CA2554921A1 - Dispositif de nitruration par implantation ionique d'une piece en alliage d'aluminium et procede mettant en oeuvre un tel dispositif - Google Patents
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- 238000002513 implantation Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 36
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 title description 8
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 93
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 23
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 14
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 23
- 235000019589 hardness Nutrition 0.000 description 21
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 12
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 11
- -1 nitrogen ions Chemical class 0.000 description 10
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 9
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 5
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 5
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical group [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 4
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 3
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical group 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 101100452236 Caenorhabditis elegans inf-1 gene Proteins 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000003292 diminished effect Effects 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000013467 fragmentation Methods 0.000 description 1
- 238000006062 fragmentation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 101150002826 inf2 gene Proteins 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002991 molded plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000011197 physicochemical method Methods 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000000135 prohibitive effect Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 235000019592 roughness Nutrition 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002470 thermal conductor Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
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-
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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Abstract
L~invention concerne un dispositif d~implantation d~ions dans une pièce en alliage d~aluminium (5) comportant une source d~ions (6) délivrant des ions accélérés par une tension d~extraction et des premiers moyens de réglage (7-11) d~un faisceau initial (f1~) d~ions émis par ladite source (6) en un faisceau d~implantation (f1). Ladite source (6) est une source à résonance cyclotronique électronique produisant le faisceau initial (f1~) d~ions multi-énergies qui sont implantés dans la pièce (5) à une température inférieure à 120 ·C. L~implantation de ces ions multi-énergies du faisceau d~implantation (f1) réglé par l~intermédiaire des dits moyens de réglage (7-11) est effectuée simultanément à une profondeur contrôlée par la tension d~extraction de la source.
Description
Dispositif de nitruration par implantation ionique d'une pièce en alliage d'aluminium et procédé mettant en aeuvre un tel dispositif.
Domaine de !'invention .
L'invention a pour objet un dispositif de nitruration par implantation ionique d'une pièce en alliage d'aluminium à partir d'un faisceau d'ions d'azote émis par une source d'ions. L'invention a également pour objet un procédé de nitruration d'une pièce en alliage d'aluminium mettant en oeuvre un tel dispositif.
L'invention trouve des applications par exemple dans le domaine de la plasturgie où il est nécessaire de traiter les pièces réalisées en alliage d'aluminium qui sont utilisées comme moules de fabrication en série de pièces en matière plastique.
Etat de la technique Dans le domaine de la plasturgie, la plupart des pièces en matière plastique sont réalisées par moulage dans des moules métalliques.
Actuellement, la plupart de ces ,moules sont en acier. En effet, l'acier est un matériau solide ayant une bonne tenue mécanique dans le temps. Chaque moule en acier permet ainsi de réaliser un nombre important de pièces en matière plastique de l'ordre de 500 000 à 1 000 000 d'unités. Cependant, l'acier est un matériau difficile à traiter qui, par conséquent, ne permet pas une mise rapide de la production sur le marché. II ne permet pas non plus une grande flexibilité de forme, alors que la tendance actuelle est de changer fréquemment la forme des pièces en plastique et, donc, la forme des moules d'injection. Pour ces raisons, le coût en usinage et en temps d'un moule en acier est relativement élevé.
On cherche donc de plus en plus dans le domaine de la plasturgie à
réaliser des moules d'injection dans un autre métal que l'acier. Les alliages
Domaine de !'invention .
L'invention a pour objet un dispositif de nitruration par implantation ionique d'une pièce en alliage d'aluminium à partir d'un faisceau d'ions d'azote émis par une source d'ions. L'invention a également pour objet un procédé de nitruration d'une pièce en alliage d'aluminium mettant en oeuvre un tel dispositif.
L'invention trouve des applications par exemple dans le domaine de la plasturgie où il est nécessaire de traiter les pièces réalisées en alliage d'aluminium qui sont utilisées comme moules de fabrication en série de pièces en matière plastique.
Etat de la technique Dans le domaine de la plasturgie, la plupart des pièces en matière plastique sont réalisées par moulage dans des moules métalliques.
Actuellement, la plupart de ces ,moules sont en acier. En effet, l'acier est un matériau solide ayant une bonne tenue mécanique dans le temps. Chaque moule en acier permet ainsi de réaliser un nombre important de pièces en matière plastique de l'ordre de 500 000 à 1 000 000 d'unités. Cependant, l'acier est un matériau difficile à traiter qui, par conséquent, ne permet pas une mise rapide de la production sur le marché. II ne permet pas non plus une grande flexibilité de forme, alors que la tendance actuelle est de changer fréquemment la forme des pièces en plastique et, donc, la forme des moules d'injection. Pour ces raisons, le coût en usinage et en temps d'un moule en acier est relativement élevé.
On cherche donc de plus en plus dans le domaine de la plasturgie à
réaliser des moules d'injection dans un autre métal que l'acier. Les alliages
2 d'aluminium constituent l'un de ces métaux. En effet, l'alliage d'aluminium présente l'avantage d'avoir une excellente usinabilité, c'est-à-dire de permettre un usinage à grande vitesse. L'alliage d'aluminium présente aussi une forte capacité d'échange thermique, ce qui entraine un refroidissement plus rapide de la pièce en matière plastique, ainsi qu'une grande légèreté, donc une manipulation plus aisée. L'alliage d'aluminium présente, à volume égal, un coût sensiblement comparable à celui de l'acier.
Un problème général à résoudre dans le domaine réside dans le fait que les moules en alliage d'aluminium ont une tenue mécanique limitée dans le temps, d'où une capacité de production faible par rapport à ceux réalisés en acier. Le nombre de pièces en matière plastique réalisées dans un moule en alliage d'aluminium est typiquement de l'ordre 1 000 unités. En outre, un problème particulier à résoudre dans le domaine des moules en alliage d'aluminium, réside dans le fait que les phénomènes d'érosion de la surface moulante, de matage du plan de joint ou de corrosion apparaissent plus rapidement que sur les moules en acier.
Les fabricants de moules à injection en alliage d'aluminium cherchent à résoudre ces problèmes en améliorant la tenue mécanique superficielle de ces moules. Pour cela, ils cherchent à augmenter la résistance à l'usure en accroissant la dureté superficielle et la lubrification (diminution du coefficient de friction) et en renforçant la résistance à la corrosion, essentiellement due aux attaques chlorëes.
Différents procédés, chimiques ou physico-chimiques, sont connus pour améliorer la tenue mécanique des moules en alliage d'aluminium.
Parmi les procédés chimiques, on connaît celui qui consiste en une anodisation du moule en alliage d'aluminium. L'anodisation est un procédé
électrolytique permettant d'épaissir la couche naturelle d'alumine (AI203) jusqu'à des épaisseurs de l'ordre de 20 microns. Cette couche d'alumine est dure mais très cassante (une ténacité sensiblement identique à celle du verre). De plus, elle offre un coefficient de dilatation thermique élevé et
Un problème général à résoudre dans le domaine réside dans le fait que les moules en alliage d'aluminium ont une tenue mécanique limitée dans le temps, d'où une capacité de production faible par rapport à ceux réalisés en acier. Le nombre de pièces en matière plastique réalisées dans un moule en alliage d'aluminium est typiquement de l'ordre 1 000 unités. En outre, un problème particulier à résoudre dans le domaine des moules en alliage d'aluminium, réside dans le fait que les phénomènes d'érosion de la surface moulante, de matage du plan de joint ou de corrosion apparaissent plus rapidement que sur les moules en acier.
Les fabricants de moules à injection en alliage d'aluminium cherchent à résoudre ces problèmes en améliorant la tenue mécanique superficielle de ces moules. Pour cela, ils cherchent à augmenter la résistance à l'usure en accroissant la dureté superficielle et la lubrification (diminution du coefficient de friction) et en renforçant la résistance à la corrosion, essentiellement due aux attaques chlorëes.
Différents procédés, chimiques ou physico-chimiques, sont connus pour améliorer la tenue mécanique des moules en alliage d'aluminium.
Parmi les procédés chimiques, on connaît celui qui consiste en une anodisation du moule en alliage d'aluminium. L'anodisation est un procédé
électrolytique permettant d'épaissir la couche naturelle d'alumine (AI203) jusqu'à des épaisseurs de l'ordre de 20 microns. Cette couche d'alumine est dure mais très cassante (une ténacité sensiblement identique à celle du verre). De plus, elle offre un coefficient de dilatation thermique élevé et
3 présente une sensibilité aux attaques chlorées, d'où une grande fragilité au regard de la fatigue thermique et de la corrosion.
Un autre procédé chimique est le chromage dur. Ce procédé est un traitement électrolytique des moules en alliage d'aluminium qui permet de les durcir. Cependant, ce procédé pose des problèmes d'homogénéité
d'épaisseur sur les arêtes des moules. De plus il nécessite une préparation de surface dite de dérochage (création de micro rugosités d'accroche de 7 à
8 microns) dont la qualité dépend du savoir-faire du sous-traitant, d'ou une mauvaise réputation auprès des moulistes.
Un autre procédé chimique est le nickelage. Ce procédé consiste en un dépôt uniforme d'une couche de nickel imprégnée de téflon pour lubrifier la surface. Cependant, l'imprégnation du nickel par le téflon exige le maintien du moule pendant plusieurs heures à une température de 250°C, fatal aux propriétés mécaniques des alliages d'aluminium. Sans téflon, donc sans lubrification, la couche de nickel présente à son tour des risques de délaminage.
Un autre procédé chimique est le dépôt en phase vapeur de nitrure de chrome. Ce procédé pose un problème en ce qui concerne l'adhérence de la couche de nitrure de chrome, qui est de mauvaise qualité du fait de la faiblesse de la température d'application autorisée (au-delà de laquelle les propriétés mécaniques du substrat sont détruites).
Un procédé physico-chimique est la nitruration thermique. Celui-ci consiste à cémenter par de l'azote une pièce métallique pour obtenir une grande dureté superficielle. Généralement, cette nitruration est réalisée thermiquement, c'est-à-dire que la pièce métallique à traiter est chauffée à
une température supérieure à 500°C dans un courant de gaz ammoniac. A
cette température, le gaz ammoniac se dissout et diffuse dans l'alliage en formant des nitrures. On pourra par exemple se reporter au document US
Un autre procédé chimique est le chromage dur. Ce procédé est un traitement électrolytique des moules en alliage d'aluminium qui permet de les durcir. Cependant, ce procédé pose des problèmes d'homogénéité
d'épaisseur sur les arêtes des moules. De plus il nécessite une préparation de surface dite de dérochage (création de micro rugosités d'accroche de 7 à
8 microns) dont la qualité dépend du savoir-faire du sous-traitant, d'ou une mauvaise réputation auprès des moulistes.
Un autre procédé chimique est le nickelage. Ce procédé consiste en un dépôt uniforme d'une couche de nickel imprégnée de téflon pour lubrifier la surface. Cependant, l'imprégnation du nickel par le téflon exige le maintien du moule pendant plusieurs heures à une température de 250°C, fatal aux propriétés mécaniques des alliages d'aluminium. Sans téflon, donc sans lubrification, la couche de nickel présente à son tour des risques de délaminage.
Un autre procédé chimique est le dépôt en phase vapeur de nitrure de chrome. Ce procédé pose un problème en ce qui concerne l'adhérence de la couche de nitrure de chrome, qui est de mauvaise qualité du fait de la faiblesse de la température d'application autorisée (au-delà de laquelle les propriétés mécaniques du substrat sont détruites).
Un procédé physico-chimique est la nitruration thermique. Celui-ci consiste à cémenter par de l'azote une pièce métallique pour obtenir une grande dureté superficielle. Généralement, cette nitruration est réalisée thermiquement, c'est-à-dire que la pièce métallique à traiter est chauffée à
une température supérieure à 500°C dans un courant de gaz ammoniac. A
cette température, le gaz ammoniac se dissout et diffuse dans l'alliage en formant des nitrures. On pourra par exemple se reporter au document US
4,597,808 (ARAI TOHRU et al) qui décrit un procédé physico-chimique du type susvisé. Cependant, il existe un autre problème lié au type de matériaux à traiter, à savoir les alliages d'aluminium. En effet, ces derniers contiennent des précipités durcissant obtenus par des revenus thermiques compris entre 120 et 150°C, ces précipités participant de la bonne tenue mécanique de ces alliages. Or une élévation de température de l'alliage d'aluminium à une température supérieure à 500°C, telle préconisée par US 4,597,808, tend à
éliminer ces précipités. II en découle que le procédé décrit par le document US 4,597,808 est insatisfaisant au regard de la tenue mécanique recherchée des alliages d'aluminium.
II existe d'autres procédés de nitruration de pièces d'aluminium destinées à être utilisées dans le domaine électronique. Le but recherché par ces procédés est de réaliser un traitement superficiel de la surface de l'aluminium pour déposer une fine couche de nitrure ou d'oxyde d'aluminium qui présente des caractéristiques intéressantes d'un point de vue électronique, et notamment des caractéristiques de bon isolant acoustique et de bon conducteur thermique, ceci afin de préserver les propriétés électroniques de la pièce en aluminium. On pourra par exemple se reporter aux documents EP 1 288 329 (CCR GmbH Beschichtungs-techno) et US
4 698 233 (Iwaki Masaya et al) qui décrivent de tels procédés de traitement de pièces d'aluminium utilisées dans le domaine électronique.
Par ailleurs, il a été évoqué par le document US 5,925,886 (Togiguchi Katsumi et al) la possibilité de produire un faisceau d'ions à partir d'une source d'ions à résonance cyclotronique électronique (source RCE). On rappelle qu'une source RCE présente deux caractéristiques principales - un champ magnétique qui confine les ions dans un volume délimité
situé à l'intérieur de la source, et dénommé la chambre à plasma, et - une onde haute fréquence libérée à l'intérieur de la source et destinée à chauffer les électrons qui peuvent alors être ionisés.
La chambre de la source comporte un plasma chaud, constitué d'un mélange d'ions et d'électrons confinés magnétiquement. Les ions peuvent être extraits de la chambre par un orifice pour être ensuite accélérés. Pour la production d'ions gazeux (d'oxygène, d'azote, de néon etc.), le gaz choisi est introduit dans la source en une quantité suffisante pour atteindre l'intensité
du faisceau d'ions demandée.
Exposé de l'invention
éliminer ces précipités. II en découle que le procédé décrit par le document US 4,597,808 est insatisfaisant au regard de la tenue mécanique recherchée des alliages d'aluminium.
II existe d'autres procédés de nitruration de pièces d'aluminium destinées à être utilisées dans le domaine électronique. Le but recherché par ces procédés est de réaliser un traitement superficiel de la surface de l'aluminium pour déposer une fine couche de nitrure ou d'oxyde d'aluminium qui présente des caractéristiques intéressantes d'un point de vue électronique, et notamment des caractéristiques de bon isolant acoustique et de bon conducteur thermique, ceci afin de préserver les propriétés électroniques de la pièce en aluminium. On pourra par exemple se reporter aux documents EP 1 288 329 (CCR GmbH Beschichtungs-techno) et US
4 698 233 (Iwaki Masaya et al) qui décrivent de tels procédés de traitement de pièces d'aluminium utilisées dans le domaine électronique.
Par ailleurs, il a été évoqué par le document US 5,925,886 (Togiguchi Katsumi et al) la possibilité de produire un faisceau d'ions à partir d'une source d'ions à résonance cyclotronique électronique (source RCE). On rappelle qu'une source RCE présente deux caractéristiques principales - un champ magnétique qui confine les ions dans un volume délimité
situé à l'intérieur de la source, et dénommé la chambre à plasma, et - une onde haute fréquence libérée à l'intérieur de la source et destinée à chauffer les électrons qui peuvent alors être ionisés.
La chambre de la source comporte un plasma chaud, constitué d'un mélange d'ions et d'électrons confinés magnétiquement. Les ions peuvent être extraits de la chambre par un orifice pour être ensuite accélérés. Pour la production d'ions gazeux (d'oxygène, d'azote, de néon etc.), le gaz choisi est introduit dans la source en une quantité suffisante pour atteindre l'intensité
du faisceau d'ions demandée.
Exposé de l'invention
5 L'invention a pour but de remédier aux inconvénients et problèmes des techniques exposées précédemment.
II est notamment visé par la présente invention de proposer un dispositif d'implantation ionique, notamment d'ions azote, dans une pièce en alliage d'aluminium pour améliorer la tenue mécanique de cette dernière.
II est encore visé par la présente invention de proposer un tel dispositif qui permette un traitement en profondeur de l'alliage d'aluminium, typiquement sur une épaisseur de l'ordre de 0 à 3 pm, et dont la mise en oeuvre ne provoque pas une altération des caractéristiqûes mécaniques de la pièce à traiter, autorisant son utilisation après traitement sans reprise de la pièce.
II est aussi visé par. la présente invention de proposer un tel dispositif autorisant un traitement de zones spécifiques de la pièce en alliage d'aluminium.
II est également visé par la présente invention de proposer un tel dispositif qui ne nécessite pas des temps de traitement qui soient longs.
II est enfin visé par la présente invention de proposer un tel dispositif qui soit peu coûteux pour permettre son utilisation dans un cadre industriel, son coût ne devant pas être rédhibitoire par rapport aux coûts d'autres procédés de traitement.
La démarche inventive de la présente invention a consisté à proposer de réaliser à basse température, plus précisément à une température inférieure à 120°C, le traitement d'une pièce en alliage d'aluminium par implantation simultanée d'ions multi-énergies. Ces derniers sont obtenus en extrayant avec une même et unique tension d'extraction des ions mono- et multi-chargés créés dans la chambre à plasma d'une source d'ions à
résonance cyclotronique électronique (source RCE). Chaque ion produit par
II est notamment visé par la présente invention de proposer un dispositif d'implantation ionique, notamment d'ions azote, dans une pièce en alliage d'aluminium pour améliorer la tenue mécanique de cette dernière.
II est encore visé par la présente invention de proposer un tel dispositif qui permette un traitement en profondeur de l'alliage d'aluminium, typiquement sur une épaisseur de l'ordre de 0 à 3 pm, et dont la mise en oeuvre ne provoque pas une altération des caractéristiqûes mécaniques de la pièce à traiter, autorisant son utilisation après traitement sans reprise de la pièce.
II est aussi visé par. la présente invention de proposer un tel dispositif autorisant un traitement de zones spécifiques de la pièce en alliage d'aluminium.
II est également visé par la présente invention de proposer un tel dispositif qui ne nécessite pas des temps de traitement qui soient longs.
II est enfin visé par la présente invention de proposer un tel dispositif qui soit peu coûteux pour permettre son utilisation dans un cadre industriel, son coût ne devant pas être rédhibitoire par rapport aux coûts d'autres procédés de traitement.
La démarche inventive de la présente invention a consisté à proposer de réaliser à basse température, plus précisément à une température inférieure à 120°C, le traitement d'une pièce en alliage d'aluminium par implantation simultanée d'ions multi-énergies. Ces derniers sont obtenus en extrayant avec une même et unique tension d'extraction des ions mono- et multi-chargés créés dans la chambre à plasma d'une source d'ions à
résonance cyclotronique électronique (source RCE). Chaque ion produit par
6 ladite source présente une énergie qui est proportionnelle à son état de charge. II en découle que les ions dont l'état de charge est le plus élevé, donc d'énergie la plus élevée, s'implantent dans la pièce en alliage à des profondeurs plus importantes.
On notera à ce stade de la description que cette implantation est rapide et peu coûteuse puisqu'elle ne nécessite pas une tension d'extraction élevée de la source d'ions. En effet, pour augmenter l'énergie d'implantation d'un ion, il est économiquement préférable d'augmenter son état de charge plutôt que d'augmenter sa tension d'extraction.
On notera également que ce dispositif permet de traiter une pièce sans altérer ses propriétés mécaniques dues à la présence de précipités durcissants préalablement obtenus par revenus thermiques effectués à une température comprise entré 120°C et 150°C.
Le dispositif d'implantation d'ions dans une pièce en alliage d'aluminium comporte une source délivrant des ions accélérés par une tension d'extraction et des premiers moyens de réglage d'un faisceau initial d'ions émis par ladite source en un faisceau d'implantation.
Selon la présente invention, un tel dispositif est principalement reconnaissable en ce que ladite source est une source à résonance cyclotronique électronique produisant des ions multi-énergies qui sont implantés dans la pièce à une température inférieure à 120°C, l'implantation des ions du faisceau d'implantation étant effectuée simultanément à une profondeur contrôlée par la tension d'extraction de la source.
Plus particulièrement, le procédé de l'invention propose d'utiliser des ions d'azote multi-énergies produits par la source d'ions RCE à l'intérieur de laquelle de l'azote a été préalablement introduit et d'implanter les ions produits simultanément dans la pièce en alliage d'aluminium, ce qui engendre des microcristaux de nitrure d'aluminium induisant à leur tour une augmentation de la dureté. L'implantation simultanée de ces ions d'azote ~ peut se faire à des profondeurs variables, en fonction des besoins et de la forme de la pièce. Ces profondeurs dépendent des énergies d'implantation
On notera à ce stade de la description que cette implantation est rapide et peu coûteuse puisqu'elle ne nécessite pas une tension d'extraction élevée de la source d'ions. En effet, pour augmenter l'énergie d'implantation d'un ion, il est économiquement préférable d'augmenter son état de charge plutôt que d'augmenter sa tension d'extraction.
On notera également que ce dispositif permet de traiter une pièce sans altérer ses propriétés mécaniques dues à la présence de précipités durcissants préalablement obtenus par revenus thermiques effectués à une température comprise entré 120°C et 150°C.
Le dispositif d'implantation d'ions dans une pièce en alliage d'aluminium comporte une source délivrant des ions accélérés par une tension d'extraction et des premiers moyens de réglage d'un faisceau initial d'ions émis par ladite source en un faisceau d'implantation.
Selon la présente invention, un tel dispositif est principalement reconnaissable en ce que ladite source est une source à résonance cyclotronique électronique produisant des ions multi-énergies qui sont implantés dans la pièce à une température inférieure à 120°C, l'implantation des ions du faisceau d'implantation étant effectuée simultanément à une profondeur contrôlée par la tension d'extraction de la source.
Plus particulièrement, le procédé de l'invention propose d'utiliser des ions d'azote multi-énergies produits par la source d'ions RCE à l'intérieur de laquelle de l'azote a été préalablement introduit et d'implanter les ions produits simultanément dans la pièce en alliage d'aluminium, ce qui engendre des microcristaux de nitrure d'aluminium induisant à leur tour une augmentation de la dureté. L'implantation simultanée de ces ions d'azote ~ peut se faire à des profondeurs variables, en fonction des besoins et de la forme de la pièce. Ces profondeurs dépendent des énergies d'implantation
7 des ions du faisceau d'implantation ; elles peuvent varier de 0 à environ 3 pm.
Compte tenu d'un effet de pulvérisation différent selon l'énergie donc l'état de charge de l'ion incident, on n'obtient pas le même profil de concentration d'ions implantés selon, par exemple, que l'on implante simultanément N+, N2+, N3+, ou que l'on implante successivement par état de charge d'ordre croissant N+, N2+, puis N3+, ou encore que l'on implante successivement par état de charge d'ordre décroissant N3+, N2+, puis N+.
L'implantation successive par état de charge d'ordre croissant donne un profil d'épaisseur large mais de faible concentration. L'implantation successive par état de charge d'ordre décroissant donne un profil d'épaisseur étroite mais de forte concentration. L'implantation simultanée est un compromis entre les deux types d'implantation précédents, on obtient un profil d'épaisseur moyenne et de concentration moyenne. II est coûteux en terme de temps d'implanter des ions successivement par ordre croissant et décroissant. Le procédé de l'invention préconise l'implantation simultanée d'ions multi-énergies avec un faisceau multi-énergies et est de ce fait à la fois avantageux techniquement et optimal sur le plan du compromis physique obtenu (profil de concentration équilibré).
L'augmentation de la dureté de l'aluminium est liée à la concentration en ions d'azote implantés. Par exemple, pour 10% d'ions implantés, la dureté
de la pièce est augmentée localement d'un rapport de 200%. Dans le cas de l'aluminium, une dureté augmentée de 200% correspond approximativement à une dureté intermédiaire entre celle du titane et celle de l'acier. Pour 20%
d'ions d'azote implantés dans la pièce, la dureté de la pièce augmente d'un rapport de 300%. Dans le cas de l'aluminium, une dureté augmentée de 300% correspond à une dureté égale voire supérieure à celle de l'acier.
Le procédé de l'invention présente un avantage très intéressant par rapport à l'implantation effectuée avec un faisceau d'ions d'azote mono-énergie: pour une même concentration d'ions implantés, on observe en effet avec un faisceau d'ions d'azote multi-énergies un accroissement supplémentaire de dureté. On a mesuré pour une concentration d'ions implantés de 25% un accroissement de dureté de 60% en faveur de l'implantation avec un faisceau multi-énergies par rapport à une implantation avec un faisceau mono-énergie. L'implantation simultanée d'ions multi-énergies engendre par collisions et cascades un brassage plus efficace des différentes couches de nitrure d'aluminium (qui s'étagent à différentes profondeurs d'implantation dans l'épaisseur traitée). L'efficacité des processus de fragmentation et de dispersion des microcristaux dont sont constituées les couches de nitrure d'aluminium est, certainement à l'origine de cet accroissement supplémentaire de dureté obtenu par implantation avec un faisceau d'ions d'azote multi-énergies. Les faisceaux multi-énergies sont particulièrement adaptés aux applications mécaniques tandis que les faisceaux mono-énergie sont plus spécifiquement adaptés aux applications électroniques pour lesquelles la création de défaut par cascadés et collisions a tendance à dégrader les propriétés électriques du nitrure d'aluminium (notamment sa très haute résistance électrique).
Dans une application à des moules d'injection en alliage d'aluminium, le procédé de l'invention permet d'obtenir des moules ayant une dureté
superficielle proche de celle de l'acier, tout en conservant les propriétés mécaniques massives de l'alliage d'aluminium. Le procédé de l'invention permet aussi d'améliorer la caractéristique d'anti-corrosion de ces moules en alliage d'aluminium. Ainsi, la capacité de production d'un moule en alliage d'aluminium, traité avec le procédé de nitruration par implantation simultanée d'ions de l'invention, est très largement augmentée par rapport à un moule en alliage d'aluminium classique.
Le dispositif de la présente invention comporte en outre avantageusement des deuxièmes moyens de réglage de la position relative de la pièce et de la source d'ions. On comprendra qu'un déplacement relatif entre la source d'ions et la pièce est mis en oeuvre pour pouvoir traiter cette dernière zone par zone.. Ainsi, plusieurs zones d'une même pièce métallique peuvent être traitées de façon à obtenir des duretés identiques ou différentes. Le choix des zones à traiter et la durée du traitement à leur apporter sont fonction de leur spécificité fonctionnelle (par exemple la zone du plan de joint du moule, la zone de la surface moulante).
Selon une forme préférée de réalisation du dispositif de la présente invention dans laquelle la pièce est mobile par rapport à la source, les deuxièmes moyens de réglage comportent avantageusement un porte-pièce qui est mobile pour déplacer la pièce au cours de son traitement. Dans une autre forme non préférée de réalisation du dispositif, c'est la source d'ions qui est déplacée par rapport à la pièce à traiter; cette dernière forme de réalisation pouvant être mise en oeuvre lorsque la pièce à traiter est très volumineuse.
Le porte-pièce est de préférence équipé de moyens de refroidissement pour évacuer la chaleur produite dans la pièce lors de l'implantation des ions multi-énergies.
Les premiers moyens de réglage du faisceau d'ions comportent accessoirement un spectromètre de masse pour trier les ions produits par la source en fonction de leur charge et de leur masse.
De préférence, les premiers moyens de réglage du faisceau initial d'ions comportent en outre des moyens optiques de focalisation, un profiteur, un transformateur d'intensité et un obturateur.
Le dispositif est avantageusement confiné dans une enceinte équipée d'une pompe à vide.
Les deuxièmes moyens de réglage de la position relative de lâ pièce et de la source d'ions comportent avantageusement des moyens de calcul de cette position à partir d'informations relatives à la nature du faisceau d'ions, à
la géométrie de la pièce, ~ à la vitesse de déplacement du porte-pièce par rapport à la source et au nombre de passes précédemment réalisées.
Selon une première variante du procédé de traitement d'un alliage d'aluminium par implantation ionique mettant en oeuvre un dispositif selon la présente invention, ce procédé est principalement reconnaissable en ce que le faisceau d'ions multi-énergies se déplace de façon relative par rapport à
la pièce à une vitesse constante.
Selon ûne deuxième variante du procédé de traitement d'un alliage d'aluminium par implantation ionique mettant en oeuvre un dispositif selon la 5 présente invention, ce procédé est principalement reconnaissable en ce que le faisceau d'ions multi-énergies se déplace de façon relative par rapport à
la pièce à une vitesse variable tenant compte de l'angle d'incidence du faisceau d'ions multi-énergies par rapport à la surface de la pièce.
Que ce soit la pièce à traiter ou la source d'ions qui est déplacée, la 10 vitesse de déplacement relative entre ces deux éléments peut être constante ou variable en fonction de l'angle d'incidence du faisceau par rapport à la surface, au moins pendant la durée de traitement de la zone de la pièce. La gestion de la vitesse peut être différente pour chaque zone à traiter de la pièce. La vitesse dépend du débit du faisceau, du profil de côncentration des ions implantés et du nombre de passes. La vitesse peut varier en fonction de l'angle d'incidence du faisceau par rapport à la surface, pour compenser la faiblesse de la profondeur d'implantation par une augmentation du nombre d'ions implantés.
De préférence, le faisceau d'ions multi-énergies est émis avec un débit et des énergies d'émission qui sont soit constants, soit variables et commandés par la source d'ions. Comme expliqué précédemment, le procédé de l'invention permet d'agir sur les profondeurs de pénétration des ions multi-énergies dans la pièce. Ces profondeurs de pénétration, qui s'étagent dans l'épaisseur traitée, varient en fonction des différentes énergies d'entrée des ions au niveau de la surface de la pièce. Plus précisément, la source d'ions délivre des ions avec des énergies d'émissions variables ; dans ce cas, la source d'ions est asservie de manière à faire varier les énergies des ions incidents en jouant sur la tension d'extraction lors de chaque traitement.
L'implantation des ions d'azote dans la structure cristalline de la pièce à traiter a pour effet de créer des microcristaux de nitrure d'aluminium (de structure cubique faces centrées pour de faibles concentrations d'azote à
hexagonale compacte pour de fortes concentrations d'azote) extrêmement dures qui bloquent les plans de glissement des dislocations à l'origine des déformations du matériau. En d'autres termes, le fait d'implanter des ions d'azote dans la pièce à traiter permet d'augmenter la dureté superficielle de la pièce et de la rendre ainsi très résistante à l'usure.
Par ailleurs, dans l'application aux moules d'injection en alliage d'aluminium, l'azote présent dans l'aluminium a pour effet, puisque c'est une base, de diminuer l'acidité existante dans les piqûres initiées par les ions chlorures provenant des plastiques moulés. Ainsi, la corrosion associée à la propagation des piqûres est fortement diminuée par le procédé de l'inventïon.
Le procédé de l'invention permet, par le phénomène de pulvérisation superficielle induit par la passage des ions incidents, de gommer les micro-rugosités de la pièce, diminuant d'autant l'apparition des piqûres qui se forment généralement à la faveur des anfractuosités de la surface.
II résulte de ces dispositions que le procédé de l'invention permet de traiter efficacement des zones de la pièce dont la géométrie est complexe, sans pour autant augmenter ni la durée du traitement et ni les risqués d'échauffement de la pièce.
Brève description des dessins La figure 1 représente un diagramme fonctionnel du dispositif de l'invention.
La figure 2 représente des exemples de distribution d'implantation, dans une pièce en aluminium, par une source à résonance cyclotronique électronique produisant des ions N+, N2+ et N3+ avec une même tension d'extraction de 200 IN.
La figure 3 représente le profil d'implantation obtenu avec un faisceau de N+(3.3mA), N2+(3.3mA), N3+(3.3mA), une tension d'extraction de 200 KV, concentré sur une surface de 1 cm2 pendant 10 secondes. Ce profil représente en ordonnée la concentration (%) d'ions azote implantés en fonction de la profondeur d'implantation exprimée en Angstrôm.
La figure 4 représente le profil d'implantation optimal, du même type que le profil précédent, qui est obtenu avec un faisceau de N+(1.6mA), N2+(3.2mA), N3+(4.8mA), une tension d'extraction de 200 KV, concentré sur une surface de 1 cm2 pendant 10 secondes.
Description détaillée de modes de réalisation de l'invention Sur la figure 1, un dispositif selon la présente invention est placé dans une enceinte 3 mise sous vide grâce à une pompe à vide 2. Ce vide a pour but d'empêcher l'interception du faisceau par des gaz résiduels et d'éviter la contamination de la surface de la pièce par ces mêmes gaz lors de l'implantation.
Ce dispositif comporte une source d'ions 6 à résonance cyclotronique électronique, dite source RCE. Cette source RCE 6 délivre un faisceau initial f1' d'ions multi-énergies d'azote pour un courant total d'environ 10 mA
(toutes charges confondues N+, N2+, etc.), sous une tension d'extraction pouvant varier de 20 KV à 200 KV. La source RCE 6 émet le faisceau d'ions f1' en direction de premiers moyens de réglage 7-11 qui assurent la focalisation et le réglage du faisceau initial f1' émis par la source RCE 6 en un faisceau f1 d'implantation d'ions qui vient frapper une pièce à traiter 5.
Ces premiers moyens de réglage 7-11 comportent, de la source RCE
6 vers la pièce 5, les éléments suivants - un spectromètre de masse 7 apte à filtrer les ions en fonction de leur charge et de leur masse. Cet élément est facultatif ; en effet, dans le cas ou l'on injecte un gaz d'azote pur (N2), il est possible de récupérer l'ensemble des ions d'azote mono et multi-chargés produits par la source pour obtenir un faisceau d'ions d'azote multi-énergies. Le spectromètre de masse étant un élément très cher on réduit fortement le coût du dispositif en utilisant un faisceau d'ions d'azote multi-énergies obtenus à partir d'un gaz d'azote pur livré en bouteille.
- des lentilles 8 dont le rôle est de donner au faisceau initial f1' d'ions une forme choisie, par exemple cylindrique, avec un rayon choisi.
- un profiteur 9 dont le rôle est d'analyser l'intensité du faisceau dans un plan de coupe perpendiculaire. Cet instrument d'analyse devient facultatif dès lors que les lentilles 8 sont réglées définitivement lors de la première implantation.
- un transformateur d'intensité 10 qui mesure en continu l'intensité du faisceau initial f1' sans l'intercepter. Cet instrument a pour fonction essentielle de détecter toute interruption du faisceau initial f1' et de permettre l'enregistrement des variations d'intensité du faisceau f1 durant le traitement.
- un obturateur 11 qui peut être une cage de Faraday, dont le rôle est d'interrompre la trajectoire des ions à certains moments, par exemple lors d'un déplacement sans traitement de la pièce.
Selon la forme préférée de réalisation du dispositif représentée sur la figure 1, la pièce 5 est mobile par rapport à la source RCE 6. La pièce 5 est montée sur un porte-pièce mobile 12 dont le déplacement est commandée par une machine à commande numérique 4, elle-même pilotée par ùn post processeur calculé par un système de CFAO (conception et fabrication assistées par ordinateur) 1.
Le déplacement de la pièce 5 prend en compte le rayon du faisceau f1, les contours externes et internes des zones à traiter de la pièce 5, une vitesse de déplacement constante, ou variable en fonction de l'angle du faisceau f1 par rapport à la surface et un nombre de passes précédemment réalisées.
Des informations de contrôle (inf1) sont transmises de la source RCE
6 vers la machine à commande numérique 4. Ces informations de contrôle concernent l'état du faisceau. En particulier, la source RCE 6 informe la machine 4 lorsque le faisceau f1 d'ions est prêt à être envoyé. D'autres informations de contrôle (inf2) sont transmises par la machine 4 à
l'obturateur 11, à la source RCE 6 et, éventuellement, à une ou plusieurs machines extérieures au dispositif. Ces informations de contrôle peuvent être les valeurs du rayon du faisceau d'ions, son débit et toutes autres valeurs connues de la machine 4.
Par ailleurs, le porte-pièce 12 est équipé d'un circuit de refroidissement 13 pour évacuer la chaleur produite dans la pièce 5 lors de l'implantation des ions multi-énergies.
Le fonctionnement du dispositif de l'invention est le suivant - on bride la pièce à traiter 5 sur le porte-pièce 12, - on ferme l'enceinte 3 abritant le dispositif, - on met éventuellement en marche le circuit de refroidissement 13 du porte-pièce 12, - on met en marche la pompe à vide 2 de manière à obtenir un vide poussé dans l'enceinte 3, - dès que les conditions de vide sont atteintes, on procède à la production et au réglage du faisceau f1' d'ions grâce aux moyens de réglage 7-11, - lorsque le faisceau est réglé, on lève l'obturateur 11 et on lance la machine à commande numérique 4 qui exécute alors le déplacement en position et en vitesse de la pièce 5 devant le faisceau en une ou plusieurs passes, - lorsque le nombre de passes requis est atteint, on baisse l'obturateur 11 pour couper le faisceau f1, on arrête la production du faisceau f1', on casse le vide en ouvrant l'enceinte 3 à l'air ambiant, on arrête éventuellement le circuit de refroidissement 13 et on sort la pièce traitée 5 hors de l'enceinte 3.
II existe deux manières de diminuer le pic en température lié au passage du faisceau f1 en un point donné de la pièce 5: augmenter le rayon du faisceau (donc réduire la puissance par cm2) ou augmenter la vitesse de déplacement.
Si la pièce est trop petite pour évacuer par rayonnement la chaleur liée au traitement on peut soit diminuer la puissance du faisceau f1 (donc augmenter la durée de traitement), soit mettre en marche le circuit de refroidissement 13 logé dans le porte pièce 12.
La figure 2 représente un exemple de distribution d'ions d'azote N
implantés dans une pièce d'aluminium. Dans cet exemple, la source d'ions 5 délivre des ions N+, N2+ et N3+ qui sont tous extraits avec une seule et unique tension d'extraction, par exemple, de 200 KV. Ainsi les ions N+ émis par la source d'ions ont une énergie de 200 KeV, tes ions N2+ ont une énergie de 400 KeV et les ions N3+ ont une énergie de 600 KeV.
Les ions N+ atteignent une profondeur de 0,37 pm ~/- 0.075 pm. Les 10 ions N2+ atteignent une profondeur d'environ 0,68 Nm +/- 0,1 Nm et les ions N3+ une profondeur d'environ 0.91 Nm +/- 0,15 pm. La distance maximale atteinte par des ions dans cet exemple est de 1.15 pm.
La spécificité d'une source d'ions RCE 6 réside dans le fait qu'elle délivre des ions mono- et multi-chargés ce qui permet d'implanter 15 simultanément des ions multi-énergies avec la même tension d'extraction. II
est ainsi possible d'obtenir simultanément sur toute l'épaisseur traitée un profil d'implantation plus ou moins bien réparti.
Par exemple, si l'on considère une source RCE délivrant un courant total de 10 mA (3.3 mA pour N+, 3.3mA pour N2+, 3.3mA pour N3+) avec une tension d'éxtraction de 200 KV, pour une pièce .d'aluminium de 1 cm2, pendant environ 10 secs, le profil d'implantation est approximativement celui représenté sur la figure 3. Ce profil révèle une concentration de - 20% de N entre 0.30 et 0.5 pm, ce qui correspond à une augmentation de la dureté de 300%,
Compte tenu d'un effet de pulvérisation différent selon l'énergie donc l'état de charge de l'ion incident, on n'obtient pas le même profil de concentration d'ions implantés selon, par exemple, que l'on implante simultanément N+, N2+, N3+, ou que l'on implante successivement par état de charge d'ordre croissant N+, N2+, puis N3+, ou encore que l'on implante successivement par état de charge d'ordre décroissant N3+, N2+, puis N+.
L'implantation successive par état de charge d'ordre croissant donne un profil d'épaisseur large mais de faible concentration. L'implantation successive par état de charge d'ordre décroissant donne un profil d'épaisseur étroite mais de forte concentration. L'implantation simultanée est un compromis entre les deux types d'implantation précédents, on obtient un profil d'épaisseur moyenne et de concentration moyenne. II est coûteux en terme de temps d'implanter des ions successivement par ordre croissant et décroissant. Le procédé de l'invention préconise l'implantation simultanée d'ions multi-énergies avec un faisceau multi-énergies et est de ce fait à la fois avantageux techniquement et optimal sur le plan du compromis physique obtenu (profil de concentration équilibré).
L'augmentation de la dureté de l'aluminium est liée à la concentration en ions d'azote implantés. Par exemple, pour 10% d'ions implantés, la dureté
de la pièce est augmentée localement d'un rapport de 200%. Dans le cas de l'aluminium, une dureté augmentée de 200% correspond approximativement à une dureté intermédiaire entre celle du titane et celle de l'acier. Pour 20%
d'ions d'azote implantés dans la pièce, la dureté de la pièce augmente d'un rapport de 300%. Dans le cas de l'aluminium, une dureté augmentée de 300% correspond à une dureté égale voire supérieure à celle de l'acier.
Le procédé de l'invention présente un avantage très intéressant par rapport à l'implantation effectuée avec un faisceau d'ions d'azote mono-énergie: pour une même concentration d'ions implantés, on observe en effet avec un faisceau d'ions d'azote multi-énergies un accroissement supplémentaire de dureté. On a mesuré pour une concentration d'ions implantés de 25% un accroissement de dureté de 60% en faveur de l'implantation avec un faisceau multi-énergies par rapport à une implantation avec un faisceau mono-énergie. L'implantation simultanée d'ions multi-énergies engendre par collisions et cascades un brassage plus efficace des différentes couches de nitrure d'aluminium (qui s'étagent à différentes profondeurs d'implantation dans l'épaisseur traitée). L'efficacité des processus de fragmentation et de dispersion des microcristaux dont sont constituées les couches de nitrure d'aluminium est, certainement à l'origine de cet accroissement supplémentaire de dureté obtenu par implantation avec un faisceau d'ions d'azote multi-énergies. Les faisceaux multi-énergies sont particulièrement adaptés aux applications mécaniques tandis que les faisceaux mono-énergie sont plus spécifiquement adaptés aux applications électroniques pour lesquelles la création de défaut par cascadés et collisions a tendance à dégrader les propriétés électriques du nitrure d'aluminium (notamment sa très haute résistance électrique).
Dans une application à des moules d'injection en alliage d'aluminium, le procédé de l'invention permet d'obtenir des moules ayant une dureté
superficielle proche de celle de l'acier, tout en conservant les propriétés mécaniques massives de l'alliage d'aluminium. Le procédé de l'invention permet aussi d'améliorer la caractéristique d'anti-corrosion de ces moules en alliage d'aluminium. Ainsi, la capacité de production d'un moule en alliage d'aluminium, traité avec le procédé de nitruration par implantation simultanée d'ions de l'invention, est très largement augmentée par rapport à un moule en alliage d'aluminium classique.
Le dispositif de la présente invention comporte en outre avantageusement des deuxièmes moyens de réglage de la position relative de la pièce et de la source d'ions. On comprendra qu'un déplacement relatif entre la source d'ions et la pièce est mis en oeuvre pour pouvoir traiter cette dernière zone par zone.. Ainsi, plusieurs zones d'une même pièce métallique peuvent être traitées de façon à obtenir des duretés identiques ou différentes. Le choix des zones à traiter et la durée du traitement à leur apporter sont fonction de leur spécificité fonctionnelle (par exemple la zone du plan de joint du moule, la zone de la surface moulante).
Selon une forme préférée de réalisation du dispositif de la présente invention dans laquelle la pièce est mobile par rapport à la source, les deuxièmes moyens de réglage comportent avantageusement un porte-pièce qui est mobile pour déplacer la pièce au cours de son traitement. Dans une autre forme non préférée de réalisation du dispositif, c'est la source d'ions qui est déplacée par rapport à la pièce à traiter; cette dernière forme de réalisation pouvant être mise en oeuvre lorsque la pièce à traiter est très volumineuse.
Le porte-pièce est de préférence équipé de moyens de refroidissement pour évacuer la chaleur produite dans la pièce lors de l'implantation des ions multi-énergies.
Les premiers moyens de réglage du faisceau d'ions comportent accessoirement un spectromètre de masse pour trier les ions produits par la source en fonction de leur charge et de leur masse.
De préférence, les premiers moyens de réglage du faisceau initial d'ions comportent en outre des moyens optiques de focalisation, un profiteur, un transformateur d'intensité et un obturateur.
Le dispositif est avantageusement confiné dans une enceinte équipée d'une pompe à vide.
Les deuxièmes moyens de réglage de la position relative de lâ pièce et de la source d'ions comportent avantageusement des moyens de calcul de cette position à partir d'informations relatives à la nature du faisceau d'ions, à
la géométrie de la pièce, ~ à la vitesse de déplacement du porte-pièce par rapport à la source et au nombre de passes précédemment réalisées.
Selon une première variante du procédé de traitement d'un alliage d'aluminium par implantation ionique mettant en oeuvre un dispositif selon la présente invention, ce procédé est principalement reconnaissable en ce que le faisceau d'ions multi-énergies se déplace de façon relative par rapport à
la pièce à une vitesse constante.
Selon ûne deuxième variante du procédé de traitement d'un alliage d'aluminium par implantation ionique mettant en oeuvre un dispositif selon la 5 présente invention, ce procédé est principalement reconnaissable en ce que le faisceau d'ions multi-énergies se déplace de façon relative par rapport à
la pièce à une vitesse variable tenant compte de l'angle d'incidence du faisceau d'ions multi-énergies par rapport à la surface de la pièce.
Que ce soit la pièce à traiter ou la source d'ions qui est déplacée, la 10 vitesse de déplacement relative entre ces deux éléments peut être constante ou variable en fonction de l'angle d'incidence du faisceau par rapport à la surface, au moins pendant la durée de traitement de la zone de la pièce. La gestion de la vitesse peut être différente pour chaque zone à traiter de la pièce. La vitesse dépend du débit du faisceau, du profil de côncentration des ions implantés et du nombre de passes. La vitesse peut varier en fonction de l'angle d'incidence du faisceau par rapport à la surface, pour compenser la faiblesse de la profondeur d'implantation par une augmentation du nombre d'ions implantés.
De préférence, le faisceau d'ions multi-énergies est émis avec un débit et des énergies d'émission qui sont soit constants, soit variables et commandés par la source d'ions. Comme expliqué précédemment, le procédé de l'invention permet d'agir sur les profondeurs de pénétration des ions multi-énergies dans la pièce. Ces profondeurs de pénétration, qui s'étagent dans l'épaisseur traitée, varient en fonction des différentes énergies d'entrée des ions au niveau de la surface de la pièce. Plus précisément, la source d'ions délivre des ions avec des énergies d'émissions variables ; dans ce cas, la source d'ions est asservie de manière à faire varier les énergies des ions incidents en jouant sur la tension d'extraction lors de chaque traitement.
L'implantation des ions d'azote dans la structure cristalline de la pièce à traiter a pour effet de créer des microcristaux de nitrure d'aluminium (de structure cubique faces centrées pour de faibles concentrations d'azote à
hexagonale compacte pour de fortes concentrations d'azote) extrêmement dures qui bloquent les plans de glissement des dislocations à l'origine des déformations du matériau. En d'autres termes, le fait d'implanter des ions d'azote dans la pièce à traiter permet d'augmenter la dureté superficielle de la pièce et de la rendre ainsi très résistante à l'usure.
Par ailleurs, dans l'application aux moules d'injection en alliage d'aluminium, l'azote présent dans l'aluminium a pour effet, puisque c'est une base, de diminuer l'acidité existante dans les piqûres initiées par les ions chlorures provenant des plastiques moulés. Ainsi, la corrosion associée à la propagation des piqûres est fortement diminuée par le procédé de l'inventïon.
Le procédé de l'invention permet, par le phénomène de pulvérisation superficielle induit par la passage des ions incidents, de gommer les micro-rugosités de la pièce, diminuant d'autant l'apparition des piqûres qui se forment généralement à la faveur des anfractuosités de la surface.
II résulte de ces dispositions que le procédé de l'invention permet de traiter efficacement des zones de la pièce dont la géométrie est complexe, sans pour autant augmenter ni la durée du traitement et ni les risqués d'échauffement de la pièce.
Brève description des dessins La figure 1 représente un diagramme fonctionnel du dispositif de l'invention.
La figure 2 représente des exemples de distribution d'implantation, dans une pièce en aluminium, par une source à résonance cyclotronique électronique produisant des ions N+, N2+ et N3+ avec une même tension d'extraction de 200 IN.
La figure 3 représente le profil d'implantation obtenu avec un faisceau de N+(3.3mA), N2+(3.3mA), N3+(3.3mA), une tension d'extraction de 200 KV, concentré sur une surface de 1 cm2 pendant 10 secondes. Ce profil représente en ordonnée la concentration (%) d'ions azote implantés en fonction de la profondeur d'implantation exprimée en Angstrôm.
La figure 4 représente le profil d'implantation optimal, du même type que le profil précédent, qui est obtenu avec un faisceau de N+(1.6mA), N2+(3.2mA), N3+(4.8mA), une tension d'extraction de 200 KV, concentré sur une surface de 1 cm2 pendant 10 secondes.
Description détaillée de modes de réalisation de l'invention Sur la figure 1, un dispositif selon la présente invention est placé dans une enceinte 3 mise sous vide grâce à une pompe à vide 2. Ce vide a pour but d'empêcher l'interception du faisceau par des gaz résiduels et d'éviter la contamination de la surface de la pièce par ces mêmes gaz lors de l'implantation.
Ce dispositif comporte une source d'ions 6 à résonance cyclotronique électronique, dite source RCE. Cette source RCE 6 délivre un faisceau initial f1' d'ions multi-énergies d'azote pour un courant total d'environ 10 mA
(toutes charges confondues N+, N2+, etc.), sous une tension d'extraction pouvant varier de 20 KV à 200 KV. La source RCE 6 émet le faisceau d'ions f1' en direction de premiers moyens de réglage 7-11 qui assurent la focalisation et le réglage du faisceau initial f1' émis par la source RCE 6 en un faisceau f1 d'implantation d'ions qui vient frapper une pièce à traiter 5.
Ces premiers moyens de réglage 7-11 comportent, de la source RCE
6 vers la pièce 5, les éléments suivants - un spectromètre de masse 7 apte à filtrer les ions en fonction de leur charge et de leur masse. Cet élément est facultatif ; en effet, dans le cas ou l'on injecte un gaz d'azote pur (N2), il est possible de récupérer l'ensemble des ions d'azote mono et multi-chargés produits par la source pour obtenir un faisceau d'ions d'azote multi-énergies. Le spectromètre de masse étant un élément très cher on réduit fortement le coût du dispositif en utilisant un faisceau d'ions d'azote multi-énergies obtenus à partir d'un gaz d'azote pur livré en bouteille.
- des lentilles 8 dont le rôle est de donner au faisceau initial f1' d'ions une forme choisie, par exemple cylindrique, avec un rayon choisi.
- un profiteur 9 dont le rôle est d'analyser l'intensité du faisceau dans un plan de coupe perpendiculaire. Cet instrument d'analyse devient facultatif dès lors que les lentilles 8 sont réglées définitivement lors de la première implantation.
- un transformateur d'intensité 10 qui mesure en continu l'intensité du faisceau initial f1' sans l'intercepter. Cet instrument a pour fonction essentielle de détecter toute interruption du faisceau initial f1' et de permettre l'enregistrement des variations d'intensité du faisceau f1 durant le traitement.
- un obturateur 11 qui peut être une cage de Faraday, dont le rôle est d'interrompre la trajectoire des ions à certains moments, par exemple lors d'un déplacement sans traitement de la pièce.
Selon la forme préférée de réalisation du dispositif représentée sur la figure 1, la pièce 5 est mobile par rapport à la source RCE 6. La pièce 5 est montée sur un porte-pièce mobile 12 dont le déplacement est commandée par une machine à commande numérique 4, elle-même pilotée par ùn post processeur calculé par un système de CFAO (conception et fabrication assistées par ordinateur) 1.
Le déplacement de la pièce 5 prend en compte le rayon du faisceau f1, les contours externes et internes des zones à traiter de la pièce 5, une vitesse de déplacement constante, ou variable en fonction de l'angle du faisceau f1 par rapport à la surface et un nombre de passes précédemment réalisées.
Des informations de contrôle (inf1) sont transmises de la source RCE
6 vers la machine à commande numérique 4. Ces informations de contrôle concernent l'état du faisceau. En particulier, la source RCE 6 informe la machine 4 lorsque le faisceau f1 d'ions est prêt à être envoyé. D'autres informations de contrôle (inf2) sont transmises par la machine 4 à
l'obturateur 11, à la source RCE 6 et, éventuellement, à une ou plusieurs machines extérieures au dispositif. Ces informations de contrôle peuvent être les valeurs du rayon du faisceau d'ions, son débit et toutes autres valeurs connues de la machine 4.
Par ailleurs, le porte-pièce 12 est équipé d'un circuit de refroidissement 13 pour évacuer la chaleur produite dans la pièce 5 lors de l'implantation des ions multi-énergies.
Le fonctionnement du dispositif de l'invention est le suivant - on bride la pièce à traiter 5 sur le porte-pièce 12, - on ferme l'enceinte 3 abritant le dispositif, - on met éventuellement en marche le circuit de refroidissement 13 du porte-pièce 12, - on met en marche la pompe à vide 2 de manière à obtenir un vide poussé dans l'enceinte 3, - dès que les conditions de vide sont atteintes, on procède à la production et au réglage du faisceau f1' d'ions grâce aux moyens de réglage 7-11, - lorsque le faisceau est réglé, on lève l'obturateur 11 et on lance la machine à commande numérique 4 qui exécute alors le déplacement en position et en vitesse de la pièce 5 devant le faisceau en une ou plusieurs passes, - lorsque le nombre de passes requis est atteint, on baisse l'obturateur 11 pour couper le faisceau f1, on arrête la production du faisceau f1', on casse le vide en ouvrant l'enceinte 3 à l'air ambiant, on arrête éventuellement le circuit de refroidissement 13 et on sort la pièce traitée 5 hors de l'enceinte 3.
II existe deux manières de diminuer le pic en température lié au passage du faisceau f1 en un point donné de la pièce 5: augmenter le rayon du faisceau (donc réduire la puissance par cm2) ou augmenter la vitesse de déplacement.
Si la pièce est trop petite pour évacuer par rayonnement la chaleur liée au traitement on peut soit diminuer la puissance du faisceau f1 (donc augmenter la durée de traitement), soit mettre en marche le circuit de refroidissement 13 logé dans le porte pièce 12.
La figure 2 représente un exemple de distribution d'ions d'azote N
implantés dans une pièce d'aluminium. Dans cet exemple, la source d'ions 5 délivre des ions N+, N2+ et N3+ qui sont tous extraits avec une seule et unique tension d'extraction, par exemple, de 200 KV. Ainsi les ions N+ émis par la source d'ions ont une énergie de 200 KeV, tes ions N2+ ont une énergie de 400 KeV et les ions N3+ ont une énergie de 600 KeV.
Les ions N+ atteignent une profondeur de 0,37 pm ~/- 0.075 pm. Les 10 ions N2+ atteignent une profondeur d'environ 0,68 Nm +/- 0,1 Nm et les ions N3+ une profondeur d'environ 0.91 Nm +/- 0,15 pm. La distance maximale atteinte par des ions dans cet exemple est de 1.15 pm.
La spécificité d'une source d'ions RCE 6 réside dans le fait qu'elle délivre des ions mono- et multi-chargés ce qui permet d'implanter 15 simultanément des ions multi-énergies avec la même tension d'extraction. II
est ainsi possible d'obtenir simultanément sur toute l'épaisseur traitée un profil d'implantation plus ou moins bien réparti.
Par exemple, si l'on considère une source RCE délivrant un courant total de 10 mA (3.3 mA pour N+, 3.3mA pour N2+, 3.3mA pour N3+) avec une tension d'éxtraction de 200 KV, pour une pièce .d'aluminium de 1 cm2, pendant environ 10 secs, le profil d'implantation est approximativement celui représenté sur la figure 3. Ce profil révèle une concentration de - 20% de N entre 0.30 et 0.5 pm, ce qui correspond à une augmentation de la dureté de 300%,
- 8% de N entre 0.5 et 0.85 pm, ce qui correspond à une augmentation de dureté de 200%, et - 2% de N entre 0.85 et 1.1 pm, ce qui correspond à une augmentation de dureté de 35%.
On obtient pour le profil d'implantation une répartition optimale en réglant les fréquences de la source 6 de manière à avoir une distribution équirépartie des états de charge des ions de la source (méme nombre d'ions N+, N2+, N3+ par cm2 et par seconde).
Par exemple, en reprenant l'exemple précédent, si l'on considère une source RCE délivrant un courant total de 10 mA (1.6 mA pour N+, 3.2mA
pour N2+, 4.8mA pour N3+) avec une tension d'extraction de 200 KV, pour une pièce d'aluminium de 1 cm2, pendant environ 10 secs, le profil d'implantation représenté sur la figure 4 fluctue entre 6 et 14 % sur une épaisseur comprise entre 0.25 pm 1,1 pm.
Pour une même concentration d'ions implantés, l'effet physique en terme de dureté obtenue par implantation simultanée d'ions multi-énergies est supérieur à celui obtenu par implantation d'ions mono-énergie. En effet la dispersion des microcristaux de nitrure d'aluminium due à l'efficacité du brassage des ions multi-énergies (qui s'implantent à des profondeurs étagées), induit un accroissement supplémentaire de dureté qui s'ajoute à
celle qui serait obtenue avec un faisceau d'ions mono-énergies.
On obtient pour le profil d'implantation une répartition optimale en réglant les fréquences de la source 6 de manière à avoir une distribution équirépartie des états de charge des ions de la source (méme nombre d'ions N+, N2+, N3+ par cm2 et par seconde).
Par exemple, en reprenant l'exemple précédent, si l'on considère une source RCE délivrant un courant total de 10 mA (1.6 mA pour N+, 3.2mA
pour N2+, 4.8mA pour N3+) avec une tension d'extraction de 200 KV, pour une pièce d'aluminium de 1 cm2, pendant environ 10 secs, le profil d'implantation représenté sur la figure 4 fluctue entre 6 et 14 % sur une épaisseur comprise entre 0.25 pm 1,1 pm.
Pour une même concentration d'ions implantés, l'effet physique en terme de dureté obtenue par implantation simultanée d'ions multi-énergies est supérieur à celui obtenu par implantation d'ions mono-énergie. En effet la dispersion des microcristaux de nitrure d'aluminium due à l'efficacité du brassage des ions multi-énergies (qui s'implantent à des profondeurs étagées), induit un accroissement supplémentaire de dureté qui s'ajoute à
celle qui serait obtenue avec un faisceau d'ions mono-énergies.
Claims (9)
1 - Dispositif d'implantation d'ions dans une pièce en alliage d'aluminium (5) comportant une source (6) délivrant des ions accélérés par une tension d'extraction et des premiers moyens de réglage (7-11) d'un faisceau initial (f1') d'ions émis par ladite source (8) en un faisceau d'implantation (f1) caractérisé en ce que ladite source (6) est une source à
résonance cyclotronique électronique produisant des ions multi-énergies qui sont implantés dans la pièce (5) à une température inférieure à 120°C, l'implantation des ions multi-énergies du faisceau d'implantation (f1) étant effectuée simultanément à une profondeur contrôlée par la tension d'extraction de la source.
résonance cyclotronique électronique produisant des ions multi-énergies qui sont implantés dans la pièce (5) à une température inférieure à 120°C, l'implantation des ions multi-énergies du faisceau d'implantation (f1) étant effectuée simultanément à une profondeur contrôlée par la tension d'extraction de la source.
2 - Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte en outre des deuxièmes moyens de réglage (1,4,12) de la position relative de la pièce (5) et de la source d'ions (6).
3 - Dispositif selon la revendication 2, caractérisé en ce que les deuxièmes moyens de réglage (1,4,12) comportent un porte-pièce qui est mobile (12) pour déplacer la pièce (5) au cours de son traitement.
4 - Dispositif selon la revendication 3, caractérisé en ce que le porte-pièce (12) est équipé de moyens de refroidissement (13) pour évacuer la chaleur produite dans la pièce (5) lors de l'implantation des ions multi-énergies.
- Dispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que les premiers moyens de réglage (7-11) du faisceau d'ions comportent un spectromètre de masse (7) pour trier les ions produits par la source (6) en fonction de leur charge et de leur masse.
6 - Dispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que les moyens de réglage (7-11) du faisceau initial (f1') d'ions comportent en outre des moyens optiques de focalisation (8), un profiteur (9), un transformateur d'intensité (10) et un obturateur (11).
7 - Dispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il est confiné dans une enceinte (3) équipée d'une pompe à vide (2).
8 - Dispositif selon la revendication 3, caractérisé en ce que les deuxièmes moyens de réglage (1,4,12) de la position relative de la pièce (5) et de la source d'ions (6) comportent des moyens de calcul (1) de cette position à partir d'informations relatives à la nature du faisceau d'ions, à
la géométrie de la pièce (5), à la vitesse de déplacement du porte pièce (12) par rapport à la source (6) et au nombre de passes précédemment réalisées.
9 - Procédé de traitement d'un alliage d'aluminium par implantation ionique mettant en oeuvre un dispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le faisceau d'ions multi-énergies se déplace de façon relative par rapport à la pièce (5) à une vitesse constante.
- Procédé de traitement d'un alliage d'aluminium par implantation ionique mettant en oeuvre un dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, caractérisé en ce que le faisceau d'ions multi-énergies se déplace de façon relative par rapport à la pièce (5) à une vitesse variable tenant compte de l'angle d'incidence du faisceau d'ions multi-énergies par rapport à la surface de la pièce (5).
11 - Procédé de traitement selon l'une quelconque des revendications 9 et 10, caractérisé en ce que le faisceau d'ions multi-énergies est émis avec un débit et des énergies d'émission constants.
12 - Procédé de traitement selon l'une quelconque des revendications
la géométrie de la pièce (5), à la vitesse de déplacement du porte pièce (12) par rapport à la source (6) et au nombre de passes précédemment réalisées.
9 - Procédé de traitement d'un alliage d'aluminium par implantation ionique mettant en oeuvre un dispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le faisceau d'ions multi-énergies se déplace de façon relative par rapport à la pièce (5) à une vitesse constante.
- Procédé de traitement d'un alliage d'aluminium par implantation ionique mettant en oeuvre un dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, caractérisé en ce que le faisceau d'ions multi-énergies se déplace de façon relative par rapport à la pièce (5) à une vitesse variable tenant compte de l'angle d'incidence du faisceau d'ions multi-énergies par rapport à la surface de la pièce (5).
11 - Procédé de traitement selon l'une quelconque des revendications 9 et 10, caractérisé en ce que le faisceau d'ions multi-énergies est émis avec un débit et des énergies d'émission constants.
12 - Procédé de traitement selon l'une quelconque des revendications
9 et 10, caractérisé en ce que le faisceau d'ions multi-énergies est émis avec un débit et des énergies d'émission variables, commandés par la source d'ions (6).
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0401047A FR2876390A1 (fr) | 2004-02-04 | 2004-02-04 | Procede de nitruration par implantation ionique d'une piece metallique et dispositif de mise en oeuvre du procede |
| FR0401047 | 2004-02-04 | ||
| FR0401749A FR2876391B1 (fr) | 2004-02-04 | 2004-02-21 | Procede de nitruration pour implantation ionique d'une piece metallique et dispositif de mise en oeuvre du procede |
| FR0401749 | 2004-02-21 | ||
| FR0500963A FR2879625B1 (fr) | 2004-02-04 | 2005-01-31 | Dispositif de nitruration par implantation ionique d'une piece en alliage d'aluminium et procede mettant en oeuvre un tel dispositif |
| FR0500963 | 2005-01-31 | ||
| PCT/FR2005/000224 WO2005085491A2 (fr) | 2004-02-04 | 2005-02-02 | Dispositif et procede d'implantation ionique d'une piece en alliage d'aluminium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CA2554921A1 true CA2554921A1 (fr) | 2005-09-15 |
Family
ID=34922951
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CA002554921A Abandoned CA2554921A1 (fr) | 2004-02-04 | 2005-02-02 | Dispositif de nitruration par implantation ionique d'une piece en alliage d'aluminium et procede mettant en oeuvre un tel dispositif |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20090212238A1 (fr) |
| EP (1) | EP1725694A2 (fr) |
| JP (1) | JP2007524760A (fr) |
| KR (1) | KR20070029139A (fr) |
| AU (1) | AU2005219596B2 (fr) |
| BR (1) | BRPI0507447A (fr) |
| CA (1) | CA2554921A1 (fr) |
| FR (1) | FR2879625B1 (fr) |
| NZ (1) | NZ549587A (fr) |
| WO (1) | WO2005085491A2 (fr) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| FR2906261B1 (fr) * | 2006-09-26 | 2010-02-26 | Quertech Ingenierie | Dispositif de nitruration par implantation ionique d'une piece en alliage d'or et procede mettant en oeuvre un tel dispositif |
| FR2907130B1 (fr) * | 2006-10-11 | 2010-02-26 | Quertech Ingenierie | Dispositif de nitruration par implantation ionique d'une piece en cuivre ou en alliage de cuivre et procede mettant en oeuvre un tel dispositif |
| FR2907469B1 (fr) * | 2006-10-18 | 2010-02-26 | Quertech Ingenierie | Dispositif de nitruration par implantation ionique d'une piece en alliage de titane et procede mettant en oeuvre un tel dispositif. |
| FR2907797B1 (fr) * | 2006-10-26 | 2011-07-22 | Quertech Ingenierie | Dispositif de nitruration par implantation ionique d'une piece en alliage a memoire de forme en nickel titane et procede mettant en oeuvre un tel dispositif. |
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| FR2920785B1 (fr) * | 2007-09-11 | 2010-02-26 | Quertech Ingenierie | Traitement de la porosite des metaux par bombardement ionique |
| FR2939150B1 (fr) * | 2008-12-01 | 2011-10-21 | Quertech Ingenierie | Procede de traitement d'une partie metallique par un faisceau d'ions |
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| FR2947378A1 (fr) | 2009-06-29 | 2010-12-31 | Quertech Ingenierie | Systeme magnetique formant des surfaces iso modules fermees a partir de structures magnetiques de type "cusp" et sources d'ions de type rce mettant en oeuvre un tel systeme |
| FR2949236B1 (fr) | 2009-08-19 | 2011-10-28 | Aircelle Sa | Procede d'implantation ionique pour la realisation d'une surface hydrophobe |
| WO2012001330A2 (fr) | 2010-07-02 | 2012-01-05 | Valois Sas | Procede de traitement de surface d'un dispositif de distribution de produit fluide. |
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| FR3046799B1 (fr) * | 2016-01-20 | 2018-03-02 | Quertech | Procede de traitement par un faisceau d'ions d'un gaz mono et multicharges pour produire des metaux colores |
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| JP4252237B2 (ja) * | 2000-12-06 | 2009-04-08 | 株式会社アルバック | イオン注入装置およびイオン注入方法 |
| EP1288329A1 (fr) * | 2001-09-03 | 2003-03-05 | C C R GmbH Beschichtungstechnologie | Procédé de fabrication de couches minces de nitrures ou oxydes |
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| ATE368849T1 (de) * | 2002-10-25 | 2007-08-15 | Ct De Rech Public Gabriel Lipp | VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ßIN-SITU- DEPONIERUNGß VON NEUTRALEM CS UNTER ULTRAHOCHVAKUUM ZU ANALYTISCHEN ZWECKEN. |
-
2005
- 2005-01-31 FR FR0500963A patent/FR2879625B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 2005-02-02 BR BRPI0507447-9A patent/BRPI0507447A/pt not_active Application Discontinuation
- 2005-02-02 EP EP05717536A patent/EP1725694A2/fr not_active Withdrawn
- 2005-02-02 AU AU2005219596A patent/AU2005219596B2/en not_active Ceased
- 2005-02-02 NZ NZ549587A patent/NZ549587A/en not_active IP Right Cessation
- 2005-02-02 CA CA002554921A patent/CA2554921A1/fr not_active Abandoned
- 2005-02-02 KR KR1020067018009A patent/KR20070029139A/ko not_active Application Discontinuation
- 2005-02-02 US US10/587,465 patent/US20090212238A1/en not_active Abandoned
- 2005-02-02 JP JP2006551878A patent/JP2007524760A/ja active Pending
- 2005-02-02 WO PCT/FR2005/000224 patent/WO2005085491A2/fr active Application Filing
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU2005219596A1 (en) | 2005-09-15 |
| WO2005085491A3 (fr) | 2007-09-13 |
| AU2005219596B2 (en) | 2010-05-13 |
| FR2879625A1 (fr) | 2006-06-23 |
| WO2005085491A2 (fr) | 2005-09-15 |
| JP2007524760A (ja) | 2007-08-30 |
| BRPI0507447A (pt) | 2007-07-10 |
| US20090212238A1 (en) | 2009-08-27 |
| KR20070029139A (ko) | 2007-03-13 |
| NZ549587A (en) | 2010-08-27 |
| FR2879625B1 (fr) | 2007-04-27 |
| EP1725694A2 (fr) | 2006-11-29 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FZDE | Discontinued |