CH354583A - Kontinuierliches Verfahren zur Reinigung von Gallium und Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens - Google Patents
Kontinuierliches Verfahren zur Reinigung von Gallium und Einrichtung zur Durchführung des VerfahrensInfo
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Description
Kontinuierliches Verfahren zur Reinigung von Gallium und Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens Gallium hat auf verschiedenen Gebieten der Technik neuerdings grosse Bedeutung erlangt. Das reinste zur Zeit im Handel befindliche Gallium wird, nachdem es zuvor in wässeriger Lösung durch be kannte Verfahren von den groben Verunreinigungen befreit worden ist, aus alkalischer Lösung durch Elektrolyse gewonnen. Die Reinheit dieses Galliums ist in gewissen Fällen, z. B. zur Verwendung als Komponente von halbleitenden Verbindungen, nicht ausreichend.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein kontinuierliches Verfahren zur Reinigung von Gallium. Das Verfahren gemäss der Erfindung be steht darin, dass vorgereinigtes Gallium in Gallium- (lII)chlorid (GaCl3) durch Aufschluss mit Chlor oder Chlorverbindungen übergeführt, dieses durch Erwär men mit bereits weitgehend gereinigtem Gallium zu Gallium(II)chlorid (GaC12) reduziert und dieses durch weitere Erwärmung zur Disproportionierung in Gallium(III)chlorid und Gallium gebracht wird,
und dass das bei dieser Temperatur gasförmige Gallium(III)chlorid abgesaugt, durch Kühlung nieder geschlagen und in die Reduktion zu Gallium(II)chlo- rid mit bereits weitgehend gereinigtem Gallium zu rückgeführt wird. Als Ausgangsgallium kann das vorhergenannte, handelsübliche Elektrolyt-Gallium verwendet werden. Es ist vorteilhaft, dieses Elektro- lyt-Gallium zuvor einer Reinigung durch konzen trierte Schwefelsäure zu unterwerfen.
Ferner bezieht sich die Erfindung auf eine Ein richtung zur Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens, die dadurch gekennzeichnet ist, dass vier Gefässe durch Leitungen hintereinandergeschaltet sind, wobei die beiden mittleren Gefässe, die je eine weitere Zuleitung von aussen aufweisen, durch einen Kühler überbrückt sind, der seinerseits über eine Trockenzone mit einem Abzug verbunden ist.
Bereits früher ist die Reindarstellung verschie dener Elemente, z. B. von Indium, Titan oder Ger manium, durch Disproportionierung ihrer niederen Chloride bekanntgeworden. Neuerdings wurde in der Fachliteratur bemerkt, dass Gallium(II)chlorid zur Disproportionierung neigen soll. Bei der vorlie genden Erfindung handelt es sich nun um die Aus- nützung dieser Eigenschaft des CaC12 zu einem tech nisch brauchbaren, kontinuierlichen Verfahren.
Das Verfahren gemäss der Erfindung wird zweck mässig wie folgt durchgeführt: Als Ausgangsgallium wird in der oben angege benen Weise hergestelltes Elektrolyt-Gallium ver wendet, das mit konzentrierter Schwefelsäure vor behandelt worden ist. Durch diese Vorbehandlung werden unter anderem Kupferverunreinigungen weit gehend beseitigt. Dieses vorgereinigte Gallium wird durch Aufschluss mit Chlorwasserstoffgas in Gallium- (III)chlorid überführt. Anstelle von Chlorwasser stoffgas kann als Aufschl'ussmittel auch Chlorgas verwendet werden.
Dieses ist jedoch weniger günstig als Chlorwasserstoffgas, da dessen stärkere Oxyda tionswirkung unter Umständen in entsprechend höherem Masse zu einer unerwünschten Reaktion mit edleren Verunreinigungsmetallen führen könnte. Das beim Aufschluss entstandene Gallium(III)chlorid wird durch Erwärmen mit weiterem Ausgangsgallium re duziert. Das so gewonnene Gallium(II)chlorid wird durch Erwärmung auf 300 bis 350 C zur Dispro- portionierung gebracht.
Hierbei entsteht Gallium(III)- chlorid und metallisches Gallium, das einen hohen Reinheitsgrad aufweist. Das Verfahren nach der Erfindung läuft also nach folgenden drei Reaktionen ab:
1. 2Ga -!- 6HCl = 2GaC13 + 3H2 2. 2GaC13 Ga = 3GaC12
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3. <SEP> 3GaC12 <SEP> <B>--></B> <SEP> 2GaC13 <SEP> -E- <SEP> Ga Um sicherzustellen, dass die Disproportionierung nur im Sinne der 3. Gleichung verläuft, muss das bei der Disproportionierung entstehende GaC1, entfernt werden.
Dies ist einfach zu erreichen, da GaC13 bei der Disproportionierungstemperatur gasförmig vor liegt und mittels eines inerten Gasstromes, z. B. mit tels eines Stickstoffstromes, leicht abgeführt werden kann. Die GaC13 Dämpfe werden in einem Kühler niedergeschlagen und stehen somit zur Reduktion mit Ausgangsgallium zu Gallium(II)chlorid und weiteren Disproportionierung zur Verfügung. Dieser Kreis lauf lässt sich kontinuierlich mit neu zugeführtem Ausgangsgallium ohne weitere Zuführung von Auf schlussmittel wiederholen.
Eine zur Durchführung dieses Verfahrens ge eignete Einrichtung ist in der Zeichnung dargestellt. Die Einrichtung besteht aus vier Gefässen, die mit 1, 2, 3 und 4 bezeichnet und die durch die Verbindungsleitungen 5, 6 und 7 hintereinanderge- schaltet sind. Die Gefässe 2 und 3 besitzen je eine weitere mit 8 und 9 angegebene Zuleitung. Die Ge fässe 2 und 3 sind weiterhin durch den Kühler 10 überbrückt. Die Aussenwände des Kühlers sind durch einen dicht anschliessenden Kühlwasserschlauch, der bei 11 angedeutet ist, gekühlt. Die Kühlwirkung des Kühlwasserschlauches wird von innen durch den mit 12 bezeichneten Kühlfinger unterstützt.
Der Kühler ist über eine Trockenzone, die bei 13 dar gestellt ist und als Abschluss gegen die Luftfeuchtig keit dient, an einen Abzug angeschlossen.
Zweckmässig wird diese Einrichtung wie folgt be trieben: Das Ausgangsgallium wird mit einer Temperatur von etwa<B>500</B> C in das Gefäss 1 eingebracht und gelangt über die Verbindungsleitung 5 in das Gefäss 2. Es ist vorteilhaft, die Verbindungs leitung als Kapillare auszuführen. Hierdurch wird - im Zusammenwirken' mit der Ausbildung des untern Teils des Gefässes 1, wie sie in Zeich nung dargestellt ist - ein Seigerungseffekt be günstigt. Dieser konnte spektroskopisch einwandfrei nachgewiesen werden.
Durch die Zuleitung 8 wird in das mit 14 bezeichnete Gallium am Boden des Ge fässes 2 ein Chlorwasserstoffstrom eingeleitet und dieses dadurch - unterstützt durch die Aufheizung des Galliums auf etwa 20011 C - zu GaC1, auf geschlossen. Unterbricht man den Chlorwasserstoff strom, so reduziert das überschüssige Gallium das GaC1, zu GaC12. Dieses wird nun über die Verbin dungsleitung 6 in das Gefäss 3 überführt, z. B. da durch, dass durch einen Überdruck im Gefäss 1 der Galliumspiegel im Gefäss 2 angehoben wird.
Das flüssige GaC12 ist in den Gefässen 2 und 3 mit 15 bezeichnet. Das Gefäss 3 befindet sich auf einer Temperatur zwischen 300 und<B>3500</B> C. Hierbei tritt die Disproportionierung des GaC1, zu GaC1, und Gallium ein. Dieses setzt sich am Boden des Ge fässes ab und kann über die Verbindungsleitung 7 in das Gefäss 4 abgesaugt werden, etwa mit Hilfe eines Unterdruckes in Gefäss 4. Die Verbindungs leitung 7 wird, wie die Leitung 5, zweckmässigerweise als Kapillare ausgeführt, da hierdurch, wie beim Ge fäss 1, der durch die Ausbildung des Gefässes 3 be wirkte Seigerungseffekt gefördert wird.
Das bei der Disproportionierung im Gefäss 3 als Gas freiwerdende GaC1, wird durch einen neutralen Gasstrom, z. B. durch einen Stickstoffstrom, der durch die Zuleitung 9 in das Gefäss 3 eingeleitet wird, in Richtung der angegebenen Pfeile in den Kühler hereingezogen. Dort wird das GaC1, vollständig kon densiert, so dass praktisch kein GaC13 über den Kühler in den Abzug gelangt. Über diesen und die Trockenzone wird lediglich das Stickstoffgas abge führt. Bei der Grossfertigung kann das Stickstoffgas in einem Kreislaufsystem über die Zuleitung 9 in das Gefäss 3 rückgeführt werden.
Das im Kühler niedergeschlagene GaC13 wird durch Erwärmung in das Gefäss 2 heruntergeschmol- zen. Dabei genügt es, den Kühlstrom zu unterbinden; es kann auch eine warme Flüssigkeit durch Kühl schlauch und Kühlfinger geleitet werden. Nun wie derholt sich der vorher beschriebene Vorgang, näm lich, das GaC1, wird durch weiteres Ausgangsgallium im Gefäss 2 zu GaCL, reduziert. Dieses wird dann wieder über die Verbindungsleitung 6 in das Gefäss 3 gebracht, dort disproportioniert, usw.
Für die Beheizung der Gefässe 2 und 3 hat sich eine Widerstandsheizung mit Hilfe von Heizkordeln bewährt. Die Wärmeabstrahlung der Gefässe 2 und 3 ist ausreichend, um das Gallium in den Gefässen 1 und 4 flüssig zu halten. Die Einrichtung kann z. B. aus Jenaer Glas oder auch aus Quarz hergestellt sein.
Das im Gefäss 4 anfallende Gallium weist gegen über dem Ausgangsgallium eine erheblich grössere Reinheit auf. Bei einer spektroskopischen überprü- fung konnten nur noch Kupfer und Eisen und diese in erheblich geringerer Menge gegenüber dem Aus gangsgallium festgestellt werden.
Dieser Reinigungs effekt erklärt sich dadurch, dass bei dem in den Gefässen 2 und 3 vorliegenden System GaC12lGa alle vorliegenden Elemente sich nach ihrer Affinität zum Chloridion einordnen; und zwar werden sich alle Elemente, die in bezug auf Gallium unedler sind, in der Gallium(II)chloridschmelze befinden; nur die in bezug auf Gallium edleren Elemente werden im Gallium verbleiben.
Das bedeutet also, dass in dem im Gefäss 4 anfallenden Gallium praktisch nur noch solche - spektroskopisch nachweisbare - Elemente auftreten werden, die gleiche oder grössere Affinität zum Chl'oridion aufweisen und disproportionieren. Diese können durch das Verfahren nach der Erfin dung nicht oder nur teilweise aus dem Gallium ent fernt werden.
Der Reinheitsgrad des nach dem Verfahren ge mäss der Erfindung hergestellten Galliums erlaubt seine Verwendung als Komponente von Halbleiter verbindungen oder für andere Anwendungszwecke, bei denen es auf extreme Reinheit ankommt, z. B. zur Verwendung in Hochtemperatur-Thermometem oder in Kühlsystemen.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH 1 Kontinuierliches Verfahren zur Reinigung von Gallium, dadurch gekennzeichnet, dass bereits weit gehend gereinigtes Gallium in Gallium(III)chlorid durch Aufschluss mit Chlor oder Chlorverbindungen übergeführt, dieses durch Erwärmen mit bereits weit gehend gereinigtem Gallium zu Gallium(II)chlorid reduziert, dieses durch weitere Erwärmung zur Disproportionierung in Gallium(III)chlorid und Gallium gebracht wird, und dass das bei dieser Temperatur gasförmige Gallium(III)chlorid abge saugt, durch Kühlung niedergeschlagen und in die Reduktion zu Gallium(II)chlorid mit bereits weit gehend gereinigtem Gallium zurückgeführt wird. UNTERANSPRÜCHE 1. Verfahren nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass zum Aufschluss des Galliums eine Chlorverbindung verwendet wird. 2. Verfahren nach Unteranspruch 1, dadurch ge kennzeichnet, dass zum Aufschluss des Galliums Chlorwasserstoffgas verwendet wird. 3. Verfahren nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass von elektrolytisch gewonnenem Gallium ausgegangen wird. 4. Verfahren nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass von mit konzentrierter Schwefel säure gereinigtem Gallium ausgegangen wird.5. Verfahren nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass die Reduktion des Gallium(III)- chlorids zu Gallium(II)chlorid bei einer Temperatur von etwa 200 C und die Disproportionierung des Gallium(II)chlorids bei einer Temperatur von 300 bis 350 C durchgeführt wird. 6. Verfahren nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass das bei der Disproportionierung anfallende gasförmige Gallium(III)chlorid mit Hilfe eines neutralen Gasstromes in den Kühler abgeführt wird. 7.Verfahren nach Unteranspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das bei der Disproportionierung anfallende gasförmige Gallium(III)chlorid mit Hilfe eines Stickstoffstromes in den Kühler abgeführt wird. PATENTANSPRUCH 1I Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass vier Gefässe vorgesehen und durch Leitungen hinter einandergeschaltet sind, und dass die beiden mittleren Gefässe, die je eine weitere Zuleitung von aussen auf weisen, ausserdem durch einen Kühler überbrückt sind, der über eine Trockenzone an einen Abzug an geschlossen ist. UNTERANSPRÜCHE B.Einrichtung nach Patentanspruch II, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindungsleitungen des ersten und zweiten sowie des dritten und vierten Ge fässes als Kapillaren ausgeführt sind. 9. Einrichtung nach Patentanspruch 1I, dadurch gekennzeichnet, dass ein Kreislaufsystem für einen neutralen Gasstrom vorgesehen ist, derart, dass das über den Kühler und die Trockenzone abgesaugte neutrale Gas. in das dritte Gefäss rückgeführt wird.
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