CN100406959C - 聚光装置 - Google Patents
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Abstract
聚光装置具备光源(10、20)和合光元件(30)。光源(10、20)分别具有半导体激光列阵(12、22)、视准透镜(16、26)以及光束转换器(18、28)。合光元件(30)合成来自光源(10、20)的光束。通过视准透镜(16、26)的折射作用,抑制在与活性层(14、24)的排列方向垂直的面内的光束发散。通过光束转换器(18、28)使光束的横截面大致旋转90°。因此,在活性层的排列方向的光束发散被抑制,邻接的光束难以互相交叉。
Description
技术领域
本发明涉及一种增加从半导体激光列阵射出的光束的光密度的聚光装置。
背景技术
众所周知,半导体激光列阵是一种高输出的激光元件。图11是一例半导体激光列阵的立体图。如图11所示,在半导体激光列阵12中,并列排列多个活性层14。
图12A及图12B是激光列阵12的侧面图及平面图,表示从各个活性层14射出的激光光束的发散角。在这些图中,x轴、y轴以及z轴分别表示激光列阵12的纵向、水平方向以及垂直方向。此外,在这些图中,符号15表示光束的中心轴。从各个活性层射出的光束的垂直方向的发散角为30°~40°(参照图12A),水平方向的发散角为8°~10°(参照图12B)。
如果假定使用透镜等,将从半导体激光列阵射出的光束聚光在光纤等中的用途,则优选抑制光束垂直方向及水平方向各自成分的发散。其中,光束垂直方向的成分,如果使用视准透镜,则可以容易地进行视准。另一方面,抑制光束水平方向的发散不太容易。如果多个活性层14被接近配置,则从这些活性层14射出的光束很快会交叉。为了防止光束的相互交叉,也考虑有一种扩大活性层间隔的方法。但是,在这种情况下,则难以提高光密度。
发明内容
本发明的聚光装置具备第一光源、第二光源和第一合光元件。第一光源具备,具有沿着第一方向并列排列的多个活性层的第一半导体激光列阵;将从多个活性层射出的多个光束,在与第一方向垂直的面内进行视准的第一视准透镜;接受由第一视准透镜视准过的光束,并使该光束的横截面大致旋转90°的第一光束转换器。第二光源具备,具有沿着第二方向并列排列的多个活性层的第二半导体激光列阵;与第二方向垂直的面内,将从多个活性层射出的多个光束进行视准的第二视准透镜;接受由第二视准透镜视准过的光束,并使该光束的横截面大致旋转90°的第二光束转换器。这里所说的光束的横截面指实际上与该光束的轴垂直的截面。第一合光元件合成来自第一光源的光束和来自第二光源的光束。第一合光元件具有接受从第一光束转换器射出的光束并使其透过的透过部、和接受从第二光束转换器射出的光束并使其反射的反射部。第一合光元件合成从透过部透过的光束和被反射部反射的光束。透过部及反射部均呈带状,透过部及反射部的带状的长度方向分别垂直于第一方向以及第二方向。
通过视准透镜的视准作用,抑制在与活性层的排列方向垂直的面内的光束发散。如果使光束的横截面大致旋转90°,则可以抑制光束在活性层的排列方向发生发散。因此,邻接的光束难以相互交叉。这样就能够以小于500μm的间隔,相互接近设置活性层。
根据以下详细的说明及附图,可以更全面地了解本发明。附图只是例子。因此,附图并不限定本发明的内容。
本发明更为适用的范围,通过以下详细的说明则一目了然。但是,虽然该详细的说明及特定的例子表示本发明的优选实施方式,但只是实施例子。但是,对于在本发明的宗旨以及范围之内的各种变形与改变,本领域专业人员则通过该详细说明可以明白。
附图说明
图1是表示第一实施方式中聚光装置的概略立体图。
图2是表示第一实施方式中所使用的半导体激光列阵的前端面(光出射面)的图。
图3是表示第一实施方式中所使用的半导体激光列阵的活性层的前端面的图。
图4是第一实施方式中所使用的圆柱透镜的立体图。
图5是第一实施方式中所使用的光束转换器的立体图。
图6是第一实施方式中所使用的合光元件的平面图。
图7A~图7C是表示第一实施方式中光束的横截面的变化的图。
图8A~图8C是表示第一实施方式中光束的合成的图。
图9是表示第二实施方式中聚光装置的概略平面图。
图10A~图10E是第二实施方式中光束的合成示意图。
图11是半导体激光列阵的立体图。
图12A以及图12B是表示从半导体激光列阵射出的光束的发散角的图。
具体实施方式
下面参照附图,对本发明的实施方式进行详细地说明。另外,在附图说明中,对于相同的部件标注相同的符号,省略重复性说明。
第一实施方式
图1是表示本发明的第一实施方式中聚光装置的概略立体图。本实施方式的聚光装置由第一光源10、第二光源20及合光元件30构成。
第一光源10由第一半导体激光列阵12、第一视准透镜16和第一光束转换器18构成。半导体激光列阵12具有多个活性层14。视准透镜16使从各个活性层14射出的光束的垂直方向(z方向)成分折射,并对其进行视准。光束转换器18使被该视准过的光束横截面大致转动90°。
图2是表示第一半导体激光列阵12的前端面(光出射面)的图。图3是表示活性层14的前端面的图。激光列阵12的活性层14,在宽度为1cm之内,按照300μm~500μm的间隔,沿着y方向排成一列。为了简化附图,在这些图中画出5层活性层14,但实际排列有更多的活性层14。各个活性层14的截面具有100μm~200μm的宽度和1μm的厚度。从该活性层14射出的光束的发散角,如图12A及图12B所示,在活性层14的厚度方向,即垂直方向(z方向)为30°~40°,而在活性层14的厚度方向,即水平方向(y方向)为8°~10°。
图4是表示作为第一视准透镜16的一例的圆柱透镜的立体图。圆柱透镜16具有相对的入射面160和出射面161。入射面160是与x方向垂直的平面,出射面161是母线沿着y方向的圆柱面。圆柱透镜16虽然在包含母线方向的面内不具有折射作用,但是在与母线垂直的面内具有折射作用。如图4所示,母线方向,即y方向的长度为12mm,x方向的长度为0.4mm,z方向的长度为0.6mm。于是,圆柱透镜16为沿y方向的细长形状。y方向的长度为,入射面160覆盖激光列阵12的整个活性层14的程度的大小。因此,从这些活性层14射出的光束,全部入射圆柱透镜16。
如上所述,由于从活性层14射出的光束的垂直方向的发散角较大,所以,为了提高聚光效率,须要控制光束的发散角。所以,设置圆柱透镜16,使得其出射面161的母线和半导体激光列阵12的垂直方向(z方向)正交。由此,可以在垂直方向对从活性层14射出的光束进行视准,即可以在与圆柱透镜16的母线垂直的面内进行视准。为了有效地进行视准,使圆柱透镜16接近活性层14而设置。
图5是表示第一光束转换器18的一例的立体图。光束转换器18由玻璃、石英等透光性材料制成。其x方向的长度为1.5mm,y方向的长度为12mm,z方向的长度为1.5mm。光束转换器18沿着y方向呈细长形状。因此,从圆柱透镜16射出的所有光束入射光束转换器18内。光束转换器18具有相对的入射面180和出射面181。入射面180具有多个并列的斜圆柱面。各个斜圆柱面的宽度为0.5mm。这些斜圆柱面与y方向成45°角延伸。这些斜圆柱面的数量与活性层14的数量相等。换言之,这些斜圆柱面与活性层14一一对应。出射面181也同样具有多个并列且宽度为0.5mm的斜圆柱面。这些斜圆柱面也与y方向成45°角延伸,并且与活性层14一一对应。
此外,本发明所使用的光束转换器并不局限于图5所示例子。例如,光束转换器的其它例子在专利第3071360号公报中有所记载。
第二光源20具有与第一光源10相同的结构。即,第二光源20由第二半导体激光列阵22、第二圆柱透镜26和第二光束转换器28构成。第二半导体激光列阵22、第二圆柱透镜26以及第二光束转换器28,分别具有与第一半导体激光列阵12、第一圆柱透镜16以及第一光束转换器18相同的结构。因此,有关这些构件的详细说明在此省略。
第二光源20的光向与第一光源10的光向不同。具体地讲,相对第一激光列阵12具有沿着y方向并列排列的多个活性层14,第二激光列阵22具有沿着x方向并列排列的多个活性层24。第二圆柱透镜26与活性层24对应,并沿着x方向设置。第二光束转换器28也同样与活性层24对应,并沿着x方向而设置。
图6是合光元件30的平面图。合光元件30由具有交替配置的多个透过部32和多个反射部34的平板构成。透过部32及反射部34各自是尺寸相同的带状。如果更具体地讲,则透过部32及反射部34形成于由光透过部件构成的一个平板之上,并分别以沿着z方向延伸的细长条纹形状而交替并排配置。透过部32接受从第一光束转换器18射出的光束。在透过部32的表面形成光透过性薄膜。另一方面,反射部34接受从第二光束转换器28射出的光束。在反射部34的表面形成光反射性薄膜。合光元件30与从第一光源10的活性层14射出的光束的中心轴15成45°角倾斜。合光元件30与从第二光源20的活性层24射出的光束的中心轴15也成45°角倾斜。
合光元件30的表面与第一光源10相对,而合光元件30的背面与第二光源20相对。透过部32与第一光源10的活性层14一一对应。另一方面,反射部34与第二光源20的活性层24一一对应。从第一光源10射出的光束透过合光元件30的透过部32。另一方面,从第二光源20射出的光束,被合光元件30的反射部34所反射。其结果在于,这些光束在合光元件30的背面一侧沿同一方向前进。如图1所示,这些光束相互混合而成为一个合成光束91。
接下来,参照图7A~图7C以及图8A~图8C,对本实施方式的聚光装置的作用进行说明。此处,图7A是在活性层14及24上生成的激光光束出射时的横截面,即表示出射图案。图7B是从活性层14及24射出的光束通过圆柱透镜16及26之后,该光束的横截面的示意图。图7C是通过圆柱透镜16及26之后的光束,在通过光束转换器18及28之后,该光束的横截面的示意图。图8A是与从第一光源10射出并透过合光元件30的光束的中心轴15垂直的横截面的示意图。图8B是与从第二光源20射出并被合光元件30反射的光束的中心轴15垂直的横截面示意图。图8C是与来自第一光源10的光束和来自第二光源20的光束所产生的合成光束91的中心轴垂直的横截面示意图。图8A~图8C中的双点划线表示合光元件30。
如图7A所示,在经过活性层14及24而射出时,光束的断面形状接近圆形。如果该光束透过圆柱透镜16以及圆柱透镜26,则在与圆柱透镜16以及圆柱透镜26的母线方向垂直的面内受到折射作用。其结果在于,如图7B所示,光束的垂直方向成分被视准。另一方面,由于光束的水平方向成分不受折射作用,因此,光束的水平方向的发散角没有发生变化。
从活性层14射出的光束在透过第一圆柱透镜16之后,入射第一光束转换器18内。如图7C所示,光束转换器18使该光束的横截面围绕光束的中心轴15大致旋转90°。由此,在垂直方向被视准之后的光束,转换为在水平方向被视准之后的光束。其结果在于,光束在水平方向没有发散。因此,可以避免邻接的光束发生交叉。
从第二光源20的活性层24射出的光束也与第一光源相同,如果透过第二圆柱透镜26,则其垂直方向成分被视准。如果该光束透过第二光束转换器28,则被转换为在水平方向被校准之后的光束。其结果在于,由于在第二光源20内,光束在水平方向也没有发散,因此,就可以避免邻接的光束发生交叉。
从第一光束转换器18射出的光束透过合光元件30的透过部32。如图8A所示,从各个活性层14射出的光束,互不交叉地透过与其对应的透过部32。另一方面,从第二光束转换器28射出的光束,被第一合光元件30的反射部34所反射。如图8B所示,从各个活性层24射出的光束,互不交叉地被与其对应的反射部34所反射。
从透过部32透过的光束和被反射部34反射的光束形成一个合成光束91。如图8C所示,合成光束91的光密度是从第一光源10射出的光束的光密度和从第二光源20射出的光束的光密度两者相加之和。这样,光密度得以提高。
下面对本实施方式的聚光装置的效果进行说明。由于从光束转换器射出的光束在水平方向(y方向)没有发散,因此,半导体激光列阵的多个活性层即使相互接近,邻接的光束也不会交叉。由此,不仅能够以相互接近地设置活性层,还能够相应地获得较高的光密度。
第二实施方式
下面对本发明的第二实施方式进行说明。图9是本实施方式的聚光装置的概略平面图。相对于第一实施方式的由两个光源和一片合光元件构成,本实施方式由三个光源和两片合光元件构成。相对于第一实施方式的合成从两个光源射出的光束,本实施方式合成从三个光源射出的光束。
本实施方式的聚光装置由第一光源10、第二光源20、第三光源60、第一合光元件30及第二合光元件80构成。第一光源10、第二光源20以及第一合光元件30的结构及配置,参照有关第一实施方式的说明。
第三光源60由第三半导体激光列阵62、第三视准透镜66、第三光束转换器68构成。第三半导体激光列阵62具有多个活性层64。第三视准透镜66对从各个活性层64射出的光束垂直方向的成分进行视准。第三光束转换器68使该被视准过的光束的横截面大致旋转90°。第三半导体激光列阵62、第三视准透镜66以及第三光束转换器68的结构,分别与半导体激光列阵12及22、圆柱透镜16及26、以及光束转换器18及28相同。
第三光源60的光向与第二光源20的光向相同,而与第一光源10的光向不同。相对于第一半导体激光列阵12具有沿着y方向并列排列的多个活性层14,第二及第三半导体激光列阵22及62具有沿着x方向并列排列的多个活性层24及64。第三圆柱透镜66与活性层64对应而沿着x方向配置。第三光束转换器68也同样沿着x方向配置。
如在第一实施方式中所说明的,从第一光源10射出的光束,透过第一合光元件30的透过部。另一方面,从第二光源20射出的光束,被第一合光元件30的反射部所反射。其结果在于,分别从两个光源射出的光束在第一合光元件30的背面一侧沿同一方向前进。如图9所示,这些光束相互混合而形成一个合成光束91。
第二合光元件80具有与第一合光元件30相同的结构。换言之,第二合光元件80由交互排列多个透过部和多个反射部所形成的平板构成。各个透过部与各个反射部为等长度的带状。若更为具体地讲,则透过部及反射部形成于由光透过部件构成的一个平板之上,并以分别沿着z方向延伸的细长条纹形状而交互并列配置。第二合光元件80的透过部接受从第一合光元件30射出的光束91。另一方面,第二合光元件80的反射部接受从第三光束转换器68射出的光束。第二合光元件80与合成光束91的中心轴成45°角倾斜。第二合光元件80同样也与从第三光源60的活性层64射出的光束的中心轴成45°角倾斜。第二合光元件80的表面与第一合光元件30相对,第二合光元件80的背面与第三光源60相对。第二合光元件80的反射部与第三光源60的活性层64一一对应。
合成光束91透过第二合光元件80的透过部。另一方面,从第三光源60射出的光束被第二合光元件80的反射部所反射。其结果在于,这些光束分别在第二合光元件80的背面一侧沿同一方向前进。这些光束相互混合而形成一个合成光束95。
下面,参照图10A~图10E,对本实施方式中聚光装置的作用进行说明。图10A是与从第一光源10射出并透过合光元件30的光束的中心轴15垂直的横截面图。图10B是与从第二光源20射出并被合光元件30反射的光束的中心轴15垂直的横截面图。图10C是与从第三光源60射出并被合光元件80反射的光束的中心轴15垂直的横截面图。图10D是与由来自第一光源10的光束和来自第二光源20的光束所合成光束91的中心轴垂直的横截面图。图10E是与由合成光束91和从第三光源60射出的光束所合成光束95的中心轴垂直的横截面图。图10A~图10E中双点划线表示合光元件30及80。
如图7A所示,在光束从活性层14、24及64射出时,光束的断面形状接近圆形。如果该光束透过各个圆柱透镜16、26及66,则在与圆柱透镜16、26及66的母线方向垂直的面内受到折射作用。其结果在于,如图7B所示,光束的垂直方向成分被视准。另一方面,由于光束的水平方向成分不受折射作用,因此,光束在水平方向的发散角没有变化。
透过圆柱透镜16、26及66的光束,入射光束转换器18、28及68内。如图7C所示,光束转换器18、28及68,使其光束的横截面围绕光束中心轴大致旋转90°。由此,在垂直方向被视准过的光束,转换为在水平方向被视准过的光束。其结果在于,光束在水平方向没有发散。因此,可以避免邻接的光束发生交叉。
从第一光源10的光束转换器18射出的光束透过第一合光元件30的透过部32。如图10A所示,从各个活性层14射出的光束以互不交叉的方式透过与其对应的透过部32。从第二光源20的光束转换器28射出的光束,被第一合光元件30的反射部34所反射。如图10B所示,从各个活性层24射出的光束以互不交叉的方式被与其对应的反射部34所反射。
从透过部32透过的光束和被反射部34所反射的光束,形成一个合成光束91。如图10D所示,合成光束的光密度是从第一光源10射出的光束的光密度和从第二光源20射出的光束的光密度两者相加之和。
通过第一合光元件30而形成的合成光束91透过第二合光元件80的透过部。另一方面,从第三光源60的光束转换器68射出的光束被第二合光元件80的反射部反射。如图10C所示,从各个活性层64射出的光束以互不交叉的方式被与其对应的反射部反射。
透过合光元件80的透过部的合成光束91和被合光元件80的反射部反射的光束,形成一个合成光束95。如图10E所示,合成光束95的光密度是在来自第一光源10的光束的光密度和来自第二光源20的光束的光密度两者之和基础上,再与来自第三光源60的光束的光密度相加而求得。由此,光密度变得非常高。
下面对本实施方式的聚光装置的效果进行说明。由于从光束转换器射出的光束在水平方向(y方向)没有发散,因此,即使半导体激光列阵的多个活性层相互接近,邻接的光束也不会交叉。由此,不仅能够在合成来自三个光源的光束的同时以相互接近的方式设置活性层,还可以相应地获得非常高的光密度。
以上根据其实施方式对本发明进行了详细的说明。但是,本发明并非局限于上述实施方式。在不脱离其主旨的范围之内,本发明可以进行各种形式的改变。
在上述实施方式中,列举有圆柱透镜作为一例视准透镜,除此之外,还可以使用玻璃纤维透镜、自聚焦透镜(SELFOC Lens)等。此外,本发明也可以是使用四个以上光源的聚光装置。
在第二实施方式中,使合成光束91透过第二合光元件80,并且从第三光源60射出的光束被第二合光元件80反射,从而形成合成光束95。除此之外,也可以使从第三光源60射出的光束透过第二合光元件80,并且合成光束91被第二合光元件80反射,从而形成合成光束95。在这种情况下,第二合光元件80的透过部接受从第三光束转换器68射出的光束。此外,第二合光元件80的反射部接受合成光束91。第二合光元件80的透过部与半导体激光列阵62的活性层64一一对应。
本发明的聚光装置在使用视准透镜将从半导体激光列阵射出的光束进行视准之后,通过光束转换器使光束的横截面大致旋转90°。由此,可以抑制光束在活性层排列方向上的发散,避免邻接的光束交叉。因此,本发明的聚光装置可以优选适用于需要较高光密度的固体激光激励、印刷、材料加工或者医疗领域。
Claims (9)
1.一种聚光装置,具备第一光源、第二光源以及合成来自所述第一光源的光束和来自所述第二光源的光束的第一合光元件,其特征在于,
所述第一光源具备:具有沿着第一方向并列排列的多个活性层的第一半导体激光列阵;在与所述第一方向垂直的面内,对从所述多个活性层射出的多个光束进行视准的第一视准透镜;接受被所述第一视准透镜视准过的光束,并使该光束的横截面大致旋转90°的第一光束转换器,
所述第二光源具备:具有沿着第二方向并列排列的多个活性层的第二半导体激光列阵;在与所述第二方向垂直的面内,对从所述多个活性层射出的多个光束进行视准的第二视准透镜;接受被所述第二视准透镜视准过的光束,并使该光束的横截面大致旋转90°的第二光束转换器,
所述第一合光元件具有接受从所述第一光束转换器射出的光束并使其透过的透过部、和接受从所述第二光束转换器射出的光束并使其反射的反射部,并且合成透过所述透过部的光束和被所述反射部反射的光束,
所述透过部及所述反射部均呈带状,
所述透过部及所述反射部的带状的长度方向,分别垂直于所述第一方向以及所述第二方向。
2.如权利要求1所述的聚光装置,其特征在于,
所述多个活性层被以500μm以下的间隔排列。
3.如权利要求1或2所述的聚光装置,其特征在于,
所述第一合光元件具有与所述第一光源的活性层一一对应的多个所述透过部、和与所述第二光源的活性层一一对应的多个所述反射部,
所述第一合光元件为具有交互设置的所述透过部及所述反射部的平板。
4.如权利要求3所述的聚光装置,其特征在于,
所述第一合光元件与从第一光源的活性层射出的光束以及从第二光源的活性层射出的光束二者的中心轴成45°角倾斜,
所述第一合光元件的表面与所述第一光源相对,
所述第一合光元件的背面与所述第二光源相对。
5.如权利要求1或2所述的聚光装置,还具有第三光源和第二合光元件,其特征在于,
所述第三光源具备:具有沿着第三方向并列排列的多个活性层的第三半导体激光列阵;在与所述第三方向垂直的面内,对从所述多个活性层射出的多个光束进行视准的第三视准透镜;接受被所述第三视准透镜视准过的光束,并使该光束的横截面大致旋转90°的第三光束转换器,
所述第二合光元件具有接受由所述第一合光元件合成的光束并使其透过的透过部、和接受从所述第三光束转换器射出的光束并使其反射的反射部,并且合成从所述透过部透过的光束和被所述反射部反射的光束。
6.如权利要求5所述的聚光装置,其特征在于,
所述第二合光元件具有与所述第三光源的活性层一一对应的多个所述反射部,
所述透过部及所述反射部均为带状,
所述第二合光元件为具有交互设置的所述透过部和所述反射部的平板。
7.如权利要求1或2所述的聚光装置,还具有第三光源和第二合光元件,其特征在于,
所述第三光源具备:具有沿着第三方向并列排列的多个活性层的第三半导体激光列阵;在与所述第三方向垂直的面内,对从所述多个活性层射出的多个光束进行视准的第三视准透镜;接受被所述第三视准透镜视准过的光束,并使该光束的横截面大致旋转90°的第三光束转换器,
所述第二合光元件具有接受从所述第三光束转换器射出的光束并使其透过的透过部、和接受由所述第一合光元件合成的光束并使其反射的反射部,并且合成从所述透过部透过的光束和被所述反射部反射的光束。
8.如权利要求7所述的聚光装置,其特征在于,
所述第二合光元件具有与所述第三光源的活性层一一对应的多个所述透过部,
所述透过部及所述反射部均为带状,
所述第二合光元件为具有交互设置的所述透过部和所述反射部的平板。
9.如权利要求6或8所述的聚光装置,其特征在于,
所述第二合光元件与由所述第一合光元件合成的光束和从第三光源的活性层射出的光束二者的中心轴成45°角倾斜,
所述第二合光元件的表面与所述第一合光元件相对,
所述第二合光元件的背面与所述第三光源相对。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP230279/2002 | 2002-08-07 | ||
JP2002230279A JP4264231B2 (ja) | 2002-08-07 | 2002-08-07 | 集光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1672083A CN1672083A (zh) | 2005-09-21 |
CN100406959C true CN100406959C (zh) | 2008-07-30 |
Family
ID=31711677
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN038174774A Expired - Fee Related CN100406959C (zh) | 2002-08-07 | 2003-08-07 | 聚光装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7489447B2 (zh) |
JP (1) | JP4264231B2 (zh) |
CN (1) | CN100406959C (zh) |
AU (1) | AU2003254872A1 (zh) |
DE (1) | DE10393024T5 (zh) |
WO (1) | WO2004015478A1 (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102809822A (zh) * | 2012-08-22 | 2012-12-05 | 温州泛波激光有限公司 | 一种激光二极管阵列的光束耦合聚焦装置 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4040934B2 (ja) * | 2002-08-30 | 2008-01-30 | 浜松ホトニクス株式会社 | 集光装置 |
WO2009137703A2 (en) * | 2008-05-08 | 2009-11-12 | Newport Corporation | High brightness diode output methods and devices |
US7936799B2 (en) * | 2008-10-27 | 2011-05-03 | Trumpf Photonics Inc. | Interleaving laser beams |
US8345724B2 (en) * | 2008-10-27 | 2013-01-01 | Trumpf Photonics Inc. | Laser beam interleaving |
CN101916964A (zh) * | 2010-08-05 | 2010-12-15 | 中国兵器工业第二〇五研究所 | 大功率半导体激光器光束偏振合成装置 |
CN102297389A (zh) * | 2011-05-16 | 2011-12-28 | 深圳市光峰光电技术有限公司 | 激光阵列合光模组 |
CN102928940A (zh) * | 2011-08-11 | 2013-02-13 | 中强光电股份有限公司 | 光学投影系统及其镜片调整装置 |
CN102324697A (zh) * | 2011-09-22 | 2012-01-18 | 西安炬光科技有限公司 | 半导体激光器插空排列合束方法及高功率半导体激光器 |
WO2016063436A1 (ja) * | 2014-10-22 | 2016-04-28 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | レーザモジュール |
JP2017215570A (ja) * | 2016-05-26 | 2017-12-07 | セイコーエプソン株式会社 | 光源装置およびプロジェクター |
JPWO2018037663A1 (ja) * | 2016-08-26 | 2019-06-20 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | レーザモジュール |
US10177526B1 (en) * | 2017-11-30 | 2019-01-08 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Efficient wavelength combining of multiple laser arrays |
JP7155526B2 (ja) * | 2018-01-24 | 2022-10-19 | 株式会社デンソー | ライダー装置 |
JP7174251B2 (ja) | 2019-03-22 | 2022-11-17 | 日亜化学工業株式会社 | 光源装置および光学エンジン |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07287189A (ja) * | 1994-04-18 | 1995-10-31 | Nippon Steel Corp | 光路変換器およびそれを用いたレーザ装置 |
JPH1172743A (ja) * | 1997-08-27 | 1999-03-16 | Hamamatsu Photonics Kk | 集光装置 |
WO2001006297A2 (en) * | 1999-07-15 | 2001-01-25 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for combining light output from multiple laser diode bars |
DE19939750A1 (de) * | 1999-08-21 | 2001-03-29 | Laserline Ges Fuer Entwicklung | Optische Anordnung zur Verwendung bei einer Laserdiodenanordnung sowie Laserdiodenanordnung mit einer solchen optischen Anordnung |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07117668B2 (ja) * | 1988-12-28 | 1995-12-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 光増幅装置 |
US5212710A (en) * | 1990-07-19 | 1993-05-18 | Sony Corporation | Laser light beam synthesizing apparatus |
US5513201A (en) * | 1993-04-30 | 1996-04-30 | Nippon Steel Corporation | Optical path rotating device used with linear array laser diode and laser apparatus applied therewith |
JP3071360B2 (ja) | 1993-04-30 | 2000-07-31 | 新日本製鐵株式会社 | リニアアレイレーザダイオードに用いる光路変換器及びそれを用いたレーザ装置及びその製造方法 |
US5619245A (en) | 1994-07-29 | 1997-04-08 | Eastman Kodak Company | Multi-beam optical system using lenslet arrays in laser multi-beam printers and recorders |
DE19537265C1 (de) | 1995-10-06 | 1997-02-27 | Jenoptik Jena Gmbh | Anordnung zur Zusammenführung und Formung der Strahlung mehrerer Laserdiodenzeilen |
JPH09181376A (ja) | 1995-12-26 | 1997-07-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 固体レーザ励起用半導体レーザ及びその製造方法 |
DE19751716C2 (de) | 1996-11-25 | 2002-06-20 | Fraunhofer Ges Forschung | Anordnung zur Formung und Führung von Strahlung |
EP1062538B1 (de) | 1998-03-10 | 2003-08-27 | Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs GmbH & Co.KG | Ablenkvorrichtung für elektromagnetische strahlen oder strahlbündel im optischen spektralbereich |
JP4295870B2 (ja) | 1999-09-14 | 2009-07-15 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ装置 |
JP4347467B2 (ja) | 1999-10-06 | 2009-10-21 | 浜松ホトニクス株式会社 | 集光装置 |
DE19948889C1 (de) * | 1999-10-11 | 2001-06-07 | Unique M O D E Ag | Vorrichtung zur Symmetrierung der Strahlung von linearen optischen Emittern und Verwendung der Vorrichtung |
JP2001215443A (ja) | 2000-02-04 | 2001-08-10 | Hamamatsu Photonics Kk | 光学装置 |
DE10018043A1 (de) | 2000-04-07 | 2001-10-11 | Jenoptik Jena Gmbh | Verfahren zur Kontaktierung eines Hochleistungsdiodenlaserbarrens und eine Hochleistungsdiodenlaserbarren-Kontakt-Anordnung von elektrischen Kontakten thermisch untergeordneter Funktion |
EP1376198A4 (en) | 2001-03-26 | 2006-05-10 | Hamamatsu Photonics Kk | SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT |
US7010194B2 (en) * | 2002-10-07 | 2006-03-07 | Coherent, Inc. | Method and apparatus for coupling radiation from a stack of diode-laser bars into a single-core optical fiber |
US7006549B2 (en) * | 2003-06-11 | 2006-02-28 | Coherent, Inc. | Apparatus for reducing spacing of beams delivered by stacked diode-laser bars |
-
2002
- 2002-08-07 JP JP2002230279A patent/JP4264231B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-08-07 CN CN038174774A patent/CN100406959C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-08-07 US US10/523,634 patent/US7489447B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-08-07 WO PCT/JP2003/010089 patent/WO2004015478A1/ja active Application Filing
- 2003-08-07 AU AU2003254872A patent/AU2003254872A1/en not_active Abandoned
- 2003-08-07 DE DE10393024T patent/DE10393024T5/de not_active Withdrawn
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07287189A (ja) * | 1994-04-18 | 1995-10-31 | Nippon Steel Corp | 光路変換器およびそれを用いたレーザ装置 |
JPH1172743A (ja) * | 1997-08-27 | 1999-03-16 | Hamamatsu Photonics Kk | 集光装置 |
WO2001006297A2 (en) * | 1999-07-15 | 2001-01-25 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for combining light output from multiple laser diode bars |
DE19939750A1 (de) * | 1999-08-21 | 2001-03-29 | Laserline Ges Fuer Entwicklung | Optische Anordnung zur Verwendung bei einer Laserdiodenanordnung sowie Laserdiodenanordnung mit einer solchen optischen Anordnung |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102809822A (zh) * | 2012-08-22 | 2012-12-05 | 温州泛波激光有限公司 | 一种激光二极管阵列的光束耦合聚焦装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004070072A (ja) | 2004-03-04 |
WO2004015478A1 (ja) | 2004-02-19 |
JP4264231B2 (ja) | 2009-05-13 |
US7489447B2 (en) | 2009-02-10 |
AU2003254872A1 (en) | 2004-02-25 |
CN1672083A (zh) | 2005-09-21 |
DE10393024T5 (de) | 2005-08-25 |
US20060103939A1 (en) | 2006-05-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20080730 Termination date: 20130807 |