CN100559610C - 介孔二氧化钛/氧化锌复合薄膜的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种介孔二氧化钛/氧化锌复合薄膜的制备方法,该方法是在有机溶剂中,以嵌段聚合物模板,诱导钛的前驱体溶液和锌的前驱体水解并形成有机-无机均匀有序的介观结构,然后脱除模板同时使薄膜晶化,从而得到骨架为纳米晶的介孔复合薄膜。本发明的优点是:工艺简单,成本较低,且容易控制复合薄膜的组分;通过控制钛和锌的前驱体的加入量可调控复合介孔薄膜中TiO2和ZnO的含量。
Description
技术领域
本发明涉及介孔半导体复合薄膜的制备方法,具体是指一种利用湿化学法,结合嵌段聚合物自组装技术来制备介孔二氧化钛/氧化锌(TiO2/ZnO)复合薄膜的方法。
背景技术
介孔TiO2材料具有可调的孔道结构、高比表面积和良好的光电性能,在染料敏化太阳能电池、光催化剂、化学感光、过滤、生物医学材料和气体传感器等方面显示了广阔的应用前景。近年来介孔TiO2薄膜材料的研究备受科学工作者的关注,特别是染料敏化纳米晶二氧化钛光电化学太阳电池(DSSC)因其廉价、高效且工艺简单等优点已经成为当前重要研究课题。介孔TiO2薄膜材料能够吸附较多的敏化剂,敏化剂和TiO2表面形成C-O-Ti键,从而提高了染料中激发的电子向TiO2薄膜的转移效率,使得量子效率接近于100%。因此,介孔TiO2材料被广泛应用于DSSC中的半导体电极材料。然而,介孔TiO2薄膜中存在着大量的表面态,且局域化的表面态能级位于禁带之中。这些局域态形成陷阱,束缚了电子在薄膜中的运动,使得电子在薄膜中的传输与停留时间增大,因而电子和电解质复合的概率增加,导致暗电流增加,从而降低了DSSC电池的总效率。着眼于此,DSSC半导体电极材料的选择和优化成为提高电池转换效率的关键。而ZnO是最有可能成为优化介孔TiO2电极的重要材料体系。一方面,ZnO和TiO2均为宽禁带半导体,二者具有相近的禁带宽度,且ZnO导带与染料的最低未占轨道(LOMO)更加接近。另一方面,与TiO2相比,电子在ZnO中的迁移率大,可以减少电子在薄膜中的传输时间从而能够提高DSSC的转换效率。因此,非常有必要研究介孔TiO2/ZnO复合薄膜材料的制备,为市场一种优质的DSSC半导体电极材料。
发明内容
本发明的目的就是要提供一种介孔TiO2/ZnO复合薄膜材料的制备方法。该方法是利用模板自组装技术,诱导嵌段聚合物与钛和锌的前驱体形成有机-无机介观结构,采用焙烧方法脱除模板同时使薄膜晶化。通过控制钛和锌的前驱体含量来调控介孔复合薄膜中TiO2和ZnO的含量。
本发明的介孔TiO2/ZnO复合薄膜的制备方法包括如下步骤:
1.TiO2/ZnO复合前驱体溶液的制备
将嵌段聚合物溶于有机溶剂中,完全溶解后加入浓盐酸,搅拌均匀;然后滴加钛前驱体溶液,继续搅拌均匀后再滴加锌前驱体溶液,在常温(15-25℃)下至少搅拌3小时即可得到TiO2/ZnO复合前驱体溶液,然后静置24小时后待用。
钛前驱体、锌前驱体、嵌段聚合物、浓盐酸和有机溶剂的重量比为1∶(>0~<0.08)∶0.1~0.5∶0.05~0.7∶2~5。
所说的钛前驱体溶液为分析纯的钛酸四正丁酯或钛酸异丙酯。
所说的锌前驱体溶液为分析纯的二水乙酸锌。
所说的嵌段聚合物为三嵌段共聚物聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯或两嵌段共聚物聚苯乙烯-聚氧乙烯。
所说的有机溶剂为无水乙醇或正丁醇或四氢呋喃。
2.TiO2/ZnO复合薄膜的制备
利用旋涂法在基片上成膜,将配制好的TiO2/ZnO复合前驱体溶液滴到基片上旋涂,转速为1000-3000转/分钟,旋涂时间为20-60秒,重复旋涂前面所述过程,直至达到所需的厚度。
成膜后,将样品放在温度为20-40℃,相对湿度为30%-60%环境下老化12~48小时。然后将其放在加热炉中,以1℃/分钟的升温速率升温至300℃~450℃,保温4~6小时,而后自然冷却至室温,这一过程使模板脱除,薄膜晶化。
所说的基片为单晶硅片、ITO(掺锡氧化铟)玻璃、普通玻璃或石英片。
本发明的优点是:制备方法简单,成本较低,且容易控制复合薄膜的组分。通过控制钛和锌的前驱体加入量可调控复合介孔薄膜中TiO2和ZnO的含量。
附图说明
图1为本发明的介孔TiO2/ZnO复合薄膜的小角XRD图谱;
图2为本发明的介孔TiO2/ZnO复合薄膜的SEM和TEM图;
图3为本发明的介孔TiO2/ZnO复合薄膜的XPS图谱(分别对应Ti,Zn,O的能谱图)
图4为本发明的介孔TiO2/ZnO复合薄膜的小角XRD图谱;
图5为本发明的介孔TiO2/ZnO复合薄膜的SEM图;
图6为本发明的介孔TiO2/ZnO复合薄膜的XPS图谱(分别对应Ti,Zn,O的能谱图)
具体实施方式
实施例1
TiO2/ZnO复合前驱体溶液的制备:将1.3g三嵌段聚合物聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯(P123)溶于无水乙醇中,完全溶解后加入3.2g浓盐酸,搅拌0.5小时;然后滴加5ml钛酸异丙酯,搅拌0.5小时后再滴加0.2g二水乙酸锌,在常温(15-25℃)下搅拌3小时后,静置24小时待用。
清洗基片:基片为单晶硅片,其晶向为100。将基片在无水乙醇中超声清洗15分钟,然后用丙酮超声清洗15分钟,继续在无水乙醇中超声清洗15分钟,N2吹干,备用。
复合薄膜的旋涂:将配制好的TiO2/ZnO复合前驱体溶液滴到基片上旋涂,转速为2000转/分钟,旋涂时间为20秒。旋涂在室温下进行,室内相对湿度为45%-55%。
焙烧脱除模板:将成膜后的样品放在温度为25℃,相对湿度为50%的环境下老化48小时。然后将其放在加热炉中,以1℃/分钟的升温速率升温至350℃,保温4小时,然后自然冷却至室温,这一过程使模板脱除,薄膜晶化。
图1、图2和图3分别给出了本实施例制备的介孔TiO2/ZnO复合薄膜的小角XRD图谱,SEM(图2a)和TEM(图2b),以及XPS图谱(图3a对应Ti、图3b对应Zn、图3c对应O的能谱图)。由小角XRD和SEM图谱可知,薄膜为介孔结构,孔径大小约为7~8nm;TEM和XPS能谱证实了该薄膜为纳米晶的TiO2和ZnO复合薄膜。
实施例2
TiO2/ZnO复合前驱体溶液的制备:将1.3g三嵌段聚合物聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯(P123)溶于无水乙醇中,完全溶解后加入3.2g浓盐酸,搅拌0.5小时;然后滴加6.2ml钛酸四正丁酯,搅拌0.5小时后再滴加0.44g二水乙酸锌,在常温(15-25℃)下搅拌3小时后,静置24小时待用。
清洗基片:基片为单晶硅片,其晶向为100。将基片在无水乙醇中超声清洗15分钟,然后用丙酮超声清洗15分钟,继续在无水乙醇中超声清洗15分钟,N2吹干,备用。
复合薄膜的旋涂:将配制好的TiO2/ZnO复合前驱体溶液滴到基片上旋涂,转速为2000转/分钟,旋涂时间为20秒。成膜在室温下进行,室内相对湿度为45%-55%。
焙烧脱除模板:将成膜后的样品放在温度为40℃,相对湿度为50%的环境下老化48小时。然后将其放在加热炉中,以1℃/分钟的升温速率升温至350℃,保温4小时,然后自然冷却至室温,这一过程使模板脱除,薄膜晶化。
图4、图5和图6分别给出了本实施例制备的介孔TiO2/ZnO复合薄膜的小角XRD图谱,SEM,以及XPS图谱(图6a对应Ti、图6b对应Zn、图6c对应O的能谱图)。由小角XRD和SEM可知,薄膜为介孔结构,孔径大小约为7~8nm;XPS能谱证实了该薄膜为纳米晶的TiO2和ZnO复合薄膜。
Claims (1)
1.一种介孔氧化钛/氧化锌复合薄膜的制备方法,其特征在于具体步骤如下:
§A.TiO2/ZnO复合前驱体溶液的制备
将嵌段聚合物溶于有机溶剂中,完全溶解后加入浓盐酸,搅拌均匀;然后滴加钛前驱体溶液,继续搅拌均匀后再滴加锌前驱体溶液,而后在15-25℃的常温下至少搅拌3小时即可得到TiO2/ZnO复合前驱体溶液,然后静置24小时后待用;
钛前驱体、锌前驱体、嵌段聚合物、浓盐酸和有机溶剂的重量比为1∶(>0~<0.08)∶0.1~0.5∶0.05~0.7∶2~5;
所说的钛前驱体溶液为分析纯的钛酸四正丁酯或钛酸异丙酯;
所说的锌前驱体溶液为分析纯的二水乙酸锌;
所说的嵌段聚合物为三嵌段共聚物聚氧乙烯-聚氧丙烯-聚氧乙烯或两嵌段共聚物聚苯乙烯-聚氧乙烯;
所说的有机溶剂为无水乙醇或正丁醇或四氢呋喃;
§B.TiO2/ZnO复合薄膜的制备
利用旋涂法在基片上成膜,将配制好的TiO2/ZnO复合前驱体溶液滴到基片上旋涂,转速为1000-3000转/分钟,旋涂时间为20-60秒,重复前面所述的旋涂过程,直至达到所需的厚度;
成膜后,将样品放在温度为20-40℃,相对湿度为30%-60%环境下老化12~48小时;然后将其放在加热炉中,以1℃/分钟的升温速率升温至300℃~450℃,保温4~6小时,自然冷却至室温,这一过程使模板脱除,薄膜晶化;
所说的基片为单晶硅、ITO玻璃、普通玻璃或石英。
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