CH367269A - Verfahren zum Betrieb von Hochvakuumanlagen, deren Rezipient zwecks Beschickung und Entnahme der im Vakuum zu behandelnden Gegenstände geöffnet werden kann, und Vakuumanlage zur Durchführung dieses Verfahrens - Google Patents
Verfahren zum Betrieb von Hochvakuumanlagen, deren Rezipient zwecks Beschickung und Entnahme der im Vakuum zu behandelnden Gegenstände geöffnet werden kann, und Vakuumanlage zur Durchführung dieses VerfahrensInfo
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Description
Verfahren zum Betrieb von Hochvakuumanlagen, deren Rezipient zwecks Beschickung und Ent nahme der im Vakuum zu behandelnden Gegenstände geöffnet werden kann, und Vakuumanlage zur Durchführung dieses Verfahrens Es ist bekanntlich allgemein üblich, Rezipienten von Vakuumanlagen, in denen. Gegenstände unter Vakuum behandelt werden sollen, in geöffnetem Zu stand mit den zu behandelnden Gegenständen zu be schicken, darauffolgend den Rezipienten zu schliessen, und zu evakuieren, dann die Behandlung der Gegen stände, z.
B. eine Aufdampfung von dünnen Schich ten oder ein Glühen oder dergleichen Massnahmen unter Vakuum durchzuführen, nach. Beendigung der Behandlung den Rezipienten wieder zu öffnen und die behandelten Gegenstände daraus zu entnehmen un' ihn anschliessend von neuem zu beschicken.
Es sind auch Vakuumanlagen bekannt, welche mit kontinuierlich arbeitenden Schleusenvorrichtun gen versehen sind, so dass das, Ein- und Ausbringen der zu behandelnden Gegenstände ohne Öffnung des Rezipienten bewerkstelligt werden kann. Der Rezi pient bleibt hieben ständig unter Vakuum. Zweck einer solchen Einrichtung ist natürlich, die Pump zeiten zu sparen.. Bei vielen Prozessen dauert nämlich die Behandlung der Gegenstände im Vakuum nur einen Bruchteil der Zeit, welche für das Auspumpen verwendet werden muss.
So kann etwa eine dünne reflexvermindernde Schicht auf einer Linse leicht in einer Minute aufgedampft werden., während es wenig- stens eine halbe Stunde oder länger dauert, um nach der Vorevakuierung mittels Vorpumpen auf das er forderliche Arbentshochvakuum zu kommen.
Die erwähnten Schleusenvorrichtungen, die also der Pumpzeitersparnis dienen, sind aber kostspielig nm Bau und sind für viele im Vakuum zu behan delnde Gegenstände, z. B. für Linsen, heute noch nicht genügend durchgebildet, um im industriellen Betrieb Verwendung finden zu können.
So benutzte man also weiterhin Hochvakuumanlagen, deren Rezi pient zwecks Beschickung und Entnahme der zu be handelnden Gegenstände geöffnet werden kann, und nahm, die damit verbundenen Zeitverluste eben in Kauf.
Es wurde nun gefunden, dass man auch bei sol- chen Anlagen einen ganz erheblichen Teil der Pump zeit, nämlich bis. zu 99 ah und mehr, wenigstens für das Hochevakuieren einsparen kann, wenn man nach einem neuen Betriebsverfahren arbeitet, das den Gegenstand der nachstehend beschriebenen Erfin- dung bildet.
Das erfindungsgemässe Verfahren zum Betrieb von Hochvakuumanlagen, deren Rezipienten zwecks Beschickung und Entnahme der im Vakuum zu be handelnden Gegenstände geöffnet werden kann, ist dadurch gekennzeichnet, dass in den Rezipienten, während er in geöffnetem Zustand mit dein Aussen raum in Verbindung steht,
ständig ein Strom trok- kenen Gases eingeblasen wird, dessen. Feuchtigkeits gehalt geringer als derjenige des Aussenraumes ist.
Man wusste zwar, dass Wasserdampf einen erheb= liehen Teil der Gase bzw. Dämpfte ausmacht, die bei Herstellung eines Hochvakuums in einem üblichen Rezipienten, sei er ans Glas oder Metall, abgepumpt werden müssen. Doch ist es völlig überraschend, dass so gewaltige Einsparungen an Pumpzeib durch die genannte einfache Massnahme erzielt werden können.
Als Beispiel sei erwähnt, dass ein metallischer Vakuumrezipient mit einem Rauminhalt von etwa 130 Litern mit gegebenen Pumpen regelmässig eine Hochvakuum-Pumpzeit von 58 Minuten erforderte, um nach der Vorevakuierung auf 10-i Torr weiter auf 4.
10 5 Torr zu kommen. Wurde aber nach dem erfindungsgemässen Verfahren vorgegangen, also in den Rezipienten, während er in geöffnetem Zustand mit dem Aussenraum in. Verbindung stand, ständig ein Gasstrom eingeblasen, welcher durch Pho.sphor- pentoxyd scharf getrocknet worden war, dann er gaben sich mit denselben Pumpen und ohne sonstige Vorkehrungen:
für das Hochevakuieren (nach der Vorevakuierung) Pumpzeiten von Bruchteilen einer Minute, z. B. 50 Sekunden, für die Spanne von 10-1 Torr auf 2.10-5 Torr. An zahlreichen anderen An lagen liessen sich diese Beobachtungen bestätigen.
Es ist zu bemerken, dass diese Erfolge nicht etwa bloss in Fällen erzielt werden,, wo die Luft des Aussen raumes aussergewöhnlich feucht ist, sondern ganz allgemein, das heisst auch bei dem normalen Feuchtig keitsgehalt der Luft des Aussenraumes, welcher zwi schen 20 bis 6011/o relativer Feuchtigkeit liegt.
Es ist offensichtlich, dass das neue Verfahren einen sprunghaften technischen Fortschritt bedeutet. Seine Anwendung empfiehlt sich überall da, wo Gegenstände, die verhältnismässig wenig Gas ab geben, wie z. B. Glas oder Metallteile, in kurzen Be handlungszeiten, jedoch unter Hochvakuum behan delt werden müssen und anschliessend, die Anlage so fort wieder von neuem beschickt werden soll. In die sen Anwendungsfällen wird der Ausnützungsgrad einer vorhandenen Hochvakuumanlage durch das neue Verfahren enorm verbessert.
Bei der Durchführung des neuen Verfahrens kön nen die folgenden Hinweise nützlich sein. Zweckmässig erfolgt das Einblasen des trockenen Gases von einer Stelle im Innern des Rezipienten aus in Richtung auf die Öffnung hin, über welche der Rezipient in geöffnetem Zustand mit dem Aussenr- raum in Verbindung steht. Es scheint, dass dadurch das Eindringen feuchter Aussenluft besser verhindert wird.
Um Spülgas. zu sparen, empfiehlt es sich,, das Abströmen des in den Rezipienten eingeblasenen trockenen Gases in den Aussenraum durch vor der Rezipientenbffnung angeordnete Strömungshinder- nisse zu drosseln. Als solche Strömungshindernisse, die man leicht auch behelfsmässig an vorhandenen Anlagen anbringen kann, können z. B.
Vorhänge be nutzt werden, welche .die Rezipientenöffnung bis auf schmale Schlitze, die der Beschickung und Entnahme und den sonstigen notwendigen; Manipulationen im geöffneten Rezipienten dienen, allseits verschliessen.
Bezüglich der Art des einzublasenden trockenen Gases sei bemerkt: Grundsätzlich können natürlich alle ;genügend trockenen Gase dazu verwendet wer den, sofern sie mit den zu behandelnden Gegenstän den und den Anlageteilen chemisch verträglich. sind.
Es genügt, vorgetrocknete Luft zu verwenden. C02 hat den Vorteil', dass es leicht komprimierbar ist, also auch grosse Mengen nur verhältnismässig kleine, hand liche Behälter zur Aufbewahrung erfordern.
Mit der Wahl des Spülgases lassen sich oft gleich zeitig noch andere, bekannte technologische Zwecke verbinden-. In Anlagen, in denen Oxydationsprozesse durchgeführt werden sollen, kann man z. B. 02 ein- blasen. In anderen wird man N2, Argon oder andere als Neutralgase bekannte Gase verwenden. Die Ver wendung von Neutralgas als Spülgas zum Schutze eines zu behandelnden Gutes, z.
B. in Öfen, ist natür lich bekannt, doch handelt es sich bei diesem be kannten Verfahren um eine Massnahme, die nur dazu bestimmt war, das zu behandelnde Gut selbst wäh rend des Betriebes wegen der dann vorliegenden be sonderen Bedingungen, z. B. hohen Temperaturen, chemischer Aktivität oder dergleichen, zu schützen.
Das Einblasen. kann durch die bei den meisten Anlagen bereits vorhandenen Ventile erfolgen, in dem diese mit einer Quelle trockenen Gases verbun den werden. Leicht können z. B. die Behälter, die das trockene Gas unter Druck enthalten, zusammen mit den Ventilen und den Rezipientenglocken zu einer baulichen Einheit verbunden werden.
Zur Ausführung des erfindungsgemässen Verfah rens können im Innern des Rezipienten Begasungs- düsen angebracht werden, die von einer äusseren Gasquelle durch eine Zuleitung gespeist werden und auf die Öffnung zu gerichtet sind, über welche der Rezipient in geöffnetem Zustand mit dem Aussen raum in Verbindung steht. Die Ventile sind bei Rezi pienten von Glockenform oft am geschlossenen Ende der Glocke angebracht; der Gasstrom, der durch diese Ventile in den Rezipienten eintritt, ist daher stets gegen die Öffnung des Rezipienten gerichtet, so dass an solchen Anlagen keinerlei Umbauten zur Durchführung des Verfahrens erforderlich sind.
Man kann auch den Rezipienten mit einem Aussenmantel umgeben und die Atmosphäre in dem Zwischenraum auf einem niedrigeren Feuchtigkeits- gehalt halten, als der normalen umgebenden Luft ent spricht. Dies kann geschehen, indem man den Zwi schenraum mit trockenem Gas beschickt (z. B. trok- kenes Gas ständig einbläst) oder in ihm bekannte Trockenmittel aufstellt bzw.
Trockenvorrichtungen einbaut. Trockenmittel und Trockenvorrichtungen zur Erzeugung des trockenen Gasstromes können gegebenenfalls natürlich auch im Rezipienten selbst angeordnet ,sein.
Man kann auch den Rezipienten mit mehreren Aussenräumen umgeben und alle oder einzelne der Aussenräume während des Öffnungszustandes des Rezipienten mit trockenem Gas beschicken. Im ein fachsten Falle lässt man das trockene Gas, das in den Rezipienten selbst eingeblasen wird, die einzelnen Aussenräume der Reihe nach durchströmen. Diese Anordnung erlaubt so die Durchführung des Verfah rens nach Unteranspruch 2; die Zwischenwände zwi schen den einzelnen Aussenräumen sind dann die er wähnten Strömungshindernisse.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH I Verfahren zum Betrieb von Hoc'hvakuumanlagen, deren Rezipient zwecks Beschickung und Entnahme der im Vakuum zu behandelnden Gegenstände geöff net werden kann, dadurch gekennzeichnet, dass in den Rezipienten, während er in geöffnetem Zustand mit dem Aussenraum. in Verbindung steht, ständig ein Strom trockenen Gases eingeblasen wird, dessen Feuchtigkeitsgehalt geringer als derjenige des Aussen raumes ist.UNTERANSPRÜCHE 1. Verfahren nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass das Einblasen von einer Stelle im Innern des Rezipienten aus in Richtung auf die öff- nung hin erfolgt, über welche der Rezipient in ge- öffnetem Zustand mit dem Aussenraum in Verbin dung steht. 2.Verfahren nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass das Abströmen des in den Rezi pienten eingeblasenen trockenen Gases in den; Aussen raum durch vor der Rezipientenöffnung angeordnete Strömungshindernisse gedrosselt wird. 3. Verfahren nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass vorgetrocknete Luft eingeblasen wird. 4. Verfahren nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass Sauerstoff eingeblasen wird'. 5.Verfahren nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass im Aussenraum um den Rezipien ten eine Atmosphäre aufrechterhalten wird, deren Feuchtigkeitsgehalt geringer ist als der Feuchtigkeits gehalt der den Aussenraum umgebenden Luft.6. Verfahren nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass ausserhalb des Rezipienten durch Wände voneinander getrennte, nach aussen hin hin- tereinanderliegende und j:e durch eine Öffnung verbundene Aussenräume vorgesehen:und mit Gas beschickt werden, dessen Feuchtigkeitsgehalt geringer ist als der Feuchtigkeitsgehalt der den äusser sten Raum umgebenden Luft. PATENTANSPRUCH II Vakuumanlage zur Durchführung des Verfahrens nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass im Innern des Rezipienten wenigstens eine Be- gasungsdüse angeordnet ist,die über eine Speise- lehung an eine äussere Gasquelle angeschlossen wer den kann und gegen die Öffnung zu gerichtet ist, über welche der Rezipient in geöffnetem Zustande mit dem Aussenraum in Verbindung steht.UNTERANSPRUCH 7. Vakuumanlage nach Patentanspruch 1I, da durch gekennzeichnet, dass der Rezipient von wenig stens einem Aussenmantel mit Öffnung umgeben ist und Vorrichtungen zur Beschickung des Raumes zwischen Aussenmantel und Rezipienten mit trok- kenem Gas vorgesehen sind.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH7164159A CH367269A (de) | 1959-04-07 | 1959-04-07 | Verfahren zum Betrieb von Hochvakuumanlagen, deren Rezipient zwecks Beschickung und Entnahme der im Vakuum zu behandelnden Gegenstände geöffnet werden kann, und Vakuumanlage zur Durchführung dieses Verfahrens |
| GB11186/60A GB883376A (en) | 1959-04-07 | 1960-03-30 | Improvements in and relating to high vacuum plants |
| NL250178A NL105775C (de) | 1959-04-07 | 1960-04-05 | |
| US20790A US3088219A (en) | 1959-04-07 | 1960-04-07 | High-vacuum plants |
| CH261164A CH430025A (de) | 1959-04-07 | 1964-03-02 | Verfahren zum Betrieb von Hochvakuumanlagen und Vakuumanlage zur Durchführung des Verfahrens |
| NL6405217A NL6405217A (de) | 1959-04-07 | 1964-05-11 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH7164159A CH367269A (de) | 1959-04-07 | 1959-04-07 | Verfahren zum Betrieb von Hochvakuumanlagen, deren Rezipient zwecks Beschickung und Entnahme der im Vakuum zu behandelnden Gegenstände geöffnet werden kann, und Vakuumanlage zur Durchführung dieses Verfahrens |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CH367269A true CH367269A (de) | 1963-02-15 |
Family
ID=4531152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CH7164159A CH367269A (de) | 1959-04-07 | 1959-04-07 | Verfahren zum Betrieb von Hochvakuumanlagen, deren Rezipient zwecks Beschickung und Entnahme der im Vakuum zu behandelnden Gegenstände geöffnet werden kann, und Vakuumanlage zur Durchführung dieses Verfahrens |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3088219A (de) |
| CH (1) | CH367269A (de) |
| GB (1) | GB883376A (de) |
| NL (1) | NL105775C (de) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3253351A (en) * | 1963-02-05 | 1966-05-31 | Bettanin Giuseppe | Vacuum-drying apparatus |
| US3293773A (en) * | 1964-08-24 | 1966-12-27 | Vir Tis Company Inc | Freeze drying apparatus |
| US3932944A (en) * | 1974-09-12 | 1976-01-20 | Mitsumasa Chiba | Method and apparatus for preventing waterdrops inside a sealed instrument |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1580957A (en) * | 1921-10-27 | 1926-04-13 | Gen Motors Corp | Coating and baking apparatus for automobile parts and the like |
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-
1959
- 1959-04-07 CH CH7164159A patent/CH367269A/de unknown
-
1960
- 1960-03-30 GB GB11186/60A patent/GB883376A/en not_active Expired
- 1960-04-05 NL NL250178A patent/NL105775C/xx active
- 1960-04-07 US US20790A patent/US3088219A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL105775C (de) | 1963-03-15 |
| US3088219A (en) | 1963-05-07 |
| GB883376A (en) | 1961-11-29 |
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