BR0317206B1

BR0317206B1 - aditivo para fabricar massas ativas positivas para acumuladores de chumbo, método para fabricar um aditivo e uso do aditivo.

Info

Publication number: BR0317206B1
Application number: BRPI0317206-6A
Authority: BR
Inventors: Ian Klein
Priority date: 2002-12-24
Filing date: 2003-12-19
Publication date: 2012-02-07
Also published as: ATE333712T1; EP1576679B1; PT1576679E; DE10360027A1; ES2266922T3; WO2004059772A2; US7091250B2; US20040234852A1; EP1576679A2; AU2003296685A8; PL205177B1; AU2003296685A1; US7435758B2; DE50304312D1; PL376074A1; US20040121233A1; MXPA05006915A; WO2004059772A3; BR0317206A

Description

"ADITIVO PARA FABRICAR MASSAS ATIVAS POSITIVAS PARA ACUMULADORES DE CHUMBO, MÉTODO PARA FABRICAR UM ADITIVO E USO DO ADITIVO"

A presente invenção refere-se a um aditivo para fabricar massa ativa positiva para acumuladores de chumbo à base de sulfatos de chumbo tetrabásicos de partículas finas, a um método para fabricar esse aditivo assim como ao uso do aditivo para a finalidade mencionada.

De acordo com o estado da técnica as placas positivas na fabricação de acumuladores de chumbo são curadas e secadas em cargas ou continuamente após o empastamento da grade com a massa ativa positiva nas assim chamadas estufas de cura e secagem. A partir dos componentes principais em forma de óxido de chumbo, água e sulfato de chumbo são formados através da cura sulfatos de chumbo tribásicos (3PbOPbS04) e/ou sulfatos de chumbo tetrabásicos (4PbOPbS04). As placas são . colocadas predominantemente em pilhas sobre paletes sem distanciamento entre elas. Mais raramente elas são colocadas sobre paletes com distanciamento entre elas ou em casos especiais de grades duplas com lâminas externas, elas são penduradas soltas em armações.

Para a cura até formar sulfato de chumbo tribásico com tamanhos de cristal < 10pm é prática comum curar as placas a aproximadamente 55°C por um período de 12 a 14 horas e seca-las em seguida. A secagem chega a durar alguns dias dependendo do óxido empregado e da umidade residual desejada.

Dependendo das condições químicas e físicas é realizada uma transição de fase partindo da formação de sulfato de chumbo tribásico para a formação de sulfato de chumbo tetrabásico, na faixa de temperatura de 60 até 70°C. Para a cura até formar sulfato de chumbo tetrabásico, as placas são curadas de acordo com a prática comum durante algumas horas no vapor d'água a uma temperatura normalmente > 80°C e em seguida secadas, a exemplo de placas curadas tribásicas. Uma desvantagem fundamental em uma cura desse tipo sob vapor d'água é o surgimento de cristais grandes de sulfato de chumbo tetrabásico, podendo ocorrer tamanhos de cristal > 50 μm.

A massa ativa curada das placas positivas é transformada em seguida eletroquimicamente, formando o dióxido de chumbo. A transformação dos sulfatos de chumbo básicos se apresenta mais dispendiosa e lenta pelo tamanho de cristal crescente. A quantidade de energia elétrica necessária para a transformação de uma estrutura de cristal grande é 25% maior do que aquela de uma estrutura de cristal pequeno. Neste caso, deve-se entender por "estrutura de cristal pequeno" um material no qual o tamanho de cristal é < 10 μm. Em estrutura de cristal grande os cristais são > 30 μm. Para a formação completa devem ser acrescentados, além disso, tempos de permanência. Através do fornecimento de uma maior quantidade de energia e da necessidade de tempos de permanência a serem acrescentados à formação de sulfato de chumbo tetrabásico de cristais grandes em geral exige um tempo essencialmente mais longo.

A cura até formar sulfatos de chumbo tetrabásicos é vantajosa no caso de acumuladores de chumbo com ligas livres de antimônio para a grade positiva, acumuladores de chumbo com ligas livres de antimônio para a grade positiva e massas ativas positivas, curadas formando sulfato de chumbo tetrabásico, apresentam uma capacidade estável com carga cíclica e possuem uma vida útil visivelmente mais longa. Acumuladores de chumbo com ligas com teor de antimônio da grade positiva estão sendo substituídos cada vez mais por grades livres de antimônio, já que esses acumuladores de chumbo apresentam, além disso, uma capacidade de armazenagem mais longa assim como um consumo de água consideravelmente menor.

Por essa razão existe um grande interesse por métodos e possibilidades de curar placas positivas transformando-as em sulfato de chumbo tetrabásico cristalinas pequenas. De acordo com o estado da técnica se destacam dois métodos: De acordo com a prática comum de produção as placas são primeiramente curadas formando sulfato de chumbo tribásico e secadas vantajosamente sob umidade residual de 0,5% em peso. Em seguida é feito um tratamento a base de vapor d'água durante várias horas a temperaturas normalmente > 80° C. Durante essa fase o sulfato de chumbo tribásico é transformado em sulfato de chumbo tetrabásico. O tamanho de cristal permanece neste caso praticamente inalterado, desde que a umidade não ultrapasse 2% em peso durante o tratamento a base de vapor d'água. No caso de placas muito úmidas ocorre um crescimento de sulfato de chumbo tetrabásico de cristais grandes. No caso de um método executado nesses termos são produzidas placas com sulfato de chumbo tetrabásico cristalinas pequenas após nova secagem em seguida. Uma grande desvantagem desse método é o longo tempo de processo. Além disso, a união pasta-grade é pior do que nas placas positivas curadas no vapor d'água diretamente formando sulfato de chumbo tetrabásico cristalino grande.

O tamanho dos cristais do sulfato de chumbo tetrabásico não pode ser controlado e é < 3 μm. Isso pode provocar uma avaria irreparável dos eletrodos positivos em caso de descarga total cíclica de acumuladores de chumbo úmidos, e conseqüentemente, a uma redução da durabilidade dos acumuladores de chumbo.

Em um segundo método conhecido primeiramente é adicionado à massa positiva ativa sulfato de chumbo tetrabásico cristalino pequeno durante o processo de fabricação. A cura é feita da mesma maneira como na cura mencionada formando sulfato de chumbo tetrabásico cristalino grande sob vapor d'água, e preferivelmente a temperaturas superiores a 80° C. Os cristais de sulfato de chumbo tetrabásico adicionados, moídos em partículas finas, com diâmetro < 1 pm atuam como germinador e possibilitam em placas isoladas um crescimento seletivo de cristal formando uma estrutura cristalina pequena do sulfato de chumbo tetrabásico. Esse método é realizado preferivelmente de modo continuo.

A desvantagem desse método é a necessidade de manter as placas separadas, por exemplo, pendurando placas duplas com certa distância entre elas ou através de uma membrana climatizadora entre as placas individuais. É prática comum atualmente na fabricação de placas de acumuladores de chumbo coloca-las em pilhas sem um espaçador e cura- las na pilha. A necessidade de um isolamento das placas representa, portanto, uma despesa extra considerável. Os sistemas e técnicas de hoje em dia para a fabricação de placas não podem ser aplicados sem novos equipamentos adicionais ou alterações importantes. 0 distanciamento das placas através de espaços intermediários ou membranas climatizadoras provocam uma necessidade maior de espaço, sendo bastante reduzida a capacidade cúbica para placas em estufas de cura e secagem.

É tarefa da presente invenção, sanar os problemas relacionados ao estado da técnica, aqui mencionados, preferivelmente apresentar uma proposta técnica de como placas podem ser curadas, em pilhas, formando sulfato de chumbo tetrabásico cristalino fino.

De acordo com a invenção, essa tarefa é solucionada através de um aditivo para a fabricação da massa ativa positiva para acumuladores de chumbo a base de sulfato de chumbo tetrabásico de partículas finas, caracterizado pelo fato de ele conter um sulfato de chumbo tetrabásico com um tamanho médio de partícula inferior a aproximadamente 3 μιη assim como um ácido silícico de partícula fina para evitar a aglomeração das partículas do sulfato de chumbo tetrabásico.

Observou-se na aplicação do aditivo, de acordo com a invenção, que podem ser obtidos preferivelmente bons efeitos e vantagens se o tamanho médio da partícula do sulfato de chumbo tetrabásico for preferivelmente inferior a aproximadamente 1,5 μm. A margem de aproximadamente 0,2 a 0,9 μm mostrou-se especialmente vantajosa. Se o valor ficar abaixo de 0,2 μm não se obtém nenhuma vantagem econômica. Com o tamanho de partícula médio crescente a quantidade de aditivo precisa ser aumentada de modo a evitar também por motivos econômicos que o valor máximo seja ultrapassado.

Deve-se evitar preferivelmente um tamanho de partícula fina demais do ácido silícico. Neste caso, observou-se que os ácidos silícicos de partícula fina disponíveis no mercado apresentam uma vantagem especial quando sua respectiva superfície, segundo BET, é inferior a 300 m2/g, preferivelmente inferior a 150 m2/g. Os ácidos silícicos de partícula fina disponíveis no mercado são classificados normalmente através da indicação da superfície específica na denominação de tipos. Pode ser feita, sobretudo uma correlação entre os dados relativos à superfície específica do ácido silícico de partícula fina e os tamanhos de partículas correspondentes na área alcalina presente na fabricação da massa ativa positiva. O tamanho médio de partícula dos ácidos silícios de partícula fina utilizados situa-se convenientemente na faixa entre aproximadamente 10 e 120 µm, preferivelmente entre 20 e 80 nm, sendo que a faixa de aproximadamente 40 a 60 nm se mostra especialmente vantajosa. Se a margem ficar abaixo do valor de aproximadamente 10 nm, não ocorrerá o efeito desejado para impedir a aglomeração das partículas do sulfato de chumbo tetrabásico. O valor de 120 nm a princípio poderia ser excedido em casos isolados, embora os efeitos preferíveis se manifestem de uma melhor maneira no âmbito aqui apresentado de aproximadamente 40 a 60 nm.

Se as partículas forem muito pequenas, isso fará com que durante a cura ocorra uma granulometria ampla de cristais de sulfato de chumbo tetrabásico de diferentes tamanhos de cristal. Em caso de aproveitamento de ácidos silícicos desse tipo não é possível evitar cristais de sulfato de chumbo tetrabásico com um tamanho de partícula superior a 10μm. Eles ocorrem em parte isoladamente distribuídos, em parte em ninhos e podem atingir tamanhos de cristal encontrados normalmente em placas curadas de cristal grosso. No âmbito aqui apresentado em relação ao tamanho de cristal especialmente de aproximadamente 20 a 80 nm, e mais especialmente de aproximadamente 40 a 60 nm, é evitada a aglomeração dos cristais inoculares de sulfato de chumbo tetrabásico, moído em partículas finas. Além disso, é garantido que surjam estruturas de cristal de sulfato de chumbo tetrabásico extremamente homogêneas, cristalinas finas durante a cura. O tamanho final dos cristais de sulfato de chumbo tetrabásico é controlado pela quantidade de microsulfato adicionado. Por motivos econômicos, mostrou vantajoso para acumuladores de chumbo com ácido sulfúrico livre como eletrólitos estabelecer a quantidade de forma que seja obtida uma estrutura de cristal de sulfato de chumbo tetrabásico cristalina fina com tamanhos de cristal em uma faixa de aproximadamente 5 a 10 μm. Para uma distribuição desse tipo é possível uma formação simples. No caso de acumuladores de chumbo fechados com eletrólitos estabelecidos em géis ou não- tecido de fibra de vidro microporoso pode ser vantajoso um ajuste para tamanhos menores de cristal aumentando a quantidade de microsulfato. Enquanto valores teóricos podem ser controlados com adição de aproximadamente 0,5 a 3,0% em peso da suspensão química de acordo com a invenção os tamanhos de cristal do sulfato de chumbo tetrabásico após a cura da massa ativa na faixa de aproximadamente 2 a 10 μm. Por motivos econômicos é proposto estabelecer a quantidade de suspensão química de modo que para (a) os assim chamados acumuladores de chumbo úmidos são obtidos tamanhos de cristal de aproximadamente 5 a 10 ym mediante adição de aproximadamente 0,5 a 2% de suspensão química e para (b) baterias fechadas de aproximadamente 2 a 5μm mediante adição de aproximadamente 2 a 3% em peso. Como resultado o efeito desejado é controlado através da quantidade de microsulfato adicionado e não através de parâmetros de processo conforme procedimento usual (temperatura, umidade e tempo).

No âmbito da invenção o habilitado na técnica não está sujeito a qualquer restrição fundamental com relação à escolha do ácido silicico de partícula fina. Preferivelmente são utilizados, porém ácidos silícicos pirogênicos, na verdade qualidades "hidrófobas" e/ou "hidrófilas".

Com referência à relação quantitativa de sulfato de chumbo básico e ácido silicico de partícula fina no aditivo, de acordo com a invenção, não existe qualquer restrição crítica. Naturalmente a porcentagem de ácido silício de partícula fina deve ser selecionada de forma que o efeito desejado para impedir a aglomeração das partículas do sulfato de chumbo tetrabásico se realize no âmbito planejado. Convenientemente a composição do aditivo, de acordo com a invenção, é ajustada de forma que com relação ao peso total resultante do sulfato de chumbo tetrabásico e do ácido silicico de partícula fina estejam presentes aproximadamente 0,01 a 10% em peso, preferivelmente aproximadamente 0,02 a 5 %em peso de ácido silicico de partícula fina. É selecionada mais especialmente a margem de aproximadamente 0,05 a 0,5% em peso. Abaixo do valor de 0,01% em peso de ácido silicico de partícula fina não é possível mais impedir de modo suficiente a aglomeração. Com um valor superior a 10% em peso não ocorre mais um aumento importante desse efeito desej ado.

Com base no método, de acordo com a invenção, descrito mais adiante o aditivo é obtido em forma de uma suspensão química aquosa. Essa suspensão é preferível em possibilidades de uso mais adiante apresentadas. Mesmo assim é possível secar as suspensões químicas aquosas obtidas formando um pó, sendo esse obtido preferivelmente mediante secagem por atomização da suspensão química aquosa. Mostrou-se vantajoso o fato de que a suspensão química aquosa que é fornecida sem secagem para o uso desejado, apresenta um teor de matéria sólida de aproximadamente 10 a 70% em peso, preferivelmente de aproximadamente 20 a 50% em peso. Se o valor máximo de 70% em peso for ultrapassado, então a incorporação uniforme na massa ativa positiva é dificultada ou excluida. A uniformidade ou homogeneidade da massa ativa positiva acabada é necessária para atingir através da cura uma distribuição homogênea de tamanho de grão com uma largura estreita de margem. Teoricamente a delimitação inferior do teor de matéria sólida da suspensão aquosa de acordo com a invenção é limitada apenas pela receita de pasta com relação ao teor de água.

Além disso, é objetivo da presente invenção o método para fabricar o aditivo, de acordo com a invenção, conforme foi relatado anteriormente. Esse método é caracterizado pelo fato de o sulfato de chumbo tetrabásico ser moido por via úmida em meio aquoso até atingir um tamanho de partícula inferior a aproximadamente 3pm, sendo misturado ao sulfato de chumbo tetrabásico moido ou a ser moido ácido silícico de partícula fina do tipo anteriormente descrito. Neste caso, é feita uma moagem por via úmida preferivelmente em um moinho de bolas com agitador, preferivelmente em moinhos de bolas com agitador fechados. Os moinhos de bolas com agitador fechados apresentam a vantagem de a energia de moagem ser fornecida de maneira otimizada.

Em seguida o método, de acordo com a invenção, assim como os usos vantajosos do aditivo, de acordo com a invenção, serão mais detalhadamente esclarecidos, inclusive com relação às vantagens possíveis:

De acordo com a invenção, através da moagem de sulfato de chumbo tetrabásico em meio aquoso sob adição de ácido silícico especial de partícula fina é produzida uma suspensão, doravante denominada de "microsulfato". Um sulfato de chumbo tetrabásico disponível no comércio ou um sulfato de chumbo tetrabásico obtido a partir de placas curadas formando sulfato de chumbo tetrabásico é moido como substância de partida em um processo de moagem por via úmida, p.Ex. por intermédio de moinhos de bolas com agitador, preferivelmente em moinhos fechados, até atingir preferivelmente um tamanho médio de partícula inferior a 1μm. 0 ponto fundamental aqui é que são observados os parâmetros adicionais mencionados com relação ao ácido silícico". Portanto, o ácido silícico deve apresentar partículas finas. Preferivelmente ele apresenta caráter hidrófobo. Neste caso é preferível o ácido silícico pirogênico mencionado. O ácido silícico pirogênico apresenta a vantagem especial de apresentar uma pureza desejável de forma que nenhuma matéria estranha interfere no funcionamento do acumulador de chumbo. Neste caso é vantajoso adicionar o ácido silícico de partícula fina já na mistura básica ao sulfato de chumbo tetrabásico a ser moído. Naturalmente também é possível uma nova dosagem em uma instalação dosificadora apropriada. Isso acarretará no entanto uma despesa adicional e a um prolongamento do tempo total de processo.

Tecnicamente é vantajoso utilizar suspensões produzidas durante o processo de moagem por via úmida como suplemento ao processo de mescla das massas positivas ativas para a fabricação dos acumuladores de chumbo.

Desse modo, a suspensão pode ser adicionada suavemente por meio de um dispositivo dosificador simples ao processo de mescla. É possível uma secagem e a produção de um pó a partir da suspensão e conveniente em casos especiais de aplicação, preferivelmente no âmbito de uma secagem por atomização. Considerando a despesa adicional e a observância das normas de proteção contra acidentes de trabalho com relação a possíveis exposições ao pó em geral não se recomenda a produção de um pó em comparação à aplicação de uma suspensão aquosa.

Também está em perfeita consonância com a idéia de acordo com a invenção, tal como ilustrada anteriormente, a doutrina aperfeiçoada, de acordo com a invenção, segundo a qual é utilizado o ácido silicico de partícula fina, preferivelmente em forma hidrófoba e/ou hidrófila, preferivelmente em forma pirogênica em combinação com sulfato de chumbo tetrabásico de partícula fina com um tamanho médio de partícula inferior a aproximadamente 3ym e esses dois componentes são adicionados a uma massa ativa positiva para acumuladores de chumbo. Neste caso, os dois componentes são acrescentados um após o outro à massa ativa positiva, sendo especialmente preferível adicionar primeiramente o sulfato de chumbo tetrabásico de partícula fina e em seguida o ácido silicico de partícula fina à massa positiva. Um modo de procedimento desse tipo exige em geral uma adição elevada de ácido silicico de partícula fina.

Após a adição da suspensão obtida de acordo com a invenção, formando a massa ativa positiva durante o processo de mistura surge durante a cura subseqüente nas formas de concretização a seguir mencionadas um sulfato de chumbo tetrabásico especialmente cristalino fino. Isso apresenta a vantagem de que as instalações existentes podem ser aproveitadas sem alterações para aplicação do aditivo, de acordo com a invenção. Neste caso, é preferível que o aditivo acima descrito seja utilizado na massa ativa positiva para a cura e secagem de placas isoladas e não isoladas no processo de fabricação de acumuladores de chumbo. De modo especialmente vantajoso a cura das placas é feita em pilhas, dispostas na horizontal, na vertical ou suspensa, sob ação do vapor d'água a uma temperatura superior a aproximadamente 60° C, preferivelmente a uma temperatura de aproximadamente 80 a 95° C, em um período de aproximadamente 1 hora. Também é possível obter excelentes resultados se a cura das placas for realizada em pilhas, na posição horizontal, vertical ou suspensa, em estufas de cargas ou sob ação do vapor a temperaturas inferiores a aproximadamente 60° C e em um período d 12 a 14 horas. A cura das placas pode ser feita, no entanto, em um processo contínuo de cura e secagem. Neste caso, obtém-se resultados muito bons quando a cura das placas é realizada em pilhas, na posição horizontal, vertical ou suspensa em um processo continuo de cura e secagem sob ação do vapor em um período de aproximadamente 1 hora a temperatura de aproximadamente 80 a 95°C. No caso do processo de cura e secagem contínuo descrito é especialmente preferível que a cura e secagem seja feita em uma secagem de várias etapas a temperaturas crescentes. Neste caso, mostrou-se especialmente vantajoso iniciar a secagem a temperaturas crescentes em aproximadamente 50°C e ir aumentando até aproximadamente 90°C, durante 1 a 4 horas, preferivelmente durante aproximadamente 2 a 3 horas.

A boa distribuição dos cristais inoculantes tetrabásicos na massa ativa positiva através dos ácidos silícicos de partícula fina gera durante a cura uma estrutura de cristal tetrabásica que é caracterizada por uma largura de banda especialmente estreita em tamanhos de cristal e com uma composição extremamente homogenia. Isso se aplica para placas na pilha como também para placas soltas na cura. Através de uma largura de banda estreita em tamanhos de cristal tetrabásicos obtém-se uma superfície maior para volume igual de poros, em outras palavras, obtém-se um volume maior de poros para mesma superfície dos cristais tetrabásicos. A vantagem está em um aumento da quantidade de absorção de ácido silícico nos poros livres da placa. Com isso melhoram os dados de potência elétrica. Para o usuário de microsulfato existe como vantagem econômica a possibilidade de economizar em massa positiva ativa no caso de dados iguais de potência dos acumuladores de chumbo.

A aplicação da doutrina, de acordo com a invenção, aproveita todo o espectro da engenharia industrial atual e seqüências comuns de processo. As linhas atuais de empastamento com máquinas empilhadoras conectadas em série bem como todas as estufas comuns de cura e secagem podem ser utilizadas sem precisar sofre modificações. Além disso, pode ser representada futuramente uma técnica de cura e secagem continua em um período total de aproximadamente 3 a 4 horas. Em todos os casos de aplicação mencionados surgem como produto final sulfatos de chumbo tetrabásicos cristalinos finos com tamanhos de cristal inferiores a ΙΟμπι. As placas assim produzidas podem ser formadas do mesmo modo simples como as placas acabadas de sulfatos de chumbo tribásicos.

Claims

1. Aditivo para fabricar massas ativas positivas para acumuladores de chumbo à base de sulfato de chumbo tetrabásico de partícula fina, caracterizado pelo fato de o aditivo conter um sulfato de chumbo tetrabásico com um tamanho médio de partícula inferior a 3μm bem como ácido silícico de partícula fina para impedir a aglomeração das partículas do sulfato de chumbo tetrabásico.

2. Aditivo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de o ácido silícico de partícula fina ser hidrófobo e/ou hidrófilo.

3. Aditivo, de acordo com qualquer uma das reivindicações - 1 ou 2, caracterizado pelo fato de o ácido silícico de partícula fina ser pirogênico.

4. Aditivo, de acordo com qualquer uma das reivindicações de 1 a 3, caracterizado pelo fato de o tamanho médio da partícula do sulfato de chumbo tetrabásico situar-se entre 0,2 e 1,5 μm.

5. Aditivo, de acordo com qualquer uma das reivindicações de 1 a 4, caracterizado pelo fato de o ácido silícico de partícula fina apresentar uma superfície específica, segundo BET, inferior a 300 m2/g.

6. Aditivo, de acordo com a reivindicação 5, caracterizado pelo fato de o ácido silícico de partícula fina apresentar uma superfície específica, segundo BET, inferior a 150 m2/g.

7. Aditivo, de acordo com qualquer uma das reivindicações de 1 a 6, caracterizado pelo fato de o ácido silícico de partícula fina apresentar um tamanho médio de partícula de 10 a 120 nm.

8. Aditivo, de acordo com a reivindicação 7, caracterizado pelo fato de o ácido silícico de partícula fina apresentar um tamanho médio de partícula de 20 a 80 nm.

9. Aditivo, de acordo com a reivindicação 7, caracterizado pelo fato de o tamanho médio de partícula do ácido silícico de partícula fina situar-se entre 40 e -60 nm.

10. Aditivo, de acordo com qualquer uma das reivindicações de 1 a 9, caracterizado pelo fato de o aditivo, com relação ao peso total resultante de sulfato de chumbo tetrabásico e de ácido silicico de partícula fina, conter 0,01 a 10% em peso de ácido silicico de partícula fina.

11. Aditivo, de acordo com a reivindicação 10, caracterizado pelo fato de o aditivo, com relação ao peso total resultante de sulfato de chumbo tetrabásico e de ácido silicico de partícula fina, conter 0,02 a 5% em peso de ácido silicico de partícula fina.

12. Aditivo, de acordo com a reivindicação 10, caracterizado pelo fato de o ácido silicico de partícula fina estar presente em uma quantidade de 0,05 a 0,5% em peso.

13. Aditivo, de acordo com pelo menos uma das reivindicações de 1 a 12, caracterizado pelo fato de o aditivo estar presente em forma de uma suspensão aquosa.

14. Aditivo, de acordo com a reivindicação 13, caracterizado pelo fato de a suspensão aquosa apresentar um teor de matéria sólida de 10 a 70% em peso.

15. Aditivo, de acordo com a reivindicação 13, caracterizado pelo fato de a suspensão aquosa apresentar um teor de matéria sólida de 20 a 50% em peso.

16. Método para fabricar um aditivo, de acordo com qualquer uma das reivindicações de 1 a 15, caracterizado pelo fato ser moído por via úmida sulfato de chumbo tetrabásico em meio aquoso até atingir um tamanho de partícula inferior a 3 μm, sendo que é adicionado ao sulfato de chumbo tetrabásico a ser moído ou moído ácido silicico de partícula fina, preferivelmente em forma hidrófila e/ou hidrófoba.

17. Método, de acordo com a reivindicação 16, caracterizado pelo fato de o ácido silicico ser ácido silicico pirogênico.

18. Método, de acordo com a reivindicação 17, caracterizado pelo fato de o sulfato de chumbo tetrabásico ser moído por via úmida em moinhos de bolas com agitador.

19. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações de 16 a 18, caracterizado pelo fato de a suspensão aquosa obtida do produto de moagem ser convertida em pó através de secagem.

20. Método, de acordo com a reivindicação 19, caracterizado pelo fato de a suspensão aquosa ser seca por atomização.

21. Uso do aditivo, de acordo com qualquer uma das reivindicações de 1 a 17, caracterizado pelo fato de ele ser utilizado na massa ativa positiva para a cura e secagem de placas isoladas e não isoladas durante a fabricação de acumuladores de chumbo.

22. Uso, de acordo com a reivindicação 21, caracterizado pelo fato de a cura das placas ser realizada em pilhas, na posição horizontal, vertical ou suspensa, sob ação do vapor d'água a uma temperatura superior a 60°C, em um período de 1 hora.

23. Uso, de acordo com a reivindicação 22, caracterizado pelo fato de a cura das placas ser realizada em pilhas, na posição horizontal, vertical ou suspensa, sob ação do vapor d'água a uma temperatura entre 80 a 95°C em um período de 1 hora.

24. Uso, de acordo com a reivindicação 21, caracterizado pelo fato de a cura das placas ser realizada em pilhas, na posição horizontal, vertical ou suspensa, em estufas de cargas ou sob ação do vapor d'água a temperaturas inferiores a 60°C e, em um período de 12 a 24 horas.

25. Uso, de acordo com a reivindicação 21, caracterizado pelo fato de a cura das placas ser realizada em pilhas, na posição horizontal, vertical ou suspensa, em um processo contínuo de cura e secagem sob ação do vapor d'água em um período de 1 hora, a uma temperatura de 80°C a 95°C.

26. Uso, de acordo com a reivindicação 25, caracterizado pelo fato de a secagem das placas ser realizada em pilhas, na posição horizontal, vertical ou suspensa, em um processo continuo de cura e secagem em uma secagem de várias etapas a temperaturas crescentes.

27. Uso, de acordo com a reivindicação 26, caracterizado pelo fato de a secagem se realizada a temperaturas crescentes, iniciando a 50°C e aumentado até atingir -90°C, em um período de 1 a 4 horas.

28. Uso, de acordo com a reivindicação 27, caracterizado pelo fato de a secagem se realizada a temperaturas crescentes, iniciando a 50° C e aumentado até atingir 90° C, em um período de 2 a 3 horas.

29. Uso do aditivo, de acordo com a reivindicação 21, caracterizado pelo fato de ser uso de ácido silícico de partícula fina preferivelmente em forma hidrófoba e/ou hidrófila, em combinação com sulfato de chumbo tetrabásico de partícula fina em um tamanho médio de partícula inferior a 3 μπι, sendo que esses dois componentes são adicionados a uma massa ativa positiva para acumuladores de chumbo.

30. Uso, de acordo com a reivindicação 29, caracterizado pelo fato de os dois componentes serem acrescentados um após o outro na massa ativa positiva para acumuladores de chumbo.

31. Uso, de acordo com qualquer uma das reivindicações 29 ou 30, caracterizado pelo fato de primeiramente ser adicionado o sulfato de chumbo tetrabásico e em seguida o ácido silícico de partícula fina à massa ativa positiva para acumuladores de chumbo.