CN100410306C - 合成高分子材料用抗静电剂、其制法及该材料组合物 - Google Patents

合成高分子材料用抗静电剂、其制法及该材料组合物 Download PDF

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Abstract

提供可以不损坏合成高分子材料本来的色相和透明性，并赋予该合成高分子材料以优异抗静电性的合成高分子材料用抗静电剂，其制造方法以及含有该合成高分子材料用抗静电剂的合成高分子材料组合物。使用由特定有机磺酸酯阴离子和有机阳离子形成的磺酸酯盐为实质成分，并且以总计为0.1～300ppm的浓度含有碱金属离子和/或碱土金属离子的物质作为合成高分子材料用抗静电剂。

Description

合成高分子材料用抗静电剂、其制法及该材料组合物
技术领域
本发明涉及合成高分子材料用抗静电剂、其制造方法以及合成高分子材料组合物。一般合成高分子材料的疏水性高，其结果造成具有容易带电的特性，这种特性在合成高分子材料的制造工序和其制品使用方面都会形成大的障碍。本发明涉及为消除这种障碍的合成高分子材料用抗静电剂、其制造方法以及合成高分子材料组合物。
背景技术
过去作为合成高分子材料用抗静电剂，使用了各种离子性化合物。在这些离子性化合物中，磺酸酯鏻盐与合成高分子材料的相溶性好，同时耐热性优异，所以受到广泛关注(例如，参照专利文献1～4)。但是以前提出的磺酸酯鏻盐具有使合成高分子材料本来的色相或透明性降低的倾向，因此以此材料作为抗静电剂使用的合成高分子材料组合物存在有不适合用于壁厚并且要求具有高透明性的成型品，例如光学用的透镜和照明器具罩等厚壁制品的问题。为了抑制色相或透明性降低，如果减少磺酸酯鏻盐相对于合成高分子材料的用量，则用此种合成高分子材料组合物成型的前述厚壁制品的抗静电性、特别是在低湿条件下的抗静电性将变得不够充分。
[专利文献1]特开昭62-230835号公报
[专利文献2]特开平1-14267号公报
[专利文献3]特开平1-62336号公报
[专利文献4]美国专利第4943380号公报
发明内容
本发明要解决的课题在于提供可以不损坏合成高分子材料本来的色相或透明性，而赋予该合成高分子材料以优异抗静电性的合成高分子材料用抗静电剂、其制造方法以及含有该合成高分子材料用抗静电剂的合成高分子材料组合物。
为解决前述课题的本发明，涉及合成高分子材料用抗静电剂，其特征是以下述化学结构式1所示磺酸酯鏻盐为实质成分，并且以0.1～300ppm的浓度含有下述金属离子。
[化学结构式1]
Figure C20041008778800071
化学结构式1中，
A1：碳数为1～24的烷基、碳数为4～24的烯基、苯基、具有碳数为1～18的烷基作为取代基的取代苯基、萘基或具有碳数为1～18的烷基作为取代基的取代萘基，
R1～R4：碳数为1～18的脂肪族烃基或芳香族烃基，
金属离子：从碱金属离子和碱土类金属离子中选择的一种或更多种。
本发明还涉及合成高分子材料用抗静电剂的制造方法，它是制造前述本发明涉及的合成高分子材料用抗静电剂的方法，以具有下述第1工序和第2工序为特征。
第1工序：在水溶剂中，使下述化学结构式2所示的有机磺酸酯无机盐和下述化学结构式3所示的卤化有机鏻进行复分解反应，并从水溶剂中分离含有生成的权利要求1中所述化学结构式1所示磺酸酯鏻盐的有机层的工序。
第2工序：对在第1工序中分离的有机层进行水洗处理，得到以权利要求1中所述化学结构式1所示的磺酸酯鏻盐为实质成分，并且使下述金属离子的浓度为0.1～300ppm的合成高分子材料用抗静电剂的工序。
[化学结构式2]
A1-SO3M
[化学结构式3]
Figure C20041008778800081
化学结构式2和3中，
A1，R1～R4：与化学结构式1中的情况相同，
M：碱金属或碱土类金属，
X：卤原子，
金属离子：从碱金属离子以及碱土类金属离子中选择的一种或更多种。
本发明还涉及合成高分子材料组合物，其特征是相对于每100重量份合成高分子材料，以0.1～5重量份的比率含有前述本发明涉及的合成高分子材料用抗静电剂。
首先对本发明涉及的合成高分子材料用抗静电剂(以下简单称为本发明的抗静电剂)进行说明。本发明的抗静电剂以化学结构式1所示磺酸酯鏻盐为实质成分。这里所说的实质成分的意义一般是指在90重量％以上且低于100重量％的范围、优选在95重量％以上且低于100重量％的范围、更优选在97重量％以上且低于100重量％的范围含有化学结构式1所示的磺酸酯鏻盐。
化学结构式1所示的磺酸酯鏻盐，是由有机磺酸酯阴离子和有机鏻阳离子组成的。作为该有机磺酸酯阴离子，可以列举1)甲基磺酸酯、乙基磺酸酯、丙基磺酸酯、丁基磺酸酯、辛基磺酸酯、十二烷基磺酸酯、十四烷基磺酸酯、十八烷基磺酸酯、二十四烷基磺酸酯、2-乙基己基磺酸酯等具有碳数为1～24烷基的有机磺酸酯阴离子，2)丁烯基磺酸酯、辛烯基磺酸酯、十二碳烯基磺酸酯、十四碳烯基磺酸酯、十八碳烯基磺酸酯等具有碳数为4～24的烯基的有机磺酸酯阴离子，3)苯基磺酸酯，4)甲基苯基磺酸酯、丁基苯基磺酸酯、辛基苯基磺酸酯、十二烷基苯基磺酸酯、十五烷基苯基磺酸酯、二丁基苯基磺酸酯、二壬基苯基磺酸酯等具有用碳数为1～18烷基取代的苯基的有机磺酸酯阴离子，5)萘基磺酸酯，6)二异丙基萘基磺酸酯、二丁基萘基磺酸酯等具有用碳数为1～18烷基取代的萘基的有机磺酸酯阴离子等。其中，优选具有碳数为6～18烷基的有机磺酸酯阴离子、具有用碳数为6～18烷基取代的苯基的有机磺酸酯阴离子、具有用碳数为2～12烷基取代的萘基的有机磺酸酯阴离子，更优选具有用碳数为9～16烷基取代的苯基的有机磺酸酯阴离子。
作为前述有机鏻阳离子可以列举1)四甲基鏻、四乙基鏻、四丁基鏻、三乙基丁基鏻、三丁基乙基鏻、二乙基二己基鏻、二辛基二甲基鏻、三丁基辛基鏻、三丁基十二烷基鏻、三丁基十六烷基鏻、三丁基十八烷基鏻、三甲基辛基鏻、三乙基辛基鏻、三辛基丁基鏻等具有碳数为1～18的脂肪族烃基的有机鏻阳离子，2)四苯基鏻、三苯基甲基鏻、三苯基乙基鏻、三苯基苄基鏻、三丁基苄基鏻等具有芳香族烃基的有机鏻阳离子。其中，优选具有碳数为1～16的脂肪族烃基作为相当于化学结构式1中R1～R4的有机鏻阳离子，更优选具有碳数为2～5的脂肪族烃基的有机鏻阳离子。
如前所述，本发明的抗静电剂虽然是以化学结构式1所示磺酸酯鏻盐为实质成分的抗静电剂，但在此基础上，还以0.1～300ppm、优选以0.5～150ppm的浓度含有特定金属离子。这里所说的特定金属离子的意义是，从碱金属离子以及碱土金属离子中选择的一种或更多种的离子，当含有两种或两种以上的离子时，表示它们的总和(以下简单称为金属离子)。作为该碱金属离子，可以列举锂离子、钠离子、钾离子、铷离子、铯离子、钫离子；作为碱土类金属离子可以列举铍离子、镁离子、钙离子、锶离子、钡离子、镭离子。其中，优选碱金属离子，更优选钠离子和/或钾离子。
如前所述，本发明的抗静电剂是以化学结构式1所示的磺酸酯鏻盐为实质成分，并且以0.1～300ppm、优选0.5～150ppm的浓度含有特定金属离子的抗静电剂。还优选在特定条件下的pH为4.5～7.5的抗静电剂，特别优选在特定条件下的pH为5.5～7.0的抗静电剂。这里所谓特定条件下的pH的意义是，对使用水/甲醇＝50/50(重量比)的混合液作为稀释溶液调制的本发明抗静电剂的1重量％溶液，在25℃的溶液温度下用玻璃电极测定其pH的值(以下简单称为pH)。
下面对制造以上说明的本发明抗静电剂的方法(以下简称为本发明制造方法)进行说明。本发明抗静电剂可以用各种方法制造。其中，例如可以列举1)在制造化学结构式1所示磺酸酯鏻盐的工序中，同时把制造物中所含金属离子的浓度调节到规定范围，再把该制造物的pH调节到规定范围的方法；2)在制造化学结构式1所示的磺酸酯鏻盐后，在该磺酸酯鏻盐中添加可以形成金属离子的金属化合物，把金属离子浓度调节到规定范围，再添加调节pH用的化合物，把pH调节到规定范围的方法。在该1)和2)的方法中，作为制造化学结构式1所示磺酸酯鏻盐的方法，可以列举a)使有机磺酸酯无机盐与卤化有机鏻发生复分解反应的方法；b)使用氢氧化有机鏻和可以形成前述金属离子的金属化合物对有机磺酸进行中和反应的方法。就本发明制造方法而言，前述1)的制造方法比前述2)的制造方法更有利，在前述1)的制造方法中，采用前述a)的复分解反应，所以本发明制造方法，具体讲是具有前述第1工序和第2工序的方法。
第1工序是使化学结构式2所示的有机磺酸酯无机盐和化学结构式3所示的卤化有机鏻在水溶剂中发生复分解反应，并从水溶剂中分离含有生成的化学结构式1所示磺酸酯鏻盐的有机层的工序。在化学结构式2和化学结构式3中，A1和R1～R4的意义与化学结构式1中的内容相同，M是碱金属或碱土类金属、并且通过复分解反应的结果可以生成前述金属离子。
第2工序是对在第1工序中分离的有机层进行水洗处理，得到以化学结构式1所示的磺酸酯鏻盐为实质成分，并且使金属离子的浓度为0.1～300ppm、优选0.5～150ppm，同时再使pH为4.5～7.5、优选为5.5～7.0的本发明抗静电剂的工序。关于第2工序中的实质成分、金属离子和pH与本发明抗静电剂中的前述内容相同。
用于第2工序水洗处理的水的温度优选为60～90℃，所用水的量优选是第1工序中所用有机磺酸酯无机盐和卤化有机鏻总量的0.1～2.0倍、更优选0.3～1.0倍。使用该水的水洗处理一般可以通过将对在第1工序中分离的有机层和水洗用的水进行搅拌，静止放置后，除去水层的操作反复进行2-4次而实现。对在第1工序中分离的有机层进行这样的水洗处理，就可以得到以化学结构式1所示的磺酸酯鏻盐为实质成分，并且金属离子的浓度和pH在规定范围的本发明抗静电剂。为了确认，对水洗处理后有机层的金属离子浓度和pH进行测定。当由于某种原因造成金属离子的浓度或pH高于规定值时，要进一步进行水洗；相反，当低于规定值时，还需添加所需量的可以形成金属离子的金属化合物等进行调制。同时为了除去有时残留的水洗用水，还优选对水洗处理后的有机层进行脱水处理。
最后说明本发明涉及的合成高分子材料组合物(以下简称为本发明组合物)。本发明组合物，相对于每100重量份合成高分子材料而言，以0.1～5重量份、优选1～3重量份的比率含有前述本发明抗静电剂。该本发明组合物的调制可以采用1)在合成高分子材料的聚合工序中添加本发明抗静电剂的方法；2)在对合成高分子材料进行成型加工时，在该合成高分子材料中添加本发明抗静电剂的方法等。
作为供本发明组合物所使用的合成高分子材料，可以列举1)聚碳酸酯，2)聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯树脂，3)聚苯醚树脂，4)聚乙烯树脂、聚丙烯树脂等聚烯烃树脂，5)聚氯乙烯树脂，6)聚甲醛树脂，7)聚苯硫醚树脂，8)ABS树脂、AS树脂、HIPS树脂等聚苯乙烯系树脂，9)聚甲基丙烯酸甲酯树脂、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯树脂等的丙烯酸系树脂，10)聚酰胺树脂，11)从前述1)～10)的树脂中选择的2种或2种以上的混合树脂等。其中，当使用聚碳酸酯树脂、甲基丙烯酸酯-苯乙烯树脂时，更能展现明显的效果。
为了达到综合目的，本发明组合物，还可以含有其它添加剂。作为这样的其它添加剂，除了抗氧剂和紫外线吸收剂等稳定剂以外，还可以列举阻燃剂、颜料、各种填充材料等。
以上说明的本发明抗静电剂中，具有可以不损坏合成高分子材料本来的色相或透明性，并赋予其优异抗静电性的效果。此外本发明制造方法中，具有可以有效制造这种本发明抗静电剂的效果。而且本发明的组合物中，具有既可以保持合成高分子材料本来的色相或透明性又具有优异抗静电性的效果。
实施发明的具体方式
作为本发明抗静电剂的实施方案，可以列举以下1)～4)。
1)含有99.0重量％的癸基苯基磺酸酯四丁基鏻盐、并以85ppm的浓度含有钠离子、pH在5.7的合成高分子材料用抗静电剂(P-1)。
2)含有98.7重量％的十二烷基苯基磺酸酯四丁基鏻盐、并以50ppm的浓度含有钠离子、pH在6.1的合成高分子材料用抗静电剂(P-2)。
3)含有98.0重量％的十三烷基苯基磺酸酯三丁基乙基鏻盐、并以15ppm的浓度含有钾离子、pH在6.3的合成高分子材料用抗静电剂(P-3)。
4)含有97.5重量％的十五烷基苯基磺酸酯三乙基丁基鏻盐、并以1.3ppm的浓度含有钾离子、pH在6.7的合成高分子材料用抗静电剂(P-4)。
作为本发明制造方法的实施方案可以列举以下5)～8)。
5)使癸基苯基磺酸钠盐与四丁基氯化鏻在水溶剂中发生复分解反应，从水溶剂中分离出含有生成的癸基苯基磺酸酯四丁基鏻盐的有机层后，对分离的有机层进行水洗处理，得到前述合成高分子材料用抗静电剂(P-1)的方法。
6)使十二烷基苯基磺酸钠盐和四丁基氯化鏻在水溶剂中发生复分解反应，从水溶剂中分离出含有生成的十二烷基苯基磺酸酯四丁基鏻盐的有机层后，对分离的有机层进行水洗处理，得到前述合成高分子材料用抗静电剂(P-2)的方法。
7)使十三烷基苯基磺酸钾盐和三丁基乙基氯化鏻在水溶剂中发生复分解反应，从水溶剂中分离出含有生成的十三烷基苯基磺酸酯三丁基乙基鏻盐的有机层后，对分离的有机层进行水洗处理，得到前述合成高分子材料用抗静电剂(P-3)的方法。
8)使十五烷基苯基磺酸钾盐和三乙基丁基氯化鏻在水溶剂中发生复分解反应，从水溶剂中分离出含有生成的十五烷基苯基磺酸酯三乙基丁基鏻盐的有机层后，对分离的有机层进行水洗处理，得到前述合成高分子材料用抗静电剂(P-4)的方法。
作为本发明组合物的实施方案，可以列举下述9)和10)。
9)聚碳酸酯树脂组合物，其中，相对于每100重量份聚碳酸酯树脂而言以2.5重量份的比率含有前述合成高分子材料用抗静电剂(P-1)、(P-2)、(P-3)或(P-4)。
10)甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯树脂组合物，其中，相对于每100重量份甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯树脂而言以2重量份的比率含有前述合成高分子材料用抗静电剂(P-1)、(P-2)、(P-3)或(P-4)。
为了具体说明本发明的构成和效果，以下列举实施例等，但本发明并不受这些实施例的限定。以下实施例和比较例中的份数表示重量份数，％表示重量％。
[实施例]
试验分类1(调制合成高分子材料用抗静电剂)
·实施例1
在具有温度计、搅拌器和回流冷却器的底部带有排出阀的四口烧瓶中加入癸基苯基磺酸钠盐320份，四丁基氯化鏻310份和水500份，一面搅拌一面加热至70～90℃后，在相同温度下搅拌1小时，使其进行复分解反应。停止搅拌，在相同温度下静止放置30分钟，对上层的含有癸基苯基磺酸酯四丁基鏻盐的溶液层和下层的水溶液层进行成层分离。从底部排出下层的水溶液，使含有癸基苯基磺酸酯四丁基鏻盐的溶液层残留在烧瓶中。在含有癸基苯基磺酸酯四丁基鏻盐的溶液中加入水350份，加热至70～90℃，搅拌1小时后，停止搅拌，在相同温度下静止放置3小时，进行成层分离，从底部排出下层的水溶液，进行水洗处理。再重复进行1次相同的水洗处理后，在115～125℃、5000～10000Pa的减压度下对癸基苯基磺酸酯四丁基鏻盐溶液进行1小时减压脱水处理，得到淡黄色透明液状物529份。通过高速液体色谱法、原子吸光法、pH仪等分析方法对该淡黄色透明液状物进行分析，该液状物含有癸基苯基磺酸酯四丁基鏻盐99.0％，并以85ppm的浓度含有钠离子，pH为5.7。把该液状物定为合成高分子材料用抗静电剂(P-1)
·实施例2～23
进行与实施例1中调制合成高分子材料用抗静电剂(P-1)相同的操作，调制实施例2～23的合成高分子材料用抗静电剂(P-2)～(P-23)。把以上调制的各实施例的合成高分子材料用抗静电剂的具体内容汇总示于表1。
·比较例1
在具有温度计、搅拌器和回流冷却器的底部带有排出阀的四口烧瓶中加入实施例8的合成高分子材料用抗静电剂(P-8)100份和水80份，加热至70～90℃搅拌1小时后，停止搅拌，在相同温度下静止放置3小时，对其进行成层分离。从底部排出下层的水溶液，进行水洗处理。再加入水80份，加热至70～90℃，搅拌1小时后停止搅拌，在相同温度下静止放置3小时，进行成层分离，从底部排出下层的水溶液，进行水洗处理。接着在115～125℃、5000～10000Pa的减压度下对二十二烷基磺酸酯三苯基甲基鏻盐溶液进行1小时减压脱水处理，得到淡黄色透明液状物92份。对该淡黄色透明液状物进行与实施例1相同的分析，该液状物含有二十二烷基磺酸酯三苯基甲基鏻盐98.7％，并以0.05ppm的浓度含有钠离子，pH为6.0。把该液状物定为合成高分子材料用抗静电剂(R-1)
·比较例2
在具有温度计、搅拌器和回流冷却器的底部带有排出阀的四口烧瓶中加入实施例9的合成高分子材料用抗静电剂(P-9)100份、水100份，和1％氯化钾水溶液2.0份，搅拌1小时后，进行与实施例1相同的减压脱水处理，得到淡黄色透明液状物100份。对该淡黄色透明液状物进行与实施例1相同的分析，该液状物含有十八碳烯基磺酸酯四苯基鏻盐97.6％，并以340ppm的浓度含有钾离子，pH为5.8。把该液状物定为合成高分子材料用抗静电剂(R-2)
·比较例3
进行与调制比较例1的合成高分子材料用抗静电剂(R-1)相同的操作，调制比较例3的合成高分子材料用抗静电剂(R-3)。
·比较例4
进行与调制比较例2的合成高分子材料用抗静电剂(R-2)相同的操作，调制比较例4的合成高分子材料用抗静电剂(R-4)。把以上调制的备比较例的合成高分子材料用抗静电剂的内容汇总示于表2。
[表1]
[表2]
Figure C20041008778800161
试验分类2(合成高分子材料组合物的调制和评定)
·实施例24～46以及比较例5～8
把聚碳酸酯树脂(三菱工程塑料公司制造的商品名为优彼隆(ユ一ピロン)S-3000F)100份和表3中所示用量的合成高分子材料用抗静电剂投入到实验室用普拉斯特研磨机(ラボプラストミル)(东洋精机公司制造)中，在280℃下混炼5分钟，得到合成高分子材料组合物。用热压机(东洋精机公司制造)在260℃下对该合成高分子材料组合物进行成型，制作厚度为10mm的片材。对于该片材，在下述条件下测定其表面电阻率，并按照下述标准进行评定。还观察其着色性和透明性，并按照下述标准进行评定。把结果汇总示于表3。
表面电阻率的测定以及评定
把制作的片材置于20℃×45％RH的恒温恒湿室中进行24小时的调湿处理后，在相同气氛中，采用超绝缘电阻计(东亚电波工业公司制造的SM-8210型)，根据JIS-K6911测定其表面电阻率，并按照下述标准进行评定。
评定标准
AAA：表面电阻率低于5×1012Ω，优异。
AA：表面电阻率等于或大于5×1012Ω且低于5×1013Ω，良好。
A：表面电阻率等于或大于5×1013Ω且低于5×1014Ω，稍好。
B：表面电阻率等于或大于5×1014Ω且低于5×1016Ω，稍差。
C：表面电阻率等于或大于5×1016Ω、差。
·着色性的评定
用肉眼观察测定过表面电阻率的片材，按照下述标准进行评定。
评定标准
AA：具有与除了不使用合成高分子材料用抗静电剂以外，其它均按照相同方法制作的空白试样片相同程度的色相。
A：与空白试样片相比，有轻微着色。
B：与空白试样片相比，有明显着色。
C：与空白试样片相比，有显著着色。
·透明性的评定
用肉眼观察测定过表面电阻率的片材，按照下述标准进行评定。
评定标准
AA：具有与除了不使用合成高分子材料用抗静电剂以外，其它均按照相同方法制作的空白试样片相同程度的透明性。
A：与空白试样片相比，有轻微浑浊。
B：与空白试样片相比，有明显浑浊。
C：与空白试样片相比，有显著浑浊。
[表3]
·实施例47～69和比较例9～12
把甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯树脂(新日铁化学公司制造的商品名为MS-200)100份和表4中所示用量的合成高分子材料用抗静电剂投入到实验室用普拉斯特研磨机(ラボプラストミル)(东洋精机公司制造)中，在220℃下混炼5分钟，得到合成高分子材料组合物。用热压机(东洋精机公司制造)在220℃下对该合成高分子材料组合物进行成型，制作厚度为10mm的片材。对于该片材，采用与前述相同的方法，评定其表面电阻率、着色性和透明性。把结果汇总示于表4。
[表4]
Figure C20041008778800191

Claims (20)

1. 合成高分子材料用抗静电剂，其特征是以下述化学结构式1所示磺酸酯鏻盐为实质成分，并且以0.1～300ppm的浓度含有下述金属离子，
化学结构式1
Figure C2004100877880002C1
在化学结构式1中，
A1：碳数为1～24的烷基、碳数为4～24的烯基、苯基、具有碳数为1～18的烷基作为取代基的取代苯基、萘基或具有碳数为1～18的烷基作为取代基的取代萘基，
R1～R4：碳数为1～18的脂肪族烃基或芳香族烃基；
金属离子：从碱金属离子和碱土类金属离子中选择的一种或更多种。
2. 根据权利要求1中所述的合成高分子材料用抗静电剂，其中，化学结构式1所示的磺酸酯鏻盐的含量范围是等于或大于95重量％且小于100重量％。
3. 根据权利要求1中所述的合成高分子材料用抗静电剂，其中，化学结构式1所示的磺酸酯鏻盐的含量范围是等于或大于97重量％且小于100重量％。
4. 根据权利要求3中所述的合成高分子材料用抗静电剂，其中，以0.5～150ppm的浓度含有金属离子。
5. 根据权利要求4中所述的合成高分子材料用抗静电剂，其中，金属离子是钠离子和/或钾离子。
6. 根据权利要求5中所述的合成高分子材料用抗静电剂，其中，进一步使下述pH为4.5～7.5，
pH：对于使用水/甲醇＝50/50(重量比)的混合溶液作为稀释溶液而调制的合成高分子材料用抗静电剂的1重量％溶液，用玻璃电极在该溶液温度为25℃时进行测定而得到的pH。
7. 根据权利要求6中所述的合成高分子材料用抗静电剂，其中，化学结构式1所示的磺酸酯鏻盐中的化学结构式1中，A1为碳数为6～18的烷基、具有碳数为6～18的烷基作为取代基的取代苯基或具有碳数为2～12的烷基作为取代基的取代萘基，并且R1～R4为碳数是1～16的脂肪族烃基。
8. 根据权利要求6中所述的合成高分子材料用抗静电剂，其中，化学结构式1所示的磺酸酯鏻盐的化学结构式1中，A1是具有碳数为9～16的烷基作为取代基的取代苯基，并且R1～R4是碳数为2～5的脂肪族烃基。
9. 合成高分子材料用抗静电剂的制造方法，它是制造权利要求1中所述合成高分子材料用抗静电剂的方法，其特征在于，具有下述第1工序和第2工序，
第1工序：在水溶剂中，使下述化学结构式2所示的有机磺酸酯无机盐和下述化学结构式3所示的卤化有机鏻进行复分解反应，从水溶剂中分离含有生成的权利要求1中所述化学结构式1所示磺酸酯鏻盐的有机层的工序，
第2工序：对在第1工序中分离的有机层进行水洗处理，得到以权利要求1中所述化学结构式1所示的磺酸酯鏻盐为实质成分，并且以0.1～300ppm的浓度含有述金属离子的合成高分子材料用抗静电剂的工序，
化学结构式2
A1-SO3M
化学结构式3
Figure C2004100877880003C1
在化学结构式2和3中，
A1，R1～R4：分别与权利要求1中的化学结构式1的情况相同；
M：碱金属或碱土类金属；
X：卤原子；
金属离子：从碱金属离子以及碱土类金属离子中选择的一种或更多种。
10. 根据权利要求9中所述的合成高分子材料用抗静电剂的制造方法，其中，在第2工序中，对有机层进行水洗处理，得到在等于或大于97重量％且小于100重量％的范围含有化学结构式1所示的磺酸酯鏻盐，并且以0.5～150ppm的浓度含有金属离子的合成高分子材料用抗静电剂。
11. 根据权利要求10中所述的合成高分子材料用抗静电剂的制造方法，其中，在第2工序中，对有机层进行水洗处理，进一步得到使下述pH为4.5～7.5的合成高分子材料用抗静电剂，
pH：对于使用水/甲醇＝50/50(重量比)的混合溶液作为稀释溶液调制的合成高分子材料用抗静电剂的1重量％溶液，用玻璃电极在该溶液温度为25℃时进行测定而得到的pH。
12. 根据权利要求11中所述的合成高分子材料用抗静电剂的制造方法，其中，在第1工序中，作为有机磺酸酯无机盐，使用化学结构式2中的M为钠或钾的有机磺酸酯无机盐。
13. 根据权利要求12中所述的合成高分子材料用抗静电剂的制造方法，其中，在第1工序中，作为有机磺酸酯无机盐，使用化学结构式2中的A1为碳数是6～18的烷基、具有碳数为6～18烷基作为取代基的取代苯基或具有碳数为2～12烷基作为取代基的取代萘基的有机磺酸酯无机盐；同时作为卤化有机鏻，使用化学结构式3中的R1～R4是碳数为1～16的脂肪族烃基的卤化有机鏻。
14. 根据权利要求12中所述的合成高分子材料用抗静电剂的制造方法，其中，在第1工序中，作为有机磺酸酯无机盐，使用化学结构式2中的A1是具有碳数是9～16烷基作为取代基的取代苯基；同时作为卤化有机鏻，使用化学结构式3中的R1～R4是碳数为2～5的脂肪族烃基的卤化有机鏻。
15. 合成高分子材料组合物，其特征是相对于每100重量份合成高分子材料而言以0.1～5重量份的比率含有权利要求1中所述的合成高分子材料用抗静电剂。
16. 合成高分子材料组合物，其特征是相对于每100重量份合成高分子材料而言以0.1～5重量份的比率含有权利要求4中所述的合成高分子材料用抗静电剂。
17. 合成高分子材料组合物，其特征是相对于每100重量份合成高分子材料而言以0.1～5重量份的比率含有权利要求5中所述的合成高分子材料用抗静电剂。
18. 合成高分子材料组合物，其特征是相对于每100重量份合成高分子材料而言以0.1～5重量份的比率含有权利要求6中所述的合成高分子材料用抗静电剂。
19. 合成高分子材料组合物，其特征是相对于每100重量份合成高分子材料而言以0.1～5重量份的比率含有权利要求7中所述的合成高分子材料用抗静电剂。
20. 合成高分子材料组合物，其特征是相对于每100重量份合成高分子材料而言以0.1～5重量份的比率含有权利要求8中所述的合成高分子材料用抗静电剂。
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