CN101102977A - 生产陶瓷或陶瓷焊接用的共晶粉末添加剂及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

B4C和SiC等陶瓷的烧结一般采用单相粉末作为添加剂，本发明采用共晶粉末如TMB2/SiC，TMB2/SiC/B4C，C/TMB2/SiC，VC/VB2/SiC，TMB2/SiC/MeB6，SiC/MeB6/B4C，C/TMB2/SiC/B4C和TMB2/SiC/MeB6/B4C共晶粉末为B4C和SiC等陶瓷的烧结助剂，它是以由C、Me、TM、MgO、TMO2、Me2O3、Me4Al2O9、MgAl2O4、MeAlO3、Me3Al5O12、TMN、TMC、TMB2、TMB、MeB6、MeN、Al2O3、SiC、B4C中任一能产生共晶反应的组合中各组元均匀混合制得的混合粉末或以此混合粉末为原料用高温熔融固化法制得的复合材料，经压碎、研磨而成的粒度为0.5-50μm具有共晶复合结构的混合粉末(TM＝Sc，Si，Ce，Al，V，Cr，Ti，Zr，W，Mo，Nb，Ta，Hf；Me＝Sc，Al，Ca，Cr，Y，La，RE，RE表示稀土元素)。

Description

生产陶瓷或陶瓷焊接用的共晶粉末添加剂及其制备方法 技术领域
本发明涉及陶瓷生产技术， 特别是共晶粉末添加剂及其制备方法， 如 VB2/LaB6、 VB2/LaB6/B4C、 VB2/SiC/B4C、 VN/SiC/B4C、 VB2/SiC/VC、 VB2/SiC/LaB6或 VB2/SiC/B4C/LaB6 等共晶粉末， 此类添加剂主要用于 TiB2、 Si3N4、 SiC、 立方 BN或 B4C等单相陶瓷、 复合 陶瓷、梯度陶瓷和陶瓷薄膜的烧结， 以及陶瓷涂层的制备， 陶瓷和陶瓷、 陶瓷和金属的焊 接等领域。 背景技术
TiB2、 Si3N4、 SiC、立方 BN和 B4C等结构材料具有许多优良特性。如 Thevenot, F. J. Eur. Ceram. Soc. 1990, 6, 205所述， 立方 BN、 TiB2和 B4C有较低密度,极高硬度和强度， 可以 阻挡子弹射击。 热压烧结的立方 BN， TiB2和 B4C陶瓷已被用于制备防弹衣， 直升机和坦 克的轻质装甲板以及工具等， 如 Mingwei Chen, lames W. McCauley, Kevin J. Hemker, SCIENCE, 2003， 299, 1563所述。 Si3N4、 SiC具有高强度、 高硬度、 耐磨损、 耐腐蚀、 耐热冲击、 耐高温氧化等特性， 适用于 1200°C以上的高温应用， 如涡轮发动机部件和宇 航材料。 如 Telle, R. and Petzow, G. Mater. Sci. Eng. 1988, A105/106, 97所述， 但是由于 TiB2、 Si3N4、 SiC、 立方 BN和 B4C等具有很高的共价键含量， 在陶瓷制备中由于颗粒之 间的体积扩散速度很慢， 在无添加剂条件下很难使陶瓷致密化。 TiB2、 Si3N4、 SiC、 立方 BN和 B4C陶瓷烧结一般在高温高压和添加剂存在下进行。如目前 B4C陶瓷的热压烧结主 要以 Al、 Mg、 Si、 Ti、 V、 Cr、 Fe、 Ni、 B、 C为添加剂在 1750-1900°C， 5-40MPa条件下 进行， 如 Gursoy Arslan, Ferhat Kara, Servet Turan, Journal of the European Ceramic Society 2003 , 23， 1243-1255所述， 烧结体密度为 95%。 SiC的热压烧结一般采用 Fe、 Al、 B、 Be、 A1203、 BeO、 A1N、 BN、 B4C为添加剂在 2000°C, 50MPa下进行。 然而， 在这些添加 剂中，熔化温度较低的添加剂如 Fe、 Al、 Ti等由于其硬度和强度较差， 影响 B4C和 SiC陶 瓷烧结体的总体性能， 而机械强度较高的添加剂如 A1203和 A1N熔化温度较高， 很难在较 低温度下烧结出致密 B4C和 SiC陶瓷。因此寻找一种具有较低熔化温度和较高机械性能的 添加剂是改善陶瓷烧结条件制备高性能 TiB2、 Si3N4、 SiC、立方 BN和 B4C等陶瓷的关键。 元素周期表中三、 四、 五和六副族的过渡金属 (如 Sc、 La、 Cr、 V、 Ti、 Zr、 Nb、 Ta、 Hf、 Mo、 W), 及其对应的氧化物、 硼化物、 氮化物和碳化物等结构材料具有许多优良的机械 性能。 但是由于这些材料本身熔点较高 (>2000°C)， 而且在 TiB2、 Si3N4、 SiC、立方. BN和 B4C等陶瓷烧结中， 一般采用单相粉末作为烧结助剂， 很难更有效地降低 TiB2、 Si3N4、 SiC、立方 BN和 B4C等陶瓷的烧结温度，如 D. D. Radev and Z. T. Zakhariev, Journal of Alloys and Compounds, 196(1993) 93-96所述。 共晶粉末由于在烧结过程中能与烧结体形成共晶 反应， 可以降低烧结体的烧结温度， 此外由共晶反应形成的具有共晶复合结构的共晶粉末 由于其熔化温度较低， 采用此粉末为添加剂也可以在低温下使烧结体烧结致密。而采用含 三、 四、 五和六副族的过渡金属 (如 Sc、 La、 Cr、 V、 Ti、 Zr、 Nb、 Ta、 Hf、 Mo、 W)化合 物的共晶组合中各组元的混合粉末或由此混合粉末为原料通过共晶反应形成的具有共晶 复合结构的混合粉末为添加剂用于 TiB2、 Si3N4、 SiC、 立方 BN和 B4C等结构陶瓷的烧结 或焊接， 目前尚未见报道。 发明内容
本发明的目的是提供一种用于生产髙性能 TiB2、 Si3N4、 SiC、 立方 BN和 B4C等陶瓷 单相材料、 陶瓷复合材料、 陶瓷涂层、 梯度材料、 薄膜材料以及用于陶瓷和陶瓷、 陶瓷和 金属的焊接用的具有较低熔化温度和较高机械性能的共晶粉末添加剂及其制备方法。
本发明所述一种采用共晶粉末添加剂降低陶瓷烧结温度的方法包括以下步骤-
(a)将待烧结的陶瓷粉末如 TiB2, Si3N4, SiC, 立方 BN或 B4C粉末、 0.1-20mol%共 晶粉末添加剂和其它常规添加剂进行混合， 得到混合物，
其中所述的共晶粉末添加剂包括共晶粉末、 共晶复合粉末或其组合； 其它常规添加剂 包括 C、 B、 Si、 Si3N4、 A1N或金属等；
(b)采用常压烧结， 气压烧结， 或热压烧结， 或热等静压烧结或 SPS等烧结方法将 步骤（a)得到的混合物进行烧结得到陶瓷；
烧结时产生的共晶反应可以使烧结体在添加剂的共晶熔化温度附近 (1650-2000°C)通 过液相烧结法， 烧结出致密的 TiB2、 Si3N4、 SiC、 立方 BN和 B4C等陶瓷及复合陶瓷。 其 中步骤 （b )烧结温度比在相同条件下， 无共晶粉末烧结剂时烧结出致密度相同的陶瓷所 需要的烧结温度降低 50-1000°C， 烧结工艺如图 1。 所述生产陶瓷的共晶粉末添加剂， 其 特征在于： 该陶瓷添加助剂是由 C、 B、 Si、 Me、 TM、 MgO、 TM02、 M 03、 MgAl204、 MeAl03、 Me3Al50i2、 MeN TMN、 TMC、 TM2C、 TMB、 TMB2、 MeB6、 A1203、 Si3N4、 SiC, B4C中任一能形成共晶反应的组合中制得的共晶粉末和共晶复合粉末。
其中共晶粉末是上述组合中各组元均匀混合制得的混合粉末；共晶复合粉末是以此共 晶粉末为原料通过熔融固化制得的物相为 C、 Si、 B、 MgO、 TM02、 Me203、 MgAl204、 MeA103、 Me3Al5012、 Si3N4、 TMN、 TM2C、 TMC、 TMB、 TMB2、 MeB6、 A1203、 SiC、 B4C中对应组合的具有共晶结构的复合陶瓷材料，分别经压碎研磨而成的粒度为 0.1-50μπι 的具有共晶复合结构的混合粉末， 其制备过程如图 2。
上述原料中能形成共晶反应的组合包括：
二元共晶组合： MeB6/SiC、 C/TMC/TMB2、 TMB2/SiC、 TMB2/MeB6 , TMB/SiC、 TMB/TM2C等;
三元共晶组合： TMN/B4C/SiC、 TM/B4C/SiC、 TMC(或 TM2C)/B4C/SiC、 TM02/B4C/SiC/C、 TMB2/B4C/SiC、 B4C/SiC/MeB6、 B4C/SiC/Me、 B4C/SiC/Me203、 B4C/SiC/MeN、 TMB2/SiC/MeB6、 TMC/TMB2/SiC、 TMB2/MeB6/B4C、 TMB2/Me/B4C、 TMB2/Me203/B4C、 TMB2/MeN/B4C、 TM/MeB6/B4C、 TMC(或 TM2C)/MeB6/B4C、 TMN/MeB6/B4C 、 TMB/TMB2/SiC 、 TMC/TMB/SiC 、 Al203/Me3Al5012/TM02 、 Al203/MgAl204/TM02、 Al203/MeA103/TM02、 Al203/Me203/TM02、 MgO/Al203/TM02等； 四、五、六元共晶组合： TMB2/SiC/MeB6/B4C、 TMB2/SiC/Me/B4C、 TMB2/SiC/MeN/B4C TMB2/SiC/Me203/B4C、 TMN/SiC/MeB6/B4C、 TMC (或 TM2C)/SiC/MeB6/B4C、
TM/SiC/MeB6/B4C、 TM02/SiC/MeB6/B4C/C、 TM02/C/MeB6/B4C、 TMB/TMB2/TMC/SiC、 TMB2/SiC/MeB6 B4C/C、 Al203/MeA103/MgAl204/TM02、 MgO/Al203/MeA103/TM02、 MgO/Al203/Me3Al5012/TM02、 Al203/Me203/MgAl204/TM02、
Al203/Me3Al5012/MgAl204/TM02、 MgO/Al203/Me203/TM02等,其中 TM表示 Sc、 Ce、 Al、 Si、 V、 Cr、 Ti、 Zr、 W、 Mo、 Nb、 Ta、 Hf; Me表示 Sc、 Ca、 Al、 Cr、 Y、 La、 稀土元 素 (RE)。
上述共晶组合中由各组元均匀混合形成的各种共晶粉末添加剂或以此共晶粉末为原 料通过熔融固化制得以下多种共晶复合粉末添加剂的制备配方如下， 以共晶粉末的总的物 质的量的摩尔百分比计- 共晶复合粉末 共晶粉末 制备配方
MeB6/SiC MeB6/SiC MeB6 20-50% SiC 50-80%
C/TMC/TMB2 C/TMC/TMB2 C 10-30% TMC 40-60%
TMB2 25-50%
TMB2/SiC TMB2/SiC SiC 24-38% TMB2 62-76%
TMB2/MeB6 TMB2/MeB6 TMB2 35-65% MeB6 35-65%
TMB/SiC TMB/SiC TMB 50-70% SiC 30-50%
TMB/TM2C TMB/TM2C TMB 50-70% TM2C 30-50% TMB2/SiC/C TMN/SiC/B4C SiC 15-30% TMN 45-60%
B4C 20-30%
TMB2/SiC/C TMC (或 TM2C)/SiC/B4C SiC 15-30% TMC (或 TM2C) 45-60%
B4C 20-30%
TMB2/SiC/C TM/SiC/B4C SiC 15-30% TM 45-60%
B4C 20-30%
TMB2/SiC/C TM02/SiC/B4C/C SiC 5-25% TM02 20-40%
B4C 10-30% C 35-50%
TMB2/B4C/S1C TMB2/B4C/SiC SiC 25-41% TMB2 8-35%
B4C 33-52%
B4C/SiC/MeB6 B4C/SiC/MeB6 SiC 30-50% MeB6 10-30%
B4C 30-50%
TMC/TMB2/SiC TMC/ TMB2/SiC SiC 10-25% TMB2 31-44%
TMC 39-52%
TMB2/MeB6/B4C TMB2/MeB6/B4C MeB6 5-35% TMB2 5-35%
B4C 40-70%
TMB2/SiC/MeB6 TMB2/SiC/MeB6 SiC 40-65% TMB2 5-30%
MeB6 20-40%
TMB/SiC/TMB. TMB/SiC/TMB2 TMB 15-30% SiC 40-60%
TMB2 15-35%
TMB/TMC/SiC TMB/TMC/SiC TMB 15-35% SiC 35-55%
TMC 15-35%
Al203/Me3Al5012/TM02 Al203/Me203/TM02 Me203 10-25% A1203 55-75%
TM02 10-30%
Al203/MeA103/TM02 Al203/Me203/TM02 Me203 10-30% AI2O3 50-70%
TM02 10-35%
Al203/MgAl204/TM02 Al203/MgO/TM02 A1203 35-50% TM02 25-45%
MgO 15-40%
TMB2/B4C/SiC/C TMN/B4C/SiC SiC 20-35% TMN 10-30%
B4C 40-60%
TMB2/B4C/SiC/C TMC (或 TM2C)/B4C/SiC SiC 20-35% TMC (或 TM2C) 10-30% B4C 40-60%
TMB2/B4C/SiC/C TM/B4C/SiC SiC 20-35% TM 10-30%
B4C 40-60%
TMB2/B4C/SiC/C TM02/B4C/SiC/C SiC 20-35% TM02 10-30%
B4C 30-50% C 10-40%
B4C/SiC/MeB6/C B4C/SiC/MeN SiC 30-50% MeN 5-25%
B4C 40-60%
B4C/SiC/MeB6/C B4C/SiC/Me SiC 30-50% Me 5-25%
B4C 40-60%
B4C/SiC/MeB6/C B4C/SiC/Me203 SiC 25-45% Me203 5-20%
B4C 45-65%
TMB2/SiC/MeB6/B C TMB2/SiC/MeB6/B4C SiC 30-50% TMB2 5-25%
MeB6 5-20% B4C 35-55% TMB2/SiC/MeB6/B4C/C TMN/SiC/MeB6/B4C SiC 30-55% TMN 5-25%
MeB6 5-20% B4C 35-60% TMB2/SiC/MeB6/B4C/C TMC (或 TM2C)/SiC/MeB6/B4C SiC 30-55% TMC (或 TM2C) 5-25%
MeB6 5-20% B4C 35-60% TMB2/SiC/MeB6/B4C/C TM/SiC/MeB6/B4C SiC 30-55% TM 5-25%
MeB6 5-20% B4C 35-60% TMB2/SiC/MeB6/B4C/C TM02/SiC/MeB6/B4C/C SiC 20-35% TM02 5-25%
MeB6 5-20% B4C 10-35%
C 5-30%
TMB2/SiC/MeB6/B4C/C TMB2/SiC/MeN/B4C SiC 25-50% MeN 5-20%
TMB2 5-25% B4C 35-60% TMB2/SiC/MeB6/B4C/C TMB2/SiC/Me/B C SiC 25-50% Me 5-20%
TMB25-25% B4C 35-60% TMB2/SiC/MeB6/B4C/C TMB2/SiC/Me203/B4C SiC 20-45% Me203 5-20%
TMB2 5-25% B4C 30-55% TMB2/MeB6/B4C/C TMN/MeB6/B4C MeB6 5-25% TMN 10-30%
B4C 45-70%
TMB2/MeB6/B4C/C TMC (或 TM2C)/MeB6/B4C MeB6 5-25% TMC (或 TM2C) 10-30% B4C 45-70%
TMB2/MeB6/B4C/C TM/MeB6/B4C MeB6 5-25% TM 10-30%
B4C 45-70%
TMB2/MeB6/B4C/C TM02/MeB6/B C/C MeB6 5-15% TM02 10-30%
B4C 30-55% C 20-45%
TMB2/MeB6/B4C/C TMB2/MeN/B4C TMB2 10-30% MeN 5-25%
B4C 45-70%
TMB2/MeB6/B4C/C TMB2/Me/B4C TMB2 10-30% Me 5-25%
B4C 45-70%
TMB2/MeB6/B4C/C TMB2/Me203/B4C TMB25-30% Me203 2-15%
B4C 45-70%
Al203/MeA103/MgAl204/TM02 Al203/Me203/TM02/MgO Me203 5-30% A1203 35-50%
TM02 15-35% MgO 5-25% Al203/Me3Al5012/MgAl204/TM02 Al203/Me203/TM02/MgO Me203 5-25% A120335-55%
TM02 15-35% MgO 5-25% 上述配方中， TM=Sc、 Ce、 Si、 Al、 V、 Cr、 Ti、 Zr、 W、 Mo、 Nb、 Ta、 Hf、 Me=Sc、 Al、 Ca、 Cr、 Y、 La、 RE(RE表示稀土元素)。 Me203可选用 Sc203或 A1203或 Cr203或 Y203 或 La203或 RE203或 Sc203、 A1203、 Cr203、 Y203、 La203、 RE203中任一组合中各组元通 过熔融固化形成的固熔体,如 (Al,Cr)203固熔体； MeA103可选用 YA103或 LaA103或 REA103 或 YA103、 LaA103、 REA103中任一组合中各组元通过熔融固化形成的固熔体； Me3Al5012 可选用丫3八15012或 1^3入15012或 3入15012或 Y3A15012, La3Al5012, RE3A15012中任一组合 中各组元通过熔融固化形成的固熔体； MeB6可选用 CaB6或 CrB6或 YB6或 LaB6或 REB6 或 CaB6, CrB6) YB6, LaB6, REB6中任一组合中各组元通过熔融固化形成的固熔体， 如 (La,Ca)B6固熔体； TM02可选用 Si02或 Ce02或 V02或 Ti02或 W02或 Mo02或 Nb02或 Zr02 或 Ta02或 Hf02或 Si02, Ce02, V02, Ti02, W02, Mo02， Nb02, Zr02， Ta02， Hf02中任一组 合中各组元通过熔融固化形成的固熔体， 如 (ZrxHf1-x)02固熔体； TMN可选用 A1N或 VN 或 ΉΝ或 ZrN或 NbN或 TaN或 Hf 或 A1N， VN, TiN, ZrN, NbN， TaN，HfN中任一组 合中各组元通过熔融固化形成的固熔体， 如 (VxZr1-x)N固熔体； TMC可选用 VC或 TiC或 WC或 MoC或 ZrC或 NbC或 TaC或 HfC或 VC, TiC, WC, MoC, ZrC, NbC, TaC, HfC中任 一组合中各组元通过熔融固化形成的固熔体， 如 (VxZ _x)C固熔体； TM2C可选用 V2C或 Ti2C或 W2C或 Mo2C或 Zr2C或 Nb2C或 Ta2C或 Hf2C或 V2C, Ti2C, W2C, Mo2C, Zr2C, Nb2C, 丁&2。，1¾^中任一组合中各组元通过熔融固化形成的固熔体， 如 (VxZn_x)2C固熔体； TMB2 可选用 ScB2或 CrB2或 VB2或 TiB2或 WB2或 MoB2或 NbB2或 ZrB2或 Ta¾或 Hf¾或 ScB2、 CrB2s VB2、 TiB2、 WB2、 MoB2、 NbB2、 ZrB2、 TaB2、 Hffl2中任一组合中各组元通过熔融 固化形成的固熔体， 如 (VxZrI→i)B2固熔体； TMB可选用 CrB或 VB或 ΉΒ或 WB或 MoB 或 NbB或 ZrB或 TaB或 Hffi或 CrB、 VB、 TiB、 WB, MoB、 NbB、 ZrB、 TaB、 Hffi中任 一组合中各组元通过熔融固化形成的固熔体， 如 (vxZ -x)B固熔体。
上述共晶粉末添加剂的制备方法， 包括： 将以上述任一组所述配方为原料，在滚筒中 均匀混合制得共晶粉末作为添加剂，或以此混合粉末为原料通过熔融固化法制得的对应组 合共晶复合陶瓷材料,在研钵或游星型粉碎机中压碎并研磨成大小为 0.5~50μηι (其优选范 围为 1-10μιη)的具有共晶复合结构的共晶混合粉末添加剂 (或称共晶复合粉末添加剂)。 上 述由同一配方采用两种不同制备工艺， 前者（第一工艺）制备工艺简单， 但后者（第二工 艺） 制得的复合粉末具有的共晶复合结构更具良好的材料性能并有利于降低烧结温度。
详细地说，上述熔融固化法可釆用电弧熔炼法或浮区法或下拉法或引上法或喷雾法或 滚筒熔体旋转急冷法或铸造法。
更详细地说， 按上述任一组所述配方称取原料， 在滚筒中混合均匀制得共晶粉末添加 剂，
或以此混合粉末为原料， 在 10-20MPa压力下压制成直径为 5-20mm的圆柱状坯体， 然后在小型直流电弧熔炼炉中， 在 10-30cinHg的 Ar气氛中制得对应组合共晶复合陶瓷材 料， 在研钵或游星型粉碎机中压碎成粒度为 0.5-50μιη具有共晶复合结构的共晶复合粉末。
本发明的共晶粉末作为添加剂可以通过与烧结体形成液相， 在其共晶熔化温度附近 (1650-2000°C)烧结出致密的 TiB2、 Si3N4、 SiC、 立方 BN和 B4C等陶瓷及复合陶瓷。 一组 SiC和 B4C陶瓷的烧结条件和性能实验对比数据如表一、 二和三： 可见， 本发明所提供的 共晶粉末制备高性能 TiB2, Si3N4, SiC,立方 BN和 B4C等结构陶瓷具有优良的技术性能， 应用范围更为广阔。 加之烧结温度和烧结压力降低， 生产成本和投资成本都会显著降低。 附图概述
图 1是共晶粉末为烧结助剂制备陶瓷的工艺流程图。
图 2是共晶粉末制备流程图。
图 3是 Al203/NdA103/Zr02相图。
图 4是 Al203/Y3A15012/Zr02相图。
图 5是 VB2/SiC/B4C相图。 图 6是 VN/SiC/B4C相图。
图 7 (a) 和 （b) 分别是 Al203/NdA103/Zr02和 Al203/Y3A15012/Zr02共晶复合陶瓷的 SEM照片。
图 8中（a)和（b)分别是 VB2/SiC/B4C和 C/VB2/SiC/B4C共晶复合陶瓷的 SEM照片。 图 9是以浓度为 5^%的 Al203/Y3A15012/Zr02共晶复合粉末为烧结助剂在 1750°C, N2 气氛中无压烧结制得的 Si3N4陶瓷的 SEM照片。
图 10是以浓度为 10vol%的 Al203/Y3A15012/Zr02共晶复合粉末为烧结助剂在 1750°C,
50MPa下在 Ar气中热压烧结制得的 SiC陶瓷的 SEM照片。
图 11是以浓度为 8vol%的 VN/SiC/B4C共晶粉末为烧结助剂在 1900°C, 80MPa下热压 烧结 10分钟制得的 TiB2陶瓷的 SEM照片。
图 12是以浓度为 10vol%的 VB2/SiC/B4C共晶粉末为烧结助剂在 1930°C, 50MPa下热 压烧结 10分钟制得的 B4C陶瓷的 SEM照片。
图 13是以浓度为 10vol%的 VB2/SiC/B4C共晶复合粉末为烧结助剂在 1900°C, 50MPa 下热压烧结 10分钟制得的 B4C陶瓷的 SEM照片。 本发明的最佳实施方案
下列实施例中未注明具体条件的实验方法， 通常按照常规条件， 或按照制造厂商所 建议的条件。 比例和百分比基于物质的量， 除非特别说明。
实施例 1
以 Al203/NdA103/Zr02共晶粉末添加剂的制备举例， 在图 3中， Al203/NdA103/Zr02共 晶复合粉末的制备配方为 55-65mol% A1203、 15-25mol% Nd203、 15-30mol% Zr02,熔化温 度为 1700±30°C, 以 Nd203， Zr02和 A1203粉末为原料，按 55-65mol% A1203、 15-25mol% Nd203、 15-30mol% ZrO2,比例混合,搅拌均匀后，即得共晶粉末。所述共晶粉末在 10-20MPa 的压力下压制成直径为 5-20毫米的圆柱状坯体，然后在额定电压为 100V，电流为 600A的 小型直流电弧炉中，在 20cmHg的 Ar气中熔制。 制得的共晶复合陶瓷的物相为 A1203, NdA103和 Zr02，微结构为柱状结构，见图 7(a), 其中白色圆形小颗粒为 NdA103,白色三角 形或条状颗粒为 Zr02,黑色物相为 A1203,直径为 300纳米 NdA )3颗粒和 500纳米的 Zr(¾ 颗粒均匀分散在 A1203基体中。 所述 Al203/NdA103/Zr02共晶复合陶瓷在研钵中压碎成粒 度为 0.5-50μπι的粉末，即得共晶复合粉末。 由于 Al203/NdA103/Zr02共晶复合均匀的微结 构使压碎研磨成的粒度为 1-20μηι的共晶复合粉末具有与体材料一致的组分和微结构，从 而确保共晶复合粉末具有低的熔化温度。 实施例 2
以 Al203/Y3A15012/Zr02共晶粉末添加剂为烧结助剂降低 Si3N4和 SiC陶瓷的烧结温度 举例。 在图 4中可知 Al203/Y3A15012/Zr02共晶复合陶瓷粉末的制备配方为 60-70mol% A1203、 10-20mol% Y2O3, 15-25mol% Zr02。 以 Y203， Zr02和 Α1203粉末为原料,按实施例 1相同方法制得的共晶复合陶瓷物相为 Α1203, Υ3Α15012和 Zr02,微结构为层状结构，层状颗 粒 Υ3Αΐ5θ12, Α1203和 Zr02的厚度分别为 600nm， 200nm和 600nm, 见图 7 (b)。 上述制得 的 Al203/Y3A15012/Zr02共晶复合陶瓷在研钵中压碎成粒度为 0.5-50μηι的共晶复合粉末。
在图 4中可知， Al203/Y3A15012/Zr02共晶复合材料的熔化温度为 1720±30°C。将 5wt% 的 Al203/Y3A15012/Zr02共晶复合粉末和 95wt% Si3N4粉末混合均匀，在 1750°C下无压烧结 2小时，得到的 Si3N4陶瓷密度在 99.7%以上，其 SEM照片如图 9所示。 从图 9, Si3N4陶瓷 微结构中几乎无明显孔洞，说明以 Al203/Y3A15012/Zr02共晶复合粉末为烧结助剂可以在较 低温度 压力下烧结出非常致密的 Si3N4陶瓷。 烧结温度比以 A1203,Y203为烧结助剂所需 要的烧结温度降低 150°C,烧结压力降低 10MPa。一组 Si3N4陶瓷的烧结条件和性能实验对 比数据如表一所示- 表一 Si3N4陶瓷的烧结条件和性能
将 10vol%的 Al203/Y3Al5Oi2/Zr02共晶复合粉末添加剂和 90vol%SiC粉末混合均匀，在 1750°C, 50MPa下热压烧结 10分钟，得到的 SiC陶瓷密度在 99.7%以上，其 SEM照片如图 10所示。 从图 10的 SiC陶瓷微结构中几乎看不出孔洞。 说明以 Al203/Y3A15012/Zr02共 晶复合粉末为烧结助剂可以在较低的温度和压力下烧结出致密的 SiC陶瓷。 烧结温度比 以 Fe, Al, B, Be,Al203或 BeO为烧结助剂所需要的烧结温度降低 250°C。
此外,将 90vol %的待烧结的 SiC陶瓷粉末和 10vol%Al2O3/Y2O3/ZrO2共晶粉末添加剂 进行混合，混合均匀后,在 1800°C, 50MPa下热压烧结 10分钟，得到的 SiC陶瓷密度在 99.5% 以上。 烧结温度比以 Fe, Al, B， Be,Al203或 BeO为烧结剂烧结陶瓷所需要的烧结温度降低 200°C,一组 SiC陶瓷的烧结条件和性能实验对比数据如表二所示： 表二 SiC陶瓷的烧结条件和性能对比
实施例 3
以 VN/SiC/B4C共晶粉末添加剂为烧结助剂降低 TiB2陶瓷的烧结温度举例。在图 6中 VN/SiC/B4C是一个共晶体系， SiC, VN和 B4C组元能形成共晶反应， VN/SiC/B4C共晶粉 末的制备配方为 18_22raol%VN、 46-54mol%B4C、 26-34mol%SiC. VN、 SiC和 B4C粉末按组 份 18- 22mol%VN、 46- 54mol°/。B4C、 26- 34mol%SiC混合， 搅拌均匀后即得共晶粉末。 所述 共晶粉末为原料， 在 10- 20MPa的压力下压制成直径为 5- 20皿的圆柱状坯体。 然后在额 定电压为 100V,电流为 600A的小型直流电弧炉中，在 20cmHg的 Ar气氛中熔制。 制得的 共晶复合陶瓷物相为 C， VB2, SiC和 B4C,共晶熔化温度为 1870±20°C， 微结构为棒状结构， 直径为 600nm的 VB2和直径为 600nm的 SiC颗粒均匀分布在 B4C基体中， 见图 8中 (b)。 所述 C/VB2/SiC/B4C共晶材料在研钵或游星型粉碎机中压碎成粒度为 1-20μιη的具有共晶 复合结构的共晶混合粉末,此粉末为共晶复合粉末。
将 8vol%的 VN/SiC/B4C共晶粉体添加剂和 ΉΒ2粉末混合均匀后，在 1900°C、 80MPa 下热压烧结 10分钟制得的 TiB2陶瓷的密度接近 99.0-100%,其 SEM照片见图 11.其烧结温 度比采用 Fe, Al, Si, Ti为烧结助剂烧结的 TiB2陶瓷的烧结温度降低 100°C。 实施例 4
以 VB2/SiC/B4C共晶粉末为烧结助剂降低 B4C陶瓷的烧结温度举例。 在图 5 中 VB2/SiC/B4C是一个共晶体系， SiC, VB2和 B4C组元能形成共晶反应。 VB2/SiC/B4C共晶 粉末的制备配方为 20-24mol%, VB2、 40-48mol%B4C、 30-36mol% SiC,共晶复合材料的熔 化温度为 1870±30°C。 VB2, SiC和 B4C粉末按组份 20-24mol% VB2、 40-48mol%B4C、 30-36mol% SiC混合,搅拌均匀后制得共晶粉末添加剂。所述共晶粉末为原料,在 10-20MPa 的压力下压制成直径为 5-20mm的圆柱状坯体，然后在额定电压为 100V，电流为 600A的小 型直流电弧炉中,在 20cinHg的 Ar气氛中熔制，制得的共晶复合陶瓷物相为 VB2, SiC和 B4C, 共晶熔化温度为 1870±20。C,微结构为棒状结构， 直径为 600nra的 VB2和直径为 600nm的 SiC颗粒均匀分布在 B4C基体中， 见图 8(a)。 上述制备的 VB2/SiC/B4C共晶复合材料在研 钵或游星型粉碎机中压碎成粒度为 1-20μπι的具有共晶复合结构的共晶混合粉末，此粉末 为共晶复合粉末添加剂。
将 10vol%的 VB2/SiC/B4C共晶粉体和 B4C粉末混合均匀后，在 1930°C、 50MPa下热 压烧结 10分钟制得的 B4C陶瓷的密度接近 99.5-100%，其 SEM照片见图 12。 其烧结温度 比采用 Fe, Al， Si, Ti为烧结助剂,烧结的 B4C陶瓷的烧结温度降低 70°C,压力降低 450GPa。
此外， 10vol%的 VB2/SiC/B4C共晶复合粉体和 B4C粉末混合均匀后,在 1900°C、50MPa 下热压烧结 10分钟制得的 B4C陶瓷的密度都接近 99.9-100%,其 SEM照片见图 13。 其烧 结温度比釆用 Fe, Al, Si, Ti为烧结助剂,烧结的 B4C陶瓷的烧结温度降低 100°C,压力降低 450GPao 一组 B4C陶瓷的烧结条件和性能实验对比数据如表三所示：
表三 B4C陶瓷的烧结条件和性能对比
从实施例 1,2,3,4 可以看出， 由于 Al203/Y3A15012/Zr02, Al203/Y203/Zr02, VB2/SiC, VB2/SiC/B4C, C/VB2/SiC和 C/VB2/SiC/B4C等共晶复合陶瓷的熔化温度比 A1203或 Y203或 Zr02或 VB2或 SiC或 B4C低很多。 因此采用共晶粉末烧结助剂可以在低温下通过液相烧 结制备 TiB2, Si3N4, SiC和 B4C等难烧结的陶瓷。

Claims (10)

  1. 权 利 要 求
    1、 一种降低陶瓷烧结温度的方法， 其特征在于， 包括以下步骤：
    (a)将待烧结的陶瓷粉末和占待烧结的陶瓷粉末的物质的量的 0.1-20mol%的共晶粉 末添加剂进行混合， 得到混合物，
    其中所述的共晶粉末添加剂包括共晶粉末、 共晶复合粉末或其组合；
    (b)将步骤 （a) 得到的混合物在共晶粉末添加剂熔化温度附近进行烧结得到陶瓷； 其中步骤 （b) 烧结温度比在相同条件下， 无烧结剂时烧结出致密度相同陶瓷所需要 的烧结温度降低 50-1000°C。
  2. 2、 一种降低陶瓷烧结温度的共晶粉末添加剂， 其特征在于， 所述生产陶瓷的添加剂 选自 C、 Me、 TM、 MgO、 TM0<sub>2</sub>、 Me<sub>2</sub>0<sub>3</sub>、 MgAl<sub>2</sub>0<sub>4</sub>、 MeA10<sub>3</sub>、 Me<sub>3</sub>Al<sub>5</sub>0<sub>12</sub>、 T顧、 MeN、 TMC、 TM<sub>2</sub>C、 TMB<sub>2</sub>、 TMB、 MeB<sub>6</sub>、 A1<sub>2</sub>0<sub>3</sub>、 SiC、 B<sub>4</sub>C中任一能产生共晶反应的二元、 三元、 四元、 五元或六元组合中的共晶粉末或共晶复合粉末；
    其中所述共晶粉末为一种或多种组元均匀混合制得的混合粉末，
    所述共晶复合粉末为以共晶粉末为原料用高温熔融固化法制得复合材料， 所述复合材 料经压碎、 研磨而形成的具有共晶复合结构的混合粉末，
    其中 TM表示 Sc， Ce， Si, Al， V, Cr, Ti， Zr， W, Mo, Nb， Ta或 Hf;
    Me表示 Sc， Al， Ca， Cr, Y或稀土元素。
  3. 3、根据权利要求 2所述的添加剂，其特征在于，该生产陶瓷的添加剂选自 MgO、TM0<sub>2</sub>、 Me<sub>2</sub>0<sub>3</sub>、 MgAl<sub>2</sub>0<sub>4</sub>、 MeA10<sub>3</sub>、 Me<sub>3</sub>Al<sub>5</sub>0<sub>12</sub>、 A1<sub>2</sub>0<sub>3</sub>中任一能产生共晶反应的三元或三元以上 组合中各组元的共晶粉末或共晶复合粉末。
  4. 4、 根据权利要求 2所述的添加剂， 其特征在于， 该生产陶瓷的添加剂选自 C、 Me、 TM、 TM0<sub>2</sub>、 Me<sub>2</sub>0<sub>3</sub>、 TMN、 MeN、 TMC、 TM<sub>2</sub>C、 TMB<sub>2</sub>、 MeB<sub>6</sub>、 SiC、 B<sub>4</sub>C中任一能产 生共晶反应的二元或二元以上组合中各组元的共晶粉末或共晶复合粉末。
  5. 5、 根据权利要求 2所述的添加剂， 其特征在于， 该生产陶瓷的添加剂选自 C、 Me、 TM、 TM0<sub>2</sub>、 Me<sub>2</sub>0<sub>3</sub>、 T画、 MeN、 TMC、 TM<sub>2</sub>C、 TMB<sub>2</sub>、 MeB<sub>6</sub>、 SiC、 B<sub>4</sub>C中任一能产 生共晶反应的三元或三元以上组合中各组元的共晶粉末或共晶复合粉末。
  6. 6、 根据权利要求 2、 3、 4、 5中任一项所述的添加剂， 其特征在于： 所述的能产生共 晶反应的二元、 三元、 四元、 五元或六元组合中， 其中：
    二元组合包括： TMB2/SiC、 TMB2/MeB6、 MeB6/SiC、 TMB/SiC、 TMB/TM2C等； 三元组合包括： C/TMC/TMB2、 TMN/B4C/SiC、 TM/B4C/SiC、 TMC (或 TM2C)/B4C/SiC、 TMB2/B4C/SiC、 B4C/SiC/MeB6、 B4C/SiC/Me、 B4C/SiC/Me203 、 B4C/SiC/MeN、 TMB2/SiC/MeB6、 TMC/TMB2/SiC、 TMB2/MeB6/B4C、 TMB2/Me/B4C、 TMB2/MeN/B4C、 TMB2/Me203/B4C、 TM MeB6/B4C、 TMC(或 TM2C)/MeB6/B4C、 TMN/MeB6/B4C、 TMB/TMB2/SiC、 TMC/TMB/SiC、 Al203Me3Al5Oi2/TM02、 Al203/MeA103/TM02、 Al203/MgAl204/TM02、 Al203 Me203/TM02、 MgO/Al203/TM02等；
    四、五、六元组合包括： TM02/B4C/SiC/C、 TMB2/SiC/MeB6/B4C、 TMN/SiC/MeB6/B4C、 TMC( 或 TM2C)/SiC/MeB6 B4C 、 TM/SiC/MeB6 B4C 、 TM02/SiC/MeB6/B4C/C 、 TMB2/SiC/Me/B4C、 TMB2/SiC/MeN/B4C、 TMB2/SiC/Me203/B4C、 TM02/C/MeB6/B4C、 TMB/TMB2/TMC/SiC 、 TMB2/SiC/MeB6/B4C/C 、 Al203/MeA103/MgAl204/TM02 、 MgO/Al203/MeA103/TM02、 MgO/Al203/Me3Al5012/TM02、 Al203/Me203/MgAl204/TM02、 Al203/Me3Al5012/MgAl204/TM02、 MgO/Al203/Me203/TM02等。
    其中， TM表示 Sc， Ce， Si, Al， V, Cr， Ti， Zr， W, Mo, Nb, Ta或 Hf;
    Me表示 Sc, Al, Ca, Cr, Y, La或稀土元素 (RE)，
    Me203可选用 Sc203或 A1203或 Cr203或 Y203或 La203或 RE203或 Sc203、 A1203、 Cr203、 Y203、 La203、 RE203中任一组合中各组元通过熔融固化形成的固熔体， 如 (Al,Cr)203固熔 体；
    MeA103可选用 YA103或 LaA103或 REA103或 YA103、 LaA103、 REA103中任一组合中 各组元通过熔融固化形成的固熔体；
    Me3Al5012可选用 Y3A15012或 La3Al5012或 RE3A15012或 Y3Al5012、La3Al5012、RE3Al5012 中任一组合中各组元通过熔融固化形成的固熔体；
    MeB6可选用 CaB6或 CrB6或 YB6或 LaB6或 REB6或 CaB6、 CrB6、 YB6、 LaB6、 REB6 中任一组合中各组元通过瑢融固化形成的固熔体， 如 (La,Ca)B6固熔体；
    TM02可选用 Si02或 Ce02或 Cr02或 V02或 Ti02或 W02或 Mo02或 Nb02或 Zr02或 Ta02或 Hf02或 Si02,Ce02、 Cr02、 V02、 Ti02、 W02、 Mo02、 Nb02> Zr02、 Ta02、 Hf02 中任一组合中各组元通过熔融固化形成的固熔体， 如 (ZrxHfU)02固熔体；
    TMN可选用 A1N或 VN或 TiN或 ZrN或 NbN或 TaN或 HfN或 A1N、 VN、 TiN、 ZrN、 NbN、 TaN. HfN中任一组合中各组元通过熔融固化形成的固熔体， 如 (VxZri— X)N固熔体；
    TMC可选用 VC或 TiC或 WC或 MoC或 ZrC或 NbC或 TaC或 HfC或 VC、 TiC、 WC、 MoC、 ZrC, NbC、 TaC, HfC中任一组合中各组元通过熔融固化形成的固熔体，如 (VxZr1-x)C 固熔体； TM2C可选用 V2C或 Ti2C或 W2C或 Mo2C或 Zr2C或 Nb2C或 Ta2C或 Hf2C或 V2C、Ti2C、 W2C、 Mo2C、 Zr2C、 Nb2C、 Ta2C、 Hf2C中任一组合中各组元通过熔融固化形成的固熔体， 如 (VxZri.^C固熔体；
    TMB2可选用 ScB2或 CrB2或 VB2或 TiB2或 WB2或 MoB2或 NbB2或 ZrB2或 TaB2或 Hffi2 或 ScB2、 CrB2、 VB2、 TiB2、 WB2、 MoB2、 NbB2、 ZrB2、 TaB2、 HfB2中任一组合中各组 元通过熔融固化形成的固熔体， 如 (VxZr1→c)B2固熔体；
    TMB可选用 CrB或 VB或 ΉΒ或 WB或 MoB或 NbB或 ZrB或 TaB或 Hffi或 CrB、 VB、 TiB、 WB、 MoB, NbB、 ZrB、 TaB, Hffi中任一组合中各组元通过熔融固化形成的固熔 体， 如 (VxZr1→c)B固熔体；
    上述共晶组合中由共晶组元均匀混合制得的各种共晶粉末添加剂的配方， 或以此混合 粉末为原料经高温熔融固化对应制得的各种共晶复合粉末添加剂的配方如下，以共晶粉末 的总的物质的』 的摩尔百分比计：
    共晶复合粉末 共晶粉末 制备配方
    MeB6/SiC MeB6/SiC MeB6 20-50% SiC 50-80%
    TMB2/SiC TMB2/SiC SiC 20-40% TMB2 60-80%
    TMB2/MeB6 TMB2/MeB6 TMB2 35-65% MeB6 35-65%
    TMB/SiC TMB/SiC TMB 50-70% SiC 30-50%
    TMB/TM2C TMB/TM2C TMB 50-70% TM2C 30-50%
    C/TMC/TMB2 C/TMC/TMB2 C 10-30% TMC 40-60%
    TMB2 25-50%
    TMB2/SiC/C TMN/SiC/B4C SiC 15-30% TMN 45-60%
    B4C 20-30%
    TMB2/SiC/C TMC (或 TM2C)/SiC/B4C SiC 15-30% TMC (或 TM2C)
    B4C 20-30%
    TMB2/SiC/C TM/SiC/B4C SiC 15-30% TM 45-60%
    B4C 20-30%
    TMB2/SiC/C TM02/SiC/B4C/C SiC 5-25% TM02 20-40%
    B4C 10-30% C 35-50%
    TMB2/B4C/SiC TMB2/B4C/SiC SiC 25-45% TMB2 5-35%
    B4C 30-55%
    B4C/SiC/MeB6 B4C/SiC/MeB6 SiC 30-50% MeB6 10-30% B4C 30-50%
    TMC/TMB2/SiC TMC/TMB2/SiC SiC 10-25% TMB2 30-45%
    TMC 35-55%
    TMB2/MeB6/B4C TMB2/MeB6/B4C MeB6 5-35% TMB2 5-35%
    B4C 40-70%
    TMB2/SiC/MeB6 TMB2/SiC/MeB6 SiC 40-65% TMB2 5-30%
    MeB6 20-40%
    TMB/SiC/TMB2 TMB/SiC/TMB2 TMB 15-30% SiC 40-60%
    TMB2 15-35%
    TMB/TMC/SiC TMB/TMC/SiC TMB 15-35% SiC 35-55%
    TMC 15-35%
    Al203/Me3Al5012/TM02 Al203/Me203/TM02 Me203 10-25% A1203 55-75%
    TM02 10-30%
    Al203/MeA103/TM02 Al203/Me203/TM02 Me203 10-30% A1203 50-70%
    TM02 10-35%
    Al203 MgAl204/TM02 Al203/MgO/TM02 AI2O3 35-50% TM02 25-45%
    MgO 15-40%
    TMB2/B4C/SiC/C TMN/B4C/SiC SiC 20-35% TMN 10-30%
    B4C 40-60%
    TMB2/B4C/SiC/C TMC (或 TM2C) B4C/SiC SiC 20-35% TMC (或 TM2C) 10-30%
    B4C 40-60%
    TMB2/B4C/SiC/C TM/B4C/SiC SiC 20-35% TM 10-30%
    B4C 40-60%
    TMB2/B4C/SiC/C TM02/B4C/SiC/C SiC 20-35% TM02 10-30%
    B4C 30-50% C 10-40%
    B4C/SiC/MeB6/C B4C/SiC/MeN SiC 30-50% MeN 5-25%
    B4C 40-60%
    B4C/SiC/MeB6/C B4C/SiC/Me SiC 30-50% Me 5-25%
    B4C 40-60%
    B4C/SiC/MeB6/C B4C/SiC/Me203 SiC 25-45% Me203 5-20%
    B4C 45-65% TMB2/SiC/MeB6/B4C TMB2/SiC/MeB6/B4C SiC 30-50% TMB2 5-25%
    MeB6 5-20% B4C 35-55%
    TMB2/SiC/MeB6/B4C/C TMN/SiC/MeB6/B4C SiC 30-55% TMN 5-25%
    MeB6 5-20% B4C 35-60%
    TMB2/SiC/MeB6/B4C/C TMC (或 TM2C)/SiC/MeB6/B4C SiC 30-55% TMC (或 TM2C) 5-25%
    MeB6 5-20% B4C 35-60% TMB2/SiC/MeB6/B4C/C TM/SiC/MeB6/B4C SiC 30-55% TM 5-25%
    MeB6 5-20% B4C 35-60%
    TMB2/SiC/MeB6/B4C/C TM02/SiC/MeB6/B4C/C SiC 20-35% TM02 5-25%
    MeB6 5-20% B4C 10-35% C 5-30% TMB2/SiC/MeB6/B4C/C TMB2/SiC/MeN/B4C SiC 25-50% MeN 5-20%
    TMB2 5-25% B4C 35-60%
    TMB2/SiC/MeB6/B4C/C TMB2/SiC/Me/B4C SiC 25-50% Me 5-20%
    TMB2 5-25% B4C 35-60%
    TMB2/SiC/MeB6/B4C/C TMB2/SiC/Me203/B4C SiC 20-45% Me203 5-20%
    TMB2 5-25% B4C 30-55%
    TMB2/MeB6/B4C/C TMN/MeB6/B4C MeB6 5-25% TMN 10-30%
    B4C 45-70%
    TMB2/MeB6 B4C/C TMC (或 TM2C)/MeB6/B4C MeB6 5-25% TMC (或 TM2C) 10-30%
    B4C 45-70%
    TMB2/MeB6/B4C/C TM/MeB6/B4C MeB6 5-25% TM 10-30%
    B C 45-70%
    TMB2 MeB6/B4C/C TM02/MeB6/B4C/C MeB6 5-15% TM02 10-30%
    B4C 30-55% C 20-45%
    TMB2/MeB6/B4C/C TMB2/MeN/B4C TMB2 10-30% MeN 5-25%
    B4C 45-70%
    TMB2/MeB6/B4C/C TMB2/Me/B4C TMB2 10-30% Me 5-25%
    B C 45-70%
    TMB2/MeB6/B4C/C TMB2/Me203/B4C TMB25-30% Me203 2-15%
    B4C 45-70% Al203/MeA103/MgAl204/TM02 Al203/Me203/MgO/TM02 Me203 5-30% A1203 35-50%
    TM02 15-35% MgO 5-25% Al203/Me3Al5012/MgAl204/TM02 Al203/Me203/MgO/TM02 Me203 5-25% A1203 35-55%
    TM02 15-35% MgO 5-25%。
  7. 7、 根据权利要求 2所述的共晶粉末添加剂的制备方法， 其特征在于： 包括以下步骤 (i)或步骤 (ii)， 其中：
    (i) 由原料中的各组元均匀混合制得混合粉末， 得到共晶粉末，
    其中所述原料为 C、 Me、 TM、 MgO、 TM02、 Me203、 MgAI204、 MeA ¾、 Me3Al5012、 TMN、 MeN、 TMC、 TM2C、 TMB2、 TMB、 MeB6、 A1203、 SiC、 B4C;
    (ii)将步骤 （i) 中得到的共晶粉末为原料用高温熔融固化法制得复合材料， 所述复 合材料在研钵或游星型粉碎机中压碎并研磨成大小为 0.1~50μιη的粉末， 即制得共晶复合 粉末添加剂。
  8. 8、 根据权利要求 7所述的共晶粉末添加剂的制备方法， 其特征在于： 步骤 (ii)中的熔 融固化法可采用电弧熔炼法或浮区法或下拉法或引上法或喷雾法或滚筒熔体旋转急冷法 或铸造法。
  9. 9、 根据权利要求 7所述共晶粉末添加剂的制备方法， 其特征在于：
    步骤 (i)按上述任一组所述配方称取原料，分别在塑料滚筒中均匀混合制得共晶粉末添 加剂，
    或步骤 (i i) : 以步骤 (i)得到的混合粉末添加剂为原料，在 10-20MPa压力下压制成直 径为 5-20mm的圆柱状坯体， 然后在小型直流电弧熔炼炉中， 在 10-30cmHg的 Ar气氛中 制得 TMB2/MeB6， TMB2/SiC , C/TMB2/SiC , TMB2/SiC/B4C , TMB2/MeB6/B4C , TMB2/TMC/SiC， SiC/MeB6/B4C, TMB2/SiC/MeB6) TMB2/SiC/B4C/C, B4C/SiC/MeB6/C, TMB2/MeB6/B4C/C， TMB2/SiC/MeB6/B4C/C , TMB2/SiC/MeB6/B4C等共晶复合陶瓷材料， 分别在研钵或游星型粉碎机中压碎成粒度为 0.1-50μιη的具有共晶复合结构的共晶复合粉 末添加剂。
  10. 10、 根据权利要求 1所述，共晶粉末添加剂包括不同共晶粉末的组合、 不同共晶复合 粉末的组合、 共晶粉末和共晶复合粉末的组合。
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