CN101000437A

CN101000437A - 配向膜的配向装置

Info

Publication number: CN101000437A
Application number: CN 200710002665
Authority: CN
Inventors: 吴秉錞; 张智杰; 翁志雄; 张宗远
Original assignee: AU Optronics Corp
Current assignee: AU Optronics Corp
Priority date: 2007-01-24
Filing date: 2007-01-24
Publication date: 2007-07-18

Abstract

本发明提供配向膜的配向装置，包括：一承载平台，用以承载基板；一传送单元，与承载平台结合，以将基板朝一方向传送；一摩擦滚筒，位于承载平台的上方，以在基板通过时对基板进行滚动摩擦；一梳整单元，设置于该摩擦滚筒的一侧，与该摩擦滚筒接触；以及至少一真空吸取单元，位于承载平台的一侧边，以吸取滚动摩擦时产生的粒子。本发明配向装置的梳整单元，可将摩擦滚筒上的刷毛梳理整齐，且能避免基板上静电的产生，可对基板上配向膜作更佳的配向效果。

Description

配向膜的配向装置

技术领域

本发明涉及一种液晶配向装置，尤其涉及一种可移除配向过程中产生的粒子，而提高配向后面板良率的液晶配向装置。

背景技术

薄膜液晶显示器(TFT-LCD)工艺可分为三大流程，第一段为阵列基板及彩色滤光板的工艺，第二段为配向、液晶充填与封合的面板组立工艺；第三部分则是偏光片、背光片与面板组装的液晶显示模块工艺。而在面板组立工艺中的配向膜的配向工艺，扮演着重要且关键的角色。配向工艺除了扮演着控制液晶排列次序及方向的重大任务外，另外还维系着如视角、反应速度、对比及色彩表现等攸关高质量显示的特性。

配向膜的配向即为施予液晶分子方向，目的是给予LCD面板中的全体或局部液晶分子拥有统一且一致的方向性，或是定向排列。而在液晶显示器施予配向膜配向的目的，在于电场用作动力驱动液晶分子动作时，局部或全体的液晶分子需要有同步且一贯性的动作，使得显示动作能快速且一致，此时即需配向手续来达成上述的目的。

目前常用的配向膜的配向装置，多利用绒布滚轮，对具有配向膜的基板进行接触式的机械式摩擦，使配向膜产生一规则的预倾角度，进而使配向膜上的液晶随之呈现一预倾角。此项技术的优点为操作时间极短，在常温下操作即可，同时具有优异量产特性，故沿用至目前的TFT-LCD厂工艺中。然而目前接触式刷膜也有不少缺点，如：作为刷毛的聚酰亚胺(polyimide，PI)材料具高极性、高吸水性，在储存或运送时容易变质而造成配向不均匀；刷膜工艺造成的粉尘颗粒、静电效应、断裂的刷毛污染、或刷痕产生等问题，容易造成工艺良率降低。

美国专利US2004/0198182公开一种配向膜的配向装置。请参阅图4，该配向装置主要包括一平台320、一输送带312、一承载板310、一摩擦滚筒302以及一副滚筒304。当一具有配向膜301的基板300放置于承载板310上，输送带312会带动承载板310以及放置于承载板310上的基板300沿着方向B移动，并被摩擦滚筒302上的刷毛306摩擦。副滚筒304则位于摩擦滚筒302的一侧。因此，当摩擦滚筒302进行刷膜工艺时，该副滚筒304的刷毛308会接触摩擦滚筒302以平顺摩擦滚筒的刷毛306。然而，刷膜工艺造成的粉尘颗粒、断裂的刷毛污染、或刷痕产生等问题依然存在，且副滚筒304的刷毛308接触摩擦滚筒302时，副滚筒304也会产生的粉尘颗粒、断裂的刷毛污染等问题，更无法有效提高工艺良率。而且，由于该配向装置搭配有两个滚筒(摩擦滚筒302和副滚筒304)，所以必然会提高该配向装置的制造成本。

因此，如何在刷膜工艺中维持摩擦滚筒刷毛的平顺；避免造成粉尘颗粒与断裂的刷毛污染、或刷痕产生，并且降低配向装置的制造成本，实为目前亟待解决的课题。

发明内容

为了避免如上述于刷膜工艺中造成的粉尘颗粒、断裂的刷毛污染，或刷痕产生等问题，本发明提供一种配向膜的配向装置，通过搭配真空吸取单元，而可在摩擦滚筒进行机械式摩擦过程中实时吸除粉尘颗粒，避免因粉尘颗粒夹置于摩擦滚筒的刷毛中继续摩擦而造成基板上的刷痕。

本发明还提供一种配向膜的配向装置，其包括一梳整单元，其中梳整单元可将摩擦滚筒上的刷毛梳理整齐，而可对基板上配向膜作更佳的配向效果，同时还能避免基板上静电的产生。

本发明配向膜的配向装置，包括：一承载平台，用以承载基板；一传送单元，与承载平台结合，以朝一方向传送基板；一摩擦滚筒，位于承载平台的上方，以于基板通过时对基板进行滚动摩擦；一梳整单元，设置于摩擦滚筒的一侧，与该摩擦滚筒接触；以及至少一真空吸取单元，位于承载平台的一侧边，以吸取滚动摩擦时产生的粒子。

适用于本发明配向膜的配向装置的基板，可为任何一种需要进行配向工艺的基板，较佳的是，表面形成有一配向膜的基板。此外，本发明装置中的传送单元可为常用的任一种，较佳为多个滚轮，以在降低基板污染机率下传送基板。同时，为使本发明配向装置达到更佳配向状况，因此装置中的摩擦滚筒较佳是具有刷毛。

本发明装置中，真空吸取单元可依需要设置一个或多个，而真空吸取单元设置的高度不限制，其可设在承载平台上的任一端，以吸除因进行摩擦配向而产生于基板表面上的颗粒或断裂刷毛。或是可以沿着摩擦滚筒的外围设置真空吸取单元，其中，较佳的设置高度是高于摩擦滚筒的轴心高度，以实时吸除因梳整刷毛产生的断裂刷毛或其它污染粒子。

本发明装置中，摩擦滚筒的转动方向不限制，可为与基板的传送方向同向，或与基板的传送方向反向，以提供不同的配向密度与形成的配向角度。

本发明配向装置中梳整单元的外型或结构不限制，可为任何一种常用做为梳理用的元件，较佳为一梳状元件，以对摩擦滚筒的刷毛于滚动中进行梳整。而梳整单元较佳是可设置在摩擦滚筒外围的任意一侧，较佳为在摩擦滚筒滚动中，仍可对滚筒上的刷毛进行梳整的位置，而最佳的设置位置高度，为梳整单元至该承载平台的高度，大于该摩擦滚筒至该承载平台的高度。

附图说明

图1是本发明较佳实施例1的示意图；

图2是本发明较佳实施例2的示意图；

图3是本发明较佳实施例3的示意图；

图4是现有技术中配向膜的配向装置的示意图。

其中，附图标记为：

承载平台 00 前端位置 01

后端位置 02 基板 10，300

真空吸取单元 20，21 摩擦滚筒 30

刷毛 31，306，308 梳整板 40，41

方向 X1，X2，B 配向膜 301

副滚筒 304 承载板 310

输送带 312 平台 321

具体实施方式

实施例1

如图1所示，是本发明配向膜的配向装置结构示意图。本发明配向膜的配向装置包括一承载平台00，一摩擦滚筒30，以及一真空吸取单元20。

在承载平台00上有欲进行配向步骤的一基板10，该基板10上已形成有一配向膜(图未示)。摩擦滚筒30固定于承载平台00的上方，当基板10通过时，滚筒上的刷毛31可对基板10上的配向膜进行滚动摩擦，以在配向膜上形成多条规律的微沟状表面。

真空吸取单元20设置在承载平台00的前端位置01，其作用是类似一吸尘设备。如图1所示，当基板10沿着箭头X1方向前进，且摩擦滚筒30的旋转方向与基板方向相反时，所产生的微尘粒子以及摩擦中造成的断裂刷毛，大多会沿着摩擦滚筒30的旋转方向，朝向承载平台00的前端位置01飘移。因此将真空吸取单元20设置于前端位置01，将可发挥最大的吸收效果。

在进行配向的过程中，摩擦滚筒30上的刷毛31会因为不断拍打基板，而导致刷毛的毛向混乱。使用时间一长，混乱的毛向就开始纠结，导致基板上配向膜的微沟不规律，而影响到配向效果。因此，本实施例中在装置上还加上一梳整单元，使摩擦滚筒30上刷毛31在滚动中仍可进行梳整，提高配向效果。且，刷毛31梳理整齐可减少刷毛31上的静电产生。

在摩擦滚筒30上方设置有一梳整单元，例如为一梳整板40具有多个隙缝(图未示)，设置于当摩擦滚筒30转动时，滚筒30上的刷毛31因离心作用甩开时，梳整板40仍可接触到刷毛31为原则，以确实发挥梳整效果。且，该隙缝的大小与间隔依刷毛31的粗细与浓密度而调整。另外，本实施例该梳整板40的材料采用抗静电材料，例如金属，以减少摩擦滚筒刷毛31上的静电累积。

实施例2

本例中配向膜的配向装置结构大致上与实施例1所述类似，本例是说明另一种真空吸取单元20以及摩擦滚筒30的设置位置。如图2所示，当基板10沿着箭头X2方向前进，且摩擦滚筒30的旋转方向与基板方向相同时，所产生的微尘粒子以及摩擦中造成的断裂刷毛，大多会沿着摩擦滚筒30的旋转方向，朝向承载平台00的后端位置02飘移，因此将真空吸取单元20设置于后端位置02，将可发挥最大的吸收效果。

同时，本例中除了如实施例1所示的梳整板40的外，在原梳整板40位置附近加设第二个梳整板41，双重梳整下可使摩擦滚筒30上的刷毛毛向更整齐，提高配向的良率。

实施例3

本例中配向膜的配向装置结构大致上与实施例1所述类似，本例是说明真空吸取单元20以及摩擦滚筒30的第二种应用方式，与不同于实施例1或2的设置位置。如图3所示，本例中真空吸取单元20，21有两个，分别设置在承载平台00的前端位置01以及后端位置02，且高度高于摩擦滚筒30的轴心。这样的配置可以让因为受到梳整板40梳理而断裂的刷毛，实时被真空吸取单元20，21吸除，减少掉落到面板上的机率，进而提高配向良率。

通过本发明配向膜的配向装置，可利用真空吸取单元，在摩擦滚筒进行机械式摩擦过程中实时吸除粉尘颗粒，避免因粉尘颗粒夹置于摩擦滚筒的刷毛中继续摩擦而造成基板上的刷痕。此外，梳整单元的应用更可将摩擦滚筒上的刷毛梳理整齐，并减少刷毛上静电的产生以及因静电而吸附于刷毛上的粉尘颗粒，因而可对基板上配向膜作更佳的配向效果。

上述实施例仅为了方便说明而举例而已，本发明所主张的权利范围自应以权利要求书所述为准，而非仅限于上述实施例。

Claims

1、一种配向膜的配向装置，包括：

一承载平台，用以承载一基板；

一传送单元，与该承载平台结合，朝一方向传送该基板；

一摩擦滚筒，位于该承载平台的上方，以在该基板通过时对该基板进行滚动摩擦；

一梳整单元，设置于该摩擦滚筒的一侧，与该摩擦滚筒接触；以及

至少一真空吸取单元，位于该承载平台的一侧边，以吸取滚动摩擦时产生的粒子。

2、根据权利要求1所述的配向装置，其特征在于，该基板的表面形成有一配向膜。

3、根据权利要求1所述的配向装置，其特征在于，该传送单元是多个滚轮。

4、根据权利要求1所述的配向装置，其特征在于，该摩擦滚筒具有刷毛。

5、根据权利要求1所述的配向装置，其特征在于，该至少一真空吸取单元的设置高度高于该摩擦滚筒的轴心高度。

6、根据权利要求1所述的配向装置，其特征在于，该至少一真空吸取单元设置于该承载平台上。

7、根据权利要求1所述的配向装置，其特征在于，该摩擦滚筒的转动方向与该基板的传送方向同向。

8、根据权利要求1所述的配向装置，其特征在于，该摩擦滚筒的转动方向与该基板的传送方向反向。

9、根据权利要求1所述的配向装置，其特征在于，该梳整单元是一梳状元件。

10、根据权利要求1所述的配向装置，其特征在于，该梳整单元至该承载平台的高度，大于该摩擦滚筒至该承载平台的高度。

11、根据权利要求4所述的配向装置，其特征在于，该梳整单元对该摩擦滚筒的该刷毛进行梳整。

12、根据权利要求1所述的配向装置，其特征在于，该梳整单元为抗静电材料。

13、根据权利要求12所述的配向装置，其特征在于，该梳整单元为金属材料。