在边喷射显影液边在基板上进行显影工艺时，利用吸取刀120吸收未吸附在基板上的显影液。然后，最后边利用气刀130将基板上的显影液挤压至基板的外侧边干燥基板。可边利用这三种刀具进行显影工艺，边通过将框架从基板的一边移动到另一边，对全部基板进行显影工艺。
此外，作为其他的示例，在蚀刻工艺中，首先从淋洗刀110喷射蚀刻液。在移动框架的同时，在基板剩下的部分喷射蚀刻液，在之前蚀刻的部分上，用吸取刀120吸入未吸附在基板上而悬浮在空气中的蚀刻液。再次，在移动框架的同时，边利用气刀130将基板上的蚀刻液挤压到基板的外侧边干燥基板。在移动框架的同时，在基板上顺次进行这3项工艺，可对整块基板进行蚀刻工艺。
作为其他的示例，可适用于清洗工程。可用淋洗刀110喷射去离子水，除去基板上的异物。接着，可通过吸取刀120吸取去离子水，但由于去离子水飞散的情况较少，可省略用吸取刀的吸入。然后，可通过气刀130向一定的方向吹空气，将基板上的去离子水吹到基板的外侧，同时干燥基板上的去离子水。因此，通过在框架210上安装淋洗刀、吸取刀及气刀，移动框架210，可对基板进行清洗工艺。
为了进行该工程，不使用每个刀具的工艺处理室而是通过使用1个工艺处理室，可提高空间的效率。此外，克服了必须依次移动基板和各刀具的不足，可边同时移动多个刀具边进行加工工艺，缩短了时间。
以上，参照附图说明了本发明的实施方式，但是拥有本发明所属技术领域常识的人员可以理解，在不超出该技术思想和必要特征的范围内，可以多种方式置换、变形及改变本发明，因此可通过其他的实施方式实施本发明。因此，必须理解上述的实施方式是各方面的示例，而非限定。

Claims (5)

1.一种进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置，包含
包含将药液或去离子水喷射到基板上的淋洗刀和
喷射气体并干燥基板的气刀的刀具单元；
安装上述刀具单元的、并可在基板上传送刀具单元的框架。
2.根据权利要求1所述的进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置，其特征在于，上述刀具单元还包含具有吸取功能的吸取刀。
3.根据权利要求1所述的进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置，其特征在于，还包含固定基板的基板装载部。
4.根据权利要求1所述的进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置，其特征在于，还包含驱动上述框架的驱动部。
5.根据权利要求1所述的进行淋洗、吸取及干燥工艺的工艺装置，其特征在于，上述刀具单元包含1个以上的淋洗刀、1个以上的吸取刀、及1个以上的气刀。
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