Vorrichtung zum Entwickeln von Reproduktionen. Das Hauptpatent betrifft eine Vorrichtung zum Entwickeln von Reproduktionen. Diese Vorrichtung zeichnet sich gemäss Patentan spruch dadurch aus, dass in einem Gehäuse, dessen Unterteil zur Aufnahme der Entwick- lerflüssigkeit dient, von einer im Gehäuseober teil vorgesehenen Einführungsöffnung eine durch gekrümmte Leitwände begrenzte und in mindestens zwei übereinanderliegende Bah , nen unterteilte Zuführung zunächst in den die Entwieklerflüssigkeit enthaltenden Ge häuseunterteil und dann zu einer mindestens zwei aneinander anliegende Walzen aufweisen den Walzenanordnung führt.
Eine solche Vorrichtung kann zum Beispiel benutzt werden für ein bekanntes Verfahren, bei dem auf geeignete Träger aufgebrachte, die unentwickelten Ablichtungen der Urbilder enthaltende lichtempfindliche Schichten zu sammen mit auf ähnliche Träger aufgebrach ten unbelichteten andersartigen Schichten nach vorangegangener Benetzung mit einer Entwieklerflüssigkeit Schicht auf Schicht ge- geneinandergepresst werden.
In der Flüssigkeit werden dabei die belich teten Schichten entwickelt und beim Aufein- anderpressen einer belichteten und entwickel ten Schicht mit einer Schicht der andern Art in noch feuchtem Zustand wird das Bild von der ersten auf die zweite Schicht spiegelbild lich und farbverkehrt übertragen. Wenn man nach abgeschlossenem Verfahren die beiden aufeinandergepressten Schichtträger voneinan- der löst, hat man ein farbverkehrtes Negativ und ein originalgetreues Positiv des Urbildes.
Zur Entwicklung der belichteten Schichten ist eine verhältnismässig innige Benetzung mit der Entwiclderflüssigkeit notwendig. Dagegen ist es unter Umständen vorteilhafter, die Schicht, auf welche das Bild übertragen wer den soll, weniger stark zu benetzen. Versuche haben ergeben, dass man die unbelichtete Schicht sogar überhaupt nicht unmittelbar zu benetzen braucht und dass es genügt, die vor her trockene unbelichtete Schicht mit der nas-. sen belichteten und entwickelten Schicht zu sammenzupressen. In diesem Falle wird die in manchen Fällen beobachtete Neigung der fer tigen positiven Reproduktionen zum Nachgil- ben vermindert.
Die Erfindung betrifft eine Weiterbildung der im Hauptpatent beschriebenen Vorrich tung, welche es ermöglicht, die unmittelbar zu benetzenden und die nicht unmittelbar zu be netzenden Schichtträger gleichzeitig in die Vor richtung einzubringen und die Benetzung der Schichtträger der letztgenannten Art erst mit telbar beim gemeinsamen Durchgang durch die Walzen zu bewirken.
Man erreicht das dadurch, dass bei einer Vorrichtung gemäss dem Patentanspruch des Hauptpatentes die Berührungsmantellinien der Walzen oberhalb der Austrittsmündungen der Zuführungsbahnen liegen und dass eine der Zuführungsbahnen nicht unterbrochene, gegen den Zutritt der Entwicklerflüssigkeit dichte Wandungen aufweist, damit in diese dichte Zuführungsbahn bei oberhalb des Flüs sigkeitsspiegels liegenden Austrittsmündungen keine Flüssigkeit eindringen kann.
Vorzugsweise legt man undichte und dichte Zuführungsbahnen abwechselnd nebeneinan der. Um zwei Negativablichtungen zu entwik- keln und auf die beiderseits eines Positiv schichtträgers aufgebrachten Schichten über= tragen zu können, ist es zweckmässig, an einer in drei übereinanderliegende Bahnen unter teilten Zuführung die mittlere Bahn durch ununterbrochene Wände zu begrenzen, die beiden aussen liegenden Bahnen dagegen so auszubilden, dass die im Gehäuse befindliche Flüssigkeit zutreten kann.
Um der letztgenannten Bedingung genü gen zu können, so dass auch die der gesehlos- senen Mittelbahn zugewandten Schichten der Negativablichtungen mit Sicherheit von der Flüssigkeit umspült werden, kann man vor teilhaft die den aussen liegenden Bahnen zu gekehrten Seiten der Begrenzungswände 3b, 3c der mittleren Bahn mit Erhebungen ver sehen, auf denen die Schichtträger aufliegen können und zwischen denen Entwicklerflüs- sigkeit durchtreten kann. Solche Erhebungen können in Form von wellenartigen Rippen ausgebildet werden.
Zum selben Zweck kann man in den aussen liegenden Zuführungs bahnen im Abstand von den mit der mitt leren Bahn gemeinsamen Wänden besondere, den Durchtritt der Entwicklerflüssigkeit er möglichende öffnungen anordnen.
In der Zeichnung ist ein Ausführungsbei spiel des Erfindungsgegenstandes dargestellt, und zwar zeigt Fig. 1 .die Gesamtanordnung der Zuführungsbahnen im Längsschnitt. Fig. 2 stellt in grösserem Massstab einen Längs schnitt durch eine für sich getrennt gezeigte Zuführung dar, und Fig.3 ist eine teilweise aufgeschnittene Draufsicht auf die in Fig.2 dargestellte Zuführung.
Die Teile der Vorrichtung sind, wie auf der Zeichnung zum Hauptpatent bezeichnet, nämlich die Walzen mit 1 und 2, die die Zu führung begrenzenden und unterteilenden Leitelemente mit 3, der die Walzen und die Zuführungsbahnen aufnehmende Rahmen mit 6, der Gehäuseunterteil mit 7 und der Ge häusedeckel mit B. Dabei sind die Walzen 1, 2 und die zwischen den Leitelementen 3 ge bildeten Zuführungsbahnen 7.6, 17 und 18 so angeordnet, da.ss sowohl die Berührungsman- tellinie der Walzen und die den Walzen zu gewendeten Mündungen der Bahnen 16, 17 und 18 oberhalb des Flüssigkeitsspiegels der Entwicklerflüssigkeit im Gehäuseunterteil liegen.
Die Leitelemente 3 haben beim dargestell ten Beispiel die Form von gekrümmten Plat ten 3a, 3b, 3c und 3d, welehe an Seitenplat ten 31 befestigt sind und mit diesen eine im Rahmen 6 gelagerte Einheit bilden. Sowohl die äussern Platten 3a und 3d als auch die im Bereich der äussern Zuführungsbahnen 16 und 18 gelagerten Teile der Seitenplatten 31 sind mit zahlreichen Lochungen 32 versehen, um der Entwicklerflüssigkeit Zutritt zu den Bahnen 16 und 18 zu gewähren. Dagegen sind die Platten 3b und 3c sowie die zwischen ihnen liegenden Teile der Seitenwand 31 voll wandig ausgebildet.
Die den Bahnen 16 und 18 zugewandten Flächen der Platten 3b und 3c zeigen eine wellenartige Verrippung 33, die schräg zur Bahnriehtung verläuft. Da durch wird erreicht, dass Entwicklerflüssig- keit über die öffnungen 32 der Seitenwände 31 in die Wellentäler einfliessen und die Schicht der nur auf den Wellenscheiteln aufliegenden, nicht dargestellten Schichtträ ger benetzen kann.
Apparatus for developing reproductions. The main patent relates to an apparatus for developing reproductions. According to the patent claim, this device is characterized in that in a housing, the lower part of which is used to receive the developer liquid, from an inlet opening provided in the upper part of the housing, a feed, which is delimited by curved guide walls and divided into at least two superimposed paths, initially enters the the lower part of the housing containing the Entwiekleriquid and then leads to at least two adjacent rollers having the roller arrangement.
Such a device can be used, for example, for a known method in which light-sensitive layers applied to suitable supports and containing the undeveloped copies of the master images together with unexposed different types of layers applied to similar supports, after prior wetting with a developer fluid, layer on layer. are pressed together.
The exposed layers are developed in the liquid and when an exposed and developed layer is pressed onto one another with a layer of the other type while still moist, the image is transferred from the first to the second layer in a mirror image and reversed color. If, after the process is complete, you detach the two layer carriers pressed together, you have a negative in color and a positive of the original that is true to the original.
A relatively intimate wetting with the developer liquid is necessary for the development of the exposed layers. On the other hand, it may be more advantageous under certain circumstances to apply less moisture to the layer onto which the image is to be transferred. Tests have shown that the unexposed layer does not even need to be wetted directly at all and that it is sufficient to wet the previously dry unexposed layer with the wet. to compress sen exposed and developed layer. In this case the tendency of the final positive reproductions to yield, observed in some cases, is reduced.
The invention relates to a development of the device Vorrich described in the main patent, which makes it possible to bring the directly to be wetted and the not directly to be wetting substrate at the same time in the device and the wetting of the substrate of the last-mentioned type only with the common passage through the To effect rolling.
This is achieved in that, in a device according to the patent claim of the main patent, the contact surface lines of the rollers lie above the outlet openings of the feed tracks and that one of the feed tracks has uninterrupted walls that are impervious to the ingress of the developer liquid, so that this tight feed track is above the flow liquid can not penetrate the outlet mouths.
Preferably, leaky and tight feed tracks are alternately placed next to one another. In order to be able to develop two negative exposures and to be able to transfer them to the layers applied on both sides of a positive carrier, it is advisable to delimit the middle path with uninterrupted walls on a feeder divided into three superimposed lanes, while the two outer lanes on the other hand to be designed so that the liquid in the housing can enter.
In order to be able to satisfy the last-mentioned condition, so that the layers of the negative exposures facing the closed central web are also reliably washed by the liquid, one can advantageously use the outer webs facing sides of the boundary walls 3b, 3c of the central web Provide with elevations on which the substrate can rest and between which developer fluid can pass. Such elevations can be designed in the form of wave-like ribs.
For the same purpose, special openings that allow the developer liquid to pass through can be arranged in the outer feed tracks at a distance from the walls that are common to the central track.
In the drawing, a Ausführungsbei is shown game of the subject invention, namely Fig. 1. The overall arrangement of the feed tracks in longitudinal section. Fig. 2 shows on a larger scale a longitudinal section through a feed shown separately, and Fig. 3 is a partially cut-open plan view of the feed shown in Figure 2.
The parts of the device are, as indicated in the drawing for the main patent, namely the rollers with 1 and 2, the guiding elements limiting and dividing the guide elements with 3, the rollers and the feed tracks receiving frame with 6, the lower housing part with 7 and the Housing cover with B. The rollers 1, 2 and the feed tracks 7.6, 17 and 18 formed between the guide elements 3 are arranged in such a way that both the contact surface line of the rollers and the mouths of the tracks 16 facing the rollers, 17 and 18 lie above the liquid level of the developer liquid in the lower part of the housing.
The guide elements 3 have the form of curved Plat th 3a, 3b, 3c and 3d, welehe th on Seitenplat 31 and form a unit mounted in the frame 6 with these. Both the outer plates 3a and 3d and the parts of the side plates 31 mounted in the area of the outer feed tracks 16 and 18 are provided with numerous perforations 32 in order to allow the developer fluid access to the tracks 16 and 18. In contrast, the plates 3b and 3c and the parts of the side wall 31 lying between them are of full-wall design.
The surfaces of the plates 3b and 3c facing the webs 16 and 18 show a wave-like ribbing 33 which runs obliquely to the web direction. This ensures that developer liquid can flow into the wave troughs via the openings 32 in the side walls 31 and wet the layer of the layer carriers (not shown) that rest only on the wave crests.