CN100550135C - 测量浮动块安装位置的方法和装置 - Google Patents

测量浮动块安装位置的方法和装置 Download PDF

Info

Publication number
CN100550135C
CN100550135C CN200410104726.6A CN200410104726A CN100550135C CN 100550135 C CN100550135 C CN 100550135C CN 200410104726 A CN200410104726 A CN 200410104726A CN 100550135 C CN100550135 C CN 100550135C
Authority
CN
China
Prior art keywords
coordinate
dimple
suspension
head slider
core
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN200410104726.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1637865A (zh
Inventor
早见健一
金子正明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Publication of CN1637865A publication Critical patent/CN1637865A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100550135C publication Critical patent/CN100550135C/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
    • G11B5/3166—Testing or indicating in relation thereto, e.g. before the fabrication is completed
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/455—Arrangements for functional testing of heads; Measuring arrangements for heads
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00—Metal working
    • Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002—Electrical device making
    • Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
    • Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
    • Y10T29/49025—Making disc drive
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00—Metal working
    • Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002—Electrical device making
    • Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/4913—Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc.
    • Y10T29/49131—Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc. by utilizing optical sighting device
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00—Metal working
    • Y10T29/53—Means to assemble or disassemble
    • Y10T29/5313—Means to assemble electrical device
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00—Metal working
    • Y10T29/53—Means to assemble or disassemble
    • Y10T29/5313—Means to assemble electrical device
    • Y10T29/53165—Magnetic memory device
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00—Metal working
    • Y10T29/53—Means to assemble or disassemble
    • Y10T29/5313—Means to assemble electrical device
    • Y10T29/53187—Multiple station assembly apparatus

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Abstract

本发明涉及一种测量一悬架上将要安装一用于磁头的磁头浮动块的预定位置的方法，包括：获得在悬架延伸的X-Y平面内的基准部的中心部分的第一X-Y坐标；从垂直于X-Y平面的方向向形成在一凹座的凸面的背面内的一凹面照射光线而对该凹座进行拍摄以获得该凹座的图像；对基准部的中心部分和凹座的中心部分进行拍摄以获得相应的图像；在X-Y平面上沿悬架的延伸方向获得一中心线的X-Y坐标和磁头浮动块的一中心点的X-Y坐标；以及通过使磁头浮动块的中心线与预定方向一致，并使磁头浮动块的中心点的X-Y坐标与凹座的中心部分的第二X-Y坐标一致而获得磁头浮动块将要安装到悬架上的位置。本发明还涉及实现上述方法的装置。

Description

测量浮动块安装位置的方法和装置
技术领域
本发明一般地涉及当将一磁头浮动块安装到用于支承该磁头浮动块的一所谓悬架上时用于测量该磁头浮动块的安装位置的方法和装置，该磁头浮动块用在磁记录装置例如硬盘(以下简称为“HDD”)中。本发明还涉及一种磁头制造系统，该系统用于在应用该测量装置确认磁头浮动块的安装位置之后，将磁头浮动块固定到一悬架上以估测磁头浮动块固定到悬架上的状态。
背景技术
图10A是表示一磁头的头部的示意性结构的侧视图，并且图10B是表示该磁头的头部的示意性结构的俯视图。该磁头包括一由金属制成的片簧构成的承载梁3，一除了其要被支承在该处的头部以外均粘合在承载梁3上的挠性件5，以及一粘合在挠性件5上以便被支承在该处的磁头浮动块1。挠性件5粘合在承载梁3上，因此挠性件5和承载梁3几乎成为一个整体，并且作为磁头中的一悬架7。挠性件5包括主体部分5a，和一矩形舌片5b。仅仅该矩形舌片5b的头部一侧连接到挠性主体5a上，它的其它侧被(从主体)切开。
一朝该挠性件5一侧突出的凹座(dimple)11形成在承载梁3的头部处。凹座11对舌片5b施加推力以使舌片5b独立于挠性主体5a而变得几乎平行于承载梁3。凹座11通过其上固定有磁头浮动块1的舌片5b推动磁头浮动块1，并且因此可以在实际的记录/再现操作中保持一最佳的姿态(参见JP H11-185416A和JP H 06-215511A)。
迄今，在用于将磁头浮动块1安装到承载梁3上的操作中，测量悬架7自身的位置或者观察孔7a和形成于悬架7上的旋转孔7b的位置，并且根据测量结果确定磁头浮动块1的固定位置。另外，获得磁头浮动块1的中心线，并且该中心线也被用作测量的参数。
因为HDD的记录密度越来越高，硬盘的轨道宽度越来越窄，并且对应于减小的轨道宽度的磁头也变得越来越小型化和轻巧。在这种情况，就要求当磁头浮动块安置和安装到小型化的磁头上的同时实现较高的精确性。还要求提高在实际的记录/再现操作中磁头中心部分的姿态的稳定性。本质上，当将磁头中心部分固定到悬架上时，如果考虑到在固定操作中磁头中心部分的姿态的稳定性，那么必须将凹座的形成位置作为参考来确定磁头中心部分的安装位置。
然而，从以前所参照的图10A和10B可以明显看到，由于舌片突出以致覆盖在凹座表面上，所以到目前为止认为直接测量凹座的形成位置是不可能的。此外，随着磁头中心部分和凹座的小型化，通过传统方法，即利用该中心部分的中心线，观察孔，以及旋转孔的测量磁头浮动块的安装位置的方法，变得难以确定一个合适的固定位置。
发明内容
本发明是根据上面提到的情况做出的，因此本发明的一个目的是提供一种测量磁头浮动块在悬架上的安装位置的方法和装置，其均能够精确地确定悬架上的凹座位置和精确地确定磁头浮动块的安装位置。本发明的另外一个目的是提供一种磁头制造系统，该系统用于在应用该测量装置确认磁头浮动块的安装位置之后，将该磁头浮动块固定到一悬架上。
为了解决上述问题，根据本发明的一个方面，提供一种测量一用于磁头的磁头浮动块将要安装于该处的一悬架上的预定位置的方法，其中该磁头浮动块将要安装在具有一基准部的该悬架上的该预定位置内，以使该磁头浮动块沿预定方向定向，该方法包括：
获得在该悬架的延伸的X-Y平面内的该基准部的中心部分的第一X-Y坐标；
从基本垂直于该X-Y平面的方向向形成在一凹座的凸面的背面内的一凹面照射光线而对该凹座进行拍摄以获得该凹座的图像，从而根据该图像在一平行于该X-Y平面的平面内获得该凹座的中心部分的第一X-Y坐标，其中该凹座形成在该悬架上以使该凸面位于该磁头浮动块将要安装于其上的该悬架的一侧；
对该基准部的中心部分和该凹座的中心部分进行拍摄以获得相应的图像，以便根据该所得到的图像以及至少该基准部的中心部分的第一X-Y坐标和该凹座的中心部分的第一X-Y坐标之一获得该基准部的中心部分的第二X-Y坐标和该凹座的中心部分的第二X-Y坐标，从而利用所得到的该基准部的中心部分的第二X-Y坐标和所得到的该凹座的中心部分的第二X-Y坐标获得该预定方向；
在该X-Y平面上沿该悬架的延伸方向获得一中心线的X-Y坐标和该磁头浮动块的一中心点的X-Y坐标；以及
通过使该磁头浮动块的中心线与该预定方向一致，并使该磁头浮动块的中心点的X-Y坐标与该凹座的中心部分的第二X-Y坐标一致而获得在该处该磁头浮动块将要安装到该悬架上的该悬架的一个位置。
在该方法的另一方面中，优选地获得该凹座的中心部分的第一X-Y坐标包括在一平行于该X-Y平面的平面内从不同方向对该凹座的凸面进行拍摄以获得相应的图像，从而根据该所得到的相应的图像获得在该平面内该凸面的顶部的第一X-Y坐标，并且通过对该凸面的顶部的第一X-Y坐标增加一位置偏移量而确定该凹座的中心部分的第二X-Y坐标，该位置偏移量是该凸面的顶部的第一X-Y坐标和根据所述图像获得的该凹座的中心部分的第一X-Y坐标之间的位置偏移量。
此外，为了解决上述问题，根据本发明的另一方面，提供一种测量一用于磁头的磁头浮动块将要安装于该处的一悬架上的一预定位置的方法，其中该磁头浮动块将要安装在具有一指示物和一基准部的该悬架上的该预定位置内，以使该磁头浮动块沿预定方向定向，该方法包括：
在该悬架延伸的X-Y平面内获得该指示物的中心部分的第一X-Y坐标和该基准部的中心部分的第一X-Y坐标；
在一平行于该X-Y平面的平面内从不同方向对一凹座的凸面进行拍摄以获得相应的图像，其中该凹座形成在该悬架上以便在该磁头浮动块将要安装于其上的该悬架的一侧上具有凸面，由此从所得到的相应的图像获得该凸面的顶部在该平面内的第一X-Y坐标；
对该指示物或该基准部的中心部分进行拍摄以获得相应的图像，以便根据从该所得到的图像以及至少该指示物的中心部分的所述X-Y坐标和该基准部的中心部分的所述X-Y坐标之一获得的该指示物的中心部分的第二X-Y坐标和该基准部的中心部分的第二X-Y坐标，来获得该凹座的凸面的顶部的第二X-Y坐标，由此利用该指示物和该基准部的中心部分的第二X-Y坐标以及该凹座的凸面的顶部的第二X-Y坐标来获得该预定方向；
在该平面上沿该悬架的延伸方向获得该磁头浮动块的一中心线的X-Y坐标和一中心点的X-Y坐标；以及
通过使该磁头浮动块的中心线和该预定方向一致，并使该磁头浮动块的中心点的X-Y坐标和该凹座的凸面顶部的第二X-Y坐标一致，来获得在该处磁头浮动块将要安装到该悬架上的该悬架的一个位置。
此外，为了解决上述问题，根据本发明的另一方面，提供一种测量一悬架上将要安装一用于磁头的磁头浮动块的预定位置的装置，其中该磁头浮动块将要安装在具有一基准孔的该悬架上的该预定位置内，以使该磁头浮动块沿预定方向定向，该装置包括：
下部相机，该下部相机用于从垂直于该X-Y平面的方向拍摄形成在悬架上的所述基准孔以及形成在一凹座的凸面的背面内的一凹面，其中该凹座形成在该悬架上以使该凸面位于该悬架的将要安装该磁头浮动块的一侧；
上部相机，该上部相机用于从垂直于X-Y面的方向拍摄磁头浮动块；
控制装置，该控制装置用于：在悬架延伸的X-Y平面内定义基准孔的中心部分的第一X-Y坐标和凹座的凹面的最深部分的第一X-Y坐标；利用下部相机对该基准孔的中心部分进行拍摄，并利用前部相机和侧部相机对该凹座的中心部分进行拍摄，以获得相应的图像；根据该所得到的图像以及至少该基准孔的中心部分的第一X-Y坐标值和该凹座的凹面的最深部分的第一X-Y坐标值之一来定义该基准孔的中心部分的第二X-Y坐标和该凹座的中心部分的第二X-Y坐标；利用所得到的第二X-Y坐标获得该预定方向；在该X-Y平面上沿该悬架的延伸方向获得该磁头浮动块的一中心线的第二X-Y坐标值和一中心点的第二X-Y坐标值；以及通过使该磁头浮动块的中心线与该预定方向一致，并使该磁头浮动块的中心点的第二X-Y坐标值与该凹座的中心部分的第二X-Y坐标值一致而获得该悬架上要安装该磁头浮动块的一个位置。
此外，为了解决上述问题，根据本发明的另一方面，提供一种磁头制造系统，该系统用于在一悬架上的一预定位置内沿一预定方向安装一磁头浮动块，该悬架具有形成在该磁头浮动块将要安装于其上的一侧上的一凸面和一基准部，该磁头制造系统包括：
一磁头浮动块安装位置的测量装置，该装置用于测量该磁头浮动块将要安装于该处的该悬架上的预定位置；和
一磁头浮动块安装装置，该装置用于在该悬架上的预定位置内安装该磁头浮动块，
该磁头浮动块安装位置的测量装置包括：
一上部相机和一下部相机，该相机分别具有指向该悬架的延伸平面的相对的拍摄光轴；
一前部相机，该相机具有位于一平行于该悬架的延伸平面的平面上并指向该悬架的拍摄光轴；
一侧部相机，该相机具有位于一平行于该悬架的延伸平面的平面上并从与该前部相机的拍摄光轴不同的方向指向该悬架的拍摄光轴；以及
控制装置，该装置根据用该上部相机、该下部相机、该前部相机和该侧部相机拍摄到的该悬架的图像，来获得形成在该磁头浮动块要安装于其上的该悬架的一侧上的一凸面的顶部和形成在该悬架上的一基准部之间的位置关系。
应指出上述第一X-Y坐标表示当用侧部相机，前部相机和下部相机获得在凹座中的凸面的顶部或凹面的最深部分时所使用的X-Y坐标系。同样，上述第二X-Y坐标系表示当利用参数，例如沿悬架的延伸方向延伸的悬架的中心线的位置将磁头浮动块安装到悬架上时所使用的坐标系。这些单个的相机优选分别布置在正交的坐标轴上。但是，只要最终能获得目标点的第一和第二X-Y坐标，则该单个相机的布置位置并不局限于在该正交坐标系的轴线上的位置。此外，在实施例或类似示例中将对作为第一和第二基准孔的一观察孔和一旋转孔作为基准部进行说明。但是，只要该基准部能成为可用于确定该悬架的中心线、一特定部分的位置等的指示物，该基准部并不局限于这些孔。
根据本发明，可以获得迄今一直用作基准部的观察孔和旋转孔与凹座之间的精确的位置关系。因此，对磁头浮动块在悬架上的安装位置的估测通过用于支承磁头浮动块的该凹座的中心位置作为基准来确定。结果，可以产生以下效果：提高了在小型化磁头中安装磁头浮动块的精确性，并且还提高了在实际的记录/再现操作中磁头中心部分的姿态的稳定性。
通常，通过使要形成承载梁的金属薄板进行压力加工来获得该凹座。通常，通过在一具有凹面类部分的下型箱和一具有凸面类部分的上型箱之间夹入一金属薄板而进行该压力加工以使该金属薄板变形。还可能在该下型箱的凹面的顶部(最下凹的部分)和该上型箱的凸面的顶部之间发生位置偏移。根据本发明，已经注意到在这些顶部之间的位置偏移，从而可以识别该偏移。从而即使当这种位置偏移发生时，也可以将磁头浮动块精确地安装在该凹座的顶部。
附图说明
图1A是根据本发明的一种实施方式的测量装置的主要部分的示意性结构的俯视图；
图1B是根据本发明的该实施方式的测量装置的主要部分的示意性结构的侧视图；
图2是说明一种包括获得凹座的凹面的最深部分的位置的方法的示意图；
图3是说明一种包括获得凹座的凸面的顶部位置的方法的示意图；
图4是说明一种包括获得在该凹座中凹面的最深部分与凸面的顶部之间沿X-Y坐标系的位置偏移量的方法的示意图；
图5是表示根据本发明第一实施例的测量装置的构造的框图；
图6是表示获得凹座的凹面的最深部分的过程的流程图；
图7是表示获得在凹座中凹面的最深部分与凸面的顶部之间沿X-Y坐标系的位置偏移量的过程的流程图；
图8是表示使凹座的凸面的顶部和磁头浮动块的中心在X-Y坐标系上相互一致的过程的流程图；
图9A是在根据本发明第二实施例将磁头浮动块安装在一悬架上的状态下的主要部分的示意性侧视图；
图9B是在根据本发明第二实施例将磁头浮动块安装在该悬架上的状态下的主要部分的示意性俯视图；
图10A是在根据相关现有技术将磁头浮动块安装在一悬架上的状态下的主要部分的示意性侧视图；以及
图10B是在根据相关现有技术将磁头浮动块安装在该悬架上的状态下的主要部分的示意性俯视图。
具体实施方式
下面将参考附图说明根据本发明一种实施方式的测量装置的主要部分的示意性结构。图1A是根据本发明的测量装置的示意性俯视图，图1B是根据本发明的测量装置的示意性侧视图。根据本发明的测量装置100包括一悬架7要放置于其上的X台15、一支承X台15的Y台17、一支承Y台17的座19、一下部相机21、一侧部相机23、一前部相机25和一上部相机27。该X台15由Y台17支承以便沿图中箭头所示方向(沿X方向)被驱动。另外，Y台17由座19支承以便沿垂直于图中X方向的方向被驱动。
前部相机25具有一包含在悬架7的一延伸平面内或平行于悬架7的延伸平面且指向悬架7的拍摄光轴。另外，侧部相机23具有一容纳在悬架7的延伸平面内或平行于悬架7的延伸平面且指向悬架7从而垂直于前部相机25的拍摄光轴的拍摄光轴。下部相机21设置在凹座11的中心的几乎正下方，且具有一垂直于承载梁3的延伸平面的拍摄光轴。应指出前部相机25和侧部相机23还可以设置成具有位于平行于上述悬架7的延伸平面的相应平面内的不同拍摄光轴。
在X台15上支承悬架7的头部以便其头部沿X方向伸出。在这种状态下，X台15被沿X方向驱动，从而在悬架7上设置一观察孔、一旋转孔和一凹座以作为将被测量的部分而进入各个上部相机27，下部相机21，侧部相机23和前部相机25的视场内。应指出可将一透射光源设置在越过悬架7而与相机相对的位置上，例如如图1A所示用于侧部相机23的透射光源29，以提高该相机所拍摄的悬架图像的对比度。
接着，下文将对一种应用具有图1A和1B所示的结构的测量装置的(测量)方法进行说明，该方法包括对凹座进行实际拍摄以获得该凹座的凸面的顶部位置。凹座11是利用压力加工通过在由金属薄板制成的承载梁3的端部附近形成向上的突起部而得到。在本发明中，用下部相机21对凹座11的凹面进行拍摄，从而得到凹座11的凹面的中心位置。更具体地，将一环状光源或一同轴光源(未示出)设置在下部相机21的周向，并用这一光源照射凹座11的背面侧，由此得到如图2所示的图像。照射到凹座11的光线被凹座11的凹面的最深部分或其邻近部分所反射，从而在凹座11的内表面中形成一图像12。
在所拍摄的图像中，该凹面的外周向11c被显示为一环状黑暗部分的外周向，并且基本垂直于照射光的光轴的该最深部分11a被显示为该黑暗部分中心处的一亮点(图像12)。适当地放置该环状光源(未示出)，由此该图像12的中心与凹座11的中心相一致。由于凹座11的凹面由与凹座11周向上的承载梁3的背面相同的材料制成，所以凹座11与承载梁3之间的边界或类似界限作为图像本质上难以识别。然而，使用图像12能容易地获得凹座11的中心部分的X-Y坐标。应指出，假设调节X-Y坐标的平面是一基本上平行于悬架7的延伸平面的平面。
通过上述结构，能容易地识别凹座11的中心部分的X-Y坐标。利用由常规结构所得到的观察孔7a和旋转孔7b的中心部分的X-Y坐标与凹座11的中心部分的X-Y坐标之间的关系，可以使磁头浮动块1的中心与凹座11的中心一致。此外，能容易地使磁头浮动块1的安装方向与所需的方向一致。因此，可以提供这样的磁头，其中即使使用更微型的磁头浮动块1，也可以减少在记录/再现操作中磁头浮动块1的浮动量，并且在该操作过程中保持磁头浮动块1的姿态稳定。
这里，如上所述，在凹座11的形成表面上，凹座11可能在前面侧(凸面)的顶部和背面侧(凹面)的最深部分之间存在位置偏移。在磁头浮动块1中，凹座11的凸面的顶部与凹座11的中心需要相互一致。然而，由于位置偏移的影响，可能不能精确识别凹座11的顶部位置。随着磁头浮动块进一步小型化，这种趋势被认为是不能忽略的。
本发明中，则可以实际获得凹座11的凸面的顶部位置。图3示意性地示出在实际测量中侧部相机23和前部相机25与悬架7之间的位置关系。为了识别凹座11的顶部，用前部相机25和侧部相机23拍摄凹座11，该侧部相机23位于与前部相机25的平面基本相同的平面上并且适于从垂直于前部相机25的拍摄方向的方向拍摄凹座11。根据在各相机23和25的拍摄区域内所识别的凹座11的顶部位置，能得到在悬架7的延伸平面上的凹座11的顶部的X-Y坐标。
通常，凹座11紧密接触形成在挠性件5上的舌片5b，以便从一挠性件主体部分5a向上推动舌片5b。这样，凹座11的顶部插入贯穿形成在挠性件主体5a上的舌片5b的孔。因此，在凹座11采取正常姿态的情况下，很难通过侧部相机23或前部相机25对凹座11进行拍摄。为此，在本实施方式中，设有一适于吸住和保持舌片5b的舌片保持吸嘴31。舌片5b被舌片保持吸嘴31吸住，并且在此状态下，该舌片保持吸嘴31向上移动，由此舌片5b从凹座11的顶部分离，这使得凹座11的顶部能被侧部相机23和前部相机25进行拍摄。
应指出，当舌片保持吸嘴31的移动量过大，或当处于移动状态的保持时间过长时，挠性件5可能变形。因此，用舌片保持吸嘴31使舌片5b离开凹座11的顶部的量以及其远离所需的时间优选尽可能地减少。另外，在某些情况下，利用舌片保持吸嘴31识别凹座11顶部的过程可以与实际在舌片5b上安装磁头浮动块1的过程分开来进行。
接着，下面将对包括获得凹座11的形成表面中的前面侧(凸面)的顶部和背面(凹面)的最深部分(最深部分)之间的位置偏移的方法进行说明。图4示出当获得位置偏移时，下部相机21、侧部相机23和前部相机25的布置。用下部相机21对凹座11的凹面进行拍摄，以获得凹面的最深部分11a在X-Y平面(悬架7的延伸表面)的X-Y坐标。同时，用前部相机25和侧部相机23对凹座11的凸面进行拍摄，以获得凸面的顶部11b在一X-Y平面内的X-Y坐标。尽管这些X-Y平面实际上是与悬架7的延伸方向平行的平面，但对凹座11的凹面的最深部分11a与凹座11的凸面的顶部11b之间在X-Y坐标系上的结果的位移偏移量的计算与这些X-Y平面之间的距离无关。
通过上述操作，可以预先获得凹座11的凹面的最深部分11a与凹座11的凸面的顶部11b之间在X-Y坐标系上的所得到的位置偏移量，以及凹座11的凹面的最深部分11a与凸面的顶部11b之间在X-Y坐标系上的位置偏移的方向。在用于实际安装磁头浮动块1的过程中，仅用下部相机21确认凹座11的位置以确定磁头浮动块1的安装位置。在这种情况下，仅用带有一定位置偏移量的下部相机21等进行该确认。磁头浮动块1在悬架7上的安装位置可以通过这种方式确定，由此即使当磁头浮动块1进一步小型化和重量变轻时，磁头浮动块1的浮动量也会变小，从而能制造出可以进行良好的记录/再现操作的磁头。
应指出，本发明旨在使凹座11的凸面的顶部11b的X-Y坐标与磁头浮动块1的中心位置的X-Y坐标相一致，并使顶部11b与观察孔7a的连线的方向与要沿其设置磁头浮动块1的预定方向一致。这样，如果凹座11的凹面的最深部分的X-Y坐标与凹座11的凸面的顶部的X-Y坐标一致，则用于获得凸面的顶部的X-Y坐标的过程是不必要的。另外，如果能将一个目标物设在不同于凹座11的凹面的最深部分11a的部分内——用该目标物可以分析出凹座11的凸面的顶部的X-Y坐标，则用于获得凹座11的凹面的最深部分11a的位置的过程可以用获得该目标物的坐标的过程来代替。另外，在本实施方式中，穿过该悬架的观察孔和旋转孔作为基准部。然而，基准部的结构并不限于这些基准孔的形式。因此，包括各种形式如标记物和悬架的外形的结构都能用作该基准部。
第一实施例
下面将参照图5的框图说明一种根据本发明第一实施例的测量凹座的位置的装置，以及一种利用该测量装置将磁头浮动块安装到悬架上的磁头制造系统。应指出由于上文已经参照图1A和1B对该(测量装置的)构造的主要部分的细节进行了说明，因此为了简便这里省略对该构造的说明。测量装置100包括上部相机27、下部相机21、前部相机23和侧部相机25，这些相机连接到控制装置35。控制装置35对由上部相机27、下部相机21、前部相机23和侧部相机25所拍摄的图像进行图像分析以获得例如观察孔、凹座11的中心等的X-Y坐标、布置等。
另外，控制装置35执行以下操作：驱动X台15和Y台17以用于将悬架7固定地保持在使悬架7位于每个上部相机27、下部相机21、前部相机23和侧部相机25的视场中心部分的操作；传送悬架7到一传输装置37或一浮动块安装装置39的操作；或类似操作，此外，控制装置35根据所得到的凹座11的中心的X-Y坐标等获得磁头浮动块1在悬架7上的安装位置等，以执行在浮动块安装装置39中的位置控制。应指出，与所得到的凹座11的中心的X-Y坐标等有关的所有数据都存储在存储装置41中，并且当要将磁头浮动块1安装到悬架7上时，从该存储装置41读取数据以用于位置控制。
测量装置100以组件的形式构成，并适于连接到位于测量装置100下游的磁头浮动块安装装置39等，以便可以执行适当的安装过程。在这种情况下，例如，可以不将悬架7直接传送到安装装置39，而是通过独立的传输装置37将其传送到浮动块安装装置39。测量装置100与传输装置37和浮动块安装装置39相连接，从而构成磁头制造系统。
图6是示出用测量装置100实际获得凹座11的中心位置的过程的流程图。在测量凹座11在悬架7上的形成位置过程中，将悬架7设置在X台15上以开始实际测量过程。在测量过程中，首先，在步骤3，用下部相机21拍摄一基准孔1，例如观察孔7a，以获得该基准孔1的中心的第一X-Y坐标。在随后的步骤4中，用下部相机21拍摄一基准孔2，例如旋转孔7b，以获得该基准孔2的中心的第一X-Y坐标。通过这些操作可以确认悬架7相对于X台15的放置状态。所有与这些基准孔1和2的中心的X-Y坐标等有关的数据都存储在存储装置41中。
在完成上述的过程后，在步骤5中，用下部相机21拍摄凹座11的凹面部分。控制装置35根据以图2所示的形式获得的凹座11的凹面的最深部分11a的图像12获得凹座11的凹面的最深部分11a的第一X-Y坐标。根据已经得到的基准孔1和2的中心的第一X-Y坐标可获得凹座11的中心(在这种情况下为凹面的最深部分11a)在悬架7(承载梁3)上的实际布置情况。当在凹座11的凸面的顶部11b与凹座11的凹面的最深部分11a之间在X-Y坐标系上不发生稍后将要说明的位置偏移时，可以根据已经通过上文所说明的操作获得的数据执行将磁头浮动块1安装到悬架7上的过程。
接着，下面将参照图7的流程图来说明获得凹座11的凸面的顶部11b与凹座11的凹面的最深部分11a之间的位置偏移量的过程。在这个过程中，将舌片保持吸嘴31移动靠近放置在X台15上的悬架7中的舌片5b(步骤13)。舌片5b被吸住并进一步被向上保持一预定量，由此获得一种能够拍摄凹座11的凸面的状态(步骤14和15)。
在这种状态下，开始一个用于获得凹座11的实际中心的位置偏移量的操作(步骤16)。在这一操作中，首先，在步骤17中，用下部相机21拍摄凹座11的凹面，以便根据在控制装置35中的拍摄结果获得凹座11的凹面的最深部分11a的第一X-Y坐标。随后，用侧部相机23拍摄凹座11的凸面以便通过控制装置35获得凸面的顶部11b沿X方向的第一X-Y坐标。另外，在步骤19中，用前部相机21拍摄凹座11的凸面以便通过控制装置35获得凸面的顶部11b沿Y方向的第一X-Y坐标。
从所得到的凹座11的凹面的最深部分11a的第一X-Y坐标，和所得到的凹座11的凸面的顶部11b的第一X-Y坐标，可得到位置编移量和位置偏移方向。与凹面的最深部分11a的第一X-Y坐标和凸面的顶部11b的第一X-Y坐标有关的所有数据、凸面的顶部11b和凹面的最深部分11a之间的位置偏移量等均存储在存储装置41中。之后，停止舌片保持吸嘴31的保持操作以缩回舌片保持吸嘴31(步骤20至22)。通过上述操作，可得到凹座11的凸面的顶部11b与凹座11的凹面的最深部分11a之间的位置偏移量。
接着，下面将说明根据通过上述操作所获得的测量值将磁头浮动块1安装到悬架7上的过程。图8是示出这一过程进行的流程图。在此过程中，用下部相机21拍摄穿过放置在X台15上的悬架7的基准孔1或2，以便获得基准孔1或2的中心的第二X-Y坐标(步骤33)。将所得到的基准孔1或2的中心的第二X-Y坐标与先前存储在存储装置41中的基准孔1或2的中心的第一X-Y坐标相比较。在随后的步骤34中，用下部相机21拍摄凹座11的凹面以获得凹座11的凹面的最深部分11a的第二X-Y坐标。然后，从存储装置41中读取有关先前获得的基准孔1或2的第一X-Y坐标，以及从凹面的最深部分11a的第一X-Y坐标和从凸面的顶部11b的第一X-Y坐标所获得的位置偏移量的数据。然后，根据这些数据得到一个第二X-Y坐标系和一个成为安装磁头浮动块1的基准的基准点。
接着，用上部相机27拍摄磁头浮动块1(步骤35)。该磁头浮动块1基本为长方体的形状。这样，从上侧拍摄磁头浮动块1，并对所得到的图像进行图像分析，由此得到在与悬架7的延伸平面平行的一平面内的一中心部分和一中心线。在实际的安装过程中，将磁头浮动块1安装到舌片5b上，以便在X-Y平面上(悬架7的延伸平面)磁头浮动块1的中心部分的X-Y坐标与凹座11的凹面的顶部11b的第二X-Y坐标相一致。应指出，由于实际执行安装过程的装置不包括任何与常规使用的装置的部件显著不同的部件，因此为简便起见这里省略对该装置的说明。另外，在安装过程中，同时使磁头浮动块1的中心线与从凹座11和基准孔1和2所得到的且磁头浮动块1将沿其设置的预定方向一致。
第二实施例
本发明旨在使在X-Y坐标系内凹座11的凸面的顶部11b的X-Y坐标与磁头浮动块1的中心位置一致，并且还使得连接顶部11b和观察孔7a的线与磁头浮动块1将沿其设置的预定方向一致。在第一实施例中，已经对悬架7具有与相关现有技术中相同的观察孔7a和旋转孔7b的情况进行了说明。然而，不能用侧部相机23从侧面对这些孔7a和7b进行拍摄。因此，在第一实施例中，可获得凹座11的凹面的最深部分11a的位置，并且可获得凹座11的凹面的最深部分11a与凹座11的凸面的顶部11b之间的位置关系，由此通过测量凹座11的凹面可以获得不能在实际的磁头浮动块安装过程中测量的顶部11b的X-Y坐标。
在本实施例中，如图9A和9B所示，在悬架7上形成代替观察孔7a的一突起部7a’，该突起部7a’在X-Y坐标系上的位置可以用侧部相机23、前部相机25和下部相机21进行测量。也就是说，该突起部7a’形成为从与用于安装磁头浮动块1的悬架7的安装表面相对的悬架7的表面突出。用侧部相机23所得到的凹座11的凸面的顶部11b与悬架7的突起部7a’之间在X-Y坐标系上的位置关系，可通过用侧部相机23拍摄该突起部7a’所得到的图像而获得。另外，用前部相机25所得到的凹座11的凸面的顶部11b与悬架7的突起部7a’之间在X-Y坐标系上的位置关系，可通过用前面相机25拍摄该突起部7a’所得到的图像而获得。
即使当在实际安装过程中对于单个悬架不直接测量凹座11的顶部11b的X-Y坐标时，也能通过利用以上述方式获得的突起部7a’的X-Y坐标和凹座11的凸面的顶部11b的X-Y坐标之间的关系根据突起部7a’和该基准孔的X-Y坐标而获得凹座11的凸面的顶部11b的X-Y坐标。因此，利用获得突起部7a’的位置的过程来代替在第一实施例中执行的用于获得凹座11的凹面的最深部分11a的位置的过程，由此得到与第一实施例中相同的结果。应指出突起部7a’的形状并不限于突出的形状，因此可采用任意的物体，只要该物体具有能在其存在位置被前部相机25和侧部相机23确认的作为指示的形状即可。由于其它构成部件与第一实施例相同，因此为简便起见在此省略对它们的说明。
如上文所述，本发明的实施具有以下效果：提高了磁头浮动块在小型化磁头中的安装精度，并且还提高了在实际记录/再现操作中磁头中心部分的姿态的稳定性。
本申请要求2003年10月29日提交的日本专利申请No.2003-368462的优先权，该申请在此作为参考。

Claims (4)

1.一种测量一悬架上将要安装一用于磁头的磁头浮动块的预定位置的方法，其中该磁头浮动块将要安装在具有一基准部的该悬架上的该预定位置内，以使该磁头浮动块沿预定方向定向，该方法包括：
获得在该悬架延伸的X-Y平面内的该基准部的中心部分的第一X-Y坐标；
从垂直于该X-Y平面的方向向形成在一凹座的凸面的背面内的一凹面照射光线而对该凹座进行拍摄以获得该凹座的图像，从而根据该图像在一平行于该X-Y平面的平面内获得该凹座的中心部分的第一X-Y坐标，其中该凹座形成在该悬架上以使该凸面位于该悬架的将要安装该磁头浮动块的一侧；
对该基准部的中心部分和该凹座的中心部分进行拍摄以获得相应的图像，以便根据该所得到的图像以及至少该基准部的中心部分的第一X-Y坐标和该凹座的中心部分的第一X-Y坐标之一获得该基准部的中心部分的第二X-Y坐标和该凹座的中心部分的第二X-Y坐标，从而利用所得到的该基准部的中心部分的第二X-Y坐标和所得到的该凹座的中心部分的第二X-Y坐标获得该预定方向；
在该X-Y平面上沿该悬架的延伸方向获得该磁头浮动块的一中心线的X-Y坐标和一中心点的X-Y坐标；以及
通过使该磁头浮动块的中心线与该预定方向一致，并使该磁头浮动块的中心点的X-Y坐标与该凹座的中心部分的第二X-Y坐标一致而获得该悬架上要安装该磁头浮动块的一个位置。
2.根据权利要求1的方法，其特征在于，获得该凹座的中心部分的第一X-Y坐标包括在一平行于该X-Y平面的平面内从不同方向对该凹座的凸面进行拍摄以获得相应的图像，从而根据该所得到的相应的图像获得在该平面内该凸面的顶部的第一X-Y坐标，并且通过对该凸面的顶部的第一X-Y坐标增加一位置偏移量而确定该凹座的中心部分的第二X-Y坐标，该位置偏移量是该凸面的顶部的第一X-Y坐标和根据所述图像获得的该凹座的中心部分的第一X-Y坐标之间的位置偏移量。
3.一种测量一悬架上将要安装一用于磁头的磁头浮动块的一预定位置的方法，其中该磁头浮动块将要安装在具有一指示物和一基准部的该悬架上的该预定位置内，以使该磁头浮动块沿预定方向定向，该方法包括：
在该悬架延伸的X-Y平面内获得该指示物的中心部分的第一X-Y坐标和该基准部的中心部分的第一X-Y坐标；
在一平行于该X-Y平面的平面内从不同方向对一凹座的凸面进行拍摄以获得相应的图像，其中该凹座形成在该悬架上以便在该悬架的将安装该磁头浮动块的一侧上具有凸面，由此从所得到的相应的图像获得该凸面的顶部在该平面内的第一X-Y坐标；
对该指示物或该基准部的中心部分进行拍摄以获得相应的图像，以便根据从该所得到的图像以及至少该指示物的中心部分的所述X-Y坐标和该基准部的中心部分的所述X-Y坐标之一获得的该指示物的中心部分的第二X-Y坐标和该基准部的中心部分的第二X-Y坐标，来获得该凹座的凸面的顶部的第二X-Y坐标，由此利用该指示物和该基准部的中心部分的第二X-Y坐标以及该凹座的凸面的顶部的第二X-Y坐标来获得该预定方向；
在该X-Y平面上沿该悬架的延伸方向获得该磁头浮动块的一中心线的X-Y坐标和一中心点的X-Y坐标；以及
通过使该磁头浮动块的中心线和该预定方向一致，并使该磁头浮动块的中心点的X-Y坐标和该凹座的凸面顶部的第二X-Y坐标一致，来获得该悬架上要安装磁头浮动块的位置。
4.一种测量一悬架上将要安装一用于磁头的磁头浮动块的预定位置的装置，其中该磁头浮动块将要安装在具有一基准孔的该悬架上的该预定位置内，以使该磁头浮动块沿预定方向定向，该装置包括：
下部相机，该下部相机用于从垂直于该X-Y平面的方向拍摄形成在悬架上的所述基准孔以及形成在一凹座的凸面的背面内的一凹面，其中该凹座形成在该悬架上以使该凸面位于该悬架的将要安装该磁头浮动块的一侧；
上部相机，该上部相机用于从垂直于X-Y面的方向拍摄磁头浮动块；
控制装置，该控制装置用于：在悬架延伸的X-Y平面内定义基准孔的中心部分的第一X-Y坐标和凹座的凹面的最深部分的第一X-Y坐标；利用下部相机对该基准孔的中心部分进行拍摄并利用前部相机和侧部相机对该凹座的凸面进行拍摄，以获得相应的图像；根据该所得到的图像以及至少该基准孔的中心部分的第一X-Y坐标值和该凹座的凹面的最深部分的第一X-Y坐标值之一来定义该基准孔的中心部分的第二X-Y坐标和该凹座的中心部分的第二X-Y坐标；利用所得到的第二X-Y坐标获得该预定方向；在该X-Y平面上沿该悬架的延伸方向获得该磁头浮动块的一中心线的X-Y坐标值和一中心点的X-Y坐标值；以及通过使该磁头浮动块的中心线与该预定方向一致，并使该磁头浮动块的中心点的X-Y坐标值与该凹座的中心部分的第二X-Y坐标值一致而获得该悬架上要安装该磁头浮动块的一个位置。
CN200410104726.6A 2003-10-29 2004-10-29 测量浮动块安装位置的方法和装置 Expired - Fee Related CN100550135C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003368462A JP3878935B2 (ja) 2003-10-29 2003-10-29 磁気ヘッドにおけるスライダ搭載位置測定方法、測定装置及び当該装置を用いた磁気ヘッドの製造装置
JP368462/2003 2003-10-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1637865A CN1637865A (zh) 2005-07-13
CN100550135C true CN100550135C (zh) 2009-10-14

Family

ID=34543783

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200410104726.6A Expired - Fee Related CN100550135C (zh) 2003-10-29 2004-10-29 测量浮动块安装位置的方法和装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7287315B2 (zh)
JP (1) JP3878935B2 (zh)
CN (1) CN100550135C (zh)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4318186B2 (ja) * 2005-10-05 2009-08-19 Ｔｄｋ株式会社 磁気ヘッドの静止姿勢角修正方法及び装置
CN100392752C (zh) * 2005-11-21 2008-06-04 深圳易拓科技有限公司 可分离式硬盘驱动器斜块清洁片位置测量方法及装置
CN100392753C (zh) * 2005-11-21 2008-06-04 深圳易拓科技有限公司 可分离式硬盘驱动器斜块装配方法及位置测量装置
JP5225647B2 (ja) * 2007-10-03 2013-07-03 日本発條株式会社 ヘッドサスペンション、ロードビーム、ロードビームの製造方法、及びワーク加工方法
JP4839293B2 (ja) * 2007-10-04 2011-12-21 日本発條株式会社 ヘッドサスペンション、ロードビーム、及びロードビームの製造方法
JP4954013B2 (ja) * 2007-10-11 2012-06-13 日本発條株式会社 ヘッドサスペンション、ロードビーム、及びロードビームの製造方法
CN101847416B (zh) * 2009-03-24 2012-06-20 日本发条株式会社 磁头支承用悬架的制造方法
JP5453052B2 (ja) 2009-10-27 2014-03-26 日本発條株式会社 ディスク装置用サスペンション
CN102664024B (zh) * 2012-05-24 2014-12-17 深圳科瑞技术股份有限公司 一种调整激光器对准磁头浮动块的方法
US20140268427A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-18 Nhk Spring Co., Ltd Head gimbal assembly with diamond-like coating (dlc) at tongue/dimple interface to reduce friction and fretting wear
JP6108179B2 (ja) * 2014-09-25 2017-04-05 Tdk株式会社 ヘッドスタックアセンブリの製造装置
JP6311561B2 (ja) * 2014-10-03 2018-04-18 Tdk株式会社 ヘッドスタックアセンブリの製造装置
JP6226204B2 (ja) * 2015-02-19 2017-11-08 Tdk株式会社 ヘッドスタックアセンブリ製造装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5282103A (en) 1992-10-07 1994-01-25 Read-Rite Corporation Magnetic head suspension assembly fabricated with integral load beam and flexure
US6284073B1 (en) * 1997-12-11 2001-09-04 Seiko Instruments Inc. Core slider mount apparatus and core slider mount method
JP2002251707A (ja) * 2000-12-18 2002-09-06 Hitachi Ltd 磁気ディスク装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP3878935B2 (ja) 2007-02-07
US20050091834A1 (en) 2005-05-05
JP2005135467A (ja) 2005-05-26
CN1637865A (zh) 2005-07-13
US7287315B2 (en) 2007-10-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100550135C (zh) 测量浮动块安装位置的方法和装置
CN101363717B (zh) 用于在物体表面上进行非接触坐标测量的方法和勘测系统
JP7175171B2 (ja) プローブカード管理システムおよびプローブカード管理方法
US6278797B1 (en) Apparatus for inspecting land-attached circuit board
CN103398656A (zh) 用于在物体表面上进行非接触坐标测量的方法和勘测系统
US7764387B2 (en) Apparatus and method for measuring suspension and head assemblies in a stack
JP2007012698A (ja) アライメントマーク付き基板、位置合わせ方法、プログラムおよび記録媒体
CN110502947B (zh) 结构光测深系统、测量信息码深度的方法及数据处理方法
US6466257B1 (en) Method and tool for measurement of roll static attitude of sliders in a magnetic recording head stack assembly
CN101802546B (zh) 用于检查机械工件的构件的装置和方法
CN101350205A (zh) 光学系统的评价装置
JP2008203214A (ja) ワークの変形・歪み検出方法
CN116457923A (zh) 安装装置、安装方法及安装控制程序
CN104076621A (zh) 描画装置以及描画方法
JP2007064668A (ja) 形状計測装置、形状計測方法、およびターゲット
US6330742B1 (en) Magnetic head positioning method
JP3138704U (ja) ＨＧＡ（ＨｅａｄＧｉｍｂａｌＡｓｓｅｍｂｌｙ）の特性検査装置
JP5506091B2 (ja) レンズ特性表示装置
JP3828532B2 (ja) 検査装置および検査方法
CN103673919A (zh) 圆盘状基板的形状测定装置及其方法
CN101959399B (zh) 电子部件搭载装置
JP2000298011A (ja) 形状測定方法および装置
JP4262060B2 (ja) 磁気ヘッドの製造方法
US20050002553A1 (en) Image pattern recording method
JPH0282367A (ja) ３次元形状検査装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20091014

Termination date: 20181029

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee