CN203299496U - 一种摩擦取向装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种摩擦取向装置，属于显示技术领域。该摩擦取向装置，包括：放置待摩擦基板的基台；清洁头，跨设在所述基台上方，能够沿平行于所述基台表面的方向移动并清除所述基板表面的颗粒；摩擦辊，旋转地安装在所述清洁头上并能够沿所述清洁头上下移动，所述摩擦辊缠绕有摩擦布。通过本实用新型，能够在摩擦取向过程中除去基板上的杂质颗粒，提高液晶显示器的良品率。

Description

一种摩擦取向装置

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，特别是指一种摩擦取向装置。

背景技术

在液晶显示器的制造技术中，通常采用摩擦工艺对液晶分子取向进行前期处理。摩擦工艺主要流程包括：将涂覆有聚酰亚胺膜（Polyimide膜，简称PI膜，也称为取向膜）的基板放置在承载平台上；表面预先缠绕有摩擦布（Rubbingcloth）的摩擦辊（Rubbing roller），以预设转速在承载平台上滚动，从而带动摩擦布以一定的压力从基板上的取向膜表面滚过；在摩擦布滚动的过程中，摩擦布表面的纤维（Pile）与取向膜表面相互作用，在取向膜上形成沟槽。摩擦工艺结束后，将基板与另一基板对盒并在二个基板之间注入液晶（LiquidCrystal，简称LC）分子，由于LC分子和取向膜之间构成锚定力（AnchoringEnergy），因此，LC分子可沿沟槽取向顺序排列，从而使得LC分子在取向膜内的排列达到预倾角的要求。

现有摩擦取向的过程中，往往避免不了在基板上产生一些杂质颗粒，颗粒来源包括粘在摩擦布表面的异物、摩擦布织染过程中的杂质以及落浮在基板表面的灰尘，这些颗粒将影响对应位置摩擦取向的均一性，影响液晶分子的定向排列，从而影响液晶显示器的画面显示质量。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种摩擦取向装置，能够在摩擦取向过程中除去基板上的杂质颗粒，提高液晶显示器的良品率。

为解决上述技术问题，本实用新型的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种摩擦取向装置，包括：

放置待摩擦基板的基台；

清洁头，跨设在所述基台上方，能够沿平行于所述基台表面的方向移动并清除所述基板表面的颗粒；

摩擦辊，旋转地安装在所述清洁头上并能够沿所述清洁头上下移动，所述摩擦辊缠绕有摩擦布。

进一步地，上述摩擦取向装置，还包括：

驱动所述清洁头沿平行于所述基台表面的方向移动的驱动器，所述驱动器与所述清洁头连接。

进一步地，上述摩擦取向装置，包括位于同一水平面的两个清洁头，所述摩擦辊设置在两个清洁头之间。

进一步地，上述方案中，所述清洁头包括：

填充有高压气体的吹气腔体，所述吹气腔体设置有风嘴，所述吹气腔体通过风嘴能够使所述基板上的颗粒发生震荡；

与所述吹气腔体相邻设置的吸气腔体，所述吸气腔体能够将所述基板上的颗粒吸走。

进一步地，上述方案中，所述吸气腔体包括分别位于所述吹气腔体两侧的第一侧腔体和第二侧腔体。

进一步地，上述方案中，所述风嘴设有超声波发生器。

进一步地，上述摩擦取向装置，还包括：

通过吸气管道与所述吸气腔体相连并为吸气腔体提供吸气气流的第一风机；

通过吹气管道与所述吹气腔体相连并为吹气腔体提供高压气体的第二风机。

进一步地，上述方案中，所述吸气管道中设置有用以吸附颗粒的过滤网。

进一步地，上述方案中，所述吹气管道中设置有用以吸附颗粒的过滤网。

本实用新型的实施例具有以下有益效果：

上述方案中，能够在摩擦取向的过程中，及时清除摩擦取向过程或其他途径产生的落浮在基板表面的杂质颗粒，降低了配向膜被污染的可能性，提高了摩擦配向工艺的品质和产品显示质量，并且能够缩短或节省人工清洁操作的时间以提高生产效率。

附图说明

图1为本实用新型实施例摩擦取向装置的局部结构示意图；

图2为本实用新型实施例清洁头的结构示意图；

图3为本实用新型实施例摩擦取向装置的另一局部结构示意图。

1基台  2基板  3清洁头

4摩擦辊  5吹气腔体  6第一侧腔体

7第二侧腔体  8风嘴  9吸气管道

10第一风机  11吹气管道  12第二风机

具体实施方式

为使本实用新型的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

本实用新型的实施例针对现有摩擦取向过程中基板上的杂质颗粒影响对应位置摩擦取向的均一性，影响液晶分子的定向排列，从而影响液晶显示器的画面显示质量的问题，提供一种摩擦取向装置，能够在摩擦取向过程中除去基板上的杂质颗粒，提高液晶显示器的良品率。

本实用新型实施例提供了一种摩擦取向装置，包括：

放置待摩擦基板的基台；

清洁头，跨设在所述基台上方，能够沿平行于所述基台表面的方向移动并清除所述基板表面的颗粒；

摩擦辊，旋转地安装在所述清洁头上并能够沿所述清洁头上下移动，所述摩擦辊缠绕有摩擦布。

其中，在进行摩擦取向时，为了不影响摩擦辊的摩擦取向工作，摩擦辊与基板的距离要稍小于清洁头与基板的距离。

本实用新型摩擦取向装置能够在摩擦取向的过程中，及时清除摩擦取向过程或其他途径产生的落浮在基板表面的杂质颗粒，降低了配向膜被污染的可能性，提高了摩擦配向工艺的品质和产品显示质量，并且能够缩短或节省人工清洁操作的时间以提高生产效率。

本实用新型的另一实施例中，在包括上述结构的基础上，所述摩擦取向装置还包括：

驱动所述清洁头沿平行于所述基台表面的方向移动的驱动器，所述驱动器与所述清洁头连接。

驱动器具体可以为一旋转电机，旋转电机的驱动轴与清洁头相连，带动清洁头沿平行于基台表面方向移动，同时也带动摩擦辊沿平行于基台表面方向移动，对涂布有PI的基板进行摩擦取向。当然，为了实现正常的摩擦过程，所述摩擦辊也要连接驱动装置驱动其转动，该驱动装置也可以为与本实施例所述的驱动器为集成的一个驱动器，也可以为独立的驱动器，这些本实施例不做限定。

本实用新型的另一实施例中，在包括上述结构的基础上，所述摩擦取向装置具体可以包括有两个位于同一水平面的清洁头，摩擦辊设置在两个清洁头之间，这样可以更加有效地去除摩擦取向过程中基板上产生的杂质颗粒。

具体地，所述清洁头包括有：

填充有高压气体的吹气腔体，所述吹气腔体设置有风嘴，所述吹气腔体通过风嘴能够使所述基板上的颗粒发生震荡；

与所述吹气腔体相邻设置的吸气腔体，所述吸气腔体能够将所述基板上的颗粒吸走。

其中，一个优选的实施例为，吸气腔体包括分别位于所述吹气腔体左右两侧的第一侧腔体和第二侧腔体，这样可以在吹气腔体使基板上的颗粒发生震荡后，及时将基板上的颗粒吸入吸气腔体中。

其中，一个优选的实施例为，所述风嘴中设有超声波发生器，通过超声波发生器产生的超声波气体能够更好地使基板上的颗粒发生震荡。

进一步地，所述摩擦取向装置还包括：

通过吸气管道与所述吸气腔体相连并为吸气腔体提供吸气气流的第一风机；

通过吹气管道与所述吹气腔体相连并为吹气腔体提供高压气体的第二风机。

其中，所述吸气管道中可以设置有用以吸附颗粒的过滤网，所述吹气管道中也可以设置有用以吸附颗粒的过滤网，这样可以有效吸附空气中的颗粒，使得空气能够得到循环利用。

上述技术方案可以进行任意组合，下述结合附图及具体实施例对本实用新型进行进一步的说明。

图1和图3为本实施例摩擦取向装置的结构示意图，如图1所示，本实施例包括：

用以放置基板2的基台1；

跨设在基台1上方的清洁头3，清洁头3能够沿平行于基台1表面方向移动并清除基板2表面的颗粒；

可旋转地安装在清洁头3上的摩擦辊4，摩擦辊4的外周缠绕有摩擦布，摩擦辊4能够沿清洁头3上下移动。

本实施例中，摩擦取向装置包括有两个位于同一水平面的清洁头3，摩擦辊4设置在两个清洁头3之间，两个清洁头相互配合，可以有效地去除摩擦取向过程中基板上产生的杂质颗粒。

其中，在利用本实用新型的系统单纯去除杂质颗粒、摩擦辊不需要工作时，可以调整摩擦辊4相对于清洁头3的位置，使摩擦辊4与基板2的距离大于清洁头3与基板2的距离；利用本实用新型的系统在进行摩擦取向的同时去除杂质颗粒时，为了不影响摩擦辊4的摩擦取向工作，需要调整摩擦辊4相对于清洁头3的位置，使摩擦辊4与基板2的距离稍小于清洁头3与基板2的距离。

其中，摩擦取向装置还包括：驱动清洁头3沿平行于基台1表面方向移动的旋转电机，旋转电机的驱动轴与清洁头3相连，带动清洁头3沿平行于基台1表面方向移动，同时也可以带动摩擦辊4沿平行于基台1表面方向移动，对涂布有PI的基板2进行摩擦取向。

如图2所示，清洁头3包括有：

填充有高压气体的吹气腔体5，吹气腔体5内侧设置有能够使依附在基板上的颗粒发生震荡的风嘴8，风嘴8中设有超声波发生器，通过超声波发生器产生的超声波气体使基板2上的颗粒发生震荡，风嘴8可以设置为喇叭形，这样可以扩大颗粒发生震荡的范围；

与吹气腔体5相邻、将基板2上的颗粒吸走的吸气腔体，吸气腔体包括分别位于吹气腔体5左右两侧的第一侧腔体6和第二侧腔体7，这样可以在吹气腔体5使基板2上的颗粒发生震荡后，通过左右两个腔体的配合及时将基板2上的颗粒吸入吸气腔体中。

如图3所示，摩擦取向装置还包括：通过吸气管道9与吸气腔体相连、提供吸气气流的第一风机10；通过吹气管道11与吹气腔体相连、为吹气腔体提供高压气体的第二风机12。其中，吸气管道9中设置有用以吸附颗粒的过滤网，吹气管道11中也设置有用以吸附颗粒的过滤网，这样可以有效吸附空气中的颗粒，使得空气能够得到循环利用。第一风机10通过吸气管道9将吸气腔体中的气体吸入，之后第二风机12将经过滤网过滤后的气体通过吹气管道11冲入吹气腔体5，为吹气腔体5提供高压气体。

本实施例的摩擦取向装置在进行摩擦取向过程时，在旋转电机的驱动下，清洁头3和摩擦辊4沿平行于基台1表面方向移动，摩擦辊4与基板2的距离稍小于清洁头3与基板2的距离，摩擦辊4对基台上涂布有PI的基板2进行摩擦取向，同时吹气腔体5的风嘴8产生超声波气体使基板2上的颗粒发生震荡，第一侧腔体6和第二侧腔体7将基板2上的颗粒吸入吸气腔体中，从而及时清除摩擦取向过程或其他途径产生的落浮在基板表面的杂质颗粒，降低了配向膜被污染的可能性，提高了摩擦配向工艺的品质和产品显示质量，并且能够缩短或节省人工清洁操作的时间以提高生产效率。

以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (9)

1.一种摩擦取向装置，其特征在于，包括：

放置待摩擦基板的基台；

清洁头，跨设在所述基台上方，能够沿平行于所述基台表面的方向移动并清除所述基板表面的颗粒；

摩擦辊，旋转地安装在所述清洁头上并能够沿所述清洁头上下移动，所述摩擦辊缠绕有摩擦布。

2.根据权利要求1所述的摩擦取向装置，其特征在于，还包括：

驱动所述清洁头沿平行于所述基台表面的方向移动的驱动器，所述驱动器与所述清洁头连接。

3.根据权利要求1所述的摩擦取向装置，其特征在于，包括位于同一水平面的两个清洁头，所述摩擦辊设置在两个清洁头之间。

4.根据权利要求1所述的摩擦取向装置，其特征在于，所述清洁头包括：

填充有高压气体的吹气腔体，所述吹气腔体设置有风嘴，所述吹气腔体通过风嘴能够使所述基板上的颗粒发生震荡；

与所述吹气腔体相邻设置的吸气腔体，所述吸气腔体能够将所述基板上的颗粒吸走。

5.根据权利要求4所述的摩擦取向装置，其特征在于，所述吸气腔体包括分别位于所述吹气腔体两侧的第一侧腔体和第二侧腔体。

6.根据权利要求4所述的摩擦取向装置，其特征在于，所述风嘴设有超声波发生器。

7.根据权利要求4所述的摩擦取向装置，其特征在于，还包括：

通过吸气管道与所述吸气腔体相连并为吸气腔体提供吸气气流的第一风机；

通过吹气管道与所述吹气腔体相连并为吹气腔体提供高压气体的第二风机。

8.根据权利要求7所述的摩擦取向装置，其特征在于，所述吸气管道中设置有用以吸附颗粒的过滤网。

9.根据权利要求7所述的摩擦取向装置，其特征在于，所述吹气管道中设置有用以吸附颗粒的过滤网。

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