CN101097241B - 半导体装置及半导体测定装置 - Google Patents

半导体装置及半导体测定装置 Download PDF

Info

Publication number
CN101097241B
CN101097241B CN2007101101885A CN200710110188A CN101097241B CN 101097241 B CN101097241 B CN 101097241B CN 2007101101885 A CN2007101101885 A CN 2007101101885A CN 200710110188 A CN200710110188 A CN 200710110188A CN 101097241 B CN101097241 B CN 101097241B
Authority
CN
China
Prior art keywords
terminal
voltage
semiconductor device
semiconductor
mentioned
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN2007101101885A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101097241A (zh
Inventor
岸冈俊树
志和屋阳一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Microelectronics Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Publication of CN101097241A publication Critical patent/CN101097241A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101097241B publication Critical patent/CN101097241B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/2607Circuits therefor
    • G01R31/2632Circuits therefor for testing diodes
    • G01R31/2635Testing light-emitting diodes, laser diodes or photodiodes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R19/00Arrangements for measuring currents or voltages or for indicating presence or sign thereof
    • G01R19/165Indicating that current or voltage is either above or below a predetermined value or within or outside a predetermined range of values

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

本发明涉及在半导体装置外部端子的电流电压测定时不需要开尔文探测器及电压测定装置的半导体装置及半导体测定装置。半导体装置210设有:用于连接负载的端子A,用于向负载提供电流的电流驱动用晶体管M1,比较端子A和基准电压Vref的比较器211,与比较器211的输出端连接的端子B。当端子A达到基准电压时,半导体装置210使从端子B输出的信号电平变化。半导体测定装置220读取端子B输出的信号电平变化时刻的端子A电流值,因此,即使不测定端子A电压,也能够测定端子A电压和电流值。

Description

半导体装置及半导体测定装置
技术领域
本发明涉及半导体装置及半导体测定装置。
背景技术
在内置向照明用LED(发光二极管)或显示用LED提供电流的电流驱动用晶体管的半导体装置中,与电流驱动用晶体管的输出端连接的外部端子的规格均有规定,例如,当外部端子的电压为规定电压(例如,0.4V)时,负载电流为规定电流(例如,300mA)以上。
作为向LED供给电流的半导体装置,例如,日本特开2002-319707号公报的图15中公开了如下所述的LED驱动电路。图1表示上述公报的图15所示的现有的LED驱动电路图。
电源电压VDD施加于LED驱动电路100的电源端子10上。在恒流发生电路15中,误差放大电路12将基准电压电路11的输出电压Vref与电阻13的电压Va的差电压放大,该被放大的差电压控制晶体管14的栅电压。LED驱动电路100的外部端子1及2分别连接于LED19和LED20。这里,与流过电阻13的电流相同的电流流过晶体管14及16。在LED驱动电路100中,构成电流反射镜电路的晶体管16、17、18具有相同的特性,因此,与晶体管16相同的电流流过晶体管17、18。由于电流通过该晶体管17、18,所以LED19、LED20发亮。
为了确定半导体装置实际上是否按照规定动作,测定半导体装置的外部端子的电流及电压。
在测定时,当一边向外部端子供给电流,一边测定端子电压的场合,因从测定装置到半导体装置的外部端子之间存在的、测定装置内部的配线电阻、IC插头的配线电阻、以及IC插头与外部端子的接触电阻等为起因发生电压降,因此,很难准确测定电压。
在现有的技术中,用被称为开尔文探测器的特殊探测器来测定半导体装置的外部端子的电流及电压。在该探测器中,供给电流的力探针和检测电压的传感探针处于绝缘状态,使该两个探针与半导体装置的外部端子接触。
日本特开2004-150981号公报公开了关于半导体装置外部端子为引线形式的IC场合的开尔文探测器:一种半导体装置的电气特性测定装置及电气特性测定方法,不受引线端子的尺寸变动的影响,能使两个测定用接触子与引线端子可靠接触。
另外,日本特开2005-28335号公报和特开2006-38459号公报公开了关于半导体装置外部端子为焊接球如BAG封装等场合:前者公开了一种用两个探针能自由地检查焊接球的2探针开尔文探测器;后者公开了一种能准确测定收藏在BAG封装中的元件的电气特性的BAG封装用检查工具及检查方法。
还有,在半导体装置外部端子的电流及电压测定中,不使用如上所述的开尔文探测器场合,在半导体装置中,将外部端子分成两部分,即,单独设置电流供给用端子和电压测定用端子。
但是,随着近年的IC封装的小型化,半导体装置的外部端子形状变得越来越小。用开尔文探测器测定时,因使两个电极在绝缘状态下与一个外部端子接触,所以随着外部端子的小型化,接触可靠性降低。再有,开尔文探测器本身的小型化也有限度。另外,当将半导体装置外部端子分成电流供给端子和电压检测端子的两部分场合,在半导体测定装置中必须设置电流供给装置和电压测定装置,使得半导体测定装置变得复杂、成本高。
发明内容
本发明就是为解决上述先有技术所存在的问题而提出来的,本发明的目的在于,提供一种在半导体装置外部端子的电流及电压测定时不需要开尔文探测器及电压测定装置的半导体装置及半导体测定装置。
为了实现上述目的,本发明提出一种半导体装置,具有用于连接负载的第一外部端子,内置用于向上述负载提供电流的电流驱动用晶体管,其特征在于,包括:
比较器,用于比较上述第一外部端子电压和基准电压;
第二外部端子,与上述比较器的输出端连接;。
升压电路,将电源电压提升,向上述负载供给电力;
其中,上述升压电路的升压率根据上述比较器的输出变化。按照本构成,能够在上述第一外部端子的电压达到基准电压时输出表示其的信号。并且,按照本构成,不必要追加新的比较器,能抑制电路规模增大。
为了实现上述目的,本发明提出一种半导体测定装置,用于测定半导体装置,上述半导体装置具有用于连接负载的第一外部端子,和用于向上述负载提供电流的电流驱动用晶体管,和用于比较上述第一外部端子电压和基准电压的比较器,和与上述比较器的输出端连接的第二外部端子,其特征在于,包括:
可变电压源,向上述第一外部端子供给电压;
电流测定电路,用于测定流过上述第一外部端子和上述可变电压源之间的电流;
当上述第二外部端子的电压电平变化时,读取上述电流测定电路的电流值。
按照本构成,由于在上述第二外部端子的电压电平变化时,读取上述电流测定电路的电流值,因此,不需要开尔文探测器和电压测定装置。
下面说明本发明的效果。
如上所述可知,按照本发明的半导体装置及半导体测定装置,在半导体装置外部端子的电流及电压测定时,不需要开尔文探测器,且不需要电压测定装置。
附图说明
图1是日本特开2002-319707号公报的图15所示的以往的LED驱动电路图;
图2表示本发明第一实施例的半导体装置210和半导体测定装置220的电路例;
图3表示半导体装置210的电气特性例;
图4表示本发明第二实施例的半导体装置210A和半导体测定装置220的电路例。
具体实施方式
本发明的半导体装置内置用于向负载供给电流的电流驱动用晶体管,设有:用于连接负载的第一外部端子,用于比较第一外部端子电压和基准电压的比较器,与比较器的输出端连接的第二外部端子。当第一外部端子电压达到基准电压时,半导体装置使得来自第二外部端子的输出信号的信号电平变化。
本发明的半导体测定装置设有:向第一外部端子供给电压的可变电压源,测定流过第一外部端子和可变电压源之间电流的电流测定电路,当第二外部端子的电压电平变化时,读取电流测定电路。因此,半导体测定装置能测定半导体装置的第一外部端子电压达到基准电压时刻的电流值。
下面参照附图,详细说明本发明实施例。
第一实施例
图2表示本发明第一实施例的半导体装置210和半导体测定装置220的电路例。
半导体装置210是按照规定制成的,以使得其规格能满足规定的电气特性,半导体测定装置220测定半导体装置210的电气特性。
下面说明半导体装置210。
半导体装置210设有比较器211、电流源212、以及NMOS晶体管M1、M2。另外,半导体装置210具有作为第一外部端子的端子A和作为第二外部端子的端子B。
基准电压Vref施加于比较器211的反相输入端,非反相输入端与端子A连接,而比较器211的输出端与端子B连接。
NMOS晶体管M1、M2的各源极分别接地,各栅极连接在一起。该连接在一起的栅极与NMOS晶体管M2的漏极连接。NMOS晶体管M2的漏极与电流源212连接,该电流源212供给NMOS晶体管M2的漏电流。再有,本实施例的电流源212可以具有与图1的恒流发生电流15相同的构成。NMOS晶体管M1的漏极与端子A连接。
这里,NMOS晶体管M1、M2构成电流镜电路,因此,NMOS晶体管M1的漏电流成为与由电流源212供给的电流成比例的电流。例如,当NMOS晶体管M1和NMOS晶体管M2的元件大小比为1000∶1场合,NMOS晶体管M1的漏电流为由电流源212供给的电流的1000倍。
本实施例的半导体装置210是例如LED驱动电路等,在端子A与设置在半导体装置210外部的未图示的电源之间,连接作为负载的LED。
另外,半导体装置210的电气特性是指例如“当端子A电压为规定电压时,向连接于端子A的负载供给规定的电流”的特性,在本实施例中,将规定电压设定为0.4V,将规定电流源设定为300mA。
下面说明半导体测定装置。
半导体测定装置220设有电流测定电路221和可变电压源Vt。另外,半导体测定装置220具有与半导体装置210端子A连接的端子a、与半导体装置210端子B连接的端子b。半导体测定装置220通过读取半导体装置210端子A的电压达到规定电压时流过端子A的电流值来测定半导体装置210的电气特性。
可变电压源Vt的一端接地,另一端通过电压测定电路221与端子a连接,由端子a通过电阻R1向端子A供给电压。在此,电阻R1表示从半导体测定装置220到半导体装置210端子A中存在的所有的配线电阻的总和。本实施例的电阻R1包括:例如,半导体测定装置220中的配线电阻、IC插头的配线电阻、IC插头和端子A的接触电阻等。
电流测定电路221测定流过可变电压源Vt和端子A之间的电流值,该电流测定电路221与端子b连接。电流测定电路221根据端子b供给的信号,读取可变电压源Vt和端子A之间的电流值。
下面,参照图3说明由半导体测定装置220测定半导体装置210电气特性的测定流程。图3表示半导体装置210的电气特性一例。
半导体装置210的基准电压Vref被设定为与规格中的规定电压相同的电压。由于本实施例中的规定电压为0.4V,因此,基准电压被设定为0.4V。
在此,若将半导体测定装置220设有的可变电压源Vt的电压逐渐提升,则如图3所示,NMOS晶体管M1的漏电流Id增加,同时,端子A电压上升。这时,端子A电压成为从可变电压源Vt减去电阻R1的电压降的电压。
若端子A电压达到基准电压Vref(0.4V),则比较器的输出从低电平切换到高电平。该高电平信号从端子B经过半导体测定装置220的端子b供给到电流测定电路221。
在半导体测定装置220中,若接受到该高电平,则电流测定电路221读取流过可变电压源Vt和端子A之间的电流值。
按照如上所述方法,能够测定端子A电压达到规定电压0.4V时流过端子A的电流值。这时,如果流过端子A的电流为规定电流的300mA,就可以说半导体装置210满足了规定的电气特性。即,半导体测定装置220能测定半导体装置210是否满足规定的电气特性。也可以在半导体装置210出品之前实行上述测定。
如上所述可知,按照本发明的半导体装置210及半导体测定装置220,不使用开尔文探测器,也能测定半导体装置210的电气特性。进而,按照本发明的半导体装置210及半导体测定装置220,由于半导体测定装置220读取半导体装置210的端子A达到半导体装置210内部的所设定基准电压时的端子A的电流值,因此,即使不测定端子A电压,也能够测定端子A电压和电流。因此,在半导体测定装置中不必要设置电压测定装置,能实现更简单且成本低的半导体测定装置。
第二实施例
下面,参照图4说明本发明第二实施例。图4表示本发明第二实施例的半导体装置210A和半导体测定装置220的电路例。
第二实施例与第一实施例不同点在于,在半导体装置210A中设置充电泵电路213,和输入充电泵电路213输入端IN的电源电压Vin,和与充电泵电路213的输出端OUT连接的端子C。因此,在图4说明中,仅说明与第一实施例不同点,与第一实施例相同构成及相同功能的部分标以与图2相同符号,说明省略。
充电泵电路213具有输入端IN、输出端OUT、以及升压率控制端CTL。充电泵电路213为升压电路,其将施加于输入端IN的电源电压Vin以规定升压率提升并输出。另外,充电泵电路213以与施加于升压率控制端CTL的信号相对应的升压率将电源电压Vin提升。而且,从输出端OUT输出该升压后的电压。
输出端OUT与端子C连接,提供给端子C的电压用作提供给与端子C连接的未图示的负载的电源。这种场合,未图示的负载指例如LED等,该负载也可以连接于端子C和端子A之间。
升压率控制端CTL与比较器211的输出端连接,根据比较器211的输出,控制充电泵电路213的升压率。在本实施例中,当端子A电压小于基准电压Vref场合,即,比较器211的输出为低电平时,充电泵电路213使其升压率升高。即,当端子A电压小于基准电压时,端子C电压与电源电压Vin相比成为高电压。另外,稍后说明充电泵电路213的升压率及其控制方法。
按照上述构成,当例如LED等负载连接于端子A和端子C之间场合,能够将端子A电压提升到基准电压Vref,使得半导体装置处于能向负载提供充分的电流的状态。另外,充电泵电路213也可以当端子A电压达到基准电压Vref时,即,比较器211的输出为高电平时,使得其升压率降低。
在此,说明充电泵电路213的升压率。在充电泵电路213中,可以随意设定升压率,如1.5倍、2倍等。例如,当施加于升压率控制端CTL的信号为低电平时,充电泵电路210将升压率设定为2倍,提升施加于输入端IN的电源电压Vin;当施加于升压率控制端CTL的信号为高电平时,充电泵电路210将升压率设定为1.5倍,提升施加于输入端IN的电源电压Vin。另外,也可以使用电感器、电容器等实现充电泵电路213。
本实施例的半导体测定装置220对半导体装置210A的测定流程与第一实施例相同。
即,按照本发明实施例,充电泵电路213的升压率设定用的比较器可以兼作半导体装置210A的电气特性测定用的设备。因此,本实施例的半导体装置210A能抑制电路规模增大以及成本高。
如上所述,按照本发明的半导体装置及半导体测定装置,可以不使用开尔文探测器,而测定半导体装置的电气特性。另外,按照本发明,不必要在半导体测定装置中设置电压测定装置,因此,能实现更简单且成本低的半导体测定装置。
按照本发明,在半导体装置中,充电泵电路的升压率设定用的基准电压Vref和比较器可以兼作半导体装置的电气特性测定用的设备,因此,能抑制电路规模增大和成本上升。
上面根据各实施例说明了本发明,但本发明并不局限于上述实施例。在本发明技术思想范围内可以作种种变更,它们都属于本发明的保护范围。

Claims (1)

1.一种半导体测定装置,用于测定半导体装置,上述半导体装置设有用于连接负载的第一外部端子,和用于向上述负载提供电流的电流驱动用晶体管,和用于比较上述第一外部端子电压和基准电压的比较器,和与上述比较器的输出端连接的第二外部端子,其特征在于,包括:
可变电压源,向上述第一外部端子供给电压;
电流测定电路,测定流过上述第一外部端子和上述可变电压源之间的电流;
当上述第二外部端子的电压电平变化时,读取上述电流测定电路的电流值。
CN2007101101885A 2006-06-28 2007-06-18 半导体装置及半导体测定装置 Expired - Fee Related CN101097241B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006178290A JP4746489B2 (ja) 2006-06-28 2006-06-28 半導体測定装置
JP178290/06 2006-06-28

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101097241A CN101097241A (zh) 2008-01-02
CN101097241B true CN101097241B (zh) 2010-06-23

Family

ID=39011227

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2007101101885A Expired - Fee Related CN101097241B (zh) 2006-06-28 2007-06-18 半导体装置及半导体测定装置

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP4746489B2 (zh)
KR (1) KR100915931B1 (zh)
CN (1) CN101097241B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6417137B2 (ja) * 2014-07-14 2018-10-31 株式会社ヒューモラボラトリー コンデンサの絶縁抵抗測定装置
CN108072786A (zh) * 2016-11-15 2018-05-25 北京同方微电子有限公司 一种低电压检测电路
JP7325352B2 (ja) * 2020-02-07 2023-08-14 エイブリック株式会社 基準電圧回路

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1407700A (zh) * 2001-08-07 2003-04-02 精工电子有限公司 升压和降压开关调节器控制电路及升压和降压开关调节器
US7068024B1 (en) * 2004-12-30 2006-06-27 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Voltage regulator having positive temperature coefficient for self-compensation and related method of regulating voltage

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01163878A (ja) * 1987-12-21 1989-06-28 Dainippon Printing Co Ltd 人物画像割付装置
JPH0631430Y2 (ja) * 1988-05-06 1994-08-22 株式会社アドバンテスト 直流試験装置
JP2522466B2 (ja) * 1990-11-28 1996-08-07 日本電装株式会社 電力用半導体装置
JP3324363B2 (ja) * 1995-11-01 2002-09-17 日産自動車株式会社 破損検知手段を有する半導体集積回路
KR100382718B1 (ko) * 2000-08-21 2003-05-09 삼성전자주식회사 출력전류 보상회로를 구비하는 출력드라이버
KR100378193B1 (ko) * 2001-02-14 2003-03-29 삼성전자주식회사 반도체 메모리장치의 입출력 회로 및 전류제어 회로
JP2003152224A (ja) * 2001-11-16 2003-05-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd 高効率led駆動システム

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1407700A (zh) * 2001-08-07 2003-04-02 精工电子有限公司 升压和降压开关调节器控制电路及升压和降压开关调节器
US7068024B1 (en) * 2004-12-30 2006-06-27 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Voltage regulator having positive temperature coefficient for self-compensation and related method of regulating voltage

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008008714A (ja) 2008-01-17
KR20080001639A (ko) 2008-01-03
KR100915931B1 (ko) 2009-09-07
JP4746489B2 (ja) 2011-08-10
CN101097241A (zh) 2008-01-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110763981B (zh) 集成电路芯片的检测系统和方法
US9658270B2 (en) Inspection method of sensor device and sensor device
US7746061B2 (en) Method of performing signal-measured calibration
CN105258817A (zh) 用于分立半导体器件的集成温度传感器
KR20060043676A (ko) 전류 검출 기능이 부가된 반도체 집적 회로, 및 이를이용한 전원 장치
US8164351B2 (en) Test apparatus
CN106053929A (zh) 半导体器件的电流检测方法和半导体器件
CN101660928A (zh) 2端子型半导体传感器装置
JP2014509747A (ja) 電流センサ
CN103439645B (zh) Ctia型cmos焦平面读出电路及测试方法
US11002772B2 (en) Using PCB temperature compensation trace to perform DCR current sensing in power supply circuitry
JP2014509747A5 (zh)
CN101097241B (zh) 半导体装置及半导体测定装置
EP2017633B1 (en) Power applying circuit and testing apparatus
US20100277150A1 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
US6448798B1 (en) Electronic device system including semiconductor integrated circuits
CN113296025B (zh) 一种用于ate测试的精密高压微小漏电流测量模块
US20110031984A1 (en) Test apparatus
EP0590221A1 (en) Current measuring structure for testing integrated circuits
US20150288354A1 (en) Semiconductor device for sensing physical quantity
JP2003137020A (ja) 電気負荷の断線検出装置
US8810252B2 (en) Solder joint inspection
JP5319982B2 (ja) 半導体装置
JP4811986B2 (ja) 半導体集積回路の検査方法
JP6417137B2 (ja) コンデンサの絶縁抵抗測定装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: RICOH MICROELECTRONICS CO., LTD.

Free format text: FORMER OWNER: RICOH CO. LTD.

Effective date: 20150402

TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20150402

Address after: Osaka

Patentee after: Ricoh Microelectronics Co., Ltd.

Address before: Tokyo, Japan, Japan

Patentee before: Ricoh Co., Ltd.

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20100623

Termination date: 20150618

EXPY Termination of patent right or utility model