CH318624A - Anordnung zum Bohren von Löchern in festen Körpern - Google Patents

Anordnung zum Bohren von Löchern in festen Körpern

Info

Publication number
CH318624A
CH318624A CH318624DA CH318624A CH 318624 A CH318624 A CH 318624A CH 318624D A CH318624D A CH 318624DA CH 318624 A CH318624 A CH 318624A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
drilling
mask
electron beam
arrangement
arrangement according
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
Bas-Taymaz Enis
Original Assignee
Foerderung Forschung Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Foerderung Forschung Gmbh filed Critical Foerderung Forschung Gmbh
Publication of CH318624A publication Critical patent/CH318624A/de

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G04HOROLOGY
    • G04DAPPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
    • G04D3/00Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
    • G04D3/0069Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for working with non-mechanical means, e.g. chemical, electrochemical, metallising, vapourising; with electron beams, laser beams
    • G04D3/0071Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for working with non-mechanical means, e.g. chemical, electrochemical, metallising, vapourising; with electron beams, laser beams for bearing components
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/09Diaphragms; Shields associated with electron or ion-optical arrangements; Compensation of disturbing fields
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/31Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for cutting or drilling

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description


      Anordnung    zum Bohren von Löchern in festen Körpern    Bombardiert man einen festen Körper mit  Elektronen, so wird die kinetische Energie der  Elektronen im Körper in Wärme umgewan  delt; die Temperatur des festen Körpers steigt.  Konzentriert man das Elektronenbombarde  ment auf einen sehr kleinen Bereich, so kann  man sehr starke lokale Übertemperaturen er  zielen und den Festkörper im     Bombardie-          rungsbereich    momentan zum     Schmelzen    und  Verdampfen bringen, während die übrigen  Partien des Körpers fest bleiben. Auf diesem  Prinzip beruht die Materialbearbeitung mit  Elektronenstrahlen.  



  Will man auf diese Weise Löcher in einen  Festkörper bohren, so muss der Querschnitt des  Elektronenstrahls die gleiche Form haben wie  der gewünschte Lochquerschnitt. Die erfin  dungsgemässe Anordnung zum Bohren von  Löchern ist daher gekennzeichnet durch einen       Elektronenstrahlerzeuger    und eine vor dem  Bohrgut angeordnete Bohrmaske aus hoch  schmelzendem Material mit einem Ausschnitt,  dessen Querschnitt dem zu erzeugenden Bohr  querschnitt entspricht, um einen Elektronen  strahl von diesem Querschnitt zu erzeugen.  Diese Maske wird vorzugsweise im Fokus eines  Elektronenstrahls angebracht, wodurch ein  intensiver Strahl mit dem gewünschten Quer  schnitt auf das Bohrgut auftrifft und dort  durch den     Abtragungsprozess    das     gewünschte     Loch erzeugt.

      Die Maske wird vorzugsweise in einem  wassergekühlten kupfernen Maskenträger be  festigt, am besten hartgelötet. Es ist zweck  mässig, die Maske durch eine Zwischenmaske,  gleichfalls aus hochschmelzendem Material,  gegen die direkte     Bedampfung    seitens des beim  Bohren verdampften Materials zu schützen.  Diese Zwischenmaske erhält eine solche Boh  rung, dass sie von den Elektronen nicht     ge-          troffen-wird.    Diese Zwischenmaske wird zweck  mässigerweise so angeordnet, dass -sie hin und  her geschoben werden kann, wobei durch ge  eignete Anordnung jedesmal die     Aufdampf-          schicht    auf ihrer dem Bohrgut zugekehrten  Seite abgeschabt wird.

   Dieses Hin- und Her  schieben kann zur Öffnung und Sperrung des  Elektronenstrahls ausgenützt werden, wobei  während der Sperrzeit das Bohrgut gewech  selt und während der Öffnungszeit gebohrt  wird. Dieser Vorgang kann selbstverständ  lich automatisiert werden.  



  In     Fig.    1 ist die prinzipielle     Darstellung     dieser Bohranordnung gezeigt. 1 ist das Bohr  gut, 2 die Maske im Maskenträger, 3 die  Zwischenmaske und 4 der     Elektronenstrahl.     



  Da man für den Bohrvorgang sehr inten  sive Elektronenstrahlen benötigt, kann es als  zweckmässig erscheinen, die Maske im     Fokus     einer Elektronenkanone anzuordnen, wie sie  im Patent Nr. 309700 beschrieben und in     Fig.    2  dargestellt ist, und die mit     Ionentrennung        und              Bolzenkathode    - (indirekt geheizte     Reinmetall-          kathode)    versehen ist. Dies deswegen, weil sie  eine hohe Stromstärke, die Möglichkeit der  Verlegung des     Brennpluiktes    in genügend  weite     Entfernung    von der Kathode und die  Vermeidung der Zerstörung der Kathode  durch positive Ionen bietet.

   Der letzte Punkt  ist besonders wichtig, da die Maske 7     -(Fig.    2)  selbst auf hohe Temperaturen kommt und da  durch positive Ionen emittieren kann und  durch den     Bohrvorgang    beträchtliche Gas  mengen frei werden, die das Vakuum ver  schlechtern und damit die Erzeugung von  positiven Ionen durch den Elektronenstrahl       begünstigen.    In dem in     Fig.2    schematisch  dargestellten Ausführungsbeispiel     bezeichnen-          1    die     Bolzenkathode,    2 die     Fokussierelektrode,     die Anode, 4 die fächerförmigen     Äquipoten-          tiällinien,    5 den Elektronenstrahl,

   6 die posi  tiven     Ionenbahnen,    7 die Bohrmaske, 8 die  Zwischenmaske, 9 das Bohrgut.  



  Selbstverständlich kann an Stelle der er  wähnten Elektronenkanone eine andere be  nützt werden, die einen genügend intensiven  Elektronenstrahl liefert.  



  Wenn man das Arbeitsstück (Bohrgut)  quer zu dem Elektronenstrahl verschiebbar  anordnet, könnte selbstverständlich an Stelle  der Bohrung ein Schlitz gefräst werden bzw.  können die Arbeitsstücke auf diese Weise zer  sägt werden.  



  Beim Bohren von roten     Rubinsteinen    z. B.       für    Uhren kann die     Behandlung    beim Bohren  so     durchgeführt    werden, dass um die Bohrzone  durch     Entchromung    eine weisse Zone entsteht,  die praktisch einem weissen     Reinkorundkristall     entspricht.

   Da bekanntlich     Reinkorund-          kristalle        günstigere    Eigenschaften bei Ver-         wendung    solcher Steine als Lager in der  Uhren-, Zähler- und sonstigen     Messinstrument-          und        Kleinapparatetechnik    aufweisen, ist die  erwähnte Behandlung für diese Anwendung  von besonderer Bedeutung.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRUCH Anordnung zum Bohren von Löchern in festen Körpern, gekennzeichnet durch einen Elektronenstrahlerzeuger und eine vor dem Bohrgut angeordnete Bohrmaske aus hoch schmelzendem Material mit einem Ausschnitt, dessen Querschnitt dem zu erzeugenden Bohr querschnitt entspricht, um einen Elektronen strahl von diesem Querschnitt zu erzeugen. UNTERANSPRÜCHE 1. Anordnung nach Patentanspruch, ge kennzeichnet durch eine Zwischenmaske zwi schen Bohrgut und Bohrmaske, zum Schutze der Bohrmaske gegen Aufdampfung von beim Bohren verdampften Materials. 2. Anordnung nach Patentanspruch und Unteranspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Zwischenmaske derart beweglich angeord net ist, dass sie bei der Bewegung von der Aufdampfschicht befreit wird. 3.
    Anordnung nach Patentanspruch und Unteranspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Zwischenmaske derart beweglich angeord net ist, dass sie als Sperrorgan für den Elek tronenstrahl dienen kann. 4. Anordnung nach Patentanspruch, da durch gekennzeichnet, dass eine Elektronen kanone mit Ionenausscheidung und Bolzen kathode verwendet ist, wobei die Bohrmaske mindestens angenähert iin Brennpunkt des Elektronenstrahls angebracht ist.
CH318624D 1954-07-12 1954-01-16 Anordnung zum Bohren von Löchern in festen Körpern CH318624A (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH318624T 1954-07-12

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH318624A true CH318624A (de) 1957-01-15

Family

ID=4497289

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH318624D CH318624A (de) 1954-07-12 1954-01-16 Anordnung zum Bohren von Löchern in festen Körpern

Country Status (1)

Country Link
CH (1) CH318624A (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2309972A1 (fr) * 1975-05-02 1976-11-26 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Canon a electrons a systeme de deviation, destine a etre utilise a des fins de chauffage, de fusion et d'evaporation
EP2365513A1 (de) * 2010-03-09 2011-09-14 ESSILOR INTERNATIONAL (Compagnie Générale d'Optique) Schutzumhüllung für eine Ionenkanone, Gerät zur Materialabscheidung durch Vakuumverdampfung mit einer solchen Schutzumhüllung und Verfahren zur Materialabscheidung

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2309972A1 (fr) * 1975-05-02 1976-11-26 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Canon a electrons a systeme de deviation, destine a etre utilise a des fins de chauffage, de fusion et d'evaporation
EP2365513A1 (de) * 2010-03-09 2011-09-14 ESSILOR INTERNATIONAL (Compagnie Générale d'Optique) Schutzumhüllung für eine Ionenkanone, Gerät zur Materialabscheidung durch Vakuumverdampfung mit einer solchen Schutzumhüllung und Verfahren zur Materialabscheidung
FR2957455A1 (fr) * 2010-03-09 2011-09-16 Essilor Int Enveloppe de protection pour canon a ions, dispositif de depot de materiaux par evaporation sous vide comprenant une telle enveloppe de protection et procede de depot de materiaux
US9099278B2 (en) 2010-03-09 2015-08-04 Essilor International (Compagnie Generale D'optique) Protective enclosure for an ion gun, device for depositing materials through vacuum evaporation comprising such a protective enclosure and method for depositing materials

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60007852T2 (de) Verfahren und vorrichtung zum verlängern der lebenszeit einer röntgenanode
DE60033458T2 (de) Vorrichtung zum Gasflusssputtern
DE2814044A1 (de) Verfahren zum herstellen eines loches in einem werkstueck mit hilfe von laserstrahlung
DE764927C (de) Verfahren zur Verdampfung im Vakuum
CH318624A (de) Anordnung zum Bohren von Löchern in festen Körpern
DE2610165A1 (de) Quelle zur erzeugung einfach und/oder mehrfach geladener ionen
DE19541510C2 (de) Gepulste Elektronenstrahlquelle und deren Verwendung
DE1287220B (de) Verfahren zum Aufbringen einer Lotglasschicht auf das Metallnetz von Auftreffelektroden fuer Gitterspeicherroehren
DE1142262B (de) Vorrichtung zur Erzeugung von duennen Metallschichten durch Ionenneutralisation
DE1225310B (de) Betriebsverfahren fuer eine Vorrichtung zum Bestrahlen mit Elektronen und Bestrahlungsvorrichtung
DE2815627A1 (de) Aufbau einer aufdampfquelle mit mehrfachelektronenstrahl
DE4100541C1 (de)
DE1514972B2 (de) Ionenstoß-Ionenquelle
DE2700196C2 (de)
DE1074163B (de) Kathodenstrahlröhre mit einem Strahlerzeugungssystem mit Ionenfalle
DE2333866A1 (de) Felddesorptions-ionenquelle und verfahren zu ihrer herstellung
DE3137568A1 (de) Verfahren zur analyse von festkoerpern, vorzugsweise metallen
DE688089C (de) Braunsche Roehre, bei welcher die Elektronen durch Ionenbombardement einer Gasentladung aus der kalten Kathode ausgeloest werden
DE896533C (de) Einrichtung zur Erzeugung eines Strahles von positiven Ionen oder von Elektronen
AT137264B (de) Einrichtung an Entladungsgefäßen mit einseitig gerichtetem Elektronenstrahl.
DE102023101453B3 (de) Verfahren und vorrichtung zur erzeugung von sekundärstrahlung, insbesondere euv-strahlung, mit wenigstens einem laser
AT79843B (de) Kathodenstrahlröhre.
DE1935975A1 (de) Verfahren zur Probenuntersuchung mit einer elektronischen Mikrosonde
DE519524C (de) Vakuumroehre mit Gluehkathode und zusaetzlicher Elektronenquelle
DE1539010B1 (de) Kaltkathoden-Glimmentladungseinrichtung zur Erzeugung eines Elektronenstrahlbuendels