CN101014455A - 复制微结构光掩模的方法和设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种用于复制平面薄层、微结构的平面透镜系统和具有这种微结构的透镜系统的光掩模(LM)，其由高粘度透明流体在支承基板(TP)上固化而成。将流体导入平面状主板(M)和可移动支承基板之间，残留物固化后加入上述基板。本发明方法以非旋转方式实现，浇铸空间在流体铺展方向上不被侧壁或类似物所限定。本发明的平面透镜系统或光掩模具体为双凸透镜阵列、物镜、或菲涅耳透镜。掩模的最终形状均一，具有几何精密层厚，无气穴。本发明的方法和装置可在极高几何精度和极佳的光学质量下实现受控复制。

Description

复制微结构光掩模的方法和设备

复制细微结构平面光学元件和具有细微结构光学元件的光掩模的方法和装置。

本发明涉及用于复制平面的、细微结构、薄膜光学元件以及具有这种结构的光学元件的光掩模的方法和装置，所述光学元件由在载板或基板上固化的透明高粘性或粘性流体制成，其中流体被注入到主板(模具)和可移动载板之间的型腔中，固化后粘附到载板上。

本方法利用无旋流。模具型腔在待固化流体的流向上不受侧壁等的压迫。复制过程中主板作为原型使用。其位于水平的非旋转位置。将所需待固化流体的体积注入到两板间形成的模具型腔中，无需可控喷射阀。

术语“光掩模”将作为掩模或平面光学元件的统称在本文件中使用。光掩模包括具有各种光学表面结构的平面元件，例如双凸透镜阵列、透镜阵列平板或矩阵结构。它们通常为矩形，表现为矩阵、柱面或球面结构。柱状掩模，具体地以双凸透镜阵列为例，具有大量的以平行方式排列的柱面透镜。柱状光掩模还可以是柱面菲涅耳(Fresnel)透镜或棱镜掩膜或类似元件。球面光掩模，举例来说，为球面菲涅耳(Fresnel)透镜。平面光学元件还由光学表面结构赋予特征。然而，这里的载板为发光或透射光学元件，例如光调制器，如LC显示器、图像矩阵或空间光调制器。

这些掩模典型地具有监控器或显示器屏幕的大小，并且非常薄，也就是说，它们具有零点几毫米的厚度。光掩模光学结构的深度通常小于200微米。用于光学用途的结构表面需要极高的形状精密度和极低的粗糙度，即在数个纳米的量级。

用于复杂光学系统、例如自动立体显示器的光掩模需求量极大。自动立体显示器需要借助于光学投影系统将左、右图像信息空间分隔。为了可以立体地看到图像信息，欲发送给观察者一个眼睛的图像内容必须传送到该眼睛，而不能干扰其它眼睛。公知的相应装置为图像分隔装置，该装置举例来说以照明矩阵和调焦矩阵的方式实现。这些以及其它自动立体显示器所必需的元件典型地以双凸镜阵列、或联结的双凸镜阵列的方式实现，这使得双凸镜阵列成为非常重要的设计元件。

双凸镜阵列通常具有非常细微的结构，表现出非常小的间距。为了获得光学目的，透镜大小、即双凸透镜的间距往往与图像矩阵的间距相匹配。术语“图像矩阵”将作为发光或透射光调制器的统称在本文件中使用。如果，举例来说，双凸透镜阵列中的一个双凸透镜仅被指定到图像矩阵中的多个像素列，当图像矩阵中像素发生最小化时，几个重要的目标就会出现。在改进像素最小化(其用于作为设定双凸透镜大小的参考)的过程中，将会达到或超过光学可行性限制的风险，或者至少成本效益限制和双凸透镜阵列产品可靠性的风险

考虑到当前市售显示器的分辨率，制造几个显示像素大小的双凸透镜的双凸透镜阵列非常困难；制造仅一个显示像素大小的双凸透镜的双凸透镜阵列也许已经超出了技术可行性的范围。

公知技术

公知有许多方法，部分已长期公知，用于复制平面光学元件。注射填充法描述了一种以流体填充模具型腔的技术。根据该方法，流体在环境压力下通过注入口流入模具型腔。与此相反，根据压力填充法，流体在通常非常高的压力下被注入模具型腔。简单的方法是流体注入模具型腔，直到多余的流体从一个或几个溢出口中流出。

已经期限届满的EP0141531B1号专利公开了这种填充模具型腔的方法。液体树脂通过注入口注入具壁的模具型腔中，直到传感器探测到树脂已到达位于距注入口一段距离的流出口，或者直到位置检测器确定树脂也已充分填满模具型腔的边缘部分。

EP0688649B1号专利文献说明了一种用流体材料通过一个开口填充封闭模具型腔的方法。通过施加向外的力(横向力)，将流体材料从注入口移走。用于注射流体的力，即引力或压力，和横向力可以相互独立施加。引用文件中的横向力作为离心力进行说明，因此该说明书还包含了旋转浇铸法。

根据该发明的另一方面，流体通过一个注入口注入模具型腔中，过量的流体可以通过流出口流出模具，借助于感应元件监测并控制模具型腔中的填充水平。

WO99/30886号专利文献说明了对可透过空气但不能透过流体的密封条或膜的利用。在注射过程中，模具型腔通过这种密封条或膜抽成真空。填充模具型腔之后，关闭密封材料上的单元开口，固化流体。然而，这种方法显然对批量生产难以实施。

已经期限届满的EP0490580B1号专利公开了一种用于层压玻璃片和制造层压玻璃制品的方法。在处理过程中，玻璃板水平放置或者可以暂时轻微倾斜。根据该方法，将树脂注入隔开一段距离的将要层压的两个玻璃板之间。首先，将间隔装置安装到玻璃板上。这些间隔装置沿玻璃板边缘分布，并且其可透过空气但不能透过流体。第二，板子定位后，将定量的树脂通过一个注入管注入玻璃板之间的型腔中，由此树脂使两玻璃板的内表面接触，控制注射以使流体在板子之间以预定的方式铺展。第三，用剩余的流体填充玻璃板之间的型腔，从而使被注入的树脂所取代的空气可以通过上述透气间隔装置溢出。最后，固化树脂，在玻璃板之间形成一个坚硬层。树脂最好注入到玻璃板的中心区域。树脂通过注入管注入玻璃板之间的型腔中，在用于注入管的圆形、透气分隔装置中提供一个开口。具体说，分隔装置由显示开口多孔结构的泡沫胶带条制成。

该方法还包括注入树脂时按压玻璃板的步骤，用以支持将树脂注入两玻璃板之间的型腔中。板子可以置入具有轻微正压的环境中进行按压，由此在抽真空的步骤中空气可以通过可透过空气但不能透过流体的间隔装置溢出。

US6203304B1号专利文献公开了一种用小室填充流体填充第一基板和第二基板之间的小室型腔的方法和设备。该方法说明了位于两基板的外表面上的多个真空型腔。真空型腔与模具型腔中的子型腔连通。这些真空型腔用于减小填充过程中模具内的过压。

DE3643765A1号专利文献公开了一种生产两个玻璃片之间塑料薄层的工艺以及实现该工艺的设备。将液体塑料材料注入两玻璃片之间的型腔内，玻璃片在填充过程中可以相互平行或处于一个角度。然后，对齐并密封玻璃片边缘。在接下来的步骤中，从外部将两玻璃片相对按压，在塑料材料固化的过程中，用一个或几个横穿玻璃板的旋转压力辊施加高压。

1978年关于制造菲涅耳透镜的方法的US4170616号专利文献公开了一种非旋转复制平面菲涅耳透镜的方法，其包括垂直或水平放置的主板(塑料模具)之间形成的封闭的、真空密封的模具型腔，其中主板为待制造的菲涅耳结构的阴模，以及平坦的基板表面。将空气从该腔室中抽出，然后使正固化的流体进入该腔室，所述流体由于腔室内的低压而被吸入。

DE2255923A1号专利文献公开了一种铸造光学透镜的方法，将合成树脂注入有上、下模形成的型腔中并固化。复制装置装有缝隙密封条。模具通过机械导向装置的方式相互固定，所述导向装置的长度决定两模具之间的距离，并从而决定要制造的元件的厚度。

US5202793号专利文献的说明书中，图11所示的三维图形显示设备为包含真空框架和紫外光源和红外加热器总成的一种装置。具有夹在其间的可加工塑料的上、下塑料薄膜片形成一个多层结构。该总成具有刚性的下模和透射UV的薄上模，置于真空框架内。应用真空，导致多层元件被迫进入上、下模内的缺口中，并最终被加工处理。

JP63307909号专利文献公开了一种制造或形成树脂碟片的典型旋转方法，其具体用于消除气泡生成。将树脂通过被称为分配器的定量装置注入快速旋转的模具的中心，树脂由于离心力而铺展并覆盖模具。这种方法用于制造高质量的光学碟片和圆形掩模。然而，通过该工艺制造的碟片直径受到限制。

旋转方法制造较小元件时十分耐用而可靠，但这些方法明显不能应用于生产用于对角线尺寸为20英寸或更大的监视器的矩形光掩模。

以上讨论的模具填充方法，即包含两个开口的方法和不透流体密封的方法，具有以下缺点，即模具的壁会被施加在其上的较大的力所压弯，特别是大面积的薄壁模具。如果将真空施加到第二开口，模具壁变形的风险将会随之增加，从而产生不准确成型的、有缺陷的光学元件。

前述的细微结构薄膜掩模必须按照最高的质量标准进行制造。不完美的掩模导致例如显示器上永久可见的像素错误。每个有缺陷的像素，例如由气泡夹杂所引起，仅在例外情况下可以修复，因此有缺点的光学元件必须废弃。

将要固化的流体，即树脂，往往并不是形成显著损失的因素。相反，高精度主板代表了复制装置核心元件，通常是非常昂贵的。在超过待制造掩模的目标尺寸的模具之间铺展的过量树脂与光掩模一起固化，并粘附到主板上。其必须在一个费时的工序中从主板上清除。此工艺相关停工期降低了整个复制装置的有效性。主板在这种清理工作中也承受着极大的磨损。此外，任何额外的操作都会引起损坏的风险，因此昂贵的主板的寿命可能会明显缩短。

铸成的光掩模保留在设备中，直到流体充分固化。然而，需要减少复制工艺的循环时间，具体说是加入流体和形成掩模所需的时间。

复制方法和装置的简易性应该随附易操作性，以保证较高的系统有效性和较高的工艺可靠性。

如上所述，光掩模非常薄，其最好具有小于200微米的厚度。显而易见，在此背景下容许的制造公差极小，对形状和尺寸稳定性的要求非常高。如果基板在形成过程中成功地阻止了弯曲，就可以获得这种在垂直方向上极高的尺寸精度。

除了上述目的外，复制方法和相应的装置都应该确保上述细微结构薄膜光掩模能够可靠、经济地制造。成品必须表现出极高的形状和尺寸稳定性，并具有较高的光学品质。

发明内容

本方法可以归类为非旋转浇铸法。复制过程最好在水平位置完成。本方法用于复制细微结构的平面光学元件和光掩模，具体说为用于自动立体显示器的掩模，上述元件或掩模由透明的粘性流体、例如树脂制成，其在浇铸后固化。

光掩模通常为矩形，表现为柱面或球面结构。柱状掩模，具体地以双凸透镜阵列为例，具有大量的以平行方式排列的柱面透镜。柱状光掩模还可以是柱面菲涅耳(Fresnel)透镜或棱镜掩膜或类似元件。球面光掩模，举例来说，为球面菲涅耳(Fresnel)透镜。

这些掩模典型地具有监视器或显示器屏幕的大小，并且非常薄，也就是说，它们具有零点几毫米的厚度。光掩模的厚度最好小于200微米。

本新型复制装置包含一个模具型腔，该型腔包括一个水平放置平面的主板。主板在其中心具有一个在复制过程中表现为阴模的结构复制部分，复制部分最好通过低压的方式可拆开地固定到主板上。密封环围绕在该板子周围。一个载板置于该密封环上，以气密方式封闭模具型腔。

根据本发明，复制装置包含用于监测这些板子间距离的装置。本发明基于这样的思想，即板子间的距离可以通过改变模具型腔内的低压来控制。进一步地，根据本发明，板子间的距离可通过可变的间隔装置进行控制。

本发明的方法包含初始分布和浇铸的主要阶段。以下将对这些步骤进行详细说明。

本工艺的第一个主要阶段(a)称作初始分布。其包括：

(a1)初始点加：将待固化流体加到载板的一个或多个较小区域作为单个初始点。单个初始点最好位于载板的中心。

(a2)赋轨：将流体材料的多个轨迹加到主板M上。轨迹最好从复制部分的中心向主板的边缘，或者在对应点之间(以下说明)蔓延。轨迹最好是相邻的，并沿辐射方向蔓延和/或形成新月形。

(a3)分布：将所需量的流体材料加到主板上。从而浇铸形成一个一体的初始流体部分。在该部分中将会形成一个决定对应点的垂直顶点，其中主板上的对应点始终与载板上的初始点相对应。

初始分布阶段(a)的步骤最好以自动化的方式执行，例如借助于分配器和操纵设备；它们可以同时或以并行的模式执行。

第二个主要阶段(b)称作浇铸，其包括：

(b1)初始接触：将水平放置的载板置于主板上，这样主板和载板在对应点和初始点上形成初始接触，载板处于密封环(D)上以气密方式封闭模具型腔(R)。

(b2)控制浇铸：向模具型腔施加低压，使载板以受控的方式移近主板，以使初始流体部分的流体从初始点和对应点开始、沿轨迹连续分布，并完全填充由主板的复制部分形成的板子之间形成的型腔，模具型腔中的低压和板子之间的可变间隔装置，如果有的话，被作为可控工艺参数。

浇铸阶段(b)的步骤最好以自动化的方式执行，例如借助于传感器和工艺参数可编程的控制器。

本发明的方法基于这样的思想，那就是，流体的初始形状，即初始流体部分，借助于轨迹转变为掩模所需的矩形形状。

第一个工艺条件是光掩模中必须不能存在气泡夹杂。第二个要求是掩模的最终形状在水平位置形成，不能尺寸不足，而且要尽可能少地大于所需尺寸。

根据本发明，这些目标借助于轨迹而达到。这里，轨迹最好是放射状和/或新月形的、一体流体轨迹。本发明的一个变型中，轨迹还可以形成长形区域。选择这些长形区域，以避免流体流过型腔时包入气泡。

最好有多个轨迹从初始流体部分向主板边缘部分蔓延。轨迹最好在流动过程中沿铺展方向蔓延，即其在流动方向上形成一个弹道轨迹。为了特别控制流体铺展方向，便于从模具中的一个凹槽进入到相邻凹槽中，可以偏离理想弹道轨迹。

在主板的沟槽之间始终存在一个垂直尺寸较小的过渡区域。因此流体趋向于沿着沟槽流动而不是进入到相邻的沟槽中。针对于此，本发明基于以下思想，即轨迹可用于在相邻沟槽间形成“桥”，并促使流体从一个沟槽进入到相邻的沟槽。

在分布步骤(a3)中，将所需量的流体材料加到主板上，在那里形成初始流体部分。根据本发明，由于流体的粘度，在流体部分中形成一个或多个垂直顶点或对应点。根据本发明，这些点与载板上相应的初始点相对应。

在一个简单的实施例中，初始流体部分为圆形、椭圆形或近似卵形的一体部分。该基础形状可以由面向复制部分角落的凹进扩展。流体部分还可以是放射状或曲折状，但始终包含至少一个对应点。单个的对应点最好位于主板复制部分的中心。有关于此的参照示于附图中。

作为成品的光掩模，例如双凸透镜阵列或球面透镜的结构，主要受初始流体部分、轨迹的蔓延和对应点位置的影响。

在工艺的第二阶段，即浇铸阶段(b)，本发明的思想得以延续。在初始接触步骤(b1)中，定位水平放置的载板，主板上的对应点和载板上的初始点形成初始接触。在板子初始接触之前可能需要迅速建立初始流体部分的对应点。这可以通过向初始流体部分中相应的位置添加少量流体实现。得益于根据本发明的这些初始点上的限定初始接触，防止了在此工艺步骤中形成不想要的气泡夹杂。同时，载板置于密封环上，以气密的方式封闭模具型腔。

在接下来的第二步骤，即控制浇铸步骤(b2)中，向模具型腔施加一个低压，使载板以受控的方式移近主板。现在，流体从最初初始接触的初始流体部分开始、沿轨迹连续铺展。

根据本发明，模具型腔中的低压和可变间隔装置，如果还使用了这种装置的话，用作可控参数。根据本发明，这些可控参数促使流体铺展，而载板的弯曲保持在所需的公差范围内。这些参数最好程序控制。

可用于添加低压的可变并且可控的间隔装置为机械元件，例如蜗轮。其它形式可以是例如气动、液压或最好是压电元件。在一个简单的实施例中，可控间隔装置为可变垂直弹性体的密封环的形式，因此上述密封环可以由几段分离的可控片段组成。

根据本发明，模具型腔中的低压消除了两种影响。首先，模具型腔中的低压促使板子相互移近以使流体铺展。其次，加到流体部分的牵引力也引起流体铺展。根据本发明，这些力可以是叠加力，以使板子以受控的方式移近时仅有一个垂直较低的力加到载板上。因此，在此过程中载板仅弯曲一个非常小的范围，其在所需的公差范围内保持平坦，直到流体固化，从而保证成品所需的形状稳定性。如果需要，控制浇铸步骤可以由可变间隔装置作为进一步的工艺参数进行支持。

根据工艺的一个变型，促使流体在模具型腔中振动。这种振动激发器最好是以电动超声波发射极的方式实现的超声波激发器。微波同样促进流体的铺展，因为支持流体从沟槽到沟槽的进入。此外，在固化过程中使材料中的压力最小。因此成品实现了准应力解除。

根据本发明的方法，流体完全填充板子之间由主板复制部分形成的型腔。掩模的最终铸件是均质的，具有稳定的尺寸和形状，并且无气泡夹杂。最终铸件的实际水平尺寸与主板的复制部分一致，仅稍大于所需掩模。

根据本发明的方法和装置可使掩模以可靠的工艺、以极高的稳定性并依照高质量标准复制。得益于仅稍稍超过所需尺寸，复制工艺后仅需较少时间和劳动进行清理，这也有助于提高系统实用性。

附图简要说明

其它实施例将结合附图进一步进行说明。

图1a和1b表示新型复制装置的投影图和正视图。

图2a表示复制装置的正视图的详情。

图2b为表示复制装置的模具型腔详情的透视图。

图3a至3d为初始流体部分、对应点和轨迹较佳变化的详情。

图1a和1b表示用于复制平面的、矩形、细微结构薄膜光掩模的装置的透视图和正视图。复制装置的模具型腔R包含主板M、圆形密封环D以及可移动载板TP。主板M具有在复制过程中表现为阴模的结构复制部分MF，以及平坦的圆形边缘部分MR。

初始分布处理阶段(a)清楚地示于这些附图中。在初始点加步骤(a1)中，将待固化流体的单个初始点IP加到载板TP上。这里，点IP位于载板TP的中心。

在赋轨步骤(a2)中，将流体材料的多个轨迹T1、T2...加到主板M上。这里，这些轨迹从主板中心向主板复制部分MF的边缘蔓延。这里，轨迹是相邻的。

在分布步骤(a3)中，将所需量的流体材料加到主板M上，在这里为板子的中心，形成一个一体的初始流体部分IF，其垂直顶点形成一个对应点KP。如图所示，对应点KP与载板TP上的初始点IP相对应。

图2A表示与图1所示类似的复制装置，但其表示浇铸阶段(b)完成之后。在初始接触步骤(b1)中，将水平放置的载板TP置于主板M上，这样主板M的对应点KP和已示于图1中的载板TP初始点IP形成初始接触。可变间隔装置，这里处于右侧，在本实施例中以密封环D的形式实施。密封环D表现为可变的垂直弹性体。

在控制浇铸步骤(b2)中，向模具型腔R施加低压，以使载板TP持续移近主板M，使流体材料从初始流体部分IF的初始点IP和对应点KP开始，沿轨迹T1、T2...持续铺展。流体完全填充由主板M的复制部分MF形成的板子之间的型腔。根据需要，流体仅稍稍铺展超过主板复制部分MF，以使作为成品的光掩模LM的实际水平尺寸仅稍大于复制部分MF。可控加热或冷却单元，图中未表示，保持复制装置中，具体说是模具型腔中的流体材料恒温。

由于低压和作为可控工艺参数的可变间隔装置DM的作用，载板TP在此工艺步骤中仅发生可以忽略的弯曲，保持平面并维持稳定的形状。光掩模LM因此满足了形状稳定性，具体说考虑到垂直公差极限的要求。

图中，可变间隔装置DM的另一变化示于复制装置的左侧。在此变化中，间隔装置DM以压电元件的形式提供。这些元件可以特别精密地控制板子之间的距离。

间隔装置DM的上述变化，即以具有可变弹性的密封环D(右)和可变间隔装置DM(左)，最好也可以在从模具中移出成品的工艺步骤中使用。在该步骤中，借助于间隔装置DM，从主板M中取出光掩模LM。例如，使密封环D膨胀，直到具有光掩模LM的载板TP从主板M的复制部分MR中分离。

本图表示可使载板TP初始点IP周围区域暂时性向主板M弯曲的弯曲装置BX，具体说在初始接触步骤(b1)过程中，其是为了支持和确保板子在初始点/对应点上适当的初始接触。

图2b表示复制装置的模具型腔R的透视图。主板M水平放置，包含决定光掩模LM最终形状的复制部分MF(画有阴影)，和环绕在复制部分MF周围的共面边缘部分MR。这里，主板M形成模具型腔R的基部。密封环D处于主板上，并环绕在主板M的边缘部分MR的周围。为了保持清晰，图中仅表示了左侧和后端的密封环。密封环D同时作为模具型腔R的侧壁。最后，当可移动的载板TP放在密封环上时，就形成了模具型腔R。在本发明的一较佳实施例中，复制掩模MF为一个可移动板，其例如是通过低压的方式固定到主板M上。更多的间隔装置的表现形式可以忽略。

复制装置的另一可能变型可以通过将主板和载板的倒转安排形成，即上述复制装置的水平镜像。此外，载板可以位于固定位置，而主板、或具体说主板的复制部分可以移动。

图3a至3d为说明初始流体部分IP和轨迹T1、T2...在主板上形成的示意图。更具体地说，该图始终表示主板M的复制部分MF的俯视图。在分布步骤(a3)中，将所需量的流体材料加到主板M上，生成一个一体的初始流体部分IF，其垂直顶点形成对应点KP。更复杂的轨迹T1、T2...的详细情况以箭头的形式仅分别表示在复制部分MF的左下部。在这些例子中，将要形成的光掩模为具有位于垂直方向的双凸透镜的双凸透镜阵列。

图3a表示最简单的形式。初始流体部分IF几乎为椭圆形，轨迹T1、T2...沿对角线向外蔓延，对应点KP位于复制部分MF的中心。

图3b表示像最速降线一样向边缘部分弯曲的曲线轨迹T1和T2。

图3c表示分枝轨迹T2和T3。

图3d表示具有面向复制部分MF的角落凹进的初始流体部分IF。该部分具有两个对应点KP1和KP2，轨迹T1至T3为沿流体铺展方向的弹道轨迹。

Claims (26)

1.一种用于非旋转复制细微结构平坦光学元件和具有细微结构光学元件的光掩模(LM)的方法，其中，将要固化的透明粘性流体注入复制装置的模具型腔(R)中，所述模具型腔(R)在水平放置的主板(M)和载板(TP)之间形成，主板包含具有用于复制的结构的复制部分(MF)和平面边缘部分(MR)，载板置于密封环(D)上，密封环处于主板(M)的边缘部分(MR)，以气密的方式界定模具型腔(R)，其特征是所述方法包含以下步骤：

(a1)将流体加到载板(TP)的一个或多个较小区域作为待固化流体初始点(IP)；

(a2)将流体的多个轨迹(T1，T2，...)加到主板(M)上，轨迹沿辐射方向形成和/或形成新月形；

(a3)将一定量的流体加到主板(M)上，形成一个一体的初始流体部分(IF)，形成一个或多个作为对应点(KP)的垂直顶点，所述对应点与载板(TP)上相应的初始点(IP)相对应。

(b1)将载板(TP)置于主板(M)和密封环(D)总成上，其中载板(TP)水平放置，这样初始点(IP)和相应的对应点(CP)形成接触；

(b2)向模具型腔(R)施加低压，使载板(TP)以受控的方式移近主板(M)，以使流体从初始点(IP)和初始流体部分(IF)的对应点(KP)开始连续分布，并完全填充主板(M)复制部分(MF)之上的模具型腔(R)，低压决定载板(TP)和主板(M)之间的距离，并完全填充板子之间由主板(M)复制部分(MF)形成的型腔，低压被作为可控工艺参数。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征是将载板(TP)放置到主板(M)上通过模具型腔中的低压和决定板子(M，TP)间距离的可控间隔装置(DM)来控制。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征是在第一个处理步骤(a1)中，初始点(IP)位于载板(TP)对角线的交叉点上。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征是加到主板(M)上的流体的多个轨迹(T1，T2，...)沿流体铺展方向蔓延。

5.根据权利要求1或4所述的方法，其特征是加到主板(M)上的流体的多个轨迹(T1，T2，...)从主板(M)的中心向边缘部分(MR)蔓延。

6.根据权利要求4或5的任一项所述的方法，其特征是加到主板(M)上的初始流体部分(IF)为圆形或椭圆形的一体部分。

7.根据权利要求4或5的任一项所述的方法，其特征是加到主板(M)上的初始流体部分(IF)为放射状和/或新月状并且相邻。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征是加到主板(M)上的初始流体部分(IF)为曲折状。

9.根据权利要求6至8中任一项所述的方法，其特征是加到主板(M)上的初始流体部分(IF)表现为面向主板(M)复制部分(MF)的角落凹进。

10.根据权利要求6至9中任一项所述的方法，其特征是在加到主板(M)上的初始流体部分(IF)上形成的对应点(KP)位于主板(M)复制部分(MF)的中心。

11.根据权利要求1或5所述的方法，其特征是所述轨迹(T1，T2，...)有分枝。

12.根据权利要求1所述的方法，其特征是载板(TP)的外表面可拆开地与加固背板连接。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征是载板(TP)通过低压的方式可拆开地与加固背板连接。

14.根据上述权利要求中的一个或多个所述的方法，其特征是在工艺步骤(b1)中，一个弯曲装置(BX)按压载板(TP)中初始点(IP)所处的位置，以使其向主板(M)弯曲。

15.根据上述权利要求中的一个或多个所述的方法，其特征是在工艺步骤(a3)和(b1)之间还建立初始流体部分(IF)中的对应点(KP)。

16.根据上述权利要求中的一个或多个所述的方法，其特征是光掩模(LM)具有球面或柱面结构。

17.根据上述权利要求中的一个或多个所述的方法，其特征是步骤(a1)至(a3)可以同时或以并行的模式执行。

18.一种用于非旋转复制细微结构平坦光学元件和具有这种结构光学元件的光掩模(LM)的装置，其特征是所述装置包含水平放置的主板(M)，主板包括具有用于复制的结构的复制部分(MF)和平面边缘部分(MR)，一个密封环(D)处于上述边缘部分(MR)，一个载板(TP)可拆开地置于主板(M)和密封环(D)总成上，这样主板(M)和载板(TP)间的空间与密封环(D)一起形成模具型腔(R)，所述模具型腔以气密的方式密封，以及

-在模具型腔(R)中生成可控低压的装置。

-监测主板(M)和载板(TP)之间距离的装置，以及

-控制模具型腔(R)中低压，用以设置主板(M)和载板(TP)之间所需距离的控制装置。

19.根据权利要求18所述的复制装置，其特征是主板(M)和载板(TP)之间的距离可以借助于可变间隔装置(DM)控制。

20.根据权利要求19所述的复制装置，其特征是可变间隔装置(DM)为机械、气动或液压元件。

21.根据权利要求19所述的复制装置，其特征是可变间隔装置(DM)为压电元件。

22.根据权利要求19所述的复制装置，其特征是密封环(D)或密封环(D)的各片段表现为可变、可控的垂直弹性体。

23.根据权利要求18至22中的一个或多个所述的复制装置，其特征是包括可控加热和/或冷却单元。

24.根据权利要求18至23中的一个或多个所述的复制装置，其特征是振动激发器促使注入到模具型腔(R)中的流体振动。

25.根据权利要求24所述的复制装置，其特征是振动激发器借助于超声波促使注入到模具型腔(R)中的流体振动。

26.根据权利要求18至25中的一个或多个所述的复制装置，其特征是包括一个位于载板上的弯曲装置(BX)，其将载板(TP)垂直向主板(M)按压。

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