CN100472618C - 光盘装置和光盘的聚焦层辨别方法 - Google Patents

光盘装置和光盘的聚焦层辨别方法 Download PDF

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Abstract

提供能够以简易的结构迅速辨别双层光盘中的聚焦层的光盘装置和光盘的聚焦层辨别方法。根据在反射光束的焦点的前后且距该焦点的距离相等的位置上设置的第1受光单元(26A)和第2受光单元(26B)的输出信号的信号电平比，判断双层光盘(20)中的光束聚焦于其上的聚焦记录层以及该光束没有聚焦于其上的非聚焦记录层的位置关系，根据该判断结果辨别聚焦记录层，由此可以在光束聚焦到记录层上的时刻辨别聚焦记录层，这样可以比以往更迅速地辨别聚焦层。

Description

光盘装置和光盘的聚焦层辨别方法
技术领域
本发明适合应用于与具有2个记录层的双层光盘对应的光盘装置。
背景技术
目前，以扩大记录容量为目的，正在实际应用层叠了2个记录层的光盘(下面称为双层光盘)，与该双层光盘对应的光盘装置也已实现产品化。
在这种对应双层光盘的光盘装置中，需要辨别从光拾取器射出的光束聚焦在2个记录层中的哪一个上。提出了采用如下方法作为辨别这种聚焦层的方法的光盘装置：通过光束读出记录在记录层上的数据的地址信息、层信息，并根据该读出的地址信息、层信息进行聚焦层辨别(例如，参照专利文献1)。
专利文献1：日本特开平8-185637号公报
发明内容
发明要解决的问题
但是在上述结构的光盘装置中，如果不是在引入循迹伺服之后，则无法读出地址信息、层信息，因此存在这样的问题，即，在循迹伺服因光盘装置受到冲击等原因而失败的情况下，在完成再次引入伺服之前无法进行聚焦层的辨别，聚焦层辨别需要较长时间。
本发明是考虑到以上的问题点而提出的，提出一种可以用简易的结构迅速辨别出双层光盘中的聚焦层的光盘装置和光盘的聚焦层辨别方法。
用于解决问题的手段
为了解决本课题，在本发明中，在光盘装置中设置了：物镜，将光束聚光到光盘的记录层上，并且将该光束在该记录层上反射而形成的反射光束进行受光；聚光透镜，对由该物镜受光的反射光束进行聚光；第1受光部和第2受光部，分别设置在由该聚光透镜聚光后的反射光束的焦点的前后且距该焦点的距离相等的位置上；以及聚焦记录层辨别单元，根据所述第1受光部的输出信号和所述第2受光部的输出信号的大小关系，判断双层光盘中的光束聚焦于其上的聚焦记录层和该光束没有聚焦于其上的非聚焦记录层的位置关系，根据该判断结果辨别聚焦记录层。
而且，聚焦记录层辨别单元通过使用成为基准的单层光盘算出的第1受光部的输出信号及第2受光部的输出信号的信号电平比、与使用聚焦层辨别对象的双层光盘算出的第1受光部的输出信号及第2受光部的输出信号的信号电平比之间的比较，识别所述光束在所述非聚焦记录层上反射形成的漫射光入射到第1和第2受光部的光量的大小关系，根据该识别的光量的大小关系来辨别聚焦记录层。
另外，本发明提供一种光盘装置，其特征在于，具有：物镜，将光束聚光到光盘的记录层上；聚光透镜，对在所述记录层上反射形成的反射光束进行聚光；第1受光部和第2受光部，分别设置在由所述聚光透镜聚光后的所述反射光束的焦点的前后且距该焦点的距离相等的位置上；以及聚焦记录层辨别部，根据所述第1受光部的输出信号和所述第2受光部的输出信号，判断双层光盘中的所述光束聚焦于其上的聚焦记录层和该光束没有聚焦于其上的非聚焦记录层的位置关系，根据该判断结果辨别所述聚焦记录层。
另外，本发明提供一种光盘的聚焦层辨别方法，其特征在于，具有：信号电平比算出步骤，算出第1和第2受光部的输出信号的信号电平比，所述第1和第2受光部设置在聚光的光束在光盘记录层上反射形成的反射光束的焦点的前后且距该焦点的距离相等的位置上；以及聚焦记录层辨别步骤，根据所述算出的输出信号电平比，判断双层光盘中的所述光束聚焦于其上的聚焦记录层和该光束没有聚焦于其上的非聚焦记录层的位置关系，根据该判断结果来辨别所述聚焦记录层。
由此，在该光盘装置中，可以在光束聚焦到记录层上的时刻辨别聚焦记录层，可以比以往更迅速地辨别聚焦层。
发明的效果
根据本发明，基于在反射光束的焦点的前后且距该焦点的距离相等的位置上设置的第1受光部和第2受光部的输出信号来判断双层光盘中的光束聚焦于其上的聚焦记录层和该光束没有聚焦于其上的非聚焦记录层的位置关系，并根据该判断结果辨别聚焦记录层，由此可以在光束聚焦到记录层上的时刻辨别聚焦记录层，这样可以实现比以往更迅速地辨别聚焦层的光盘装置和光盘的聚焦层辨别方法。
附图说明
图1是表示光盘装置的整体结构的框图。
图2是表示光拾取器的结构的示意图。
图3是用于说明光集成元件中的层间漫射光的示意图。
图4是表示光拾取器的光学系统原理的示意图。
图5是表示各种光斑形状的示意图。
图6是表示信号光电平和漫射光电平的图。
图7是基准和信号比设定处理过程的流程图。
图8是聚焦跳跃(フオ—カスジヤンプ)处理过程的流程图。
图9是伺服恢复处理过程的流程图。
附图标记说明
1：光盘装置；2：微型计算机；3：DSP；4：伺服控制电路；7：光拾取器；9：RF放大器；21：光集成元件；22：准直透镜；23：物镜；24：激光二极管；25：微棱镜；26：PDIC；26A：第1光电二极管；26B：第2光电二极管。
具体实施方式
下面关于附图，详细说明本发明的一个实施方式。
实施例
(1)光盘装置的整体结构
在图1中，1表示作为整体应用本发明的光盘装置，微型计算机2依照保存在非易失性存储器(未图示)中的基本程序、应用程序，对该光盘装置1的各部分进行控制。
也就是说，微型计算机2通过DSP(Digital Signal Processo：数字信号处理器)3的伺服控制电路4使主轴马达5转动，转动驱动放在转盘(未图示)上的光盘20。此外，微型计算机2通过伺服控制电路4使滑动马达6转动，使光拾取器7在光盘20的半径方向上移动。
图2的(A)表示光拾取器7的结构，具有光集成元件21、准直透镜22和物镜23。该光集成元件21由激光二极管24、微棱镜25和PDIC(Photo Detector IC：光检测IC)26构成。
光集成元件21的激光二极管24响应于微型计算机2(图1)的控制射出激光光束，入射到微棱镜25的第1反射面25A。该第1反射面25A由半透射半反射镜(half mirror)构成，使来自激光二极管24的光束向上方以90度反射，入射到准直透镜22。准直透镜22将光束从发散光转换成平行光，入射到物镜23。
物镜23由双轴致动器23A可自由活动地支撑着。DSP3的伺服控制电路4(图1)响应于来自微型计算机2的指示和来自RF放大器9的各种信号，生成循迹伺服信号和聚焦伺服信号，提供给致动器驱动电路8。然后，致动器驱动电路8响应于循迹伺服信号和聚焦伺服信号，生成循迹伺服驱动电流和聚焦驱动电流，提供给双轴致动器23A，由此在聚焦方向和循迹方向上驱动物镜23，使物镜23的焦点与光盘20的记录面上的轨道吻合。
并且，物镜23将来自准直透镜22的光束进行聚光而使其聚焦到光盘的记录层上，并且，对在该记录层上反射的反射光束进行受光，入射到准直透镜22。准直透镜22将反射光束从平行光转换成会聚光，入射到微棱镜25的第1反射面25A。
第1反射面25A使反射光束透过并折射，入射到设置在微棱镜25下表面的第2反射面25B。
该第2反射面25B由透过50％/反射50％的半透射半反射镜构成，使反射光束的50％透过，照射到在PDIC26的上表面的与该第2反射面25B相对位置上设置的第1光电二极管26A(图2的(B))上，并且使反射光束的剩余50％反射，入射到设置在微棱镜25的上表面上的第3反射面25C上。
第3反射面25C由全反射镜构成，使入射的反射光束进行全反射，照射到在PDIC26的上表面上设置的第2光电二极管26B(图2的(B))上。
第1光电二极管26A和第2光电二极管26B分别设置在光束聚焦到记录层的状态下的从反射光束的焦点面在前后离开等距离的位置上，由此，入射到第1光电二极管26A和第2光电二极管26B的反射光束的光斑具有与该第1光电二极管26A和第2光电二极管26B的设置距离相应的光斑直径。
如图3的(A)所示，第1光电二极管26A和第2光电二极管26B的受光面分别被四分为受光面A～D和受光面E～H。并且，PDIC26生成与各受光面A～H的受光光量相应的受光信号A～H，提供给RF放大器9(图1)。
RF放大器9的RF信号放大&平衡放大器13合成受光信号A～H并且进行放大，生成再现信号，进一步通过DSP3的解码处理电路16对再现信号进行解码，由此恢复记录在光盘20上的记录数据并输出。
另外，RF放大器9的伺服信号运算放大器10从受光信号A～H生成循迹错误信号和聚焦错误信号，利用DSP3的A/D转换器15将其进行数字转换，提供给伺服控制电路4。然后，伺服控制电路4根据循迹错误信号和聚焦错误信号生成循迹伺服信号和聚焦伺服信号，进行物镜23的聚焦控制和循迹控制。
(2)本发明的光盘的聚焦层辨别方法
下面，说明光盘装置1的聚焦层辨别方法。上述伺服信号运算放大器10使用光斑大小检测法生成聚焦错误信号，该光斑大小检测法利用第1光电二极管26A和第2光电二极管26B，检测在入射到微棱镜25的反射光束的焦点位置的前后的2个光斑大小的变动，获取焦点误差。
通过具有这种结构的光拾取器7的光盘装置1来再现双层光盘的情况下，由光束没有聚焦的非聚焦记录层反射该光束而形成的层间漫射光也入射到PDIC26。
图3的(A)示出了在光束聚焦到双层光盘20的跟前侧记录层20A上的状态下的作为非聚焦记录层的里侧记录层20B的层间漫射光的照射状态，第1漫射光光斑SP1和第2漫射光光斑SP2分别被照射到第1和第2光电二极管26A和26B上。
另一方面，图3的(B)示出了在光束聚焦到双层光盘20的里侧记录层20B的状态下的作为非聚焦记录层的跟前侧记录层20A的层间漫射光的照射状态，在这种情况下，第1漫射光光斑SP1和第2漫射光光斑SP2也分别被照射到第1和第2光电二极管26A和26B上。
该层间漫射光由于是没有在光盘20上聚焦的光，因此几乎不接受记录在该光盘20上的信号成分的调制，由此也可以将第1漫射光光斑SP1和第2漫射光光斑SP2看成不含调制成分的DC偏移光。
在此，入射到第1光电二极管26A的层间漫射光的光量根据该第1光电二极管26A的受光面积和第1漫射光光斑SP1的光斑直径而发生变化。同样，入射到第2光电二极管26B的层间漫射光的光量也根据该第2光电二极管26B的受光面积和第2漫射光光斑SP2的光斑直径而发生变化。
即，漫射光光斑的光斑直径越大于光电二极管的受光面积，光电二极管的受光信号的和信号(A+B+C+D、和E+F+G+H)的DC偏移就越小；漫射光光斑的光斑直径越小于光电二极管的受光面积，和信号的DC偏移就越大。
由光拾取器7的光学倍率、物镜23的数值孔径NA、光轴上的2个光电二极管的位置、光盘20的层间厚度d，决定上述漫射光光斑的光斑直径。一般来说，光电二极管的受光面积是以光束聚焦到记录层上的状态为前提设计的，并且为了尽可能减少层间漫射光对信号的干涉，所以优选尽可能设得较小。因此，通常漫射光光斑的光斑直径将大于光电二极管的受光面。
利用图4所示的光拾取器7的光学系统原理图来说明该原理。图4的(A)示出了光束聚焦在光盘20的跟前侧记录层20A上的状态。即，由焦点距离为f1和数值孔径为NA的物镜23聚光的光束聚焦在跟前侧记录层20A上，并且在该跟前侧记录层20A上反射。该反射光束由物镜23受光并成为平行光，进而由焦点距离为f2的准直透镜22会聚，该聚焦光作为信号光入射到第1光电二极管26A和第2光电二极管26B。
与此同时，由物镜23聚光并照射到光盘20上的光束的一部分，在比跟前侧记录层20A靠里且与其距离为层间厚度d的里侧记录层20B上反射而成为层间漫射光，通过物镜23和准直透镜22入射到第1光电二极管26A和第2光电二极管26B。这样，具有焦点距离差Δf的2个光束(聚焦光和层间漫射光)入射到第1光电二极管26A和第2光电二极管26B。
在这种状态下，与照射在第1光电二极管26A上的漫射光光斑相比，照射在第2光电二极管26B上的漫射光光斑较大。
另一方面，图4的(B)示出了光束聚焦在光盘20的里侧记录层20B上的状态，由物镜23聚光的光束聚焦在里侧记录层20B上，并且在该里侧记录层20B上反射，该反射光束由物镜23受光并成为平行光之后由准直透镜22会聚，该聚焦光作为信号光入射到第1光电二极管26A和第2光电二极管26B。
与此同时，照射在光盘20上的光束的一部分，在比里侧记录层20B靠跟前且与其距离为层间厚度d的跟前侧记录层20A上反射而成为层间漫射光，通过物镜23和准直透镜22入射到第1光电二极管26A和第2光电二极管26B。在这种情况下，具有焦点距离差△f的聚焦光和层间漫射光也入射到第1光电二极管26A和第2光电二极管26B中。
在这种状态下，与照射在第1光电二极管26A上的漫射光光斑相比，照射在第2光电二极管26B上的漫射光光斑较小。在此，焦点距离差Δf可由下式提供。
[式1]
Δf = 2 × ( f 2 f 1 ) 2 × d . . . ( 1 )
在由该光拾取器7使用的光斑大小检测法中，在从聚焦光的焦点面A在前后离开等距离±X的位置上配置有第1光电二极管26A和第2光电二极管26B，当这2个光电二极管上的信号光的光斑大小一致时，光束成为聚焦在记录层上的状态。然而，由于层间漫射光是没有聚焦到光盘上的反射光，所以即便在光束聚焦在记录层上的状态下，2个光电二极管上的层间漫射光的光斑大小也不一致。将反射光束的行进方向取+时，该层间漫射光光斑的光斑半径R可由下式提供。
[式2]
Figure C200710079876D00111
然后，根据式(1)的结果，当光束聚焦在跟前侧记录层20A上时(图4的(A))，成为
[式3]
Figure C200710079876D00112
当光束聚焦在里侧记录层20B上时(图4的(B))，成为
[式4]
Figure C200710079876D00113
在此，n是光盘20的基板的折射率，η可由下式提供。
[式5]
η = f 2 f 1 . . . ( 5 )
这样，根据光束聚焦在跟前侧记录层20或者里侧记录层20B中的哪个上，第1光电二极管26A上的漫射光光斑直径和第2光电二极管26B上的漫射光光斑直径的大小关系发生逆转。
图5表示聚焦状态下的信号光和层间漫射光的光斑形状的例子。图5的(A)表示聚焦状态下的信号光光斑(聚焦光光斑)，第1光电二极管26A上的光斑直径与第2光电二极管26B上的光斑直径大致相等。这一点不管是光束聚焦在跟前侧记录层20A上的情况还是聚焦在里侧记录层20B上的情况都是相同的。
因此，在聚焦状态下，第1光电二极管26A和第2光电二极管26B受光的信号光的光量与聚焦记录层无关，始终是大致恒定的。
另一方面，图5的(B)表示光束聚焦在跟前侧记录层20A上的状态下的漫射光光斑，第2光电二极管26B上的光斑直径大于第1光电二极管26A上的光斑直径。
与此相对，图5的(C)表示光束聚焦在里侧记录层20B上的状态下的漫射光光斑，第2光电二极管26B上的光斑直径小于第1光电二极管26A上的光斑直径。
由于漫射光光斑的大小不管在哪种情况下都大于第1光电二极管26A和第2光电二极管26B的受光面，所以关于该第1光电二极管26A和第2光电二极管26B受光的漫射光的光量，漫射光光斑的光斑直径越大受光量越小，漫射光光斑的光斑直径越小受光量越大。
而且，光电二极管的输出信号也根据受光量而发生变化，因此可根据第1光电二极管26A的和信号C1(其中，C1＝A+B+C+D)和第2光电二极管26B的和信号C2(其中，C2＝E+F+G+H)的信号电平，辨别光束聚焦的记录层。
在此，在和信号C1与和信号C2中分别含有信号光光量和漫射光的光量。而且，如果入射到第1光电二极管26A的信号光光量与入射到第2光电二极管26B的信号光的光量完全相同，则单纯根据和信号C1与和信号C2的信号电平的大小关系就可以辨别聚焦层。
然而，在设计光拾取器7时，虽然将入射到第1光电二极管26A的信号光的光量与入射到第2光电二极管26B的信号光的光量设计得一致，但由于微棱镜25的第2反射面25B的反射率(理想是反射50％/透过50％)的偏差等原因，有时入射到二者的光量会不一致，在这种状态下，单纯依靠观察和信号C1与和信号C2的大小关系，可能无法辨别聚焦层。
为了解决这种问题，作为基准值可以事先获取在只有信号光入射的状态下(也就是使用单层光盘时)的和信号C1与和信号C2的信号电平比(将其称为和信号比)，根据该基准值与辨别聚焦层时算出的和信号比之间的大小关系进行聚焦层辨别即可。
图6的(A)表示只关于信号光光斑(也就是使用单层光盘时)的聚焦状态下的第1光电二极管26A的和信号C1以及第2光电二极管26B的和信号C2的信号电平，设该状态下的和信号C1与和信号C2的和信号比为K0(K0＝C1/C2)。在光盘装置1的出厂前事先测定该和信号比K0存储到微型计算机2的非易失性存储器(未图示)等中。
另一方面，图6的(B)示出了聚焦到双层光盘的跟前侧记录层20A上的状态下的、第1光电二极管26A的和信号C1′以及第2光电二极管26B的和信号C2′的信号电平。在该状态下，第1光电二极管26A上的漫射光光斑直径小于第2光电二极管26B上的漫射光光斑直径，因此入射到第1光电二极管26A的漫射光光量多于入射到第2光电二极管26B的漫射光光量。将该状态下的和信号C1′以及和信号C2′的和信号比设为基准和信号比K1(K1＝C1′/C2′)。
与此相对，图6的(C)示出了聚焦到双层光盘的里侧记录层20B上的状态下的、第1光电二极管26A的和信号C1”以及第2光电二极管26B的和信号C2”的信号电平。在该状态下，第1光电二极管26A上的漫射光光斑直径大于第2光电二极管26B上的漫射光光斑直径，因此入射到第1光电二极管26A的漫射光光量少于入射到第2光电二极管26B的漫射光光量。将该状态下的和信号C1”以及和信号C2”的和信号比设为K2(K2＝C1”/C2”)。
这3种和信号比K0、K1和K2的关系成为K2<K0<K1，由此判断为：在聚焦层辨别时算出的和信号比K大于基准和信号比K0的情况下聚焦在跟前侧记录层上；在和信号比K小于基准信号比K0的情况下聚焦在里侧记录层上。
根据图1的框图再次说明基于这种和信号C1以及C2的聚焦层辨别处理。即，RF放大器9的第1和信号放大器11将从光拾取器7的第1光电二极管26A(图2的(B))提供的受光信号A～D相加，生成和信号C1，提供给DSP3的A/D转换器15。同样，RF放大器9的第2和信号放大器12将从光拾取器7的第2光电二极管26B(图2的(B))提供的受光信号E～H相加，生成和信号C2，提供给DSP3的A/D转换器15。A/D转换器15将和信号C1和C2进行数字转换后提供给微型计算机2。
然后，作为聚焦记录层辨别单元的微型计算机2利用从A/D转换器15提供的和信号C1和C2算出和信号比K，根据该和信号比K与存储在非易失性储存器中的基准和信号比K0的比较结果，辨别聚焦层。进而，微型计算机2根据辨别出的聚焦层，进行最适合该聚焦层的激光输出、循迹系数的校正、球面像差校正等。
(3)聚焦层判断处理
下面，利用流程图详细说明进行上述聚焦层判断时的各种处理过程。
(3-1)基准和信号比设定处理
首先，说明用于设定基准和信号比K0的处理过程。例如既可以在光盘装置1出厂前作为初始设定执行该处理，或者也可以每当将单层光盘放置到光盘装置1上时执行该处理。
光盘驱动器1的微型计算机2从图7所示的基准和信号设定处理RT1的开始步骤起，转移到步骤SP1，当检测出放置了作为基准盘的单层光盘时，转移到下面的步骤SP2，起动光拾取器7的聚焦伺服和循迹伺服。
在接着的步骤SP3中，微型计算机2控制光拾取器7向单层光盘照射光束，并且从DSP3获取基于该反射光的和信号C1和C2，测定该和信号的C1以及C2的信号电平，转移到接着的步骤SP4，根据和信号C1以及C2的信号电平，算出基准和信号比K0并转移到接着的步骤SP5。
然后，在步骤SP5中，微型计算机2将算出的基准和信号比K0存储到非易失性存储器中，转移到接着的步骤SP6，结束基准和信号设定处理。
(3-2)聚焦跳跃时的聚焦层检测
下面说明在使用双层光盘时的、进行将光束的焦点从当前正在存取的记录层移动到其它记录层上的聚焦跳跃时的、辨别聚焦跳跃后的聚焦层时的处理。
光盘驱动器1的微型计算机2当检测出放置了双层光盘时，从图8所示的聚焦跳跃处理过程RT2的开始步骤起，转移到步骤SP11，等待来自再现程序等的聚焦跳跃命令，当接受该聚焦跳跃命令时转移到接着的步骤SP12。
在步骤SP12中，微型计算机2通过DSP3对光拾取器7的双轴致动器23A进行控制，将光束的焦点移动到由聚焦跳跃命令指定的目标记录层，转移到接着的步骤SP13。
在步骤SP13中，微型计算机2从DSP3获取移动目的地记录层中的和信号C1以及C2，测定该和信号C1以及C2的信号电平，转移到接着的步骤SP14，根据和信号C1以及C2的信号电平，算出和信号比K，转移到接着的步骤SP15。
在步骤SP15中，微型计算机2将算出的和信号比K与存储在非易失性存储器中的基准和信号比K0进行比较，在算出的和信号比K大于基准和信号比K0的情况下判断为聚焦在跟前侧记录层上、在算出的和信号比K小于基准和信号比K0的情况下判断为聚焦在里侧记录层上，转移到接着的步骤SP16。
在步骤SP16中，微型计算机2判断由步骤SP15所判断的聚焦记录层是否与由聚焦跳跃命令指定的目标记录层一致。在步骤SP16中得到肯定结果的情况下，表示聚焦跳跃成功，焦点已移动到目标记录层，此时微型计算机2返回步骤SP11，等待新的聚焦跳跃命令。
与此相对，在步骤SP16中得到否定结果的情况下，表示聚焦跳跃失败，焦点没有移动到目标记录层，此时微型计算机2返回步骤SP12，再次执行聚焦跳跃。
(3-3)伺服恢复时的聚焦层检测
接着，说明使用双层光盘时的、在聚焦伺服失败之后进行伺服恢复时的、辨别恢复后的聚焦层时的处理。
光盘驱动器1的微型计算机2在检测出放置了双层光盘时，从图9所示的伺服恢复处理过程RT3的开始步骤起，转移到步骤SP21，等待从伺服控制电路4接收聚焦伺服失败的通知，当接收到该通知时，转移到接着的步骤SP22。
在步骤SP22中，微型计算机2通过DSP3对光拾取器7的双轴致动器23A进行控制，将光束焦点移动到发生聚焦伺服失败之前的时刻中的聚焦记录层上，转移到接着的步骤SP23。
在步骤SP23中，微型计算机2从DSP3获取移动目的地记录层上的和信号C1以及C2，测定该和信号C1以及C2的信号电平，转移到接着的步骤SP24，根据和信号C1以及C2的信号电平算出和信号比K，转移到接着的步骤SP25。
在步骤SP25中，微型计算机2将算出的和信号比K与存储在非易失性存储器中的基准和信号比K0进行比较，在算出的和信号比K大于基准和信号比K0的情况下判断为聚焦在跟前侧记录层上、在算出的和信号比K小于基准和信号比K0的情况下判断为聚焦在里侧记录层上，转移到接着的步骤SP26。
在步骤SP26中，微型计算机2判断由步骤SP25判断的聚焦记录层是否与发生聚焦伺服失败之前的时刻中的聚焦记录层一致。在步骤SP26中得到肯定结果的情况下，表示伺服恢复成功从而聚焦返回到原来的记录层上，此时微型计算机2返回步骤SP21，等待新的聚焦伺服失败的通知。
与此相对，在步骤SP26中得到否定结果的情况下，表示伺服恢复失败，聚焦没有返回到原来的记录层上，此时微型计算机2返回步骤SP22，再次执行伺服恢复。
(4)动作和效果
在以上的结构中，在该光盘装置1中，由在反射光束的焦点的前后且距该焦点的距离相等的位置上设置的第1光电二极管26A和第2光电二极管26B对反射光束进行受光，生成再现信号、基于光斑大小检测法的聚焦错误信号，并且利用该第1光电二极管26A输出的和信号C1以及第2光电二极管26B输出的和信号C2的信号电平，根据分别照射在第1光电二极管26A以及第2光电二极管26B上的漫射光光斑的大小关系来辨别聚焦层。
因而，在光盘装置1中，可以在光束聚焦到记录层上的聚焦伺服引入完成的时刻辨别聚焦层，因此与循迹伺服引入后根据记录数据的地址信息等来辨别聚焦层的现有的光盘装置相比，可以迅速地进行聚焦层辨别，能够将聚焦伺服失败后的伺服恢复和聚焦跳跃等处理高速化。
而且，在该光盘装置1中，预先获取由不产生漫射光的单层光盘测定的和信号C1以及和信号C2的信号电平比即基准和信号比K0，根据该基准和信号比K0、与由聚焦层辨别对象的双层光盘测定的和信号C1以及和信号C2的信号电平比即和信号比K之间的大小关系来辨别聚焦层，由此可以排除入射到第1光电二极管26A和第2光电二极管26B的聚焦光的光量差的影响，更正确地辨别聚焦层。
而且，在该光盘装置1中，可以利用使用边缘光斑检测法生成的聚焦错误信号的光拾取器7的第1光电二极管26A和第2光电二极管26B的输出信号，辨别聚焦层，因此不用另外设置用来辨别聚焦层的装置，可以用简单的结构辨别聚焦层。
(5)其他实施方式
此外，在上述实施方式中，虽然是根据和信号比K来辨别聚焦层，但本发明不限于此，也可以根据和信号比K来检测出双层光盘的层间厚度d。即，由式(3)和式(4)提供的漫射光光斑直径R取决于层间厚度d，所以如果预先通过具有已知层间厚度d0的基准盘获取基准和信号比K0，可以根据用具有未知的层间厚度dx的双层光盘算出的和信号比Kx与基准和信号比K0，算出该层间厚度dx。
这意味着在涉及聚焦伺服的时刻对分别具有不同层间厚度d的多种双层光盘，可以辨别层间厚度d，如果使用该辨别出的层间厚度d来校正光拾取器7的球面像差等光学参数，则可以比以往提高放置光盘后的起动速度。
产业上的可利用性
本发明可以应用在与双层光盘对应的光盘装置上。

Claims (3)

1.一种光盘装置，其特征在于，具有:
物镜，将光束聚光到光盘的记录层上；
聚光透镜，对在所述记录层上反射形成的反射光束进行聚光；
第1受光部和第2受光部，分别设置在由所述聚光透镜聚光后的所述反射光束的焦点的前后且距该焦点的距离相等的位置上；以及
聚焦记录层辨别部，根据所述第1受光部的输出信号和所述第2受光部的输出信号的大小关系，判断双层光盘中的所述光束聚焦于其上的聚焦记录层和该光束没有聚焦于其上的非聚焦记录层的位置关系，根据该判断结果辨别所述聚焦记录层。
2.根据权利要求1所述的光盘装置，其特征在于，
所述聚焦记录层辨别部根据使用成为基准的单层光盘算出的所述第1受光部的输出信号和所述第2受光部的输出信号的信号电平比、与使用聚焦层辨别对象的双层光盘算出的所述第1受光部的输出信号和所述第2受光部的输出信号的信号电平比之间的比较，识别所述光束在所述非聚焦记录层上反射形成的漫射光入射到所述第1和第2受光部的光量的大小关系，根据该识别的光量的大小关系来辨别所述聚焦记录层。
3.一种光盘的聚焦层辨别方法，其特征在于，具有:
信号电平比算出步骤，算出第1和第2受光部的输出信号的信号电平比，所述第1和第2受光部设置在聚光的光束在光盘记录层上反射形成的反射光束的焦点的前后且距该焦点的距离相等的位置上；以及
聚焦记录层辨别步骤，根据所述算出的输出信号电平比，判断双层光盘中的所述光束聚焦于其上的聚焦记录层和该光束没有聚焦于其上的非聚焦记录层的位置关系，根据该判断结果来辨别所述聚焦记录层。
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