CH319753A - Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Halbleitervorrichtung - Google Patents

Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Halbleitervorrichtung

Info

Publication number
CH319753A
CH319753A CH319753DA CH319753A CH 319753 A CH319753 A CH 319753A CH 319753D A CH319753D A CH 319753DA CH 319753 A CH319753 A CH 319753A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
manufacturing
semiconductor device
electric semiconductor
electric
semiconductor
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
William Mueller Charles
Original Assignee
Rca Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rca Corp filed Critical Rca Corp
Publication of CH319753A publication Critical patent/CH319753A/de

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/24Alloying of impurity materials, e.g. doping materials, electrode materials, with a semiconductor body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/02Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/36Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the concentration or distribution of impurities in the bulk material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Weting (AREA)
CH319753D 1952-10-20 1953-09-18 Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Halbleitervorrichtung CH319753A (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US319753XA 1952-10-20 1952-10-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH319753A true CH319753A (de) 1957-02-28

Family

ID=21862427

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH319753D CH319753A (de) 1952-10-20 1953-09-18 Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Halbleitervorrichtung

Country Status (5)

Country Link
BE (1) BE523638A (de)
CH (1) CH319753A (de)
FR (1) FR1088371A (de)
GB (1) GB735986A (de)
NL (1) NL182156B (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1093483B (de) * 1958-06-04 1960-11-24 Telefunken Gmbh Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen mit zwei pn-UEbergaengen, insbesondere Silizium-Transistoren, durch Verschmelzen von zwei Halbleiterkristallen
DE1112585B (de) * 1958-01-14 1961-08-10 Philips Nv Verfahren zum Herstellen von Halbleiteranordnungen
DE1133833B (de) * 1958-12-24 1962-07-26 Philco Corp Hermetisch dicht schliessend gekapselte Halbleiteranordnung

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL92060C (de) * 1953-10-26
NL212855A (de) * 1955-03-10
NL278654A (de) * 1961-06-08

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1112585B (de) * 1958-01-14 1961-08-10 Philips Nv Verfahren zum Herstellen von Halbleiteranordnungen
DE1093483B (de) * 1958-06-04 1960-11-24 Telefunken Gmbh Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen mit zwei pn-UEbergaengen, insbesondere Silizium-Transistoren, durch Verschmelzen von zwei Halbleiterkristallen
DE1133833B (de) * 1958-12-24 1962-07-26 Philco Corp Hermetisch dicht schliessend gekapselte Halbleiteranordnung

Also Published As

Publication number Publication date
GB735986A (en) 1955-08-31
NL182156B (nl)
BE523638A (de)
FR1088371A (fr) 1955-03-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CH336128A (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung und nach diesem Verfahren hergestellte Halbleitervorrichtung
CH367896A (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
CH350371A (de) Verfahren zur Herstellung von elektrischen Halbleitergeräten
CH347268A (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
CH251015A (de) Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Spule und nach diesem Verfahren hergestellte Spule.
CH338906A (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung und gemäss diesem Verfahren hergestellte Halbleitervorrichtung
CH352381A (de) Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Verbinders
CH349346A (de) Verfahren zur Herstellung von Halbleitereinrichtungen
CH403991A (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
CH341572A (de) Verfahren zur Herstellung eines Halbleitergerätes
CH374108A (de) Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Kontakteinrichtung
CH319753A (de) Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Halbleitervorrichtung
CH334860A (de) Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Vorrichtung und nach diesem Verfahren hergestellte Vorrichtung
AT168852B (de) Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Schalteinheit
CH354168A (de) Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Halbleitervorrichtung und nach diesem Verfahren hergestellte Halbleitervorrichtung
CH400272A (de) Verfahren zur Herstellung einer hohlraumisolierten elektrischen Ader
CH350722A (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-Vorrichtung
CH409146A (de) Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Spule
CH350723A (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
CH265959A (de) Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Kabels.
CH321679A (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung
CH324205A (de) Verfahren zur Herstellung einer Eisenfolie
CH368240A (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung
CH362751A (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
CH468081A (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung