CN101084213A - 2-(吡唑-1-基)吡啶衍生物 - Google Patents

2-(吡唑-1-基)吡啶衍生物 Download PDF

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CN101084213A
CN101084213A CNA2005800436185A CN200580043618A CN101084213A CN 101084213 A CN101084213 A CN 101084213A CN A2005800436185 A CNA2005800436185 A CN A2005800436185A CN 200580043618 A CN200580043618 A CN 200580043618A CN 101084213 A CN101084213 A CN 101084213A
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清水纯夫
箱木敏和
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Shionogi and Co Ltd
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Shionogi and Co Ltd
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Abstract

本发明通过使用式(2)表示的化合物(式中,R表示受保护的羟基或式(3)表示的基团(式(3)中,R1为烷基或可取代的芳烷基,R2为烷基)),可以有效地制造式(1)表示的化合物。

Description

2-(吡唑-1-基)吡啶衍生物
技术领域
本发明涉及2-(吡唑-1-基)吡啶衍生物、其制造方法、及其使用方法。
背景技术
在专利文献1中,公开了作为抗菌剂有用的下式表示的化合物:
Figure A20058004361800081
作为其中间体,公开有下式表示的化合物。
Figure A20058004361800082
另外,作为其制造方法,记载有以下反应。
Figure A20058004361800083
专利文献1:美国专利公开公报第2004/0171818号
发明内容
发明要解决的技术问题
提供下式所表示的抗菌剂的制造方法。
Figure A20058004361800091
解决技术问题的方法
发现了作为式
Figure A20058004361800092
所表示的抗菌剂的中间体的式
Figure A20058004361800093
所表示的化合物的新型合成方法。
即,发现了下式所表示的化合物、其制造方法及使用方法。
Figure A20058004361800101
[式中,R表示受保护的羟基或下式表示的基团
Figure A20058004361800102
(式中,R1和R2各自独立,为氢、烷基、可取代的芳烷基或可取代的芳基)]。
本发明包括以下发明:
(1)下式表示的化合物
Figure A20058004361800103
[式中,R表示受保护的羟基或下式表示的基团
Figure A20058004361800104
(式中、R1和R2各自独立,为氢、烷基、可取代的芳烷基、可取代的芳基或可取代的杂芳基)]。
(2)式V表示的化合物的制造方法,
Figure A20058004361800105
(式中,R1和R2的定义与下述相同)
其特征在于,在碱或酸的存在下,使式IV表示的化合物与式III表示的化合物反应,
Figure A20058004361800111
(式中、R1和R2各自独立,为氢、烷基、可取代的芳烷基、可取代的芳基或可取代的杂芳基,X表示卤素)
Figure A20058004361800112
(3)式VI表示的化合物或其盐的制造方法,
Figure A20058004361800113
其特征在于,使式V表示的化合物在酸的存在下水解,
Figure A20058004361800114
(式中、R1和R2各自独立,为氢、烷基、可取代的芳烷基、可取代的芳基或可取代的杂芳基)。
(4)式IX表示的化合物的制造方法,
(式中,R3的定义与下述相同)
其特征在于,在碱或酸的存在下,使式IV表示的化合物与式VIII表示的化合物反应,
Figure A20058004361800121
(式中,R3表示羟基的保护基,X表示卤素)
Figure A20058004361800122
(5)式X表示的化合物的制造方法,
其特征在于,使式IX表示的化合物在酸的存在下水解,
Figure A20058004361800124
(式中,R3表示羟基的保护基)。
(6)式XI表示的化合物的制造方法,
Figure A20058004361800125
(式中,R表示卤素)
其特征在于,由(5)所述方法得到式X表示的化合物,使卤化剂与所得式X表示的化合物反应,
(7)式XIII表示的化合物的制造方法,
Figure A20058004361800132
其特征在于,由(6)所述方法得到式XI表示的化合物,使式XII表示的化合物与所得式XI表示的化合物反应,
Figure A20058004361800133
(式中,X表示卤素)
Figure A20058004361800134
(8)式VI表示的化合物或其盐的制造方法,
Figure A20058004361800135
其特征在于,由(7)所述方法得到式XIII表示的化合物,使所得化合物在碱的存在下水解,
Figure A20058004361800141
(9)下式表示的化合物的制造方法,
Figure A20058004361800142
其特征在于,由(3)或(8)所述方法得到式VI表示的化合物或其盐,在酸或碱的存在下,使所得化合物或其盐与下式表示的化合物发生反应
Figure A20058004361800143
(10)式V表示的化合物的制造方法,
(式中,R1和R2的定义与下述相同)
其特征在于,使式II表示的化合物与式XI表示的化合物反应,
(式中,X表示卤素)
Figure A20058004361800152
(式中,R1和R2各自独立,为氢、烷基、可取代的芳烷基或可取代的芳基)。
(11)式VI表示的化合物的盐,
Figure A20058004361800153
(12)上述(11)所述的盐,为盐酸盐、硫酸盐、三氯乙酸盐或三氟乙酸盐。
(13)下式表示的化合物,
Figure A20058004361800154
(式中,X表示卤素)。
具体实施方式
本发明化合物是下式表示的化合物
Figure A20058004361800155
[式中,R表示受保护的羟基或下式表示的基团
Figure A20058004361800161
(式中、R1和R2各自独立,为氢、烷基、可取代的芳烷基、可取代的芳基或可取代的杂芳基)]。
受保护的羟基是指受保护基保护的羟基。保护基可举出四氢吡喃基、甲氧基甲基、1-甲氧基-1-甲基乙基、1-乙氧基乙基、甲基、苄基、取代苄基等。特别优选四氢吡喃基。取代苄基的取代基可举出烷基、硝基、卤素等。
烷基是指碳数1~8个的直链或支链的烷基。例如可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、叔戊基、正己烷、异己烷等。优选碳数1~4个的直链或支链的烷基,可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基等。
芳烷基是指苯基或萘基取代的上述烷基。例如可举出苄基、苯乙基、萘甲基等。
芳基是指碳数6~14个的单环或缩合的芳香族碳环式基团。例如可举出苯基、萘基、菲基等。特别优选苯基。
杂芳基是指环内含有1~4个氧原子、硫原子和/或氮原子的5~8元的芳香族杂环式基团、或5~8元的芳香族杂环与1~4个的5~8元的芳香族碳环或其他5~8元的芳香族杂环缩合的芳香族杂环式基团,可取代的任意的位置上具有“结合键”。予以说明,环中的碳原子、氮原子上的任意位置也具有“结合键”。例如可举出噻吩基、呋喃基、吡咯基、咪唑基、吡唑基、三唑基、四唑基、  唑基、异唑基、噻唑基、异噻唑基、吡啶基、哒嗪基、嘧啶基、呋吖基(furazanyl)、吡嗪基、噻二唑基、二唑基、苯并呋喃基、苯并噻吩基、苯并咪唑基、苯并  唑基、吲哚基、二苯并呋喃基、喹啉基、异喹啉基、噌啉基、喹唑啉基、喹喔啉基、酞嗪基、嘌呤基、蝶啶基、咔唑基、菲啶基、亚啶基、Phanazinyl、1,1O-菲绕啉基、异吲哚基、1H-吲哚基、吲哚嗪(indolidinyl)基等。
烷基氧的烷基部分与上述烷基相同。
卤素是指氟、氯、溴、碘。
可取代的烷基、可取代的芳基、可取代的杂芳基的取代基可举出上述烷基、上述烷氧基、卤素等。
以下,说明使用本发明化合物的下式表示的化合物的制造方法,
第1工序
该工序是使式IV表示的化合物与式III表示的化合物(R1和R2各自独立,为氢、烷基、可取代的芳烷基、可取代的芳基或可取代的杂芳基,X为卤素)在碱或酸的存在下反应,得到式V表示的化合物的工序。
碱可以使用氢化钠、氢化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、三乙胺、DBU(1,8-二氮杂二环[5.4.0]十一碳-7-烯)、甲醇钠、叔丁氧基钾等。碱的量例如相对于式III表示的化合物可以使用1.05~1.5当量。
另外,酸可以使用对甲苯磺酸、苯磺酸、硫酸、乙酸、盐酸等。酸的量例如相对于式III表示的化合物可以使用05~1.5当量。溶剂可以使用二甲亚砜、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、四氢呋喃、N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基咪唑烷酮、二甘醇二甲醚、三甘醇二甲醚等。反应可在约0~150℃、例如120℃下进行。予以说明,可在催化剂量(例如0.1~0.2当量)的对甲苯磺酸钠、碘化钠、碘化钾、对甲苯亚磺酸钠的存在下进行。
式III表示的化合物是通过使式H表示的化合物(R1和R2各自独立,为氢、烷基、可取代的芳烷基、可取代的芳基或可取代的杂芳基)与式I表示的化合物(例如R为卤素、烷基磺酰氧基或芳基磺酰氧基,X为卤素)在碱的存在下,在二甲基甲酰胺、二甲亚砜、N-甲基吡咯烷酮等溶剂中发生反应而得到的。例如碱可以使用氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾等。另外,溶剂中也可以含有水。式III表示的化合物可以举出R1和R2各自独立,为氢、烷基、可取代的芳烷基、可取代的芳基或可取代的杂芳基,X为卤素的化合物。例如可以使用R1和R2为甲基的化合物,R1为乙基、R2为甲基的化合物,R1为苯基、R2为甲基的化合物等。
第2工序
该工序是通过使式V表示的化合物(R1和R2各自独立,为氢、烷基、可取代的芳烷基、可取代的芳基或可取代的杂芳基)在酸的存在下水解,得到式VI表示的化合物的工序。
酸可以使用盐酸(浓盐酸、稀盐酸)、硫酸、磷酸、硝酸。溶剂可以使用醇、乙酸、乙酸乙酯、乙腈、二甲基甲酰胺等。特别优选在水溶剂中使用稀硫酸进行水解。反应可以在-20~150℃下进行,例如可以在室温下进行。
Figure A20058004361800181
第3工序
该工序是使式IV表示的化合物与式VIII表示的化合物(R3为羟基的保护基,X为卤素)在碱或酸的存在下反应,得到式IX表示的化合物的工序。
碱可以使用氢化钠、氢化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、叔丁氧基钾、甲醇钠等。碱的量例如相对于式VIII表示的化合物,可以使用1.05~1.5当量。
酸可以使用对甲苯磺酸、苯磺酸、硫酸、乙酸、盐酸等。
溶剂可以使用二甲基亚砜、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、四氢呋喃、N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基咪唑烷酮、二甘醇二甲醚、三甘醇二甲醚等。
反应可以在0~150℃、例如120℃下进行。予以说明,可以使用催化剂量(例如0.1~0.2当量)的对甲苯亚磺酸钠。
羟基保护基可举出四氢吡喃基、甲氧基甲基、1-甲氧基-1-甲基乙基、1-乙氧基乙基、甲基、苄基、取代苄基等。特别优选四氢吡喃基。
卤素可举出氟、氯、溴、碘。特别优选氯。
第4工序
该工序是使式IX表示的化合物(R3为羟基的保护基)在酸的存在下水解、或在氢气气氛下氢化裂解,得到式X表示的化合物的工序。
酸可以使用盐酸(浓盐酸、稀盐酸)、硫酸、硝酸、乙酸、酸性离子交换树脂、固体酸等。特别优选浓盐酸。
溶剂可以使用醇。例如甲醇、乙醇、异丙醇、特别优选异丙醇。反应可在0~50℃下进行,例如可在室温下进行。
第5工序
该工序是通过使卤化剂与式X表示的化合物发生反应,得到式XI表示的化合物的工序。
卤化剂可以使用亚硫酰氯、亚硫酰溴、三溴化磷、草酰氯等。特别优选亚硫酰氯。溶剂可举出苯、甲苯、二甲基甲酰胺、乙酸乙酯、乙腈等。另外,这些溶剂也可以混合使用。例如可以使用甲苯和二甲基甲酰胺的混合溶剂等,反应可在0~50℃下进行,例如可在室温下进行。
第6工序
该工序是通过使式XII表示的化合物与式XI表示的化合物(X为卤素)发生反应,得到式VII表示的化合物的工序。
溶剂可以使用二甲基亚砜、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、四氢呋喃、N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基咪唑烷酮、二甘醇二甲醚、三甘醇二甲醚等。反应优选在碱的存在下进行。碱可以使用DBU(1,8-二氮杂二环[5.4.0]十一碳-7-烯)、三乙胺、氢氧化钠水溶液、氢氧化锂水溶液等。反应可在0~50℃下进行,例如可在室温下进行。
Figure A20058004361800201
第7工序
该工序是使式XI表示的化合物(X为卤素等)与式II表示的化合物在碱的存在进行反应,得到式V表示的化合物的工序。
碱可以使用氢化钠、氢化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、三乙胺、DBU(1,8-二氮杂二环[5.4.0]十一碳-7-烯)、甲醇钠、叔丁氧基钾等。碱的量例如相对于式XI表示的化合物,使用1.05~1.5当量。溶剂可以使用二甲基亚砜、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、四氢呋喃、N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基咪唑烷酮、二甘醇二甲醚、三甘醇二甲醚等。反应可约在0~50℃、例如室温下进行。
式:
Figure A20058004361800202
表示的化合物可根据专利文献1所述的方法来制造。
另外,式
表示的化合物是在酸或碱的存在下,使式VI表示的化合物与式
表示的化合物反应来制造。反应条件等可参考专利文献1。
本发明包含下式表示的化合物的盐,
Figure A20058004361800213
作为盐,可以举出盐酸盐、硫酸盐、三氯乙酸盐、三氟乙酸盐、甲磺酸、对甲苯磺酸、苯磺酸、高氯酸、氢溴酸、苯甲酸类、硝酸、乙酸、碳酸、草酸、磷酸等,特别优选盐酸盐、硫酸盐、三氯乙酸盐或三氟乙酸盐。羟胺本身熔点为42.5-42.6℃,熔点低,稳定性差,生产操作性低。因此,可通过使用如本发明的盐这样的具有高熔点的盐(例如,具有100℃以上熔点的盐;例如,硫酸盐:m.p.=197.8-197.9℃、盐酸盐:m.p.=207.3-207.4℃、三氯乙酸盐:m.p.=127.2-127.3℃、三氟乙酸盐:m.p.=117.7℃)来提高抗菌剂制造中的生产性。
另外,本发明还包括以下化合物。以下的化合物的熔点(X为氯时,m.p.=46-47.5℃)低,但作为结晶的性质优良,易从含水溶剂中析晶。因此,使用本化合物的制造法特别适于工业生产。X为卤素,特别优选为氯。
Figure A20058004361800221
(式中,X为卤素)表示的化合物。
以下陈述实施例,但本发明并不局限于这些实施例。
实施例
参考例1
Figure A20058004361800222
在2-丁酮肟500mg(5.74mmol)和2-氯-5-氯甲基吡啶930mg(5.74mmol)的DMF1.3mL溶液中,在冰水冷却下加入氢氧化钠水溶液610mg(7.32mmol)后,在室温下搅拌3小时。向反应混合物中加入冰水,将其用甲苯进行萃取。所得甲苯层用饱和生理盐水洗涤,用无水硫酸镁干燥后,在减压下蒸馏除去甲苯,得到970mg的残渣(收率80%)。
E体:1H NMR(CDCl3,300MHz)δ1.07(t,3H,J=7.5Hz),1.85(s,3H),2.18(q,2H,J=7.5Hz),5.04(s,2H),7.31(d,1H,J=7.8Hz),7.63-7.68(m,1H),8.36-8.39(m,1H);
TLC(硅胶,甲苯/AcOEt=10/1)Rf=0.45
Z体:1H NMR(CDCl3,300MHz)δ1.04(t,3H,J=7.5Hz),1.84(s,3H),2.34(q,2H,J=7.5Hz),5.03(s,2H),7.31(d,1H,J=8.7Hz),7.62-7.67(m,1H),8.36-8.38(m,1H);
TLC(硅胶,甲苯/AcOEt=10/1)Rf=0.40
参考例2
Figure A20058004361800231
在苯乙酮肟680mg(5.00mmol)和2-氯-5-氯甲基吡啶930mg(5.00mmol)的DMF1.1mL溶液中,在冰水冷却下加入48%氢氧化钠水溶液540mg(6.48mmol)后,在室温下搅拌4小时。向反应混合物中加入冰水,将其用甲苯进行萃取。所得甲苯层用饱和生理盐水洗涤,用无水硫酸镁干燥后,在减压下蒸馏除去甲苯,得到1.25g的残渣。将所得残渣装入硅胶柱色谱中,用4%乙酸乙酯-甲苯溶剂进行洗脱,得到1.07g的目标物(收率82%)。
1H NM R(CDCl3,300MHz)δ2.25(s,3H),5.21(s,2H),7.31-7.39(m,4H),7.57-7.65(m,2H),7.71(dd,1H,J=2.4,8.1Hz),8.43-8.47(m,1H)TLC(硅胶,甲苯/AcOEt=10/1)Rf=0.5
参考例3
Figure A20058004361800232
在冰水冷却下,向48%氢氧化钠水溶液3.34g(40.1mmol)中加入DMF7.5mL和丙酮肟2.48g(33.9mmol),在室温下搅拌。向该反应混合物中加入2-氯-5-氯甲基吡啶5.00g(30.9mml)。再在室温下搅拌1小时。向所得反应混合物中加入冰水50g和食盐4.5g,滤取析出的结晶,得到目标物4.80g(收率78%)。
1H NMR(CDCl3,300MHz)δ1.86(s,3H),1.87(s,3H),5.04(s,2H),7.31(d,1H,J=8.3Hz),7.65(dd,1H,J=2.3,8.3Hz),8.37(d,1H,J=2.3Hz)
TLC(硅胶,甲苯/AcOEt=10/1)Rf=0.35
m.p.=46-47.5℃
实施例1
Figure A20058004361800241
在冰水冷却下,向氢化钠(含量60%)1.97g(45.1mmol)的DMF8mL溶液中顺次滴入吡唑3.33g(48.9mml)的DMF8mL溶液、O-(2-氯吡啶-5-基)甲基2-丁酮肟8.00g(37.6mmol)的DMF8mL溶液。然后,在120℃下加热搅拌3.5小时。向反应混合物中加入水,将其用乙酸乙酯萃取。所得乙酸乙酯层用饱和生理盐水洗涤,用无水硫酸镁干燥后,在减压下蒸馏除去乙酸乙酯。将所得残渣装入硅胶柱色谱中,用10%乙酸乙酯-己烷溶剂进行洗脱,得到7.18g的目标物(收率78%)。
E体:1H NMR(CDCl3,300MHz)δ1.07(t,3H,J=7.8Hz),1.86(s,3H),2.18(q,2H,J=7.8Hz),5.09(s,2H),6.46(dd,1H,J=1.5,2.1Hz),7.74(d,1H,J=1.5Hz),7.81-7.86(m,1H,J=2.4,8.7Hz),7.97(d,1H,J=8.7Hz),8.41(d,1H),8.61(d,1H,J=2.7Hz);
TLC(硅胶,甲苯/AcOEt=5/1)Rf=0.50.
Z体:1H NMR(CDCl3,300MHz)d 1.07(t,3H,J=7.8Hz),1.84(s,3H),2.35(q,2H,J=7.8Hz),5.07(s,2H),6.46(dd,1H,J=1.5,2.1Hz),7.74(d,1H,J=1.5Hz),7.81-7.86(m,1H,J=2.4,8.7Hz),7.97(d,1H,J=8.7Hz),8.41(d,1H),8.61(d,1H,J=2.7Hz);
TLC(硅胶,甲苯/AcOEt=5/1)Rf=0.45.
实施例2
Figure A20058004361800242
在室温下,向吡唑274mg(4.02mmol)的DMF3.5mL溶液中加入55%氢化钠152mg(3.48mmol)后,在室温下搅拌5分钟。加入对甲苯亚磺酸钠48mg(0.27mmol)、O-(2-氯吡啶-5-基)甲基苯乙酮肟704mg(2.70mmol),然后,在120℃下加热搅拌5.5小时。向反应混合物中加入冰水,将其用乙酸乙酯萃取。所得甲苯层用饱和生理盐水洗涤,无水硫酸镁干燥后,在减压下蒸馏除去甲苯,得到839mg的残渣。将所得残渣装入硅胶柱色谱中,用乙酸乙酯-甲苯溶剂进行洗脱,得到461mg的目标物(收率53%)。
1H NMR(CDCl3,300MHz)δ2.26(s,3H),5.25(s,2H),6.46(dd,1H,J=1.7,2.6Hz),7.33-7.39(m,4H),7.59-7.65(m,2H),7.74(dd,1H,J=0.8,1.7Hz),7.88(dd,1H,J=2.1,8.4Hz),7.99(dd,1H,J=2.4,8.4Hz),8.46-8.48(m,1H),8.57(dd,1H,J=0.8,2.6Hz);
TLC(硅胶,甲苯/AcOEt=10/1)Rf=0.6.
实施例3
Figure A20058004361800251
室温下,向吡唑514mg(7.55mmol)的二甘醇二甲醚8mL溶液中加入28%甲醇钠1.26g(6.53mmol)后,在减压下蒸馏除去甲醇和二甘醇二甲醚(合计4mL)。在室温下,向蒸馏的残留物中加入O-(2-氯吡啶-5-基)甲基丙酮肟1.00g(5.03mmol)后,在120℃下加热搅拌6小时20分。向所得反应混合物中加入冰水15mL,滤取析出的结晶,得到目标物860mg(收率74%)。
室温下,向O-(2-氯吡啶-5-基)甲基丙酮肟1.99g(10.0mmol)和吡唑681mg(10.0mmol)的二甘醇二甲醚6mL溶液中加入对甲苯磺酸一水合物1.90g(10.0mmol)后,在100℃下加热搅拌10小时。反应后,向混合物中加入冰水,将其用乙酸乙酯萃取。所得有机层用饱和生理盐水洗涤后,在减压下蒸馏除去乙酸乙酯溶剂。将所得残渣装入硅胶柱色谱中,用乙酸乙酯/己烷(1/20)进行洗脱,由此得到目标物1.22g(收率53%)。
1H NMR(CDCl3,300MHz)δ1.87(s,3H),1.88(s,3H),5.08(s,2H),6.46(dd,1H,J=1.5,2.4Hz),7.73(d,1H,J=1.5Hz),7.81(dd,1H,J=2.4,8.7Hz),7.96(dd,1H,J=0.6,8.7Hz),8.39(d,1H,J=2.4Hz),8.56(dd,1H,J=0.6,2.4Hz);
TLC(硅胶,甲苯/AcOEt=4/1)Rf=0.5
m.P.=57-59℃
实施例4
Figure A20058004361800261
在98%硫酸180.7mg(1.84mmol)的水900μL溶液中加入O-[2-(吡唑-1-基)吡啶-5-基]甲基2-丁酮肟50.0mg(0.21mmol),在150Torr减压、60℃下搅拌2小时。反应液用甲苯洗涤,加入1M氢氧化钠水溶液。将其甲苯进行萃取。所得甲苯层用饱和生理盐水洗涤,用无水硫酸镁干燥后,在减压下蒸馏除去甲苯,得到25.7mg的残渣(收率66%)。
1H NMR(CDCl3,300MHz)δ4.71(s,2H),5.46(brs,2H),6.47(dd,1H,J=1.7,2.4Hz),7.74(dd,1H,J=0.8,1.7Hz),7.83(dd,1H,J=2.4,8.4Hz),7.98(dd,1H,J=0.9,8.4Hz),8.40(dd,1H,J=0.8,2.4Hz),8.57(dd,1H,J=0.9,2.4Hz);m.p.=42.5-42.6℃;
TLC(硅胶,CHCl3/MeOH=100/3)Rf=0.4.
实施例5
Figure A20058004361800262
向18%盐酸-乙酸(5∶1)混合溶液500μL中加入O-[2-(吡唑-1-基)吡啶-5-基]甲基苯乙酮肟25.0mg(0.09mmol),在80℃下搅拌1小时。向反应混合物中加入氢氧化钠水溶液,将其用乙酸乙酯萃取。所得乙酸乙酯层用饱和生理盐水洗涤,用无水硫酸镁干燥后,在减压下蒸馏除去乙酸乙酯。将所得残渣装入硅胶柱色谱中,用3%甲醇-氯仿溶剂展开,得到12.1mg的目标物(收率74%)。
1H NMR(CDCl3,300MHz)δ4.71(s,2H),5.46(brs,2H),6.47(dd,1H,J=1.7,2.4Hz),7.74(dd,1H,J=0.8,1.7Hz),7.83(dd,1H,J=2.4,8.4Hz),7.98(dd,1H,J=0.9,8.4Hz),8.40(dd,1H,J=0.8,2.4Hz),8.57(dd,1H,J=0.9,2.4Hz);
m.p.=42.5-42.6℃;
TLC(硅胶,CHCl3/MeOH=100/3)Rf=0.4.
实施例6
向98%硫酸180.7mg(1.84mmol)的水900μL溶液中加入O-[2-(吡唑-1-基)吡啶-5-基]甲基丙酮肟50.0mg(0.22mmol),在400Torr减压、90℃下搅拌2小时。反应液用甲苯洗涤,加入1M氢氧化钠水溶液。将其用甲苯进行萃取。所得甲苯层用饱和生理盐水洗涤,用无水硫酸镁干燥后,在减压下蒸馏除去甲苯,得到37.0mg的残渣(收率90%)。
1H NMR(CDCl3,300MHz)δ4.71(s,2H),5.46(brs,2H),6.47(dd,1H,J=1.7,2.4Hz),7.74(dd,1H,J=0.8,1.7Hz),7.83(dd,1H,J=2.4,8.4Hz),7.98(dd,1H,J=0.9,8.4Hz),8.40(dd,1H,J=0.8,2.4Hz),8.57(dd,1H,J=0.9,2.4Hz);
m.p.=42.5-42.6℃;
TLC(硅胶,CHCl3/MeOH=100/3)Rf=0.4.
参考例4
室温下,向羟甲基体(10.0g,69.65mmol)的甲苯(10mL)溶液中,依次加入3,4-二氢-2H-吡喃(7.03g,83.58mmol)、对甲苯磺酸一水合物(133mg,0.70mmol)。直接在此温度下搅拌1小时后,加入48%氢氧化钠水溶液(116mg,1.40mmol)。加入水(20mL),生成的混合物用乙酸乙酯(30mL×2)进行萃取。混合有机层,用水(20mL)洗涤后,减压浓缩,得到粗品THP。
1H NMR(CDCl3,300MHz)δ8.37(d,J=2.7Hz,1H),7.83(dd,J=2.4,8.1Hz,1H),7.17(d,J=7.2Hz,1H),4.77(d,J=12.3Hz,1H),4.74(dd,J=3.0,3.3Hz,1H),4.54(d,J=12.3Hz,1H),3.91(m,1H),3.56(m,1H),1.48-1.92(m,6H);
实施例7
Figure A20058004361800281
将参考例4所得的粗品THP(13.70g,60.17mmol)加入到预先由氢化钠(1.733g,72.20mmol)和吡唑(6.58g,78.22mmol)调制而成的吡唑钠盐的DMF(69mL)溶液中后,加热至120度。在120度下搅拌6小时,室温下加入水(68.5mL),生成的混合物用乙酸乙酯(99mL×2)进行萃取。混合有机层,用水(137mL×2)洗涤后,减压浓缩,得到粗品吡唑。
1H N MR(CDCl3,300MHz)δ8.56(dd,J=0.7,2.6Hz,1H),8.40(dd,J=0.7,2.3Hz,1H),7.97(dd,J=0.7,8.6Hz,1H),7.83(dd,J=2.0,8.6Hz,1H),7.74(dd,J=0.7,1.0Hz,1H),6.47(dd,J=1.6,2.6Hz,1H),4.82(d,J=12.2Hz,1H),4.74(dd,J=3.3,3.6Hz,1H),4.49(d,J=12.2Hz,1H),3.87(ddd,J=3.3,8.1,10.8Hz,1H),3.55(m,1H),1.48-1.92(m,6H);13C NMR(CDCl3,75MHz)d 147.4,142.0,131.5,127.0,119.1,112.0,107.7,97.9,65.9,62.2,30.4,25.3,19.3.
实施例8
Figure A20058004361800282
在30度下,向所得粗品吡唑的IPA(69mL)溶液中加入12N HCl(10mL,120.34mmol)。直接在此温度下搅拌5小时后,在减压下,将溶剂约浓缩50mL,加入IPA(14mL)。将其在0度下搅拌,滴入甲苯(14mL)。滤取所得的结晶,得到Pyr-Py-OH体盐酸盐(5.28g,42%(3个工序))。
1H NMR(CD3OD,300MHz)δ8.68(dd,J=0.7,3.0Hz,1H),8.48(dd,J=0.7,2.0Hz,1H),8.29(dd,J=2.0,8.6Hz,1H),8.16(dd,J=0.7,8.6Hz,1H),7.93(d,J=1.3Hz,1H),6.69(dd,J=2.0,3.0Hz,1H),4.75(s,2H).
实施例9
Figure A20058004361800291
在室温下,向Pyr-Py-OH体盐酸盐(0.50g,2.36mmol)的乙酸乙酯(2.5mL)、DMF(2.5mL)溶液中,加入亚硫酰氯(0.51g,4.25mmol)。直接在此温度下搅拌30分钟后,减压下,蒸馏除去约3mL溶剂。加入水(5mL),生成的混合物用乙酸乙酯(5mL×2)进行萃取。混合有机层,用水(5mL)洗涤后,减压浓缩。向残渣中加入甲苯(14mL)后,再次减压浓缩,得到氯体(453mg,99%)。
1H NMR(CDCl3,300MHz)δ8.60(dd,J=0.7,2.6Hz,1H),8.47(d,J=2.0Hz,1H),8.00(dd,J=2.3,8.6Hz,1H),7.94(dd,J=0.7,8.2Hz,1H),7.77(d,J=1.0Hz,1H),6.54(dd,J=1.7,2.6Hz,1H),4.63(s,2H).
实施例10
Figure A20058004361800292
在室温下,向羟基琥珀酰亚胺(13.37g,116.20mmol)的DMF(75mL)溶液中依次加入DBU(17.69g,116.20mmol)和氯体(15.0g,77.47mmol)的DMF(75mL)溶液。直接在此温度下搅拌1小时后,加入水(100mL),生成的混合物用乙酸乙酯(500mL)进行萃取。混合有机层,用水(100mL×2)洗涤后,减压浓缩。向残渣中加入甲苯(100mL)后,再次减压浓缩,在0度下向所得残渣加入己烷(100mL)。滤取所得结晶,从而得到琥珀酰亚胺体(13.92g,66%)。
1H NMR(CDCl3,300MHz)δ8.57(dd,J=0.7,2.6Hz,1H),8.46(m,1H),8.03(s,1H),8.02(s,1H),7.75(m,1H),6.48(dd,J=1.7,2.6Hz,1H),5.15(s,2H),2.70(s,4H);13C NMR(CDCl3,75MHz)d 171.0,152.2,149.1,142.5,140.5,127.3,126.9,112.2,108.1,75.4,25.4,20.0.
实施例11
Figure A20058004361800301
在室温下,向琥珀酰亚胺体(15.80g,58.03mmol)的甲醇(237mL)溶液中,加入肼一水合物(5.7mL),在45度下搅拌3小时。过滤析出的结晶后,浓缩约190mL滤液。向所得浓缩液中加入乙酸乙酯,用饱和碳酸钠水(50mL)、饱和生理盐水(50mL)洗涤后,立刻减压浓缩。向残渣中加入甲苯(51mL)后,再次减压浓缩,在0度下向所得残渣中加入己烷(51mL)。滤取所得结晶,得到羟氨基体(8.56g,78%)。m.p.43.0~43.5℃,1H NMR(CD3OD,300MHz)δ8.59(dd,J=0.7,2.6Hz,1H),8.41(dd,J=0.7,2.3Hz,1H),7.932(d,J=0.7Hz,1H),7.926(s,1H),7.75(dd, J=0.7,1.6Hz,1H),6.53(dd,J=2.0,2.6Hz,1H),4.71(s,2H).
实施例12
Figure A20058004361800302
在冰水冷却下,向48%的氢氧化钠水溶液1.92g(23.1mmol)中加入DMF16.1g和丙酮肟2.01g(23.1mmol),在室温下搅拌。向该反应混合物中加入3-氯甲基-6-(吡唑-1-基)吡啶3.72g(19.2mmol),再在室温下搅拌1小时。向所得反应混合物中加入冰水11.2g后,用乙酸乙酯进行萃取。水洗乙酸乙酯层后,在减压下蒸馏除去乙酸乙酯,得到目标物4.69g(收率79%)。
1H NMR(CDCl3,300MHz)d 1.86(s,3H),1.87(s,3H),5.04(s,2H),7.31(d,1H,J=8.3Hz),7.65(dd,1H,J=2.3,8.3Hz),8.37(d,1H,J=2.3 Hz);TLC(硅胶,甲苯/AcOEt=10/1)Rf=0.35;
m.p.=46-47.5℃
实施例13
Figure A20058004361800311
向O-[2-(吡唑-1-基)吡啶-5-基]甲基羟胺500mg(2.63mmol)的乙醇2mL溶液中滴入硫酸143μl(2.63mmol)。依次加入水4mL和乙醇4mL后,滤取析出的结晶,得到目标物592.2mg(收率82.1%)。
1H NMR(DMSO 300MHz)d 4.86(s,2H),6.60(dd,1H,J=1.8,2.7Hz),7.84(dd,1H,J=1.2Hz),7.98(m,2H),8.47(dd,1H,J=1.5Hz),8.64(dd,1H,J=2.7Hz)
m.p.=197.8-197.9℃
元素分析值
C18H22N8O6S
理论值:H(%)4.63、C(%)45.18、N(%)23.42、S(%)6.70
测定值:H(%)4.31、C(%)45.24、N(%)23.39、S(%)6.56
实施例14
Figure A20058004361800312
向O-[2-(吡唑-1-基)吡啶-5-基]甲基羟胺500mg(2.63mmol)的乙醇2mL溶液中滴入12N盐酸219μl(2.63mmol)。由于白色固体逐渐析出,故加入水2mL使之溶解。再滴入乙醇6mL后,用冰水冷却,滤取析出的结晶,得到目标物205.1mg(收率36.7%)。
1H NMR(DMSO 300MHz)δ5.14(brs,2H)6.60(dd,1H,J=1.2Hz),7.86(dd,1H),8.00(m,3H),8.53(dd,1H,J=1.5Hz),8.65(dd,1H,J=2.4Hz)
m.p.=207.3-207.4℃
元素分析值
C8H9ClN4O
理论值:H(%)4.27、C(%)45.19、N(%)26.35、Cl(%)16.67
测定值:H(%)4.67、C(%)47.46、N(%)24.63、Cl(%)15.20
实施例15
Figure A20058004361800321
向O-[2-(吡唑-1-基)吡啶-5-基]甲基羟胺1.0g(5.26mmol)的乙醇5mL溶液中滴入三氯乙酸(10.5mmol)的乙醇5mL溶液。滤取析出的结晶,得到目标物1.6g(收率86.1%)。
1H NMR(DMSO 300MHz)δ4.63(s,2H),6.17(brs,2H),6.58(dd,1H),7.74(dd,1H,J=0.8,1.7Hz),7.83(dd,1H,J=1.2Hz),7.93(m,2H),8.42(dd,1H),8.62(dd,1H,J=2.7Hz)
m.p.=127.2-127.3℃(已分解)
元素分析值
C11H11Cl3N4O3
理论值:H(%)3.14、C(%)37.36、N(%)15.85、Cl(%)30.08
测定值:H(%)3.11、C(%)37.40、N(%)16.08、Cl(%)30.23
实施例16
Figure A20058004361800322
向O-[2-(吡唑-1-基)吡啶-5-基]甲基羟胺500mg(2.63mmol)的乙醇2.5mL溶液中滴入69%硝酸200mg(3.18mmol)。用冰水冷却,滤取析出的结晶,得到目标物O-[2-(吡唑-1-基)吡啶-5-基]甲基羟胺硝酸盐0.25g(收率37.6%)。
1H NMR(DMSO 300MHz)δ5.05(s,2H),6.60(s,1H),7.86(dd,1H,J=0.6Hz),8.00(m,2H),8.50(dd,1H,J=1.5Hz),8.64(dd,1H,J=2.4Hz)
m.p.=170.5-170.6℃(已分解)
元素分析值
C9H11N5O4  理论值:H(%)4.38、C(%)42.69、N(%)27.66
测定值:H(%)4.28、C(%)42.66、N(%)27.84
实施例17
Figure A20058004361800331
向O-[2-(吡唑-1-基)吡啶-5-基]甲基羟胺2.0g(10.5mmol)的甲苯12mL溶液中滴入TFA1.3g(1.05eq,11.0mmol)的甲苯8mL/IPAlmL混合溶剂.滤取析出的结晶,得到目标物O-[2-(吡唑-1-基)吡啶-5-基]甲基羟胺?三氟乙酸盐2.67g(收率83.5%)。
1H NMR(DMSO 300MHz)δ4.99(s,2H),6.59(d,1H,1.2=Hz),7.84(dd,1H),8.00(m,2H),8.47(dd,1H),8.64(dd,1H,J=2.4Hz)
m.p.=:117.7℃(已分解)
元素分析值
C11H11F3N4O3
理论值:H(%)3.64、C(%)43.43、N(%)18.42、F(%)18.73
测定值:H(%)3.61、C(%)43.48、N(%)18.49、F(%)18.89
产业实用性
经由本发明的化合物,可以高效地制造下式表示的化合物,
也可以高效地制造下式表示的抗菌剂,
Figure A20058004361800341
本发明的制造方法与现有技术相比,工序更少,因此可以有效地进行。并且,由于不含还原工序,因此也可以在工业上实施。

Claims (13)

1.下式表示的化合物
Figure A2005800436180002C1
式中,R表示受保护的羟基或下式表示的基团,
式中、R1和R2各自独立,为氢、烷基、可取代的芳烷基、可取代的芳基或可取代的杂芳基。
2.式V表示的化合物的制造方法,
Figure A2005800436180002C3
式V中,R1和R2的定义与下述相同,
其特征在于,在碱或酸的存在下,使式IV表示的化合物与式III表示的化合物反应,
Figure A2005800436180002C4
式III中、R1和R2各自独立,为氢、烷基、可取代的芳烷基、可取代的芳基或可取代的杂芳基,X表示卤素。
Figure A2005800436180002C5
3.式VI表示的化合物或其盐的制造方法,
Figure A2005800436180003C1
其特征在于,使式V表示的化合物在酸的存在下水解,
Figure A2005800436180003C2
式V中、R1和R2各自独立,为氢、烷基、可取代的芳烷基、可取代的芳基或可取代的杂芳基。
4.式IX表示的化合物的制造方法,
Figure A2005800436180003C3
式IX中,R3的定义与下述相同,
其特征在于,在碱或酸的存在下,使式IV表示的化合物与式VIII表示的化合物反应,
Figure A2005800436180003C4
式VIII中,R3表示羟基的保护基,X表示卤素。
Figure A2005800436180003C5
5.式X表示的化合物的制造方法,
其特征在于,使式IX表示的化合物在酸的存在下水解,
Figure A2005800436180004C2
式IX中,R3表示羟基的保护基。
6.式XI表示的化合物的制造方法,
Figure A2005800436180004C3
式XI中,X表示卤素,
其特征在于,由权利要求5所述方法得到式X表示的化合物,使卤化剂与所得的式X表示的化合物反应。
7.式XIII表示的化合物的制造方法,
Figure A2005800436180004C5
其特征在于,由权利要求6所述方法得到式XI表示的化合物,使式XII表示的化合物与所得式XI表示的化合物反应,
Figure A2005800436180005C1
式XI中,X表示卤素。
Figure A2005800436180005C2
8.式VI表示的化合物或其盐的制造方法,
Figure A2005800436180005C3
其特征在于,由权利要求7所述方法得到式XIII表示的化合物,使所得化合物在碱的存在下水解。
Figure A2005800436180005C4
9.下式表示的化合物的制造方法,
Figure A2005800436180005C5
其特征在于,由权利要求3或8所述的方法得到式VI表示的化合物或其盐,在酸或碱的存在下,使所得化合物或其盐与下式表示的化合物发生反应。
Figure A2005800436180006C1
10.式V表示的化合物的制造方法,
Figure A2005800436180006C2
式V中,R1和R2的定义与下述相同,
其特征在于,使式II表示的化合物与式XI表示的化合物反应,
Figure A2005800436180006C3
式XI中,X表示卤素,
Figure A2005800436180006C4
式II中,R1和R2各自独立,为氢、烷基、可取代的芳烷基或可取代的芳基。
11.式VI表示的化合物的盐。
Figure A2005800436180007C1
12.上述权利要求11所述的盐,其为盐酸盐、硫酸盐、三氯乙酸盐或三氟乙酸盐。
13.下式表示的化合物,
Figure A2005800436180007C2
式中,X表示卤素。
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