CH358866A - Verfahren zur Herstellung von p-n-p-Germanium- und n-p-n-Siliziumflächentransistoren und nach diesem Verfahren hergestellter Flächentransistor - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von p-n-p-Germanium- und n-p-n-Siliziumflächentransistoren und nach diesem Verfahren hergestellter FlächentransistorInfo
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US358866XA | 1956-03-02 | 1956-03-02 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CH358866A true CH358866A (de) | 1961-12-15 |
Family
ID=21885372
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CH358866D CH358866A (de) | 1956-03-02 | 1957-03-02 | Verfahren zur Herstellung von p-n-p-Germanium- und n-p-n-Siliziumflächentransistoren und nach diesem Verfahren hergestellter Flächentransistor |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
BE (1) | BE555459A (de) |
CH (1) | CH358866A (de) |
FR (1) | FR1172813A (de) |
GB (1) | GB846720A (de) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3084078A (en) * | 1959-12-02 | 1963-04-02 | Texas Instruments Inc | High frequency germanium transistor |
US3154450A (en) * | 1960-01-27 | 1964-10-27 | Bendix Corp | Method of making mesas for diodes by etching |
US3181097A (en) * | 1960-09-19 | 1965-04-27 | Sprague Electric Co | Single crystal semiconductor resistors |
US3183129A (en) * | 1960-10-14 | 1965-05-11 | Fairchild Camera Instr Co | Method of forming a semiconductor |
US3210225A (en) * | 1961-08-18 | 1965-10-05 | Texas Instruments Inc | Method of making transistor |
US3533862A (en) * | 1967-08-21 | 1970-10-13 | Texas Instruments Inc | Method of forming semiconductor regions in an epitaxial layer |
US6313398B1 (en) * | 1999-06-24 | 2001-11-06 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Ga-doped multi-crytsalline silicon, Ga-doped multi-crystalline silicon wafer and method for producing the same |
-
0
- BE BE555459D patent/BE555459A/xx unknown
-
1957
- 1957-02-05 GB GB3975/57A patent/GB846720A/en not_active Expired
- 1957-03-02 FR FR1172813D patent/FR1172813A/fr not_active Expired
- 1957-03-02 CH CH358866D patent/CH358866A/de unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE555459A (de) | |
FR1172813A (fr) | 1959-02-16 |
GB846720A (en) | 1960-08-31 |
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