Vorrichtung zum Entwickeln von Reproduktionen. Das Hauptpatent betrifft eine Vorrichtung zum Entwickeln von Reproduktionen. Diese Vorrichtung zeichnet sich gemäss Patentan spruch dadurch aus, dass in einem Gehäuse, dessen Unterteil zur Aufnahme der Entwick- lerflüssigkeit dient, von einer im Gehäuseober teil vorgesehenen Einführungsöffnung eine durch gekrümmte Leitwände begrenzte und in mindestens zwei übereinanderliegende Bah , nen unterteilte Zuführung zunächst in den die Entwieklerflüssigkeit enthaltenden Ge häuseunterteil und dann zu einer mindestens zwei aneinander anliegende Walzen aufweisen den Walzenanordnung führt.
Eine solche Vorrichtung kann zum Beispiel benutzt werden für ein bekanntes Verfahren, bei dem auf geeignete Träger aufgebrachte, die unentwickelten Ablichtungen der Urbilder enthaltende lichtempfindliche Schichten zu sammen mit auf ähnliche Träger aufgebrach ten unbelichteten andersartigen Schichten nach vorangegangener Benetzung mit einer Entwieklerflüssigkeit Schicht auf Schicht ge- geneinandergepresst werden.
In der Flüssigkeit werden dabei die belich teten Schichten entwickelt und beim Aufein- anderpressen einer belichteten und entwickel ten Schicht mit einer Schicht der andern Art in noch feuchtem Zustand wird das Bild von der ersten auf die zweite Schicht spiegelbild lich und farbverkehrt übertragen. Wenn man nach abgeschlossenem Verfahren die beiden aufeinandergepressten Schichtträger voneinan- der löst, hat man ein farbverkehrtes Negativ und ein originalgetreues Positiv des Urbildes.
Zur Entwicklung der belichteten Schichten ist eine verhältnismässig innige Benetzung mit der Entwiclderflüssigkeit notwendig. Dagegen ist es unter Umständen vorteilhafter, die Schicht, auf welche das Bild übertragen wer den soll, weniger stark zu benetzen. Versuche haben ergeben, dass man die unbelichtete Schicht sogar überhaupt nicht unmittelbar zu benetzen braucht und dass es genügt, die vor her trockene unbelichtete Schicht mit der nas-. sen belichteten und entwickelten Schicht zu sammenzupressen. In diesem Falle wird die in manchen Fällen beobachtete Neigung der fer tigen positiven Reproduktionen zum Nachgil- ben vermindert.
Die Erfindung betrifft eine Weiterbildung der im Hauptpatent beschriebenen Vorrich tung, welche es ermöglicht, die unmittelbar zu benetzenden und die nicht unmittelbar zu be netzenden Schichtträger gleichzeitig in die Vor richtung einzubringen und die Benetzung der Schichtträger der letztgenannten Art erst mit telbar beim gemeinsamen Durchgang durch die Walzen zu bewirken.
Man erreicht das dadurch, dass bei einer Vorrichtung gemäss dem Patentanspruch des Hauptpatentes die Berührungsmantellinien der Walzen oberhalb der Austrittsmündungen der Zuführungsbahnen liegen und dass eine der Zuführungsbahnen nicht unterbrochene, gegen den Zutritt der Entwicklerflüssigkeit dichte Wandungen aufweist, damit in diese dichte Zuführungsbahn bei oberhalb des Flüs sigkeitsspiegels liegenden Austrittsmündungen keine Flüssigkeit eindringen kann.
Vorzugsweise legt man undichte und dichte Zuführungsbahnen abwechselnd nebeneinan der. Um zwei Negativablichtungen zu entwik- keln und auf die beiderseits eines Positiv schichtträgers aufgebrachten Schichten über= tragen zu können, ist es zweckmässig, an einer in drei übereinanderliegende Bahnen unter teilten Zuführung die mittlere Bahn durch ununterbrochene Wände zu begrenzen, die beiden aussen liegenden Bahnen dagegen so auszubilden, dass die im Gehäuse befindliche Flüssigkeit zutreten kann.
Um der letztgenannten Bedingung genü gen zu können, so dass auch die der gesehlos- senen Mittelbahn zugewandten Schichten der Negativablichtungen mit Sicherheit von der Flüssigkeit umspült werden, kann man vor teilhaft die den aussen liegenden Bahnen zu gekehrten Seiten der Begrenzungswände 3b, 3c der mittleren Bahn mit Erhebungen ver sehen, auf denen die Schichtträger aufliegen können und zwischen denen Entwicklerflüs- sigkeit durchtreten kann. Solche Erhebungen können in Form von wellenartigen Rippen ausgebildet werden.
Zum selben Zweck kann man in den aussen liegenden Zuführungs bahnen im Abstand von den mit der mitt leren Bahn gemeinsamen Wänden besondere, den Durchtritt der Entwicklerflüssigkeit er möglichende öffnungen anordnen.
In der Zeichnung ist ein Ausführungsbei spiel des Erfindungsgegenstandes dargestellt, und zwar zeigt Fig. 1 .die Gesamtanordnung der Zuführungsbahnen im Längsschnitt. Fig. 2 stellt in grösserem Massstab einen Längs schnitt durch eine für sich getrennt gezeigte Zuführung dar, und Fig.3 ist eine teilweise aufgeschnittene Draufsicht auf die in Fig.2 dargestellte Zuführung.
Die Teile der Vorrichtung sind, wie auf der Zeichnung zum Hauptpatent bezeichnet, nämlich die Walzen mit 1 und 2, die die Zu führung begrenzenden und unterteilenden Leitelemente mit 3, der die Walzen und die Zuführungsbahnen aufnehmende Rahmen mit 6, der Gehäuseunterteil mit 7 und der Ge häusedeckel mit B. Dabei sind die Walzen 1, 2 und die zwischen den Leitelementen 3 ge bildeten Zuführungsbahnen 7.6, 17 und 18 so angeordnet, da.ss sowohl die Berührungsman- tellinie der Walzen und die den Walzen zu gewendeten Mündungen der Bahnen 16, 17 und 18 oberhalb des Flüssigkeitsspiegels der Entwicklerflüssigkeit im Gehäuseunterteil liegen.
Die Leitelemente 3 haben beim dargestell ten Beispiel die Form von gekrümmten Plat ten 3a, 3b, 3c und 3d, welehe an Seitenplat ten 31 befestigt sind und mit diesen eine im Rahmen 6 gelagerte Einheit bilden. Sowohl die äussern Platten 3a und 3d als auch die im Bereich der äussern Zuführungsbahnen 16 und 18 gelagerten Teile der Seitenplatten 31 sind mit zahlreichen Lochungen 32 versehen, um der Entwicklerflüssigkeit Zutritt zu den Bahnen 16 und 18 zu gewähren. Dagegen sind die Platten 3b und 3c sowie die zwischen ihnen liegenden Teile der Seitenwand 31 voll wandig ausgebildet.
Die den Bahnen 16 und 18 zugewandten Flächen der Platten 3b und 3c zeigen eine wellenartige Verrippung 33, die schräg zur Bahnriehtung verläuft. Da durch wird erreicht, dass Entwicklerflüssig- keit über die öffnungen 32 der Seitenwände 31 in die Wellentäler einfliessen und die Schicht der nur auf den Wellenscheiteln aufliegenden, nicht dargestellten Schichtträ ger benetzen kann.