CN100437163C - 波片 - Google Patents
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 95
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 95
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 89
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 claims description 44
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 72
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 39
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 39
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 32
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 18
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 16
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 abstract description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 258
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 85
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 80
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 67
- OTTZHAVKAVGASB-UHFFFAOYSA-N hept-2-ene Chemical compound CCCCC=CC OTTZHAVKAVGASB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 62
- 238000000034 method Methods 0.000 description 56
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 52
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 51
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 44
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 42
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N alpha-methacrylic acid Natural products CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 26
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 21
- 230000008859 change Effects 0.000 description 21
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 21
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 18
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 15
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 15
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 15
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 14
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 9
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 8
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 8
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920005603 alternating copolymer Polymers 0.000 description 7
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 7
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 7
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 6
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 6
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- 238000005727 Friedel-Crafts reaction Methods 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000005649 metathesis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 4
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZRNSSRODJSSVEJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentacosane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(C)C ZRNSSRODJSSVEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 150000001253 acrylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 3
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 3
- 150000004657 carbamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 3
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 3
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 3
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N monofluoromethane Natural products FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 3
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 1-Heptene Chemical compound CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical compound CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 1-nonene Chemical compound CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FSAOYVCTJBGAFZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-diacetyl-3-oxobutanoic acid Chemical class CC(=O)C(C(C)=O)(C(C)=O)C(O)=O FSAOYVCTJBGAFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AQZWEFBJYQSQEH-UHFFFAOYSA-N 2-methyloxaluminane Chemical compound C[Al]1CCCCO1 AQZWEFBJYQSQEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CQDXMEWDEWRRIS-UHFFFAOYSA-N 4-prop-1-en-2-ylcyclohexene Chemical compound CC(=C)C1CCC=CC1 CQDXMEWDEWRRIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVRBGKYLLCLCHL-UHFFFAOYSA-N 5-methylcyclopenta-1,3-diene Chemical compound CC1C=CC=C1 QVRBGKYLLCLCHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102000040350 B family Human genes 0.000 description 2
- 108091072128 B family Proteins 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010013786 Dry skin Diseases 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N cycloheptane Chemical compound C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- PTOQCUYVGKZAFS-UHFFFAOYSA-N ethenylcycloheptane Chemical compound C=CC1CCCCCC1 PTOQCUYVGKZAFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclopentane Chemical compound C=CC1CCCC1 BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N ethylcyclohexane Chemical compound CCC1CCCCC1 IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000007210 heterogeneous catalysis Methods 0.000 description 2
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940091853 isobornyl acrylate Drugs 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002365 multiple layer Substances 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(C)=C GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940124543 ultraviolet light absorber Drugs 0.000 description 2
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 2
- SWFHGTMLYIBPPA-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 SWFHGTMLYIBPPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHWZFQPXYGHRKT-FDGPNNRMSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;nickel Chemical compound [Ni].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O SHWZFQPXYGHRKT-FDGPNNRMSA-N 0.000 description 1
- SAWCWRKKWROPRB-UHFFFAOYSA-N 1,1-dibromohexane Chemical compound CCCCCC(Br)Br SAWCWRKKWROPRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNDIARAMWBIKFW-UHFFFAOYSA-N 1-bromohexane Chemical compound CCCCCCBr MNDIARAMWBIKFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobutane Chemical compound CCCCCl VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGCQXPZQGHULRC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylcycloheptene Chemical class C=CC1=CCCCCC1 IGCQXPZQGHULRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXIHKZJXKILOSE-UHFFFAOYSA-N 1-prop-1-enylcyclohexene Chemical class CC=CC1=CCCCC1 BXIHKZJXKILOSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNVIKEGMBXZASW-UHFFFAOYSA-N 1-prop-1-enylcyclopentene Chemical class C1(=CCCC1)C=CC UNVIKEGMBXZASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMJNTFXCTXAXTC-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluoro-1,3-benzodioxole-5-carbonitrile Chemical group C1=C(C#N)C=C2OC(F)(F)OC2=C1 VMJNTFXCTXAXTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBQAACXHLISDSO-UHFFFAOYSA-N 2-ethylcyclopenta-1,3-diene Chemical compound CCC1=CCC=C1 CBQAACXHLISDSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical class COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHQZRFBZJSCKAV-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclopenta-1,3-diene Chemical compound CC1=CCC=C1 AHQZRFBZJSCKAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MILSYCKGLDDVLM-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpropan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 MILSYCKGLDDVLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 2-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C=C)=CC=C21 KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPFKKODKQVWTHB-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6-octafluorooctane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC WPFKKODKQVWTHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULYIFEQRRINMJQ-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C(C)=C ULYIFEQRRINMJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBDKZWKEPDTENS-UHFFFAOYSA-N 4-Vinylcyclohexene Chemical compound C=CC1CCC=CC1 BBDKZWKEPDTENS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBJGYEYQTUYBHQ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylcycloheptene Chemical compound C=CC1CCCC=CC1 FBJGYEYQTUYBHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBAMFAXGFRIYFD-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylcyclopentene Chemical compound C=CC1CC=CC1 SBAMFAXGFRIYFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVBVVELBGISLBX-UHFFFAOYSA-N 4-methylhex-1-en-3-one Chemical compound CCC(C)C(=O)C=C PVBVVELBGISLBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSJQEAQXYMYAID-UHFFFAOYSA-N 4-prop-1-en-2-ylcycloheptene Chemical compound CC(=C)C1CCCC=CC1 WSJQEAQXYMYAID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFRZSDLAUFFQBY-UHFFFAOYSA-N 4-prop-1-en-2-ylcyclopentene Chemical compound CC(=C)C1CC=CC1 VFRZSDLAUFFQBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGWIYTIYPSOJSP-UHFFFAOYSA-N 5-ethenyl-1-methylcyclohexene Chemical compound CC1=CCCC(C=C)C1 YGWIYTIYPSOJSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXPPIEDUBFUSEZ-UHFFFAOYSA-N 6-methylheptyl prop-2-enoate Chemical group CC(C)CCCCCOC(=O)C=C DXPPIEDUBFUSEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVGFPWDANALGOY-UHFFFAOYSA-N 8-methylnonyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCCOC(=O)C=C LVGFPWDANALGOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N Cyclobutane Chemical compound C1CCC1 PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-UHFFFAOYSA-N Dicyclopentadiene Chemical compound C1C2C3CC=CC3C1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical group NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 1
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical class CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical group ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 150000007973 cyanuric acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 1
- ZXIJMRYMVAMXQP-UHFFFAOYSA-N cycloheptene Chemical compound C1CCC=CCC1 ZXIJMRYMVAMXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 1
- URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N cyclooctene Chemical compound C1CCC\C=C/CC1 URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000004913 cyclooctene Substances 0.000 description 1
- MKNXBRLZBFVUPV-UHFFFAOYSA-L cyclopenta-1,3-diene;dichlorotitanium Chemical compound Cl[Ti]Cl.C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 MKNXBRLZBFVUPV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- BTQLDZMOTPTCGG-UHFFFAOYSA-N cyclopentyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCC1 BTQLDZMOTPTCGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCC[14CH3] DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000003963 dichloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- KPHWPUGNDIVLNH-UHFFFAOYSA-M diclofenac sodium Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)CC1=CC=CC=C1NC1=C(Cl)C=CC=C1Cl KPHWPUGNDIVLNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- CQYBWJYIKCZXCN-UHFFFAOYSA-N diethylaluminum Chemical compound CC[Al]CC CQYBWJYIKCZXCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 229930004069 diterpene Natural products 0.000 description 1
- 150000004141 diterpene derivatives Chemical class 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1 LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 1
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- MDNFYIAABKQDML-UHFFFAOYSA-N heptyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCOC(=O)C(C)=C MDNFYIAABKQDML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical class [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Natural products OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N limonene Chemical compound CC(=C)C1CCC(C)=CC1 XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229920001427 mPEG Polymers 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- UNBDCVXGGDKSCP-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylidenetetradecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCC(=C)C(=O)OC UNBDCVXGGDKSCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- NFWSQSCIDYBUOU-UHFFFAOYSA-N methylcyclopentadiene Chemical compound CC1=CC=CC1 NFWSQSCIDYBUOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N methyloxidanyl Chemical group [O]C GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N n-Butyllithium Substances [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N n-butylhexane Natural products CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIEKYBOPAVTZKW-UHFFFAOYSA-L naphthalene-2-carboxylate;nickel(2+) Chemical compound [Ni+2].C1=CC=CC2=CC(C(=O)[O-])=CC=C21.C1=CC=CC2=CC(C(=O)[O-])=CC=C21 UIEKYBOPAVTZKW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYXXKJEDCHMGH-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCC[CH]CCCC ZCYXXKJEDCHMGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical compound C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N normal nonane Natural products CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical group CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000636 poly(norbornene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- MJOWUJFMBMQAFS-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-2-ylcycloheptane Chemical compound CC(=C)C1CCCCCC1 MJOWUJFMBMQAFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWLGTNLRTUGMHV-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-2-ylcyclohexane Chemical compound CC(=C)C1CCCCC1 SWLGTNLRTUGMHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RELYPKCGIXTXRN-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-2-ylcyclopentane Chemical compound CC(=C)C1CCCC1 RELYPKCGIXTXRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAHIMVFWYADCJJ-UHFFFAOYSA-N prop-1-enylcyclohexane Chemical class CC=CC1CCCCC1 IAHIMVFWYADCJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000007115 recruitment Effects 0.000 description 1
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000518 rheometry Methods 0.000 description 1
- SVOOVMQUISJERI-UHFFFAOYSA-K rhodium(3+);triacetate Chemical compound [Rh+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O SVOOVMQUISJERI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000000935 solvent evaporation Methods 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K titanium(iii) chloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)Cl YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- KRLHYNPADOCLAJ-UHFFFAOYSA-N undecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C KRLHYNPADOCLAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
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- Optical Head (AREA)
Abstract
本发明提供初始特性良好、不易受使用环境和制造环境的影响、长期可靠性良好的波片。本发明的第1种波片是作为由2块以上的相位差薄膜构成的波片，在激光的透过部分，相位差薄膜之间不粘接，而除了激光的透过部分的部分的至少一部分中，相位差薄膜之间相互粘接的波片。本发明的第2种波片是作为至少层合了2块相位差薄膜、在该层合的相位差薄膜的至少一面上层合玻璃基板的波片，相位差薄膜之间及相位差薄膜与玻璃基板通过选自下述粘接剂(A)和(B)、且各自不同的粘接剂层合固定而成的波片；粘接剂(A)是玻璃化温度在0℃以下，而且23℃下的杨氏模量在10MPa以下的粘接剂；粘接剂(B)是玻璃化温度在40℃以上，而且23℃下的杨氏模量在30MPa以上的粘接剂；其中，粘接剂(A)与粘接剂(B)的玻璃化温度的差在60℃以上，而且23℃下粘接剂(A)与粘接剂(B)的杨氏模量的差在40MPa以上。
Description
技术领域
本发明涉及激光光学系统所使用的波片(波長板，wavelength plate)，更具体涉及至少使用2块以上具有使透射光产生相位差的功能的透明树脂薄膜(以下称作“相位差薄膜”)的波片。
背景技术
光盘装置是因其非接触、单位体积的信息量大、高速存取性、低成本等优点而在近年来被大量使用的光学信息记录·再生装置，利用这些特点，开发出了各种记录媒体。开发了例如，将预先记录了的信息再生为声音、图像或计算机用程序等的小型光盘(CD)、激光视盘(注册商标)(LD)、CD-ROM、DVD-ROM等，通过激光仅可将信息写入1次、并能够将所述信息再生的CD-R和DVD-R，可以反复进行信息的记录·再生的磁光盘(MO)和DVD-RAM、DVD-RW等。
已知有各种用于进行采用这样的光学信息记录·再生装置的信息的记录和/或再生的光学系统装置，作为其中之一可擦写型磁光盘装置已广为人知。可擦写型磁光盘装置中，已知具有在光路中途的位置上设置了1/2λ波片(以下也称“1/2波片”)的光拾取(optical pick-up)装置的类型和具有设置了1/4λ波片(以下也称“1/4波片”)的光拾取装置的类型等，所述光路为来自激光光源的照射光通过起偏镜、偏振分光镜(PBS)被照射到磁光盘上，由磁光盘反射的反射光再次通过PBS达到光检测器的光路。
其中，1/2波片是指使特定波长的正交的2种偏振光成分之间产生λ/2的光程差(即，π的相位差)的波片，1/4波片是指使特定波长的正交的2种偏振光成分之间产生λ/4的光程差(即，π/2的相位差)的波片。
此外，液晶投影仪所使用的波片例如作为偏振变换元件起作用，具有将入射该偏振变换元件中的自然光分离成偏振面相互正交的P偏振光和S偏振光、通过使被分离了的P偏振光和S偏振光中任一种的偏振面实质上旋转90度、从而使该偏振光中的偏振面的角度与另一种偏振光中的偏振面一致的功能。如果采用这样的偏振变换元件，则所得到的大部分偏振光实质上具有单一的偏振面，所以液晶投影仪中可以获得较高的光利用效率。这样的偏振变换元件中，作为使入射的偏振光中的偏振面实质上旋转90度的部件，使用1/2波片。此外，液晶投影仪中，经分色镜分光成光的三原色(R.G.B)后，分别透过对应的液晶板，通过正交棱镜合成并从投射透镜出射，为了提高辉度，在液晶板和正交棱镜之间会使用1/4波片。这时，因为被分光了的光的波长具有一定程度的宽度，所以会要求不仅在特定的短波长、而且在较宽的范围中为1/4波长的波片。
作为用于这些用途的波片，以往使用由具有双折射性的云母、石英、水晶、方解石、LiNbO3、LiTaO3等单晶形成的波片，通过对玻璃基板等底层基板从斜向蒸镀无机材料而得到的、在底层基板的表面具有双折射膜的波片，具备具有双折射性的LB(Langmuir-Blodget)膜的波片等无机类的波片。
此外，还使用为了保持平坦性、定形性而将相位差薄膜粘接在玻璃基板上，或用2块玻璃基板夹持的波片，所述相位差薄膜是通过将聚碳酸酯(PC)、三乙酰乙酸酯(TAC)、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚丙烯(PP)、聚芳酯、聚砜、聚醚砜、丙烯酸树脂等透明树脂薄膜拉伸并使其定向、从而赋予了双折射性(使透射光产生相位差的功能)的有机物薄膜。另外，还使用为了保持平坦性、定形性和分子定向而将高分子液晶膜形成于玻璃基板上，或用2块玻璃基板夹持，赋予了双折射性的波片。
此外，作为高密度的信息记录媒体，最近DVD迅速地不断普及，另一方面，CD、CD-ROM、CD-R等再生专用和擦写型的光盘已经在市场上十分普及，所以强烈要求光盘装置可以兼顾对这些不同方式的多种光盘的记录或再生，此外，随着应用领域的扩大，也要求小型化、低价格化。并且，为了满足这些要求，提出了使用用于对应多种读写用激光的的宽范围的波片(相位差片)(专利文献1～3)。其中，例如专利文献3(日本专利特开2002-14228号公报)中提出了，偏振面相互平行的2种入射直线偏振光在通过波片后2种入射直线偏振光的偏振面被正交化的波片。这样的波片中，为了可获得所需的光学特性，使用2块以上的相位差薄膜，因此不仅粘接固定在玻璃基板上，通常相位差薄膜之间也被粘接固定。但是，薄膜之间进行粘接的结构的波片中，存在面内像差经过长期的连续使用而发生变化、无法保持最初得到的良好特性的问题。此外，还被指出有以下的问题：相位差薄膜的物性反映为波片的特性，因此根据使用环境的不同，经长期的连续使用波片的相位差值(延迟)渐渐发生变化，或者由于薄膜的厚度不均而面内像差增大，结果无法保持最初得到的良好特性。
作为抑制上述问题的方法，也考虑了不进行相位差薄膜之间的粘接，而将各薄膜独立地安装在激光光学系统中，但这种情况下，需要在精密地调整了各相位差薄膜的光轴后进行安装，不仅机器的制造工序繁复，而且存在由于使用时的震动等，各相位差薄膜的光轴的相互关系发生偏差而特性低下等问题。
专利文献1：日本专利特开2001-101700号公报
专利文献2：日本专利特开2001-208913号公报
专利文献3：日本专利特开2002-14228号公报
发明的揭示
发明要解决的课题
本发明是在上述现有技术的课题的背景下所完成的，其课题在于提供初始特性良好、不易受使用环境和制造环境的影响、长期可靠性良好的光学信息记录·再生装置用或液晶投影仪用的波片。
解决课题的方法
本发明者为了解决上述现有技术的课题而进行认真研究后发现，作为由2块以上的相位差薄膜构成的波片，在激光的透过部分，相位差薄膜之间不粘接，而除了激光的透过部分的部分的至少一部分中，相位差薄膜之间相互粘接的波片(以下也称“第1种波片”)适合作为初始特性良好、不易受使用环境和制造环境的影响、长期可靠性良好的光学信息记录·再生装置用或液晶投影仪用的波片。
此外，还发现即使是在激光的透过部分相位差薄膜之间相互粘接的波片，作为至少层合了2块相位差薄膜、在该层合的相位差薄膜的至少一面上层合玻璃基板的波片，相位差薄膜之间及相位差薄膜与玻璃基板通过选自下述粘接剂(A)和(B)、且各自不同的粘接剂层合固定而成的波片(以下也称“第2种波片”)也适合作为初始特性良好、不易受使用环境和制造环境的影响、长期可靠性良好的光学信息记录·再生装置用或液晶投影仪用的波片，从而完成了本发明。
粘接剂(A)：玻璃化温度在0℃以下，而且23℃下的杨氏模量在10MPa以下的粘接剂
粘接剂(B)：玻璃化温度在40℃以上，而且23℃下的杨氏模量在30MPa以上的粘接剂
(其中，粘接剂(A)与粘接剂(B)的玻璃化温度的差在60℃以上，而且23℃下粘接剂(A)与粘接剂(B)的杨氏模量的差在40MPa以上。)
另外，本发明者发现，以耐热性良好、低吸湿性的、相位差的稳定性良好且相位差的波长依赖性小的环烯类树脂作为原料的薄膜(以下也称“环烯类树脂薄膜”)拉伸定向得到的相位差薄膜特别适合用于初始特性良好、不易受使用环境和制造环境的影响、长期可靠性良好的光学信息记录·再生装置用或液晶投影仪用的波片。
发明的效果
本发明的第1种波片中，2块以上的相位差薄膜的激光的透过部分未粘接而具有间隙，而且根据需要使激光的透过部分不存在支持体地被固定，这样的波片在长时间内波像差的变化极小，可以维持高性能。如果使用本发明的第1种波片，则可以制造在长时间内维持高性能的光学信息记录·再生装置或液晶投影仪。
本发明的第2种波片中，作为至少层合了2块相位差薄膜、在该层合的相位差薄膜的至少一面上层合玻璃基板的波片，相位差薄膜之间及相位差薄膜与玻璃基板通过选自粘接剂(A)、(B)而且各自不同的粘接剂层合固定，这样的波片价格便宜，而且在长时间内波像差的变化极小，可以维持高性能。如果使用本发明的第2种波片，则可以制造价格便宜、在长时间内维持高性能的光学信息记录·再生装置或液晶投影仪。
附图的简单说明
[图1]实施例1中制作的波片的结构图，(a)为俯视图，(b)侧视图。
[图2]实施例2中制作的波片的结构图，(a)为俯视图，(b)侧视图。
实施发明的具体方式
以下，对本发明进行更具体的说明。
作为本发明的第1种和第2种波片所使用的相位差薄膜，可以例举聚碳酸酯(PC)、三乙酰乙酸酯(TAC)、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚丙烯(PP)、聚芳酯、聚砜、聚醚砜、丙烯酸树脂、环烯类树脂等透明树脂薄膜拉伸并使其定向得到的薄膜。其中，较好是使用环烯类树脂拉伸并使其定向得到的薄膜。
作为本发明中优选地用于相位差薄膜用途的环烯类树脂，可以例举如下的(共)聚合物。
(1)下述通式(I)所表示的环烯(以下称作“特定单体”)的开环聚合物。
(2)特定单体与共聚性单体的开环共聚物。
(3)上述(1)或(2)的开环(共)聚合物的加氢(共)聚合物。
(4)将上述(1)或(2)的开环(共)聚合物通过弗瑞德-克来福特反应环化后，加氢了的(共)聚合物。
(5)特定单体与含不饱和双键的化合物的饱和共聚物。
(6)选自特定单体、乙烯基类环烃类单体和环戊二烯类单体的1种以上的单体的加成型(共)聚合物及其加氢(共)聚合物。
(7)特定单体与丙烯酸酯的交替共聚物。
通式(I)
〔式中，R1～R4分别是氢原子、卤素原子、碳原子数1～30的烃基或其它1价的有机基团，可以相同，也可以分别不同。可以R1与R2或R3与R4一体化而形成2价的烃基，也可以R1或R2与R3或R4相互结合而形成单环或多环结构。m为0或正整数，p为0或正整数。〕
<特定单体>
作为上述特定单体的具体例子，可以例举如下的化合物，但本发明并不局限于这些具体例子。
可以例举
二环[2.2.1]庚-2-烯、
三环[4.3.0.12，5]-8-癸烯、
三环[4.4.0.12，5]-3-十一碳烯、
四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
五环[6.5.1.13，6.02，7.09，13]-4-十五碳烯、
5-甲基二环[2.2.1]庚-2-烯、
5-乙基二环[2.2.1]庚-2-烯、
5-甲氧羰基二环[2.2.1]庚-2-烯、
5-甲基-5-甲氧羰基二环[2.2.1]庚-2-烯、
5-氰基二环[2.2.1]庚-2-烯、
8-甲氧羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-乙氧羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-正丙氧羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-异丙氧羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-正丁氧羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-甲基-8-甲氧羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-甲基-8-乙氧羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-甲基-8-正丙氧羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-甲基-8-异丙氧羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-甲基-8-正丁氧羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
5-亚乙基二环[2.2.1]庚-2-烯、
8-亚乙基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
5-苯基二环[2.2.1]庚-2-烯、
8-苯基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
5-氟二环[2.2.1]庚-2-烯、
5-一氟甲基二环[2.2.1]庚-2-烯、
5-三氟甲基二环[2.2.1]庚-2-烯、
5-五氟乙基二环[2.2.1]庚-2-烯、
5，5-二氟二环[2.2.1]庚-2-烯、
5，6-二氟二环[2.2.1]庚-2-烯、
5，5-二(三氟甲基)二环[2.2.1]庚-2-烯、
5，6-二(三氟甲基)二环[2.2.1]庚-2-烯、
5-甲基-5-三氟甲基二环[2.2.1]庚-2-烯、
5，5，6-三氟二环[2.2.1]庚-2-烯、
5，5，6-三(一氟甲基)二环[2.2.1]庚-2-烯、
5，5，6，6-四氟二环[2.2.1]庚-2-烯、
5，5，6，6-四(三氟甲基)二环[2.2.1]庚-2-烯、
5，5-二氟-6，6-二(三氟甲基)二环[2.2.1]庚-2-烯、
5，6-二氟-5，6-二(三氟甲基)二环[2.2.1]庚-2-烯、
5，5，6-三氟-5-三氟甲基二环[2.2.1]庚-2-烯、
5-氟-5-五氟乙基-6，6-二(三氟甲基)二环[2.2.1]庚-2-烯、
5，6-二氟-5-五氟异丙基-6-三氟甲基二环[2.2.1]庚-2-烯、
5-氯-5，6，6-三氟二环[2.2.1]庚-2-烯、
5，6-二氯-5，6-二(三氟甲基)二环[2.2.1]庚-2-烯、
5，5，6-三氟-6-三氟甲氧基二环[2.2.1]庚-2-烯、
5，5，6-三氟-6-五氟丙氧基二环[2.2.1]庚-2-烯、
8-氟四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-一氟甲基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-二氟甲基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-三氟甲基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-五氟乙基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8，8-二氟四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8，9-二氟四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8，8-二(三氟甲基)四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8，9-二(三氟甲基)四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-甲基-8-三氟甲基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8，8，9-三氟四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8，8，9-三(三氟甲基)四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8，8，9，9-四氟四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8，8，9，9-四(三氟甲基)四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8，8-二氟-9，9-二(三氟甲基)四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8，9-二氟-8，9-二(三氟甲基)四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8，8，9-三氟-9-三氟甲基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8，8，9-三氟-9-三氟甲氧基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8，8，9-三氟-9-五氟丙氧基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-氟-8-五氟乙基-9，9-二(三氟甲基)四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8，9-二氟-8-五氟异丙基-9-三氟甲基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-氯-8，9，9-三氟四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8，9-二氯-8，9-二(三氟甲基)四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-(2，2，2-三氟乙氧羰基)四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯、
8-甲基-8-(2，2，2-三氟乙氧羰基)四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯等。
这些特定单体可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
特定单体中理想的是，上述通式(1)中，R1和R3为氢原子或碳原子数1～10、更好是1～4、特别好是1～2的烃基，R2和R4为氢原子或一价的有机基团，R2和R4中至少一个表示除氢原子和烃基之外的具有极性的极性基团，m为0～3的整数，p为0～3的整数，较好是m+p＝0～4，更好是0～2，特别好是m＝1且p＝0。m＝1且p＝0的特定单体由于得到的环烯类树脂的玻璃化温度高且机械强度好，所以是优选的。
上述特定单体的极性基团可以例举羧基、羟基、烷氧羰基、烯丙氧基羰基、氨基、酰胺基、氰基等，这些极性基团可以通过亚甲基等连接基结合。此外，羰基、醚键、甲硅烷基醚键、硫醚键、亚氨基等具有极性的2价有机基团作为连接基结合的烃基等也可以作为极性基团。其中，较好是羧基、羟基、烷氧羰基或烯丙氧基羰基，特别好为烷氧羰基或烯丙氧基羰基。
另外，R2和R4中至少一个为式-(CH2)nCOOR所表示的极性基团的单体，由于得到的环烯类树脂具有高玻璃化温度和低吸湿性、与各种材料的良好的粘合性，所以是优选的。上述关于特定的极性基团的式中，R为碳原子数1～12、更好为1～4、特别好为1～2的烃基，较好为烷基。此外，n通常为0～5，由于n的值越小得到的环烯类树脂的玻璃化温度越高，所以是优选的，另外n为0的特定单体由于其合成容易，所以是优选的。
此外，上述通式(I)中，R1或R3较好为烷基，较好为碳原子数1～4的烷基，更好为1～2的烷基，特别好为甲基，尤其该烷基结合在与结合上述式-(CH2)nCOOR所表示的特定的极性基团的碳原子同一个碳原子上，由于得到的环烯类树脂的吸湿性低，所以是优选的。
<共聚性单体>
共聚性单体的具体例子可以例举环丁烯、环戊烯、环庚烯、环辛烯、二环戊二烯等环烯。环烯的碳原子数较好是4～20，更好为5～12。这些化合物可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
特定单体/共聚性单体的理想的使用范围以重量比计为100/0～50/50，更好为100/0～60/40。
<开环聚合催化剂>
本发明中，用于得到(1)特定单体的开环聚合物和(2)特定单体与共聚性单体的开环共聚物的开环聚合反应在易位催化剂的存在下进行。
该易位催化剂为分别选自以下两类的各至少1种化合物的组合：(a)W、Mo或Re的化合物；(b)戴明(Deming)的元素周期表中I A族元素(例如Li、Na、K等)、II A族元素(例如Mg、Ca等)、II B族元素(例如Zn、Cd、Hg等)、IIIA族元素(例如B、Al等)、IVA族元素(例如Si、Sn、Pb等)或IV B族元素(例如Ti、Zr等)的化合物，且该化合物中具有至少1个该元素与碳原子的键或该元素与氢原子的键。此外，这时为了提高催化剂的活性，可以添加后述的(c)添加剂。
适于作为(a)成分的W、Mo或Re的化合物的典型例子可以例举WCl6、MoCl6、ReOCl3等日本专利特开平1-132626号公报第8页左下栏第6行～第8页右上栏第17行所记载的化合物。
(b)成分的具体例子可以例举n-C4H9Li、(C2H5)3Al、(C2H5)2AlCl、(C2H5)1.5AlCl1.5、(C2H5)AlCl2、甲基铝氧烷(methyl alumoxane)、LiH等日本专利特开平1-132626号公报第8页右上栏第18行～第8页右下栏第3行所记载的化合物。
作为添加剂(c)成分的典型例子，可以适用醇类、醛类、酮类、胺类等，另外可以使用日本专利特开平1-132626号公报第8页右下栏第16行～第9页左上栏第17行所示的化合物。
易位催化剂的使用量以上述(a)成分和特定单体的摩尔比表示，((a)成分∶特定单体)通常在1∶500～1∶50000的范围内，较好是在1∶1000～1∶10000的范围内。
(a)成分和(b)成分的比例以金属原子比表示，(a)∶(b)为1∶1～1∶50，较好是在1∶2～1∶30的范围内。
(a)成分和(c)成分的比例以摩尔比表示，(c)∶(a)为0.005∶1～15∶1，较好是在0.05∶1～7∶1的范围内。
<聚合反应用溶剂>
开环聚合反应中所用的溶剂(构成分子量调节剂的溶剂、特定单体和/或易位催化剂的溶剂)可以例举例如戊烷、己烷、庚烷、辛烷、壬烷、癸烷等烷烃类，环己烷、环庚烷、环辛烷、萘烷、降冰片烷等环烷烃类，苯、甲苯、二甲苯、乙苯、异丙基苯等芳烃，氯丁烷、溴己烷、二氯甲烷、二氯乙烷、二溴己烷、氯苯、三氯甲烷、四氯乙烯等卤化烷烃、卤化芳烃等化合物，乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、丙酸甲酯、二甲氧基乙烷等饱和羧酸酯类，丁醚、四氢呋喃、乙二醇二甲醚等醚类等，这些溶剂可以单独使用，也可以混合使用。其中，芳烃是优选的。
作为溶剂的使用量，通常为(溶剂∶特定单体(重量比))在1∶1～10∶1的量，较好为1∶1～5∶1的量。
<分子量调节剂>
得到的开环(共)聚合物的分子量的调节也可以利用聚合温度、催化剂的种类、溶剂的种类进行，本发明中通过使分子量调节剂共存于反应体系中进行调节。
这里，合适的分子量调节剂可以例举例如乙烯、丙烯、1-丁烯、1-戊烯、1-己烯、1-庚烯、1-辛烯、1-壬烯、1-癸烯等α-烯烃类和苯乙烯，其中特别好是1-丁烯、1-己烯。
这些分子量调节剂可以单独使用，也可以2种以上混合使用。相对1摩尔供开环聚合反应用的特定单体，分子量调节剂的使用量为0.005～0.6摩尔，较好为0.02～0.5摩尔。
为了得到(2)开环共聚物，在开环聚合工序中，可以使特定单体和共聚性单体进行开环共聚，还可以在以下化合物的存在下使特定单体进行开环共聚，这些化合物可以是聚丁二烯、聚异戊二烯等共轭二烯化合物，苯乙烯-丁二烯共聚物、乙烯-非共轭二烯共聚物、聚降冰片烯等主链上含有2个以上碳-碳双键的不饱和烃类聚合物等。
如上得到的开环(共)聚合物可以直接使用，将该(共)聚合物分子中的烯烃性不饱和键加氢得到的(3)加氢(共)聚合物因为耐热着色性和耐光性良好、可以提高相位差薄膜的耐久性，所以是理想的。
<加氢催化剂>
加氢反应可以使用通常的对烯烃性不饱和键加氢的方法。即，在开环聚合物的溶液中加入加氢催化剂，使常压～300大气压、较好是3～200大气压的氢气与其在0～200℃、较好是20～180℃下作用来进行。
加氢催化剂可以使用通常用于烯烃性化合物的加氢反应的催化剂。该加氢催化剂可以例举非均相催化剂和均相催化剂。
非均相催化剂可以例举将钯、铂、镍、铑、钌等贵金属催化物质承载在碳、二氧化硅、氧化铝、氧化钛等载体上的固体催化剂。此外，均相催化剂可以例举环烷酸镍/三乙基铝、乙酰丙酮合镍/三乙基铝、辛烯酸钴/正丁基锂、二氯化二茂钛/一氯化二乙基铝、乙酸铑、一氯三(三苯膦)铑、二氯三(三苯膦)钌、一氯氢羰基三(三苯膦)钌、二氯羰基三(三苯膦)钌等。催化剂的形态可以是粉末，也可以是粒状。
这些加氢催化剂以开环(共)聚合物∶加氢催化剂(重量比)在1∶1×10-6～1∶2的比例使用。
加氢(共)聚合物的加氢率以500MHz、1H-NMR测得的值为50％以上，较好是在90％以上，更好是在98％以上，最好是在99％以上。加氢率越高，对光和热的稳定性越好，在用作本发明的波片时，可以获得长期稳定的特性。
开环(共)聚合物分子中具有芳基的情况下，所述芳基不易使耐热着色性和耐光性低下，相反在光学特性、例如折射率和色散等上发现了有用的特性，不一定需要加氢。
此外，作为本发明中所使用的环烯类树脂，也可以使用(4)将上述(1)或(2)的开环(共)聚合物通过弗瑞德-克来福特反应环化后，加氢了的(共)聚合物。
<弗瑞德-克来福特反应引起的环化>
通过弗瑞德-克来福特反应将(1)或(2)的开环(共)聚合物环化的方法没有特别限定，可以采用使用日本专利特开昭50-154399号公报所记载的酸性化合物的公知的方法。具体来说，酸性化合物可以使用AlCl3、BF3、FeCl3、Al2O3、HCl、CH3ClCOOH、沸石、活性白土等路易斯酸、布朗斯台德酸。
环化了的开环(共)聚合物可以和(1)或(2)的开环(共)聚合物一样进行加氢。
另外，作为本发明中所使用的环烯类树脂，还可以使用(5)上述特定单体与含不饱和双键的化合物的饱和共聚物。
<含不饱和双键的化合物>
含不饱和双键的化合物可以例举例如乙烯、丙烯、丁烯等，较好是碳原子数2～12、更好是碳原子数2～8的烯烃类化合物。
特定单体/含不饱和双键的化合物的理想的使用范围以重量比表示为90/10～40/60，更好为85/15～50/50。
本发明中，可以使用通常的加成聚合法来获得(5)特定单体与含不饱和双键的化合物的饱和共聚物。
<加成聚合催化剂>
用于合成上述(5)饱和共聚物的催化剂可以使用选自钛化合物、锆化合物和钯化合物的至少一种和作为助催化剂的有机铝化合物。
在这里，钛化合物可以例举四氯化钛、三氯化钛等，锆化合物可以例举氯化二(环戊二烯基)锆、二氯化二(环戊二烯基)锆等。
另外，钯化合物可以使用通式
VO(OR)aXb或V(OR)cXd
〔其中，R为烃基，X为卤素原子，0≤a≤3，0≤b≤3，2≤(a+b)≤3，0≤c≤4，0≤d≤4，3≤(c+d)≤4。〕
所表示的钯化合物、或者它们的给电子加成产物。
上述电子给体可以例举醇、苯酚类、酮、醛、羧酸、有机酸或无机酸的酯、醚、酰胺、酸酐、烷氧基硅烷等含氧电子给体，氨、胺、腈、异氰酸酯等含氮电子给体等。
另外，作为助催化剂的有机铝化合物可以使用选自具有至少1个铝-碳键或铝-氢键的化合物的至少一种。
上述中，例如使用钯化合物时钯化合物和有机铝化合物的比例，铝原子与钯原子的比值(Al/V)在2以上，较好是在2～50，特别好是在3～20的范围内。
加成聚合所使用的聚合反应用溶剂可以使用与开环聚合反应所用的溶剂相同的溶剂。此外，得到的(5)饱和共聚物的分子量的调节通常用氢进行。
另外，作为本发明中所使用的环烯类树脂，还可以使用(6)特定单体与选自乙烯基类环烃类单体或环戊二烯类单体的1种以上的单体的加成型共聚合物及其加氢共聚合物。
<乙烯基类环烃类单体>
乙烯基类环烃类单体可以例举例如4-乙烯基环戊烯、2-甲基-4-异丙烯基环戊烯等乙烯基环戊烯类单体，4-乙烯基环戊烷、4-异丙烯基环戊烷等乙烯基环戊烷类单体等乙烯基化5元环烃类单体，4-乙烯基环己烯、4-异丙烯基环己烯、1-甲基-4-异丙烯基环己烯、2-甲基-4-乙烯基环己烯、2-甲基-4-异丙烯基环己烯等乙烯基环己烯类单体，4-乙烯基环己烷、2-甲基-4-异丙烯基环己烷等乙烯基环己烷类单体，苯乙烯、α-甲基苯乙烯、2-甲基苯乙烯、3-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯、1-乙烯基萘、2-乙烯基萘、4-苯基苯乙烯、对甲氧基苯乙烯等苯乙烯类单体，d-萜烯、l-萜烯、双萜、d-柠檬烯、l-柠檬烯、双戊烯等萜烯类单体，4-乙烯基环庚烯、4-异丙烯基环庚烯等乙烯基环庚烯类单体，4-乙烯基环庚烷、4-异丙烯基环庚烷等乙烯基环庚烷类单体等。较好是苯乙烯、α-甲基苯乙烯。这些化合物可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
<环戊二烯类单体>
作为(6)加成型共聚物的单体所使用的环戊二烯类单体，可以例举例如环戊二烯、1-甲基环戊二烯、2-甲基环戊二烯、2-乙基环戊二烯、5-甲基环戊二烯、5，5-甲基环戊二烯等。较好是环戊二烯。这些化合物可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
选自上述特定单体、乙烯基类环烃类单体和环戊二烯类单体的1种以上的单体的加成型(共)聚合物可以用与上述(5)特定单体与含不饱和双键的化合物的饱和共聚物同样的加成聚合法得到。
此外，上述加成型(共)聚合物的加氢(共)聚合物可以用与上述(3)开环(共)聚合物的加氢(共)聚合物同样的加氢方法得到。
另外，本发明中所使用的环烯类树脂还可以使用(7)上述特定单体与丙烯酸酯的交替共聚物。
<丙烯酸酯>
(7)上述特定单体与丙烯酸酯的交替共聚物所使用的丙烯酸酯可以例举例如丙烯酸甲酯、2-乙基己基丙烯酸酯、丙烯酸环己酯等碳原子数1～20的直链状、分支状或环状丙烯酸烷基酯，丙烯酸环氧丙基酯、2-四氢糠基丙烯酸酯等碳原子数2～20的含杂环基的丙烯酸酯，丙烯酸苄酯等碳原子数6～20的含芳环基的丙烯酸酯，异冰片基丙烯酸酯、二环戊基丙烯酸酯等碳原子数7～30的具有多环结构的丙烯酸酯。
本发明中，为了得到(7)上述特定单体与丙烯酸酯的交替共聚物，通常在路易斯酸的存在下，上述特定单体与丙烯酸酯的总和假设为100摩尔时，以上述特定单体为30～70摩尔、丙烯酸酯为70～30摩尔的比例，较好是以上述特定单体为40～60摩尔、丙烯酸酯为60～40摩尔的比例，特别好是以上述特定单体为45～55摩尔、丙烯酸酯为55～45摩尔的比例进行自由基聚合。
为了得到(7)上述特定单体与丙烯酸酯的交替共聚物而使用的路易斯酸的量相对于100摩尔丙烯酸酯设为0.001～1摩尔的量。此外，还可以使用公知的产生自由基的有机过氧化物或偶氮类的自由基聚合引发剂，聚合反应温度通常为-20℃～80℃，较好是5℃～60℃。此外，聚合反应用溶剂可以使用与开环聚合反应所用的溶剂相同的溶剂。
本发明中所说“交替共聚物”是指具有来自于上述特定单体的结构单元不邻接、即来自于上述特定单体的结构单元旁一定是来自于丙烯酸酯的结构单元的结构的共聚物，并不排除来自于丙烯酸酯的结构单元之间邻接存在的结构。
本发明中所使用的环烯类树脂选自如上所述的(1)～(2)开环(共)聚合物、(3)～(4)加氢(共)聚合物、(5)饱和共聚物、(6)加成型(共)聚合物或其加氢(共)聚合物、以及(7)交替共聚物，其中可以添加公知的防氧化剂、紫外线吸收剂等，进一步稳定化。
具体来说，可以通过添加例如2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚、2，2′-二氧-3，3′-二叔丁基-5，5′-二甲基二苯基甲烷、四[亚甲基-3-(3，5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]甲烷等防氧化剂，例如2，4-二羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮等紫外线吸收剂等进行稳定化。此外，为了提高加工性，还可以添加润滑剂等添加剂。
本发明中所用的环烯类树脂理想的分子量较好是在以下的范围内：以固有粘度〔η〕inh表示为0.2～5dl/g，更好是0.3～3dl/g，特别好是0.4～1.5dl/g；用凝胶渗透色谱法(GPC)测定的换算成聚苯乙烯的数均分子量(Mn)较好是在8000～100000，更好是在10000～80000，特别好是在12000～50000；重均分子量(Mw)较好是20000～300000，更好是30000～250000，特别好是40000～200000。
固有粘度〔η〕inh、数均分子量和重均分子量在上述范围内，则环烯类树脂的耐热性、耐水性、耐化学性、机械特性与用作本发明的波片时的相位差的稳定性的均衡性良好。
本发明中所使用的环烯类树脂的玻璃化温度(Tg)通常在120℃以上，较好是在120～350℃，更好是在130～250℃，特别好是在140～200℃。Tg不到120℃时，由于来自激光光源和其邻接部件的热量，得到的环烯类树脂薄膜的光学特性变化加大，所以是不理想的。另一方面，若Tg超过350℃，则在拉伸加工等加热至Tg附近进行加工时树脂很可能热劣化。
本发明中所使用的环烯类树脂所含的凝胶含量较好是尽可能地少，通常在5重量％以下，较好是在1重量％以下。如果凝胶含量多，则作为波片时会出现光学缺陷。
本发明中所使用的环烯类树脂的23℃下的饱和吸水率较好是在0.05～2重量％、更好是0.1～1重量％的范围内。如果饱和吸水率在该范围内，则相位差均一，得到的环烯类树脂薄膜与玻璃基板等的粘合性良好，使用中途不会发生剥离等，而且与防氧化剂等的相溶性也良好，也可以大量地添加。如果饱和吸水率不到0.05重量％，则与玻璃基板或透明支持体等支持体的粘合性不足，易发生剥离，另一方面，如果超过2重量％，则环烯类树脂薄膜容易由于吸水而发生尺寸变化。
上述的饱和吸水率是按照ASTM D570，通过测定在23℃水中浸渍1周所增加的重量而得到的值。
作为本发明中所使用的环烯类树脂，较好是使用其光弹性系数(Cp)为0～100(×10-12Pa-1)、而且应力光学系数(CR)满足1500～4000(×10-12Pa-1)的树脂。
在这里，关于光弹性系数(Cp)和应力光学系数(CR)，记载在各种文献(Polymer Journal，Vol.27，No.9p.943-950(1995)；日本流变学学会志，Vol.19，No.2，p.93-97(1991)；光弹性实验法，日刊工业新闻社，昭和50年第7版)中，是公知的事实，前者表示聚合物的玻璃状态下的应力引起的相位差的产生程度，后者表示流动状态下的应力引起的相位差的产生程度。
光弹性系数(Cp)大，则表示在玻璃状态下使用聚合物时，对于外界因素或自身的凝结的变形而产生的变形所引发的应力等，容易敏感地产生相位差，是指例如由于像本发明那样层合或固定于支持体时的粘合时的残留变形、或者伴随温度变化或湿度变化等的材料的收缩所引起的微小的应力而容易产生不必要的相位差。因此，光弹性系数(Cp)尽可能越小越好。
另一方面，应力光学系数(CR)大，则具有例如赋予环烯类树脂薄膜相位差的表现性时以较少的拉伸倍数可获得所需的相位差、容易获得可赋予较大相位差的薄膜、要求相同的相位差的情况下与应力光学系数(CR)小的薄膜相比可使薄膜更薄等巨大的优点。
基于如上的观点，光弹性系数(Cp)较好为0～100(×10-12Pa-1)，更好为0～80(×10-12Pa-1)，特别好为0～50(×10-12Pa-1)，进一步好为0～30(×10-12Pa-1)，最好为0～20(×10-12Pa-1)。光弹性系数(Cp)超过100(×10-12Pa-1)的情况下，由于相位差薄膜之间粘合时产生的应力、将相位差薄膜固定于支持体时产生的应力或使用时的环境变化等产生的相位差变化等，发生超出最适粘合光轴角度的允许误差范围的偏差，作为波片使用时透射光量会降低，所以是不理想的。
此外，本发明中所使用的环烯类树脂的水蒸气透过度在于40℃、90％RH的条件下制成25μm厚的薄膜时，通常为1～400g/m2·24hr，较好是5～350g/m2·24hr，更好是10～300g/m2·24hr。若水蒸气透过度在该范围内，则可以减低·避免玻璃板或透明支持体等支持体与相位差薄膜的粘合所使用的粘接剂(A)和粘接剂(B)所含水分、或使用波片的环境的湿度引起的特性变化，所以是理想的。
本发明的第1种和第2种波片所使用的环烯类树脂膜可以通过将上述的环烯类树脂用熔融成形法或溶液流延法(溶剂流延法)等制成薄膜或片来获得。其中，从膜厚的均一性和表面平滑性良好的角度来看，较好是溶剂流延法。此外，考虑到制造成本方面，较好是熔融成形法。
作为通过溶剂流延法得到环烯类树脂薄膜的方法，没有特别限定，使用公知的方法即可，可以例举例如将上述环烯类树脂溶解或分散在溶剂中而制成适当浓度的液体，浇注或涂布到适当的载体上，将其干燥后，使其从载体剥离的方法。
以下，示例通过溶剂流延法得到环烯类树脂薄膜的方法的各种条件，但本发明并不局限于所述的各种条件。
使环烯类树脂溶解或分散在溶剂中时，将该树脂的浓度调整为通常0.1～90重量％、较好是1～50重量％、更好是10～35重量％。如果该树脂的浓度不到上述浓度，则产生难以确保薄膜的厚度，或者由于伴随溶剂蒸发的发泡等而难以实现薄膜的表面平滑性的问题。另一方面，如果其浓度超过上述浓度，则溶液粘度过高，难以使得到的环烯类树脂薄膜的厚度或表面均一，因此是不理想的。
此外，室温下的上述溶液的粘度通常为1～1000000mPa·s，较好为10～100000mPa·s，更好为100～50000mPa·s，特别好为1000～40000mPa·s。
作为所使用的溶剂，可以例举苯、甲苯、二甲苯等芳族类溶剂，甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、1-甲氧基-2-丙醇等溶纤剂类溶剂，双丙酮醇、丙酮、环己酮、甲基乙基酮、4-甲基-2-戊酮等酮类溶剂，乳酸甲酯、乳酸乙酯等酯类溶剂，环己烷、乙基环己烷、1，2-二甲基环己烷等环烯类溶剂，2，2，3，3-四氟-1-丙醇、二氯甲烷、三氯甲烷等含卤素的溶剂，四氢呋喃、二噁烷等醚类溶剂，1-戊醇、1-丁醇等醇类溶剂。
此外，除了上述之外，如果使用SP值(溶解度参数)在通常10～30(MPa1/2)、较好是10～25(MPa1/2)、更好是15～25(MPa1/2)、特别好是15～20(MPa1/2)的范围内的溶剂，则可以得到表面均一性和光学特性良好的环烯类树脂薄膜。
上述溶剂可以单独使用，也可以多种混合使用。这种情况下，较好是使选择混合体系时的SP值的范围在上述范围内。这时，混合体系中的SP值的值可以用重量比预测，例如两种溶剂混合的情况下，若重量分数分别为W1、W2，SP值分别为SP1、SP2，则混合体系的SP值可以由通过下式：
SP值＝W1·SP1+W2·SP2
计算的值求得。
作为通过溶剂流延法制造环烯类树脂薄膜的方法，一般可例举以下的方法：使用模具或涂布器将上述溶液涂布在金属鼓、钢带、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等的聚酯薄膜、聚四氟乙烯(商品名：テフロン(注册商标))带等基材上，然后干燥溶剂，将薄膜从基材剥离。此外，还可以通过用喷涂、刷涂、滚旋涂布、浸渍等将溶液涂布在基材上，干燥得到的涂膜后，将薄膜从基材剥离，来进行制造。可以通过反复进行涂布来控制厚度和表面平滑性等。
对于上述溶剂流延法的干燥步骤没有特别限定，可以通过一般所使用的方法、例如用多个辊使其通过干燥炉的方法等来进行实施，如果干燥步骤中伴随溶剂的蒸发产生气泡，则薄膜的特性显著下降，所以为了避免发泡，较好是干燥步骤采用2阶段以上的多步步骤，控制各步骤的温度或风量。
此外，环烯类树脂薄膜中的残留溶剂量通常在10重量％以下，较好是在5重量％以下，更好是在1重量％以下，特别好是在0.5重量％以下。在这里，如果残留溶剂量超过10重量％，则实际使用时尺寸变化随时间增大，所以是不理想的。此外，由于残留溶剂而Tg变低，耐热性也低下，所以是不理想的。
为了顺利地进行后述的拉伸步骤，有需要将上述残留溶剂量在上述范围内适当调节的情况。具体来说，为了使拉伸定向时的相位差稳定、表现均一，有时将残留溶剂量调节为通常10～0.1重量％，较好是5～0.1重量％，更好是1～0.1重量％。
使溶剂微量残留，会使拉伸加工变得容易，或使相位差的控制变得容易。
本发明中所使用的环烯类树脂薄膜的厚度通常为0.1～500μm，较好是0.1～300μm，更好是1～250μm。厚度不到0.1μm时，实际中处理困难。另一方面，超过500μm时，难以卷成卷状，而且作为以激光等光的高透过度为目的的本发明的波片，透过率低下。
本发明中所使用的环烯类树脂薄膜的厚度分别相对于平均值，通常在±20％以内，较好是在±10％以内，更好是在±5％以内，特别好是在±3％以内。此外，理想的是每1cm的厚度的波动通常在10％以下，较好是在5％以下，更好是在1％以下，特别好是在0.5％以下。通过进行所述厚度的控制，可以防止拉伸定向时的相位差不均。
作为由本发明的第1种和第2种波片所使用的环烯类树脂薄膜构成的相位差薄膜，较好是使用将由上述方法得到的环烯类树脂薄膜进行拉伸加工得到的薄膜。具体来说，可以通过公知的单轴拉伸法或双轴拉伸法进行制造。即，可以使用拉幅机法的横单轴拉伸法、辊间压缩拉伸法、利用边缘不同的辊的纵单轴拉伸法等或者组合横单轴和纵单轴的双轴拉伸法，基于吹胀法的拉伸法等。
使用单轴拉伸法的情况下，拉伸速度通常为1～5000％/分钟，较好是50～1000％/分钟，更好是100～1000％/分钟，特别好是100～500％/分钟。
使用双轴拉伸法的情况下，有同时向两个方向进行拉伸的方式和在单轴拉伸后再向与最初的拉伸方向不同的方向进行拉伸的方式。这些情况下，2个拉伸轴的相交角度通常在120～60度的范围内。此外，拉伸速度在各拉伸方向上可以相同，也可以不同，通常为1～5000％/分钟，较好是50～1000％/分钟，更好是100～1000％/分钟，特别好是100～500％/分钟。
对拉伸加工温度没有特别限定，以本发明的环烯类树脂的玻璃化温度(Tg)为基准，通常在Tg±30℃、较好是Tg±10℃、更好是Tg-5～Tg+10℃的范围内。通过设定在上述范围内，可以抑制相位差不均的产生，而且折射率椭圆体的控制容易。
拉伸倍数由于根据所需特性而决定，所以没有特别限定，通常为1.01～10倍，较好是1.1～5倍，更好是1.1～3.5倍。拉伸倍数超过10倍的情况下，相位差会变得难以控制。
拉伸了的薄膜可以直接冷却，但较好是在Tg-20℃～Tg的温度气氛下至少静置10秒以上，较好是30秒～60分钟，更好是1分钟～60分钟。由此，相位差特性的经时变化小，可以得到稳定的由环烯类树脂薄膜构成的相位差薄膜。
此外，本发明中所使用的环烯类树脂薄膜的线膨胀系数在20℃～100℃的温度范围内，较好是在1×10-4(1/℃)以下，更好是在9×10-5(1/℃)以下，特别好是在8×10-5(1/℃)以下，最好是在7×10-5(1/℃)以下。此外，制成相位差薄膜的情况下，拉伸方向和与其垂直方向的线膨胀系数差值较好是在5×10-5(1/℃)以下，更好是在3×10-5(1/℃)以下，特别好是在1×10-5(1/℃)以下。通过将线膨胀系数设定在上述范围内，将由上述环烯类树脂薄膜构成的相位差薄膜制成本发明的波片时，使用时的温度和湿度等的影响产生的应力变化所引起的相位差的变化得到抑制，作为本发明的波片使用时可以获得长期稳定的特性。
如所上述拉伸了的薄膜通过拉伸分子定向，使透射光具有相位差，该相位差可以通过拉伸前的薄膜的相位差值和拉伸倍数、拉伸温度、拉伸定向后的薄膜厚度进行控制。在这里，相位差定义为双折射光的折射率差(Δn)和厚度(d)的积(Δnd)。
拉伸前的薄膜的厚度一定的情况下，拉伸倍数越大的薄膜相位差的绝对值越大，所以通过改变拉伸倍数可以得到所需相位差值的相位差薄膜。
本发明的第1种和第2种的波片中使用至少2块相位差薄膜，为了得到作为波片所需的光学特性，各相位差薄膜的相位差可以相同，也可以不同。每一块的相位差值也由所需波片的光学特性决定，一般较好是在2000nm以下，更好是在1500nm以下，特别好是在1000nm以下。如果单块的相位差值大于2000nm，则拉伸倍数过大，薄膜的厚度不均、相位差值不均变大，所以是不理想的。需要相位差值大于2000的相位差薄膜的情况下，通过将相位差值在2000nm以下的多块相位差薄膜使各相位差薄膜的光轴平行地层合，可以避免上述问题。
本发明的第1种和第2种的波片的光学特性根据需要决定，没有特别限定，已知例如光的波长为400～800nm的范围内作为“1/4波片”起作用的波片、作为“1/2波片”起作用的波片等。为了获得在这样的宽范围内表现特定功能的波片，例如将2块相位差薄膜的光轴交叉地粘合即可，交叉的光轴的角度的精度相对于理论值较好是在±5°以内，更好是在±3°以内，特别好是在±1°以内。如果与上述光轴角度的理论值的偏差大于5°，则会无法获得所需的光学特性。
作为使用2块相位差薄膜、在宽范围内作为“1/4波片”起作用的波片，较好是使用一块相位差薄膜使通过下式(1)定义的波长λ(nm)的光产生λ/2的相位差、另一块相位差薄膜使通过下式(1)定义的波长λ(nm)的光产生λ/4的相位差、这2块相位差薄膜的光轴交叉地层合的波片。
[(λS+λL)/2]-200≤λ≤[(λS+λL)/2]+200…式(1)
λS：最短波长侧的单色光的波长(nm)
λL：最长波长侧的单色光的波长(nm)
例如将自激光等光入射的方向的第1块薄膜称为“R1”、第2块薄膜称为“R2”时，在R1的相位差设为315～345nm、较好是320～340nm、更好是325～335nm且R2的相位差设为150～180nm、较好是155～175nm、更好是160～170nm的组合下，这时的2块相位差薄膜各自的光轴所成的角度通常为46～70度，较好是52～64度，更好是56～60度。此外，这时激光等入射光为直线偏振光的情况下，该入射的直线偏振光的偏振面(以下也称“入射直线偏振光偏振面”)与R1的光轴所成的角度通常为+70～+82度、较好为+72～+80度、更好为+74～+78度，与R2的光轴所成的角度通常为+12～+24度、较好为+14～+22度、更好为+16～+20度。通过设定在上述范围内，可以制成偏振光变换功能良好的宽范围“1/4波片”。角度的符号中，从光入射的一侧观察薄膜时，逆时针的角度定义为正，顺时针的角度定义为负(下同)。
此外，在R1的相位差设为230～260nm、较好是235～255nm、更好是240～250nm且R2的相位差设为110～140nm、较好是115～135nm、更好是120～130nm的组合下，光轴所成的角度通常为45～69度，较好是51～63度，更好是55～59度。此外，这时激光等入射光为直线偏振光的情况下，入射直线偏振光偏振面与R1的光轴所成的角度通常为+68～+80度、较好为+70～+78度、更好为+72～+76度，与R2的光轴所成的角度通常为+11～+23度、较好为+13～+21度、更好为+15～+19度。通过设定在上述范围内，可以制成偏振光变换功能良好的宽范围“1/4波片”。
此外，作为使用2块相位差薄膜、在宽范围内作为“1/4波片”起作用的波片，还较好是使用一块相位差薄膜使通过上述式(1)定义的波长λ(nm)的光产生λ的相位差、另一块相位差薄膜使通过上述式(1)定义的波长λ(nm)的光产生λ/4或(3λ)/4的相位差、这2块相位差薄膜的光轴交差地层合的波片。
在R1的相位差设为690～750nm、较好是700～740nm、更好是710～730nm且R2的相位差设为165～195nm、较好是170～190nm、更好是175～185nm的组合下，这时的2块相位差薄膜各自的光轴所成的角度通常为39～63度，较好是45～57度，更好是49～53度。此外，这时激光等入射光为直线偏振光的情况下，入射直线偏振光偏振面与R1的光轴所成的角度通常为-1～-13度、较好为-3～-11度、更好为-5～-9度，与R2的光轴所成的角度通常为+38～+50度、较好为+40～+48度、更好为+42～+46度。通过设定在上述范围内，可以制成偏振光变换功能良好的宽范围“1/4波片”。
作为使用2块相位差薄膜、在宽范围内作为“1/2波片”起作用的波片，较好是使用两块相位差薄膜都使通过上述式(1)定义的波长λ(nm)的光产生λ/2的相位差、这2块相位差薄膜的光轴交叉地层合的波片。
在R1和R2的相位差设为260～290nm、较好是265～285nm、更好是270～280nm的组合下，这时的2块相位差薄膜各自的光轴所成的角度通常为33～57度，较好是39～51度，更好是43～47度。此外，这时激光等入射光为直线偏振光的情况下，入射直线偏振光偏振面与R1的光轴所成的角度通常为+15～+27度、较好为+17～+25度、更好为+19～+23度，与R2的光轴所成的角度通常为+59～+71度、较好为+61～+69度、更好为+63～+67度。通过设定在上述范围内，可以制成偏振光变换功能良好的宽范围“1/2波片”。
此外，在R1和R2的相位差设为235～265nm、较好是240～260nm、更好是245～255nm的组合下，这时的2块相位差薄膜各自的光轴所成的角度通常为33～57度，较好是39～51度，更好是43～47度。此外，这时激光等入射光为直线偏振光的情况下，入射直线偏振光偏振面与R1的光轴所成的角度通常为+19～+31度、较好为+21～+29度、更好为+23～+27度，与R2的光轴所成的角度通常为+63～+75度、较好为+65～+73度、更好为+67～+71度。通过设定在上述范围内，可以制成偏振光变换功能良好的宽范围“1/2波片”。
另外，作为使用2块相位差薄膜、在宽范围内作为“1/2波片”起作用的波片，还较好是使用一块相位差薄膜使通过上述式(1)定义的波长λ(nm)的光产生λ的相位差、另一块相位差薄膜使通过上述式(1)定义的波长λ(nm)的光产生λ/2的相位差、这2块相位差薄膜的光轴交叉地层合的波片。
在R1的相位差设为690～750nm、较好是700～740nm、更好是710～730nm且R2的相位差设为345～375nm、较好是350～370nm、更好是355～365nm的组合下，这时的2块相位差薄膜各自的光轴所成的角度通常为50～73度，较好是54～67度，更好是59～63度。此外，这时激光等入射光为直线偏振光的情况下，入射直线偏振光偏振面与R1的光轴所成的角度通常为+67～+79度、较好为+69～+77度、更好为+71～+75度，与R2的光轴所成的角度通常为-40～-52度、较好为-42～-50度、更好为-44～-48度。通过设定在上述范围内，可以制成偏振光变换功能良好的宽范围“1/2波片”。
本发明的第1种波片为由2块以上的相位差薄膜构成的波片，在激光的透过部分，相位差薄膜之间不粘接，各相位差薄膜之间通常具有间隙。这时的间隙的厚度没有特别限定，较好是在1mm以下，更好是在0.5mm以下，特别好是在0.1mm以下。这时，为了设置所述间隙，可以根据需要在不损害光学特性的范围内于薄膜之间重叠的面上形成凹凸。这时的薄膜面的表面粗糙度(Rmax)较好是在10μm以下，更好是在5μm以下，特别好是在5～0.1μm，最好是在1～0.1μm。在激光的透过部分相位差薄膜之间存在间隙，则可以将各薄膜中所发生的使用环境中的温度和湿度的变化引起的变形和收缩限制在各薄膜单位中，将相互影响控制到最低限度，能够从最初开始在长期使用中良好地表现出本发明的波片的像差特性和相位差的特性。
此外，在激光的透过部分之外的部分，可以通过粘接剂或粘合剂等将相位差薄膜之间进行粘接，或者可以仅通过简单的夹合来进行保持，但考虑到可以抑制安装入机器时的震动和使用时的震动对各相位差薄膜的光轴的相互关系的影响，较好是进行粘接。相位差薄膜之间进行粘接的情况下，可以形成使存在于各相位差薄膜间的间隙中的空气与外部之间可以自由进出的通路。通过设置所述通路，即使对于使用时的温度和湿度的变化等环境变化也稳定，可以长期维持良好的特性。
本发明中所说的“相位差薄膜之间的粘接”除了相位差薄膜之间直接粘接的情况之外，也包括通过间隔物相互粘接的情况。
从防止制造环境和使用环境引起的特性下降的角度来看，本发明的第1种波片较好是用支持体固定。所说波片的固定可以使用市售的粘接剂或粘合剂进行，也可以使用栓销或小螺钉进行机械固定。
支持体的形状根据所需的特性和设计决定，没有特别限定，在采用激光的透过部分不存在支持体的形状的情况下，对材质没有特别限制，可以根据成本、加工性、制造环境或使用环境等适当选择材质，而且与激光的透过部分也具有支持体的情况相比，可以抑制支持体自身具有的像差的影响、固定支持体与相位差薄膜时新产生的像差和相位差的变化的影响，所以是理想的。
采用在激光的透过部分也存在支持体的形状的情况下，支持体当然是需要光学上透明的，材质也限定于玻璃或透明树脂等。此外，所述情况下较好是光学上均一的，即不具有双折射性的支持体。支持体具有双折射性的情况下，会产生无法获得所希望的特性、或者即使获得了也需要细小的补正的问题。另外，在激光的透过部分，支持体与相位差薄膜较好是不被粘接。特别是在采用相位差薄膜之间通过支持体层合的结构时，如果在激光的透过部分各相位差薄膜与支持体粘接，则会无法得到本发明的效果。
作为上述在激光的透过部分不存在支持体的形状的具体例子，可以例举例如“コ”字型或圆型、或者缺少一处的圆型的支持体，这样的支持体的厚度通常为0.01～5mm，较好是0.05～3mm，更好是0.05～1mm。如果不到0.01mm，则刚性不足且操作性差，另一方面，如果超过5mm，则作为波片的大小过大，不易使光学系统装置小型化。
此外，支持体可以存在于相位差薄膜之间，或存在于各相位差薄膜的一面或两面、或者层合了的相位差薄膜的一面或两面。为了在相位差薄膜之间形成稳定的间隙，较好是使其作为间隔物存在于相位差薄膜之间。
本发明的第1种波片中，可以在相位差薄膜的一面或两面层合防反射膜。
作为防反射膜的形成方法，可以例举例如以下的方法：将氟类共聚物溶解于有机溶剂，将该溶液使用棒式涂布器等通过流延法等涂布形成在上述相位差薄膜上，加热使其固化。加热温度通常为80～165℃，较好是100～150℃，加热时间通常为10分钟～3小时，较好是30分钟～2小时。
防反射膜的厚度通常为5～2000nm，较好是10～1000nm，更好是50～200nm。如果不到5nm，则无法发挥防反射的效果，另一方面，如果超过2000nm，则涂膜的厚度容易不均，外观等变差，所以是不理想的。
此外，还可以使用蒸镀法或溅射法设置铝、镁或硅等的透明无机氧化物的被覆层来形成防反射膜。
采用所述无机类防反射膜的情况下，透明无机氧化物被覆层的厚度设定为特定光波长的1/4。另外，通过多层层合所述透明无机氧化物被覆层，可以进一步提高防反射性能。
本发明的第1种波片中，作为用于相位差薄膜之间或相位差薄膜与支持体的粘接的粘接剂或粘合剂，可以适当选自天然橡胶类、合成橡胶、乙酸乙烯/氯乙烯共聚物类、硅类、聚乙烯醚类、丙烯酸类、改性聚烯烃类、环氧类或氨基甲酸酯类等的公知的试剂。其中，丙烯酸类的粘接剂与被粘接物的粘合性良好，可以优选地使用。粘接时，可以对相位差薄膜和支持体的表面进行电晕处理、等离子处理、偶合剂处理或增粘涂层处理等基底处理。
使用粘接剂或粘合剂时粘接剂层或粘合剂层的厚度较好是1μm～100μm，更好是2μm～70μm，特别好是3μm～50μm，最好是4μm～30μm。粘接剂层或粘合剂层的厚度设定在该范围内，则不仅容易获得良好的像差和相位差特性，而且可以长期保持稳定。
此外，本发明的第1种波片的面内像差(透射波像差)当然是越小越好，通常在50(mλ)以内，较好是在30(mλ)以内，更好是在20(mλ)以内，波片的面内像差设定在上述范围内，则在良好的S/N比和允许的失真范围内，所以是理想的。在这里，λ表示透射光的波长，使用一般所用的激光的波长。
本发明的第1种波片的异物数较好是尽可能地少，粒径10μm以上的异物通常在5(个/mm2)以下，较好是在1(个/mm2)以下，更好是在0(个/mm2)以下。如果波片中存在的10μm以上的异物的数量超过5(个/mm2)，则噪声信号多，S/N比小，所以是不理想的。在这里，波片中的异物包括使激光的透射下降的异物和激光的行进方向由于该异物的存在而大幅改变的异物。前者的例子可以例举污垢或尘土、树脂的烧伤和金属粉末、矿物等的粉末等，后者的例子可以例举其它树脂的沾污或折射率不同的透明物质等。
本发明的第1种波片中，为了根据噪声减低等的需要阻断或降低所希望的波长之外的光的透过，可以进行使用公知的着色剂等的着色。
本发明的第1种波片中，除了在激光的透过部位不使相位差薄膜之间粘接之外，可以采用以往公知的方法进行制造。
本发明的第1种波片中，2块以上的相位差薄膜之间在激光的透过部位不粘接，各相位差薄膜之间具有间隙，另外根据需要除激光的透过部分之外的部分以支持体固定，因此通过使用本发明的波片可以制造长期耐久性良好的、高性能的光学信息记录·再生装置。
本发明的第2种波片是至少层合了2块相位差薄膜、在该层合的相位差薄膜的至少一面上层合玻璃基板的波片，相位差薄膜之间及相位差薄膜与玻璃基板通过选自下述粘接剂(A)和(B)、且各自不同的粘接剂层合固定。本发明中，较好是在层合了的相位差薄膜的两面层合玻璃基板(由2块玻璃基板夹住层合了的相位差薄膜的结构)，相位差薄膜之间用粘接剂(A)层合固定，相位差薄膜与玻璃基板用粘接剂(B)固定。
作为本发明的第2种波片中所使用的玻璃基板，较好是实质上不具有双折射的基板。如果透明支持体具有双折射，则作为波片的特性受到影响，所以是不理想的。此外，对玻璃基板的形状没有特别限定，可以是平板状，也可以是格子状或棱柱形状等具有光学功能的形状，此外，厚度通常为0.01～5mm，较好是0.05～3mm，更好是0.05～1mm。如果不到0.01mm，则刚性不足且操作性差，另一方面，如果超过5mm，则作为波片的大小过大，不易使光学系统装置小型化。
本发明的第2种波片中，可以在玻璃基板的一面或两面以上述第1种波片同样的方法层合同样厚度的防反射膜。
作为防反射膜的形成方法，可以例举例如以下的方法：将氟类共聚物溶解于有机溶剂，将该溶液使用棒式涂布器等通过流延法等涂布形成在上述薄膜、片、相位差片等上，使用压力机加热使其固化。加热温度通常为80～165℃，较好是100～150℃，加热时间通常为10分钟～3小时，较好是30分钟～2小时。
防反射膜的厚度通常为5～2000nm，较好是10～1000nm，更好是50～200nm。如果不到5nm，则无法发挥防反射的效果，另一方面，如果超过2000nm，则涂膜的厚度容易不均，外观等变差，所以是不理想的。
此外，还可以使用蒸镀法或溅射法设置铝、镁或硅等的透明无机氧化物的被覆层来形成防反射膜。
采用所述无机类防反射膜的情况下，透明无机氧化物被覆层的厚度设定为特定光波长的1/4。另外，通过多层层合所述透明无机氧化物被覆层，可以进一步提高防反射性能。
本发明的第2种波片中，用于相位差薄膜之间的层合固定的粘接剂(粘接剂(A))可以选自天然橡胶类、合成橡胶、乙酸乙烯/氯乙烯共聚物类、硅类、聚乙烯醚类、丙烯酸类、改性聚烯烃类、环氧类或氨基甲酸酯类等的公知的粘接剂中具有后述特性的粘接剂。其中，丙烯酸类的粘接剂与被粘接物的粘合性良好，可以优选地使用。
为了得到初始特性良好、不易受使用环境和制造环境的影响、长期可靠性良好的波片，粘接剂(A)的玻璃化温度、即干燥或固化状态下的粘接剂(A)的动态粘弹性测定(测定频率1Hz)下的tanδ(损失正切)的峰值温度需要在0℃以下，较好是在-20℃以下，更好是在-40℃以下。
对于粘接剂的玻璃化温度，例如在采用丙烯酸类粘接剂的情况下，通过适当选择所含的丙烯酸类聚合物或丙烯酸类单体来进行控制。即，丙烯酸类单体根据其分子中的双键个数被分为单官能团、二官能团、多官能团，一般大量使用单官能团的丙烯酸类单体的粘接剂的玻璃化温度低，大量使用多官能团的丙烯酸类单体的粘接剂的玻璃化温度高，因此通过调节聚合形成掺入粘接剂的丙烯酸类聚合物时所使用的丙烯酸类单体的种类和量、或者调节掺入粘接剂的丙烯酸类单体的种类和量，可以获得目标玻璃化温度的粘接剂。
此外，粘接剂(A)在干燥或固化了的状态下的室温(23℃)下的杨氏模量(JIS Z1702、3号哑铃、拉伸速度10mm/分钟时的值)需要在10MPa以下，较好是在5MPa以下，更好是在2MPa以下。
层合固定时，可以对各相位差薄膜的表面进行电晕处理、等离子处理、偶合剂处理或增粘涂层处理等基底处理。
本发明的第2种波片中，用于粘接相位差薄膜与玻璃基板的粘接剂(粘接剂(B))可以选自天然橡胶类、合成橡胶、乙酸乙烯/氯乙烯共聚物类、硅类、聚乙烯醚类、丙烯酸类、改性聚烯烃类、环氧类或氨基甲酸酯类等的公知的粘接剂中具有后述特性的粘接剂。其中，丙烯酸类的粘接剂与被粘接物的粘合性良好，可以优选地使用。
为了得到初始特性良好、不易受使用环境和制造环境的影响、长期可靠性良好的波片，粘接剂(B)的玻璃化温度、即干燥或固化状态下的粘接剂(B)的动态粘弹性测定(测定频率1Hz)下的tanδ(损失正切)的峰值温度(玻璃化温度)需要在40℃以上，较好是在60℃以上，更好是在80℃以上。在这里，粘接剂(B)的峰值温度存在2个以上的情况下，采用高温侧的峰值温度。此外，这时的高温侧的tanδ的峰面积相对于整个tanδ的峰面积较好是在10％以上，更好是在30％以上，特别好是在50％以上。
此外，粘接剂(B)在干燥或固化了的状态下的室温(23℃)下的杨氏模量(JIS Z1702、3号哑铃、拉伸速度10mm/分钟时的值)需要大于30MPa以下，较好是在50MPa以上，更好是在70MPa以上。
此外，粘接剂(B)和粘接剂(A)的玻璃化温度的差值理想的是在60℃以上，较好是在80℃以上，更好是在100℃以上。
另外，23℃下的粘接剂(B)和粘接剂(A)的杨氏模量的差值理想的是在40MPa以上，较好是在50MPa以上，更好是在60MPa以上。
粘接固定时，可以对相位差薄膜和玻璃基板的表面进行电晕处理、等离子处理、偶合剂处理或增粘涂层处理等基底处理。
通过在相位差薄膜之间的层合和相位差薄膜与玻璃之间的层合中，组合上述粘接剂(A)和粘接剂(B)使用，可以减小波片的面内像差的变化量，得到不易受使用环境和制造环境的影响、长期可靠性良好的波片。
其原因并不清楚，但推测是由于通过使用硬的粘接剂(B)可以防止来自波片的外部的应力引起的变形，而且对于温度变化时产生的变形，通过使用软的粘接剂(A)，两者被平衡地缓和。
作为丙烯酸类的粘接剂，可以例举例如含有至少含1种丙烯酸类单体(丙烯酸酯化合物)的单体组合物的聚合物与溶剂的组合物、含有至少1种丙烯酸酯化合物与固化剂的组合物、含有上述聚合物和至少1种丙烯酸酯化合物以及固化剂的组合物等，但本发明并不局限于这些例子。在这里，丙烯酸酯化合物在分子内至少具有一个(甲基)丙烯酰基，可以例举例如单官能团(甲基)丙烯酸酯化合物、多官能团(甲基)丙烯酸酯化合物。
作为单官能团(甲基)丙烯酸酯化合物的具体例子，可以例举(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸月桂基酯、(甲基)丙烯酸十八酯、(甲基)丙烯酸异十八酯等(甲基)丙烯酸烷基酯类；
(甲基)丙烯酸羟乙基酯、(甲基)丙烯酸羟丙基酯、(甲基)丙烯酸羟丁基酯等(甲基)丙烯酸羟烷基酯；(甲基)丙烯酸苯氧基乙基酯、2-羟基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸苯氧基烷基酯类；
(甲基)丙烯酸甲氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸丙氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸甲氧基丁基酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类；
聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、乙氧基二甘醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯等聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯类；
聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、壬基苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯类；
(甲基)丙烯酸环己酯、4-丁基环己基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸二环戊基酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯基酯、(甲基)丙烯酸二环戊二烯基酯、(甲基)丙烯酸冰片酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸三环癸基酯等(甲基)丙烯酸环烷基酯类；(甲基)丙烯酸苄酯；(甲基)丙烯酸四氢糠基酯等。
这些单官能(甲基)丙烯酸酯化合物可以1种单独使用，或2种以上混合使用。
此外，作为多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的具体例子，可以例举二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等烷撑二醇(甲基)丙烯酸酯类；
三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三羟乙基三(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、羟基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等多元醇的多(甲基)丙烯酸酯类；
三聚异氰酸酯三(甲基)丙烯酸酯、三(2-羟乙基)三聚异氰酸酯二(甲基)丙烯酸酯、三(2-羟乙基)三聚异氰酸酯三(甲基)丙烯酸酯等三聚异氰酸酯的多(甲基)丙烯酸酯类；
三环亚癸基二甲基二(甲基)丙烯酸酯(トリシクロデカンジィルジメチルジ(メタ)ァクリレ一ト)等环烷的多(甲基)丙烯酸酯类；
双酚A的环氧乙烷加成物的二(甲基)丙烯酸酯、双酚A的环氧丙烷加成物的二(甲基)丙烯酸酯、双酚A的烯化氧加成物的二(甲基)丙烯酸酯、氢化双酚A的环氧乙烷加成物的二(甲基)丙烯酸酯、氢化双酚A的环氧丙烷加成物的二(甲基)丙烯酸酯、氢化双酚A的烯化氧加成物的二(甲基)丙烯酸酯、由双酚A二缩水甘油醚与(甲基)丙烯酸得到的(甲基)丙烯酸酯等双酚A的(甲基)丙烯酸酯类；
3，3，4，4，5，5，6，6-八氟辛烷二(甲基)丙烯酸酯、3-(2-全氟己基)乙氧基-1，2-二(甲基)丙烯酰丙烷、N-正丙基-N-2，3-二(甲基)丙烯酰丙基全氟辛基磺酰胺等含氟类(甲基)丙烯酸酯等。
这些多官能(甲基)丙烯酸酯化合物可以1种单独使用，或2种以上混合使用。
粘接剂(A)和粘接剂(B)的粘接强度必须保证在处理中不容易剥离。作为粘接强度的具体值，对于粘接剂(A)，2块相位差薄膜相互粘接时的90度剥离力较好是在0.5N/cm2以上，更好是在1N/cm2以上，最好是在3N/cm2以上，对于粘接剂(B)，相位差薄膜与玻璃基材粘接时的90度剥离力较好是在0.5N/cm2以上，更好是在1N/cm2以上，最好是在3N/cm2以上。如果粘接强度小于0.5N/cm2，则会由于处理时的冲击而剥离，或者粘接的层之间发生错位，所以是不理想的。
粘接剂(A)和粘接剂(B)的厚度只要是可以确保上述粘接强度的厚度，没有特别限定，通常为1μm～100μm，较好是2μm～70μm，更好是3μm～50μm，最好是4μm～30μm。如果粘接剂(A)和粘接剂(B)的厚度大于100μm，则波片的厚度过厚，光透过率等光学特性会出现问题，或者处理时会不方便。此外，厚度不到1μm时，会无法确保粘接强度。
相位差薄膜的折射率与进行相位差薄膜之间的粘接的粘接剂的折射率的差值较好是在0.20以内，更好是在0.15以内，特别好是在0.10以内，最好是在0.05以内，此外，相位差薄膜的折射率与粘接玻璃基板的粘接剂的折射率的差值较好是在0.20以内，更好是在0.15以内，特别好是在0.10以内，最好是在0.05以内。另外，相位差薄膜的折射率与玻璃基板的折射率的差值较好是在0.20以内，更好是在0.15以内，特别好是在0.10以内，最好是在0.05以内，折射率差值设定在该范围内，则可以将透射光由于反射而造成的损失控制到最低限度，所以是理想的。
此外，本发明的第2种波片的面内像差(透射波像差)当然是越小越好，通常在50(mλ)以内，较好是在30(mλ)以内，更好是在20(mλ)以内，波片的面内像差设定在上述范围内，则在良好的S/N比和允许的失真范围内，所以是理想的。在这里，λ表示透射光的波长，使用一般所用的激光的波长。
本发明的第2种波片的异物数较好是尽可能地少，粒径10μm以上的异物通常在10(个/mm2)以下，较好是在5(个/mm2)以下，较好是在1(个/mm2)以下。如果波片中存在的10μm以上的异物的数量超过10(个/mm2)，则噪声信号多，S/N比小，所以是不理想的。在这里，波片中的异物包括使激光的透射下降的异物和激光的行进方向由于该异物的存在而大幅改变的异物。前者的例子可以例举污垢或尘土、树脂的烧伤和金属粉末、矿物等的粉末等，后者的例子可以例举其它树脂的沾污或折射率不同的透明物质等。
本发明的第2种波片中，为了根据噪声减低等的需要阻断或降低所希望的波长之外的光的透过，可以进行使用公知的着色剂等的着色。
本发明的第2种波片中，除了在相位差薄膜之间和相位差薄膜与玻璃基板的层合固定中使用选自粘接剂(A)、(B)而且各自不同的粘接剂之外，可以采用以往公知的方法进行制造。
本发明的第2种波片是通过粘接剂层合了至少2块相位差薄膜、在该层合的相位差薄膜的至少一面上层合玻璃基板的波片，相位差薄膜之间及相位差薄膜与玻璃基板通过选自粘接剂(A)和粘接剂(B)而且各自不同的粘接剂层合固定，因此可以长期维持初始特性。作为相位差薄膜，特别好是将环烯类树脂薄膜拉伸定向得到的薄膜。如果使用这样的本发明的波片，则可以制造可以长期维持性能的高耐久性的光学信息记录再生装置和液晶投影仪装置。
[实施例]
以下，例举实施例，对本发明进一步进行具体说明，但本发明并不受到这些实施例的任何限定。实施例中的份和％在没有特别说明的情况下为重量份和重量％。此外，实施例中的各种试验·测定如下进行。
固有粘度〔η〕
inh
溶剂使用三氯甲烷或环己烷，以0.5g/dl的聚合物浓度在30.0℃的条件下用乌伯劳德粘度计进行测定。
凝胶含量
在25℃的温度下，将50g加氢(共)聚合物溶解于三氯甲烷，浓度为1％，将该溶液用预先测定了重量的孔径0.5μm的膜滤器〔ァドバンテック东洋株式会社〕进行过滤，将过滤后的滤器干燥后，由其重量的增加量算出凝胶含量。
氢化率
对于加氢均聚物，测定500MHz、1H-NMR，由酯基的甲基氢与烯烃类氢的各自的吸收强度的比值、或者烷烃类氢与烯烃类氢的各自的吸收强度的比值测定氢化率。此外，对于加氢共聚物，比较聚合后的共聚物的1H-NMR吸收与氢化后的加氢共聚物的该值来算出。
树脂的玻璃化温度
通过扫描热量计(DSC)在氮气气氛下以10℃/min的升温速度进行测定。
膜的厚度
使用キ一ェンス株式会社制、激光聚焦位移计LT-8010进行测定。
面内像差
使用富士写真光机株式会社制、小口径激光干涉计R10，对5mmφ的范围使用波长650nm的激光测定透射波像差。
相位差值
使用王子计测机器株式会社制、KOBRA-21ADH，以480、550、590、630、750nm的波长进行测定，对该波长以外的部分用上述波长下的相位差值通过柯西(Cauchy)的色散公式算出。
高温高湿试验
将ェスペック株式会社制、环境试验机设定为95℃、95％RH。放入槽内1000小时后取出，进行目视观察、相位差值的测定、面内像差的测定。
粘接剂的玻璃化温度(tanδ峰值温度)
使用ォリェンテック公司制动态粘弹性谱仪(Rheovibron)(型号DDV-01FP)，准备粘接剂的长方形试验片(5mm×7cm)，在-100～150℃的温度范围、1Hz的频率下进行测定。峰值存在2种以上的情况下，将高温侧的值作为峰值温度(玻璃化温度)。
玻璃化温度在室温以下的情况下，在先用单体对tanδ峰值温度进行确认了的基材(JSR株式会社制ARTON，厚10μm)上以1mm的厚度涂布并测定，从而确认来自于粘接剂的tan δ峰值温度。
粘接剂的杨氏模量
使用ィンストロン株式会社制拉伸试验机，准备粘接剂的3号哑铃，按照JIS-Z1702在23℃下进行测定。拉伸速度设为10mm/分钟。
玻璃化温度在室温以下的情况下，将预先将粘接剂涂布在PET基材上得到的样品制成3号哑铃形状，在要测定前除去PET基材，暴露受检部分，进行拉伸试验。
<合成例1>
将250份8-甲基-8-甲氧羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯(特定单体)、18份1-己烯(分子量调节剂)和750份甲苯(开环聚合反应用溶剂)加入氮气置换了的反应容器内，将该溶液加热到60℃。接着，向反应容器内的溶液中添加0.62份作为聚合催化剂的三乙基铝(1.5摩尔/升)的甲苯溶液和3.7份用叔丁醇和甲醇改性了的六氯化钨(叔丁醇∶甲醇∶钨＝0.35摩尔∶0.3摩尔∶1摩尔)的甲苯溶液(浓度0.05摩尔/升)，通过将该体系在80℃下加热搅拌3小时，使其进行开环共聚反应，得到开环共聚物溶液。该聚合反应中聚合转化率为97％，对于得到的开环聚合物在30℃的三氯甲烷中测定的固有粘度(ηinh)为0.75dl/g。
将4000份这样得到的开环聚合物溶液放入高压釜中，向该开环聚合物溶液中添加0.48份RuHCl(CO)[P(C6H5)3]3，在氢气压100kg/cm2、反应温度165℃的条件下加热搅拌3小时，进行加氢反应。
将得到的反应溶液(加氢聚合物溶液)冷却后，去除氢气的加压。将该反应溶液注入大量的甲醇中，分离回收凝固物，将其干燥，得到加氢聚合物(以下称作“树脂A”)。
对这样得到的树脂A用1H-NMR测定加氢率，结果为99.9％。此外，对该树脂通过DSC法测定玻璃化温度(Tg)，结果为165℃。此外，对该树脂用GPC法(溶剂：四氢呋喃)测定换算成聚苯乙烯的数均分子量(Mn)和重均分子量(Mw)，结果Mn为32000，Mw为137000，分子量分布(Mw/Mn)为4.29。此外，对该树脂测定23℃下的饱和吸水率，结果为0.3％。此外，测定SP值，结果为19(MPa1/2)。此外，对该树脂在30℃的三氯甲烷中测定固有粘度(ηinh)，结果为0.78dl/g。此外，凝胶含量为0.4％。
<合成例2>
除了使用215份8-甲基-8-甲氧羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯作为特定单体、使用35份二环[2.2.1]庚-2-烯、1-己烯(分子量调节剂)的添加量定为18份之外，与合成例1同样地操作，得到加氢聚合物。得到的加氢聚合物(以下称作“树脂B”)的加氢率，结果为99.9％。此外，对该树脂通过DSC法测定玻璃化温度(Tg)，结果为125℃。此外，对该树脂用GPC法(溶剂：四氢呋喃)测定换算成聚苯乙烯的数均分子量(Mn)和重均分子量(Mw)，结果Mn为46000，Mw为190000，分子量分布(Mw/Mn)为4.15。此外，对该树脂测定23℃下的饱和吸水率，结果为0.18％。此外，测定SP值，结果为19(MPa1/2)。此外，对该树脂在30℃的三氯甲烷中测定固有粘度(ηinh)，结果为0.69dl/g。此外，凝胶含量为0.2％。
<合成例3>
除了使用225份8-亚乙基四环[4.4.0.12，5.17，10]-3-十二碳烯作为特定单体、1-己烯(分子量调节剂)的添加量定为30份、使用环己烷代替甲苯作为开环聚合反应用溶剂之外，与合成例1同样地操作，得到加氢聚合物。得到的加氢聚合物(以下称作“树脂C”)的加氢率，结果为99.9％。此外，对该树脂通过DSC法测定玻璃化温度(Tg)，结果为138℃。此外，对该树脂用GPC法(溶剂：环己烷)测定换算成聚苯乙烯的数均分子量(Mn)和重均分子量(Mw)，结果Mn为50000，Mw为190000，分子量分布(Mw/Mn)为3.80。此外，对该树脂测定23℃下的饱和吸水率，结果为0.01％。此外，测定SP值，结果为17(MPa1/2)。此外，对该树脂在30℃的环己烷中测定固有粘度(ηinh)，结果为0.72dl/g。此外，凝胶含量为0.4％。
<薄膜制造例1>
将树脂A溶解于甲苯，浓度为30％(室温下的溶液粘度为30000mPa·S)，用井上金属工业制INVEX实验室涂布机(lab coater)涂布在用丙烯酸类进行了亲水化(易粘接)的表面处理的厚100μm的PET薄膜(东レ制，ルミラ一U94)上，使干燥后的膜厚为100μm，将其在50℃干燥一次后，再于90℃干燥一次。得到从PET薄膜剥离的树脂薄膜A。得到的薄膜的残留溶剂量为0.5％。
通过以下方法求得该薄膜的光弹性系数(Cp)和应力光学系数(CR)。具体来说，光弹性系数(Cp)由对长方形的薄膜样本在室温(25℃)下施加多种一定的荷重而产生的相位差与这时样本受到的应力来计算得到。对于应力光学系数(CR)，使用薄膜状样本在Tg以上的温度下施加多种一定的荷重，在伸长数个百分比的状态下慢慢冷却，测定回复到室温后所产生的相位差，由所施加的应力来计算。结果分别为Cp＝4(×10-12Pa-1)，CR＝1750(×10-12Pa-1)。
树脂薄膜A的特性值示于表1。
<薄膜制造例2>
使用树脂B，与薄膜制造例1同样地进行操作，得到树脂薄膜B。得到的树脂薄膜B的残留溶剂量为0.5％，光弹性系数(Cp)和应力光学系数(CR)分别为Cp＝9(×10-12Pa-1)，CR＝2350(×10-12Pa-1)。
树脂薄膜B的特性值示于表1。
<薄膜制造例3>
除了使用树脂C、使用环己烷作为溶剂之外，与薄膜制造例1同样地进行操作，得到树脂薄膜C。得到的树脂薄膜C的残留溶剂量为0.4％，光弹性系数(Cp)和应力光学系数(CR)分别为Cp＝4(×10-12Pa-1)，CR＝1950(×10-12Pa-1)。
树脂薄膜C的特性值示于表1。
[表1]
| Tg(℃) | C<sub>P</sub>，C<sub>R</sub>(×10<sup>-12</sup>Pa<sup>-1</sup>) | 厚度(μm) | 残留溶剂量(％) | 总光线透过率(％) | 590nm下的相位差(nm) | |
| 树脂薄膜A | 165 | 4，1750 | 100 | 0.5 | 93 | 6.8 |
| 树脂薄膜B | 125 | 9，2350 | 100 | 0.5 | 93 | 6.8 |
| 树脂薄膜C | 138 | 4，1950 | 100 | 0.4 | 93 | 5.2 |
<实施例1>
将上述树脂薄膜A在拉幅机内加热至比Tg高出10℃的175℃，以400％/分钟的拉伸速度单轴拉伸至1.4倍后，在110℃的气氛下保持该状态1分钟，然后冷却至室温并取出后，可以得到厚度为89μm、波长655nm下的相位差为160nm的相位差薄膜A-1。此外，将上述树脂薄膜A在拉幅机内加热至比Tg高出10℃的175℃，以400％/分钟的拉伸速度单轴拉伸至2.1倍后，在110℃的气氛下保持该状态1分钟，然后冷却至室温并取出后，可以得到厚度为81μm、波长655nm下的相位差为330nm的相位差薄膜A-2。各薄膜表面的表面粗糙度(Rmax)确认为0.1μm。
得到这些相位差薄膜A-1和A-2。各薄膜表面的表面粗糙度(Rmax)确认为0.1μm。
将这些相位差薄膜A-1和A-2切割成直径10mm的圆形，并且在圆周部分以1mm的粘接宽度用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(住友スリ一ェム株式会社制，8142)进行粘合，使各光轴呈60°。这时，在粘接部位的一部分以约1mm的宽度制作不带有上述粘接剂的部分作为排空气孔，得到波片A。本波片A示于图1。
通过偏振显微镜确认波片A中的粒径10μm以上的异物数在10个/mm2以下。另外，确认了波片A的面内像差，结果为18mλ。对该波片A进行了高温高湿试验，确认了相位差值的变化量在3％以内，面内像差的变化量也在5mλ以下，也没有发现外观变化，维持了良好的特性。
<实施例2>
使用树脂薄膜B，除了拉伸条件设为拉伸倍数1.3倍、加热温度130℃之外，与实施例1同样地进行操作，得到厚度为89μm、波长655nm下的相位差为275nm的相位差薄膜B-1。薄膜表面的表面粗糙度(Rmax)确认为0.1μm。
将2块该相位差薄膜B-1切割成直径10mm的圆形，并且在圆周部分以1mm的粘接宽度用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(住友スリ一ェム株式会社制，8142)进行粘合，使各光轴呈45°。这时，在粘接部位的一部分以约1mm的宽度制作不带有上述粘接剂的部分作为排空气孔。另外，在所述层合了的相位差薄膜的一面使用丙烯酸类粘接剂(住友スリ一ェム株式会社制，8142)粘合将树脂A注塑成形得到的厚1mm的环形圆盘状支持体，得到波片B。本波片B示于图1。
通过偏振显微镜确认波片B中的粒径10μm以上的异物数在10个/mm2以下。另外，确认了波片B的面内像差，结果为12mλ。对该波片B进行了高温高湿试验，确认了相位差值的变化量在3％以内，面内像差的变化量也在5mλ以下，也没有发现外观变化，维持了良好的特性。
<实施例3>
使用树脂薄膜C，除了拉伸条件设为拉伸倍数1.08倍、加热温度148℃之外，与实施例1同样地进行操作，得到厚度为96μm、波长655nm下的相位差为125nm的相位差薄膜C-1。此外，使用树脂薄膜C，除了拉伸条件设为拉伸倍数1.18倍、加热温度148℃之外，与实施例1同样地进行操作，得到厚度为91μm、波长655nm下的相位差为250nm的相位差薄膜C-2。薄膜表面的表面粗糙度(Rmax)确认为0.1μm。
将这些相位差薄膜C-1和C-2与实施例1同样地进行操作，得到波片C，使各光轴呈55°。
通过偏振显微镜确认波片C中的粒径10μm以上的异物数在10个/mm2以下。另外，确认了波片C的面内像差，结果为16mλ。对该波片C进行了高温高湿试验，确认了相位差值的变化量在3％以内，面内像差的变化量也在5mλ以下，也没有发现外观变化，维持了良好的特性。
<比较例1>
除了在薄膜的整面设置厚10μm的粘接剂层、将薄膜之间粘接之外，与实施例1同样地进行操作，得到波片D。
通过偏振显微镜确认波片D中的粒径10μm以上的异物数在10个/mm2以下。另外，确认了波片D的面内像差，结果为24mλ。对该波片D进行了高温高湿试验，明确了相位差值的变化量在3％以内，也没有发现外观变化，但面内像差的变化量为18mλ，作为波片的特性可能会出现问题。
<实施例4>
与实施例1同样地进行操作，得到相位差薄膜A-1和A-2。
将这些相位差薄膜A-1和A-2用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(住友スリ一ェム株式会社制，8142)进行粘合，使各光轴呈60°，再在粘合了的薄膜的两面用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(协立化学产业株式会社制，XVL-90)层合厚250μm的玻璃板，得到波片E。在这里，作为粘接剂(A)使用的住友スリ一ェム株式会社制8142的tanδ峰值温度为-63℃，杨氏模量为0.6MPa，作为粘接剂(B)使用的协立化学产业株式会社制XVL-90的tanδ峰值温度为61℃，杨氏模量为75MPa。
测定波片E的相位差，结果655nm下的相位差为161nm，785nm下的相位差为195nm。因此，确认波片E在宽范围内作为“1/4波片”起作用。
通过偏振显微镜确认波片E中的粒径10μm以上的异物数在10个/mm2以下。
另外，确认了波片E的面内像差，结果为18mλ。
对该波片E进行了高温高湿试验，确认了相位差值的变化量在3％以内，面内像差的变化量也在5mλ以下，也没有发现外观变化，维持了良好的特性。
<实施例5>
与实施例2同样地进行操作，得到相位差薄膜B-1。
将2块该相位差薄膜B-1用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(住友スリ一ェム株式会社制，8142)进行粘合，使各光轴呈45°，再在粘合了的薄膜的两面用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(协立化学产业株式会社制，XVL-90)层合厚250μm的玻璃板，得到波片F。
测定波片F的相位差，结果500nm下的相位差为246nm，785nm下的相位差为395nm。因此，确认波片F在宽范围作为“1/2波片”起作用。
通过偏振显微镜确认波片F中的粒径10μm以上的异物数在10个/mm2以下。
另外，确认了波片F的面内像差，结果为15mλ。
对该波片F进行了高温高湿试验，确认了相位差值的变化量在3％以内，面内像差的变化量也在5mλ以下，也没有发现外观变化，维持了良好的特性。
<实施例6>
与实施例3同样地进行操作，得到相位差薄膜C-1和C-2。
将这些相位差薄膜C-1和C-2用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(住友スリ一ェム株式会社制，8142)进行粘合，使各光轴呈55°，再在粘合了的薄膜的两面用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(协立化学产业株式会社制，XVL-90)层合厚250μm的玻璃板，得到波片G。
测定波片G的相位差，结果405nm下的相位差为102nm，655nm下的相位差为165nm。因此，确认波片G在宽范围内作为“1/4波片”起作用。
通过偏振显微镜确认波片G中的粒径10μm以上的异物数在10个/mm2以下。
另外，确认了波片G的面内像差，结果为35mλ。
对该波片G进行了高温高湿试验，确认了相位差值的变化量在3％以内，面内像差的变化量也在5mλ以下，也没有发现外观变化，维持了良好的特性。
<实施例7>
将2块相位差薄膜C-2用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(协立化学产业株式会社制，XVL-90)进行粘合，使各光轴呈40°，再在粘合了的薄膜的一面用厚20μm的丙烯酸类粘接剂(住友スリ一ェム株式会社制，8142)层合厚250μm的玻璃板，得到波片H。
测定波片H的相位差，结果405nm下的相位差为199nm，655nm下的相位差为325nm。因此，确认波片H在宽范围内作为“1/2波片”起作用。
通过偏振显微镜确认波片H中的粒径10μm以上的异物数在10个/mm2以下。
另外，确认了波片H的面内像差，结果为17mλ。
对该波片H进行了高温高湿试验，确认了相位差值的变化量在3％以内，面内像差的变化量也在5mλ以下，也没有发现外观变化，维持了良好的特性。
<实施例8>
使用树脂薄膜B，除了拉伸条件设为拉伸倍数1.92倍、加热温度148℃之外，与实施例1同样地进行操作，得到厚度为70μm、波长655nm下的相位差为710nm的相位差薄膜B-2。此外，使用树脂薄膜A，除了拉伸条件设为拉伸倍数1.42倍之外，与实施例1同样地进行操作，得到厚度为90μm、波长655nm下的相位差为175nm的相位差薄膜A-3。将这些相位差薄膜B-2和A-3用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(协立化学产业株式会社制，XVL-90)进行粘合，使各光轴呈50°，再在粘合了的薄膜的一面用厚20μm的丙烯酸类粘接剂(住友スリ一ェム株式会社制，8142)层合厚250μm的玻璃板，得到波片I。
测定波片I的相位差，结果655nm下的相位差为164nm，785nm下的相位差为196nm。因此，确认波片I在宽范围内作为“1/4波片”起作用。
通过偏振显微镜确认波片I中的粒径10μm以上的异物数在10个/mm2以下。
另外，确认了波片I的面内像差，结果为32mλ。
对该波片I进行了高温高湿试验，确认了相位差值的变化量在3％以内，面内像差的变化量也在5mλ以下，也没有发现外观变化，维持了良好的特性。
<实施例9>
使用树脂薄膜B，除了拉伸条件设为拉伸倍数1.58倍、加热温度148℃之外，与实施例1同样地进行操作，得到厚度为87μm、波长655nm下的相位差为355nm的相位差薄膜B-3。
将相位差薄膜B-2和B-3用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(协立化学产业株式会社制，XVL-90)进行粘合，使各光轴呈60°，再在粘合了的薄膜的一面用厚20μm的丙烯酸类粘接剂(住友スリ一ェム株式会社制，8142)层合厚250μm的玻璃板，得到波片J。
测定波片J的相位差，结果655nm下的相位差为320nm，785nm下的相位差为395nm。因此，确认波片J在宽范围内作为“1/2波片”起作用。
通过偏振显微镜确认波片J中的粒径10μm以上的异物数在10个/mm2以下。
另外，确认了波片J的面内像差，结果为32mλ。
对该波片J进行了高温高湿试验，确认了相位差值的变化量在3％以内，面内像差的变化量也在5mλ以下，也没有发现外观变化，维持了良好的特性。
<实施例10>
将相位差薄膜A-1和A-2用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(协立化学产业株式会社制，XVL-90)进行粘合，使各光轴呈60°，再在粘合了的薄膜的一面用厚20μm的丙烯酸类粘接剂(住友スリ一ェム株式会社制，8142)层合厚250μm的玻璃板，得到波片K。
测定波片K的相位差，结果655nm下的相位差为162nm，785nm下的相位差为195nm。因此，确认波片K在宽范围内作为“1/4波片”起作用。
通过偏振显微镜确认波片K中的粒径10μm以上的异物数在10个/mm2以下。
另外，确认了波片K的面内像差，结果为31mλ。
对该波片K进行了高温高湿试验，确认了相位差值的变化量在3％以内，面内像差的变化量也在5mλ以下，也没有发现外观变化，维持了良好的特性。
<实施例11>
将2块相位差薄膜C-2用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(住友スリ一ェム株式会社制，8142)进行粘合，使各光轴呈40°，再在粘合了的薄膜的一面用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(协立化学产业株式会社制，XVL-90)层合厚250μm的玻璃板，得到波片L。
测定波片L的相位差，结果405nm下的相位差为201nm，655nm下的相位差为326nm。因此，确认波片L在宽范围内作为“1/2波片”起作用。
通过偏振显微镜确认波片L中的粒径10μm以上的异物数在10个/mm2以下。
另外，确认了波片L的面内像差，结果为31mλ。
对该波片L进行了高温高湿试验，确认了相位差值的变化量在3％以内，面内像差的变化量也在5mλ以下，也没有发现外观变化，维持了良好的特性。
<比较例2>
将相位差薄膜A-1和A-2用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(协立化学产业株式会社制，XVL-90)进行粘合，使各光轴呈60°，再在粘合了的薄膜的两面用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(协立化学产业株式会社制，XVL-90)层合厚250μm的玻璃板，得到波片M。
测定波片M的相位差，结果655nm下的相位差为160nm，785nm下的相位差为196nm。因此，确认波片M在宽范围内作为“1/4波片”起作用。
通过偏振显微镜确认波片M中的粒径10μm以上的异物数在10个/mm2以下。
另外，确认了波片M的面内像差，结果为20mλ。
对该波片M进行了高温高湿试验，确认了相位差值的变化量在3％以内，也没有发现外观变化，但面内像差的变化量为10mλ。
<比较例3>
将2块相位差薄膜B-1用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(住友スリ一ェム株式会社制，8142)进行粘合，使各光轴呈45°，再在粘合了的薄膜的两面用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(住友スリ一ェム株式会社制，8142)层合厚250μm的玻璃板，得到波片N。
测定波片N的相位差，结果655nm下的相位差为328nm，785nm下的相位差为390nm。因此，确认波片N在宽范围作为“1/2波片”起作用。
通过偏振显微镜确认波片N中的粒径10μm以上的异物数在10个/mm2以下。
另外，确认了波片N的面内像差，结果为18mλ。
对该波片F进行了高温高湿试验，确认了相位差值的变化量在3％以内，也没有发现外观变化，但面内像差的变化量为15mλ。
<比较例4>
将相位差薄膜C-1和C-2用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(协立化学产业株式会社制，XVL-90)进行粘合，使各光轴呈55°，再在粘合了的薄膜的两面用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(协立化学产业株式会社制，XVL-90)层合厚250μm的玻璃板，得到波片O。
通过偏振显微镜确认波片O中的粒径10μm以上的异物数在10个/mm2以下。
另外，确认了波片O的面内像差，结果为40mλ。
对该波片O进行了高温高湿试验，确认了相位差值的变化量在3％以内，也没有发现外观变化，但面内像差的变化量为15mλ。
<比较例5>
将2块相位差薄膜C-2用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(协立化学产业株式会社制，XVL-90)进行粘合，使各光轴呈40°，再在粘合了的薄膜的两面用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(协立化学产业株式会社制，XVL-90)层合厚250μm的玻璃板，得到波片P。
测定波片P的相位差，结果405nm下的相位差为200nm，655nm下的相位差为323nm。因此，确认波片L在宽范围内作为“1/2波片”起作用。
通过偏振显微镜确认波片P中的粒径10μm以上的异物数在10个/mm2以下。
另外，确认了波片P的面内像差，结果为24mλ。
对该波片P进行了高温高湿试验，确认了相位差值的变化量在3％以内，也没有发现外观变化，面内像差的变化量为18mλ。
<比较例6>
将相位差薄膜B-2和A-3用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(住友スリ一ェム株式会社制，8142)进行粘合，使各光轴呈50°，再在粘合了的薄膜的一面用厚10μm的丙烯酸类粘接剂(住友スリ一ェム株式会社制，8142)层合厚250μm的玻璃板，得到波片Q。
测定波片Q的相位差，结果655nm下的相位差为162nm，785nm下的相位差为198nm。因此，确认波片Q在宽范围内作为“1/4波片”起作用。
通过偏振显微镜确认波片Q中的10μm以上的异物数在10个/mm2以下。
另外，确认了波片Q的面内像差，结果为20mλ。
对该波片Q进行了高温高湿试验，确认了相位差值的变化量在3％以内，也没有发现外观变化，面内像差的变化量为16mλ。
产业上利用的可能性
使用了本发明的第1种和第2种的波片的光学信息记录·再生装置涉及声音、图像的记录，可以任意用于再生专用记录媒体、追加记录型记录媒体和可擦写型记录媒体，可以用于CD-ROM、CD-R、可擦写DVD等的记录装置及使用它们的OA机器，CD等的音响再生装置、DVD等的图像再生装置及使用它们的AV机器，使用上述的CD、DVD等的游戏机等。此外，本发明的第1种和第2种的波片也可以用于液晶投影仪装置。
Claims (3)
1.用于激光光学系统的波片，它是由2块以上的相位差薄膜构成的波片，其特征在于，在激光的透过部分，相位差薄膜之间不粘接，该相位差薄膜由环烯类树脂薄膜构成。
2.如权利要求1所述的波片，其特征还在于，除了激光的透过部分的部分的至少一部分中，相位差薄膜之间相互粘接。
3.如权利要求1或2所述的波片，其特征还在于，相位差薄膜的至少一部分由支持体固定。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP401690/2003 | 2003-12-01 | ||
| JP2003401690A JP2005164834A (ja) | 2003-12-01 | 2003-12-01 | 波長板 |
| JP425369/2003 | 2003-12-22 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNB2007101621343A Division CN100535691C (zh) | 2003-12-01 | 2004-11-30 | 用于激光光学系统的波片及其制造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1886682A CN1886682A (zh) | 2006-12-27 |
| CN100437163C true CN100437163C (zh) | 2008-11-26 |
Family
ID=34725541
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNB200480035508XA Expired - Fee Related CN100437163C (zh) | 2003-12-01 | 2004-11-30 | 波片 |
| CNB2007101621343A Expired - Fee Related CN100535691C (zh) | 2003-12-01 | 2004-11-30 | 用于激光光学系统的波片及其制造方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNB2007101621343A Expired - Fee Related CN100535691C (zh) | 2003-12-01 | 2004-11-30 | 用于激光光学系统的波片及其制造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2005164834A (zh) |
| CN (2) | CN100437163C (zh) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007016076A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Lintec Corp | 高平滑フィルムおよびその製造方法、ならびに光記録媒体用保護層形成シートおよび光記録媒体 |
| CN102183807A (zh) * | 2010-11-22 | 2011-09-14 | 福建福晶科技股份有限公司 | 一种紫外组合零级波片的加工检测方法 |
| CN102176083A (zh) * | 2010-11-22 | 2011-09-07 | 福建福晶科技股份有限公司 | 一种紫外多级波片的加工检测方法 |
| KR102565135B1 (ko) * | 2014-12-26 | 2023-08-08 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 편광판 |
| CN107407762B (zh) * | 2015-03-03 | 2020-06-30 | 崔旭 | 创建改进的颜色的颜色创建装置及颜色创建方法 |
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| JP2001259744A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-09-25 | Kurimoto Ltd | プレスブレーキの安全装置 |
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| JP2001311821A (ja) * | 2000-04-27 | 2001-11-09 | Asahi Glass Co Ltd | 位相子および光ヘッド装置 |
| JP2002341290A (ja) * | 2001-05-15 | 2002-11-27 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 光アイソレータおよびそれを備える光コネクタならびにレーザ光源装置 |
| CN1413304A (zh) * | 1999-12-28 | 2003-04-23 | 官支株式会社 | 偏振片 |
| US6580674B1 (en) * | 1999-08-26 | 2003-06-17 | Asahi Glass Company, Limited | Phase shifter and optical head device mounted with the same |
| JP2003270435A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-25 | Nippon Zeon Co Ltd | 広帯域波長板 |
| JP2003329834A (ja) * | 2002-05-13 | 2003-11-19 | Nippon Zeon Co Ltd | 分子配向した成形物の製法 |
-
2003
- 2003-12-01 JP JP2003401690A patent/JP2005164834A/ja active Pending
-
2004
- 2004-11-30 CN CNB200480035508XA patent/CN100437163C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-11-30 CN CNB2007101621343A patent/CN100535691C/zh not_active Expired - Fee Related
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| JP2001311821A (ja) * | 2000-04-27 | 2001-11-09 | Asahi Glass Co Ltd | 位相子および光ヘッド装置 |
| JP2002341290A (ja) * | 2001-05-15 | 2002-11-27 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 光アイソレータおよびそれを備える光コネクタならびにレーザ光源装置 |
| JP2003270435A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-25 | Nippon Zeon Co Ltd | 広帯域波長板 |
| JP2003329834A (ja) * | 2002-05-13 | 2003-11-19 | Nippon Zeon Co Ltd | 分子配向した成形物の製法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2005164834A (ja) | 2005-06-23 |
| CN101196588A (zh) | 2008-06-11 |
| CN1886682A (zh) | 2006-12-27 |
| CN100535691C (zh) | 2009-09-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20081126 |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |