CH451638A - Procédé pour le dépôt de métaux réfractaires par voie électrolytique - Google Patents

Procédé pour le dépôt de métaux réfractaires par voie électrolytique

Info

Publication number
CH451638A
CH451638A CH91665A CH91665A CH451638A CH 451638 A CH451638 A CH 451638A CH 91665 A CH91665 A CH 91665A CH 91665 A CH91665 A CH 91665A CH 451638 A CH451638 A CH 451638A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
fluoride
sep
metal
tungsten
deposited
Prior art date
Application number
CH91665A
Other languages
English (en)
Inventor
Wharton Mellors Geoffrey
Senderoff Seymour
Original Assignee
Union Carbide Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Union Carbide Corp filed Critical Union Carbide Corp
Publication of CH451638A publication Critical patent/CH451638A/fr

Links

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A43FOOTWEAR
    • A43BCHARACTERISTIC FEATURES OF FOOTWEAR; PARTS OF FOOTWEAR
    • A43B15/00Welts for footwear
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25CPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C3/00Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts
    • C25C3/26Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts of titanium, zirconium, hafnium, tantalum or vanadium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25CPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C3/00Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts
    • C25C3/32Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts of chromium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25CPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C3/00Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts
    • C25C3/34Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts of metals not provided for in groups C25C3/02 - C25C3/32
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
    • C25D3/14Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt from baths containing acetylenic or heterocyclic compounds
    • C25D3/16Acetylenic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/66Electroplating: Baths therefor from melts

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)

Description


  Procédé     pour    le dépôt de métaux     réfractaires    par voie     électrolytique       La présente invention se rapporte d'une     manière     générale au dépôt par voie     électrolytique    de métaux, et  plus particulièrement au dépôt électrolytique de revête  ments denses, à grain fin et de structure cohérente, de  molybdène et de tungstène.  



  Le brevet No 425392 a pour objet un procédé pour  la production de dépôts     denses,    de structure cohérente,  de zirconium, de hafnium, de vanadium, de niobium, de  tantale, de chrome, de molybdène ou de tungstène, purs  ou alliés, par électrolyse, à l'aide d'une anode et d'un  support électriquement conducteur comme cathode, d'un  électrolyte en fusion ne contenant pas de chlorures, de  bromures et d'oxydes en concentration appréciable et  consistant essentiellement en: (a) une masse de base  composée d'au moins un fluorure de potassium, de ru  bidium ou de césium et d'au moins un fluorure d'autres  éléments supérieurs, dans la série électromotrice, au mé  tal à déposer; et (b) au moins un fluorure de chaque  métal à déposer.  



  On a découvert que le dépôt par voie     électrolytique     de molybdène et de tungstène ne nécessite     pas    un bain  d'électrolyse ignée à trois composants, et qu'un système  à deux composants     suffit.     



  En plus d'être plus économique, un tel bain a pour  avantage qu'il contient moins de constituants sur     les-          quels    un ouvrier doit être     informé.     



  La présente invention a pour objet un procédé pour  la production de dépôts denses, de structure cohérente,  de molybdène ou de tungstène pur ou d'un alliage ou  composé de ces métaux. Ce procédé est     caractérisé    en  ce que l'on électrolyse un électrolyte en fusion, pratique  ment exempt de chlorures, de bromures et d'oxydes, et  consistant essentiellement en  a) une masse de base comprenant au moins un fluorure  d'au moins un élément supérieur, dans la série élec  tromotrice, au métal à déposer, et  b) au moins un fluorure du métal à déposer.    Les facteurs interdépendants qui doivent être ajustés  pour que le dépôt soit dense et cohérent sont les pro  portions des différents fluorures dans la masse ignée, la  densité du courant électrolysant et la température de la  masse ignée.

   Bien que des exemples soient donnés pour  chacun de ces facteurs dans la suite de     cet    exposé, il est  entendu que les limites dans lesquelles chacun de ces       facteurs    doit être compris dépendent toujours dans     une     certaine mesure des valeurs particulières des autres fac  teurs interdépendants et du métal à déposer. Cependant,  ces limites peuvent être facilement déterminées pour tout  système électrolytique donné en ajustant simplement une  ou plusieurs des variables et en observant la nature du  dépôt     résultant.     



  On a fait la découverte surprenante que le fait de  déposer     électro:lytiquement    ces métaux à partir du bain  décrit ci-dessus, composés uniquement de fluorures, per  met d'obvier à toutes les     insuffisances    et à tous les incon  vénients susmentionnés de la technique connue. En plus  de produire des dépôts denses, à grain fin, de structure  cohérente et     ductiles,    avec un bon pouvoir de pénétra  tion, le présent procédé peut     servir    à     l'électro-extraction     des métaux, c'est-à-dire à l'extraction des     métaux    des  sels en fusion par électrolyse de ces derniers.  



  Il est important que l'électrolyte en fusion employé       dans        la    présente invention ne contienne que des     fluo-          rures.    Si d'autres anions, tels que chlorures, bromures  ou oxydes, constituent plus que des impuretés minimes,  le métal déposé est sous forme d'une poudre ou de den  drites.  



       Parmi    les fluorures. métalliques utilisables comme  constituants de la masse de base fondue, on peut citer le  fluorure de lithium, le fluorure de sodium, le fluorure de  calcium, et les mélanges de deux ou plusieurs de ces  fluorures. La     masse    de base consistant en 60 moles % de       LiF    et 40 moles % de     NaF,    qui a un point de fusion de      652e C et qui correspond à la     composition    eutectique des  fluorures de lithium et de sodium, est une masse de base       préférée,    utilisable pour former des dépôts de l'un quel  conque des métaux,     alliages    et composés envisagés.  



  La concentration du fluorure de métal à déposer dans  l'électrolyte en fusion dépend de la composition de la  masse de base. de la température, de la densité de cou  rant et du métal particulier à déposer. Dans le cas du  dépôt du tungstène, le bain contient un     fluorure    simple  ou complexe de tungstène, de préférence en concentra  tion telle que la teneur en tungstène soit de 0,5 à 10 % en  poids, de préférence de 1 à 5 % en poids. Dans le cas du  molybdène, le bain contient du fluorure simple ou com  plexe de molybdène, de préférence en concentration telle  que la teneur en molybdène soit de 1 à 12 % en poids,  de préférence de 2 à 8 % en poids.  



  Le fluorure de métal employé peut être simple ou  complexe,     mais    dans le cas d'un fluorure complexe, son       cation    doit être supérieur au métal à déposer,     dans    la  série électromotrice, et son anion ne doit pas contenir  d'oxygène. Parmi les fluorures métalliques les plus repré  sentatifs, on peut citer les fluorures simples, comme par  exemple     l'hexafluorure    de tungstène, et les     fluorures          complexes    tels que     l'hexafluomolybdate    (I11) de potas  sium.

   Lorsque la solubilité du fluorure métallique     em-          polyé    est très faible, il peut être fixé dans le bain par  réduction par le métal approprié. Par exemple, il est  préférable de placer du tungstène ou du molybdène  métallique dans le bain d'électrolyse, puis d'introduire de       l'hexafluorure    de tungstène ou de     l'hexafluorure    de mo  lybdène gazeux qui sont très peu solubles, en les fai  sant barboter dans le bain à travers un tube de graphite,  de tungstène ou de molybdène.

   Le tungstène ou le     molyb-          dène    métallique réduit     l'hexafluorure    gazeux en un     fluo-          rure    plus soluble, à partir duquel le tungstène ou le  molybdène se dépose     électrolytiquement.     



  Ce procédé dépose le métal à     partir    d'états de valen  ce inférieurs à l'état stable supérieur, c'est-à-dire 3 +  pour le molybdène et 4 + pour le tungstène. Ainsi, un  composé du métal, dans l'état de valence inférieure ap  proprié, peut être préparé à l'extérieur et ajouté au bain  d'électrolyse. On peut également     réduire    l'ion métallique        <  <     in situ   dans le bain.

   Dans le cas de     l'hexafluorure    de  tungstène, il est préférable de réduire le tungstène jus  qu'à un état de valence inférieur en mettant en contact  de     l'hexafluorure    de tungstène gazeux avec du tungstène  métallique dans le bain, la     réduction    étant complétée par  l'électrolyse.  



  L'électrolyse est de     préférence    effectuée dans une  atmosphère inerte, non oxydante, par exemple une at  mosphère d'argon, de néon ou d'hélium, ou sous vide.       Lorsqu'un    gaz inerte est employé, il peut être à une pres  sion supérieure ou inférieure à la pression atmosphé  rique, à condition d'être pratiquement     inerte    vis-à-vis de  la masse en fusion et du métal. Le récipient contenant le  bain peut être formé de     n'importe    quelle matière qui  n'affecte pas défavorablement la masse fondue ou le  métal déposé et qui n'est pas attaquée par le bain pen  dant l'électrolyse.  



  Les limites de température et de densité de courant  d'électrolyse dépendent de la composition du bain fondu  et du métal à déposer. En outre, la limite supérieure de  la densité de courant diminue généralement avec la con  centration dans la masse fondue du     fluorure    de métal  à déposer. Bien entendu, la température de l'électrolyte  doit toujours être supérieure à son point de fusion.

   Plus    précisément, le     molybdène        peut    être déposé avec une  densité de courant cathodique de 150     mA/cm2,    de pré  férence de 10 à 100     mA/cm2,    et à une température de  675 à 9000 C, de préférence de 730 à     8001>    C et le tung  stène avec 5 à 100     mA/cm2,    de préférence 10 à 50       mA/cm2    et à une température de 675 à 900  C, de pré  férence de 750 à 8500 C.  



  Le support (cathode) peut être composé de matières  et alliages électriquement conducteurs très divers. La  matière du support ne doit toutefois pas réagir par trop  avec le bain fondu et doit avoir un point de fusion supé  rieur à la température de travail, par exemple des dé  pôts satisfaisants sont obtenus sur l'acier inoxydable, le  graphite, le nickel et le cuivre. Dans certains     cas,    il peut  être désirable de soumettre la matière du support à un  traitement préalable, par exemple d'oxydation anodique.

    Le choix d'une matière particulière pour le support et le  traitement     préalable    qu'on lui fait subir dépendent de  plusieurs facteurs, parmi lesquels on peut mentionner le  type du métal à déposer, la géométrie de l'article à  revêtir et les tolérances de dimensions imposées pour       l'article    revêtu. Dans les opérations à grande échelle,  lorsque le métal déposé doit être séparé du     support,    des  supports     réutilisables    sont préférés.  



  La source du métal à déposer peut être soit l'anode,  soit l'électrolyte fondu, et le type d'anode     utilisé    est dif  férent suivant que l'anode ou l'électrolyte en fusion cons  titue la source de métal. Lorsque c'est l'anode qui est la  source, le tungstène ou le molybdène peut être déposé  au moyen d'une anode soluble composée, en tout ou  en     partie,    du métal à déposer. La matière de l'anode  peut être sous forme de tiges, de plaques, de rondelles,  de fragments ou autres     particules    séparées du métal à  déposer.

   Lorsque la matière d'anode est sous forme de  particules, ces dernières peuvent être maintenues en       place    au moyen d'une grille, par exemple en     carbone.     Lorsque l'anode est la source, la tension appliquée entre  la     cathode    et l'anode peut être inférieure au potentiel de       décomposition    de l'électrolyte.  



  Lorsque l'électrolyte est la source du métal à déposer       (électro-extraction),    une anode soluble ou gazeuse peut  être employée. L'anode soluble peut contenir un ou plu  sieurs des métaux actifs lithium, sodium, potassium,  magnésium, calcium et aluminium.  



  Dans ces     cas,    il n'est pas nécessaire que la tension  appliquée soit aussi élevée que le potentiel de décom  position de l'électrolyte, mais il suffit qu'elle soit assez  élevée pour     surmonter    la     résistance    de l'électrolyte et la  très faible     polarisation    de l'électrode.

   Lorsqu'une anode  de métal actif est utilisée, l'électrolyte est progressive  ment dilué par le fluorure de métal actif formé sur l'ano  de et par le dépôt du métal réfractaire sur la cathode;  il est donc préférable, lorsqu'on travaille en continu, de  faire circuler     l'électrolyte    à travers un poste extérieur  dans lequel le fluorure de métal actif est retiré et du     fluo-          rure    du métal à déposer est ajouté.  



  L'anode d'hydrogène gazeux est généralement préfé  rée pour     l'électro-extraction,        car    elle     permet    d'éviter la  manutention des métaux actifs et le produit anodique  (acide fluorhydrique) s'échappe de l'électrolyte sous       forme    de bulles. L'anode d'hydrogène est également pré  férée à l'anode insoluble, du fait que (a) cette dernière  oxyderait l'électrolyte en fusion à moins qu'un diaphrag  me approprié ne soit utilisé et (b) le produit anodique  est l'acide fluorhydrique, qui est moins corrosif que le  fluor gazeux produit sur l'anode insoluble.

             Comme    la concentration du fluorure du métal à  déposer     diminue    pendant     l'électro-extraction,    l'électroly  te fondu doit être réapprovisionné en fluorure du métal  à déposer afin que la concentration de ce fluorure dans  l'électrolyte soit continuellement maintenue dans les li  mites voulues.  



  Les dépôts métalliques produits par ce procédé ont  une     densité    d'au moins 98 % de la densité théorique du       métal    déposé et sont pratiquement exempts d'impuretés  non métalliques. Il ne semble n'y avoir aucune     limite    à  l'épaisseur des dépôts qui peuvent être produits par ce  procédé, et des revêtements denses et     cohérents    de plus  de 6,3 mm d'épaisseur ont été obtenus. L'un des avan  tages de ce     procédé    est qu'il permet la production de  lamelles métalliques.

   Dans le sens donné ici à     cette    ex  pression, une lamelle métallique se     distingue    d'une pel  licule par le fait qu'elle est     capable    de conserver une  forme     structuralement    cohérente en     l'absence    d'un sup  port, alors qu'une pellicule est incapable de conserver  une forme     structuralement    cohérente en l'absence d'un  support.  



  Le procédé selon l'invention peut être utilisé pour       l'électroraffinage    de l'un ou l'autre des     métaux    visés. A  cet     effet,    on forme une anode à partir de     composés    ou       d'alliages    dans lesquels l'un de ces métaux constitue l'un  des composants principaux, on place l'anode dans le  bain décrit ci-dessus, contenant un fluorure de ce métal,  et le métal pur se dépose sur la     cathode.    Ce procédé est  également utilisable pour séparer les métaux l'un de  l'autre.

     Le procédé selon l'invention peut également être em  ployé     poux        former    des revêtements électrolytiques des  métaux visés sur un support de toute forme désirée. En  raison de son pouvoir de     pénétration    remarquable, ce  procédé est spécialement utile pour le dépôt du métal sur  des supports de forme compliquée ou sur des     surfaces     internes.

   Lorsque le support est nettoyé conformément  aux méthodes recommandées dans       Recommended          Practices    for     thé    Préparation of     Metals    for     Electropla-          ting        Adopted        by        Committee    B-8     A.S.T.M.     ,     ce    procédé  forme un dépôt métallique qui est lié au support par des  forces d'attraction     atomique.    Chaque atome initialement  déposé du revêtement est en contact intime avec les  atomes de     la    surface du support.

   Contrairement à la  liaison atomique     réalisée    grâce à l'invention, la liaison       réalisée    avec un     placage    par laminage n'est assurée que  par des moyens     mécaniques,    en sorte que, à l'échelle       moléculaire,    il n'y a que des points de contact isolés.  



  Le présent procédé peut également servir à     l'élec-          troformage    d'articles de toutes formes désirées. La ma  nière dont     l'article        électroformé    est séparé du support  dépend de     la,    nature de la matière du support, de la  forme de l'article formé et de l'éventualité d'une     réutili-          sation    du support. Par exemple, un support de nickel  peut être dissous dans de l'acide nitrique ou enlevé       mécaniquement    par     burinage    ou perçage. Un support  de graphite est particulièrement facile à enlever méca  niquement par burinage ou perçage.  



  Le procédé selon     l'invention    peut être employé non  seulement pour     déposer    les     métaux    purs, mais également  pour déposer divers alliages ou composés des métaux  visés. A cet effet, on peut introduire dans la masse fon  due les     fluorures    respectifs des éléments requis pour for  mer les alliages ou composés désirés, ou on peut em  ployer des anodes secondaires composées des matières  désirées.

      <I>Exemple 1</I>  De     l'hexafluorure    de tungstène gazeux     (WF6)    a été  introduit, à travers un tube de barbotage en graphique  dans une masse de base en fusion, consistant en la com  position     eutectique    des fluorures de sodium et de lithium  et contenant du tungstène     métallique.    Après que le com  posé de tungstène réduit, plus soluble, se soit formé, une       cathode    et une anode de tungstène ont été     placées    dans  le bain et le système a été électrolysé. Les conditions de  l'électrolyse, y compris la valence moyenne du tungstène  dans le bain, sont indiquées dans le tableau I.

    
EMI0003.0062     
  
    <I>Tableau <SEP> 1</I>
<tb>  Température <SEP> % <SEP> en <SEP> poids <SEP> Valence <SEP> D:C.C.*
<tb>  oc <SEP> de <SEP> W <SEP> moyenne <SEP> mA/cm2
<tb>  750 <SEP> 10,0 <SEP> 4,2 <SEP> 30
<tb>  700 <SEP> 7,6 <SEP> 4,2 <SEP> 20
<tb>  750 <SEP> 5,8 <SEP> 4,2 <SEP> 10
<tb>  750 <SEP> 0,6 <SEP> 4,2 <SEP> 50
<tb>  750 <SEP> 5,31 <SEP> 4,08 <SEP> 5
<tb>  750 <SEP> 5,3<B>1</B> <SEP> 4,08 <SEP> 100            *    Densité de courant à la cathode.    Dans chaque     cas,    la densité du dépôt de métal s'est  élevée à 19,3     g/cm3    (la densité théorique du tungstène),  et le dépôt avait une structure cohérente et ne contenait  pas d'impuretés en quantité dépassant des traces. L'élec  trolyse a été effectuée dans une atmosphère inerte d'ar  gon.

      <I>Exemple 2</I>    De     l'hexafluorure    de     malybdène    gazeux     (MoF6)    a  été introduit à travers un tube de barbotage en graphite,  dans une masse de base en fusion consistant en la com  position eutectique des fluorures de sodium et de lithium  et contenant du molybdène métallique. Le     MoF6    gazeux  a réagi avec le molybdène métallique, qui l'a réduit en  un fluorure de molybdène plus soluble. Le système a été  ensuite électrolysé dans les conditions indiquées dans le  tableau II.

    
EMI0003.0070     
  
    <I>Tableau <SEP> 11</I>
<tb>  Température <SEP> en <SEP> poids <SEP> D.C.C.
<tb>  OC <SEP> de <SEP> Mo <SEP> mA/cm2
<tb>  730 <SEP> 2 <SEP> 100
<tb>  770 <SEP> 2 <SEP> 20
<tb>  770 <SEP> 2 <SEP> 60
<tb>  770 <SEP> 2 <SEP> 150
<tb>  825 <SEP> 2 <SEP> <B>100</B>
<tb>  730 <SEP> 8 <SEP> 30
<tb>  730 <SEP> 8 <SEP> 150
<tb>  770 <SEP> 8 <SEP> 30
<tb>  770 <SEP> 8 <SEP> 200
<tb>  825 <SEP> 8 <SEP> 30
<tb>  825 <SEP> 8 <SEP> 250       Dans chaque cas, la valence moyenne du molybdène  dans l'électrolyte en fusion pendant l'électrolyse a été      approximativement de 3. Chacun des dépôts métalliques  a présenté une densité de 10,2     g/cm3    (densité théorique  du molybdène) et une structure cohérente, et n'a pas  contenu d'impuretés en quantité dépassant des traces.

    L'électrolyse a été effectuée dans une atmosphère inerte  d'argon.  



  <I>Exemple 3</I>  En procédant comme décrit dans l'exemple 1, on  peut déposer du tungstène pur en introduisant de     l'hexa-          fluorure    de tungstène gazeux dans une masse de base en  fusion comprenant 37 moles % de fluorure de sodium,  53 moles % de fluorure de lithium et 10 moles % de     fluo-          rure    de     calcium    et contenant du tungstène métallique, et  en électrolysant ce système après formation du composé  réduit ayant une plus     forte    solubilité.  



  Il a été constaté que la masse de base fluorure de       sodium-fluorure    de lithium convient particulièrement au  procédé selon l'invention du fait qu'elle est relativement  non hygroscopique et que, par conséquent, des électro  lytes plus purs peuvent être préparés.

Claims (1)

  1. REVENDICATION Procédé pour la production de dépôts denses de structure cohérente, de molybdène ou de tungstène pur ou d'un alliage ou composé de ces métaux, caractérisé en ce que l'on électrolyse un électrolyte en fusion, pra tiquement exempt de chlorures, de bromures et d'oxydes, et consistant essentiellement en a) une masse de base comprenant au moins un fluorure d'au moins un élément supérieur, dans la série élec tromotrice, au métal à déposer, et b) au moins un fluorure du métal à déposer. SOUS-REVENDICATIONS 1. Procédé selon la revendication, caractérisé en ce que ladite masse de base consiste en un mélange de fluorure de lithium et de fluorure de sodium.
    2. Procédé selon la revendication, pour la produc tion de dépôts en tungstène pur, caractérisé en ce que l'on utilise un électrolyte en fusion consistant essentielle ment en une masse de base comprenant 60 moles % de fluorure de lithium et 40 moles % de fluorure de sodium, et en un fluorure de tungstène en concentration telle que la teneur en tungstène soit de 0,5 à 10 % en poids. 3. Procédé selon la sous-revendication 2, caracté risé en ce que l'on effectue l'électrolyse avec une densité de courant à la cathode comprise entre 5 et 100 mA/ cru-, en maintenant la température de l'électrolyte entre 675 et 9000 C.
    4. Procédé selon la revendication, pour la produc tion de dépôts en molybdène pur, caractérisé en ce que l'on utilise un électrolyte en fusion consistant essentielle ment en une masse de base comprenant 60 moles % de fluorure de lithium et 40 moles % de fluorure de sodium, et en un fluorure de molybdène en concentration telle que la teneur en molybdène soit comprise entre 1 et 12 % en poids.
    5. Procédé selon la sous-revendication 4, caractérisé en ce que l'on effectue l'électrolyse avec une densité de courant à la cathode de 5 à 250mA/cm , en maintenant la température de l'électrolyte entre 675 et 900,, C.
CH91665A 1963-02-18 1965-01-22 Procédé pour le dépôt de métaux réfractaires par voie électrolytique CH451638A (fr)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US26787963A 1963-02-18 1963-02-18
US30275563A 1963-07-19 1963-07-19
US33989864A 1964-01-24 1964-01-24
US38611964A 1964-07-28 1964-07-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH451638A true CH451638A (fr) 1968-05-15

Family

ID=27500922

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH1396063A CH425392A (fr) 1963-02-18 1963-11-14 Procédé de formation de dépôts de métaux par voie électrolytique
CH91665A CH451638A (fr) 1963-02-18 1965-01-22 Procédé pour le dépôt de métaux réfractaires par voie électrolytique
CH1002765A CH451637A (fr) 1963-02-18 1965-07-16 Procédé pour le dépôt de métaux réfractaires par voie électrolytique

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH1396063A CH425392A (fr) 1963-02-18 1963-11-14 Procédé de formation de dépôts de métaux par voie électrolytique

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH1002765A CH451637A (fr) 1963-02-18 1965-07-16 Procédé pour le dépôt de métaux réfractaires par voie électrolytique

Country Status (9)

Country Link
JP (1) JPS5010816B1 (fr)
BE (3) BE658463A (fr)
CH (3) CH425392A (fr)
DE (3) DE1226311B (fr)
DK (2) DK120422B (fr)
FR (1) FR87182E (fr)
NL (3) NL6500846A (fr)
NO (2) NO116820B (fr)
SE (1) SE312709B (fr)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS541521U (fr) * 1977-06-03 1979-01-08
FR2691169B1 (fr) * 1992-05-12 1994-07-01 Cezus Co Europ Zirconium Alliages de metaux refractaires aptes a la transformation en lingots homogenes et purs et procedes d'obtention des dits alliages.
DE112005002435B4 (de) * 2004-10-01 2014-01-02 Kyoto University Salzschmelzebad, Abscheidung erhalten unter Verwendung des Salzschmelzebades, Herstellungsverfahren für ein Metallprodukt und Metallprodukt
JP4883534B2 (ja) * 2008-03-26 2012-02-22 住友電気工業株式会社 溶融塩浴、溶融塩浴の製造方法およびタングステン析出物

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2715093A (en) * 1952-01-25 1955-08-09 Senderoff Seymour Electrolytic production of molybdenum powder and coherent deposits
GB812817A (en) * 1954-05-21 1959-04-29 Solar Aircraft Co Electrolytic production of titanium
BE563570A (fr) * 1956-12-28

Also Published As

Publication number Publication date
DK125439B (da) 1973-02-19
SE312709B (fr) 1969-07-21
NO116732B (fr) 1969-05-12
NL6509767A (fr) 1966-01-31
DE1226311B (de) 1966-10-06
CH451637A (fr) 1968-05-15
NL6500846A (fr) 1965-11-25
BE665942A (fr) 1965-10-18
CH425392A (fr) 1966-11-30
BE640801A (fr)
NL302728A (fr)
BE658463A (fr) 1965-05-17
DE1230233B (de) 1966-12-08
NO116820B (fr) 1969-05-27
FR87182E (fr) 1966-06-24
DE1259104B (de) 1968-01-18
JPS5010816B1 (fr) 1975-04-24
DK120422B (da) 1971-05-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Mellors et al. Electrodeposition of Coherent Deposits of Refractory Metals: I. Niobium
Senderoff et al. The electrolytic preparation of molybdenum from fused salts: I. Electrolytic studies
JP6405199B2 (ja) 電析用電解質および金属膜の製造方法
JPS6250491A (ja) アモルフアス金属合金を用いたハロゲン含有溶液の電気分解
EP0570308B1 (fr) Alliages de métaux réfractaires aptes à la transformation en lingots homogènes et purs et procédés d&#39;obtention des dits alliages
US2828251A (en) Electrolytic cladding process
US4738759A (en) Method for producing calcium or calcium alloys and silicon of high purity
JP4763169B2 (ja) 金属リチウムの製造方法
CH451638A (fr) Procédé pour le dépôt de métaux réfractaires par voie électrolytique
US2734855A (en) Electrolytic preparation of reduced
RU2692759C1 (ru) Свинцово-углеродный металлический композиционный материал для электродов свинцово-кислотных аккумуляторов и способ его синтеза
US3489537A (en) Aluminiding
EP0131978A1 (fr) Procédé de fabrication d&#39;une électrode pour procédés électrochimiques et cathode pour la production électrolytique d&#39;hydrogène
US2936268A (en) Preparation of metal borides and silicides
US3497426A (en) Manufacture of electrode
Kuznetsov et al. Influence of electrolysis mode, complex formation and micropassivation on the roughness of niobium and tantalum coatings
Xu et al. Electrochemical preparation of titanium and its alloy in ionic liquid
EP0005674B1 (fr) Procédé de fabrication d&#39;une electrode anodique stable en dimensions
GB1206140A (en) Improvements in process for zirconiding and hafniding base metal compositions
US3371020A (en) Process for the electrodeposition of metals
US1200025A (en) Process of recovering metals.
US4483752A (en) Valve metal electrodeposition onto graphite
US2813069A (en) Porous anode
US2813068A (en) Production of titanium by fused salt electrolysis
Kuznetsov Electrolytic production of niobium powder from chloride—fluoride melts containing compounds of niobium and zirconium