BE1007714A3 - Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van elektrisch isolerend materiaal met een patroon van gaten en/of holtes. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van elektrisch isolerend materiaal met een patroon van gaten en/of holtes. Download PDF

Info

Publication number
BE1007714A3
BE1007714A3 BE9301236A BE9301236A BE1007714A3 BE 1007714 A3 BE1007714 A3 BE 1007714A3 BE 9301236 A BE9301236 A BE 9301236A BE 9301236 A BE9301236 A BE 9301236A BE 1007714 A3 BE1007714 A3 BE 1007714A3
Authority
BE
Belgium
Prior art keywords
plate
mask
pattern
holes
cavities
Prior art date
Application number
BE9301236A
Other languages
English (en)
Inventor
Haas Franciscus C M De
Laarhoven Franciscus M H Van
Laarhoven Johannus M E Van
Henricus J Ligthart
Petrus H W Swinkels
Beek Johannes Gerardus Van
Original Assignee
Philips Electronics Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Electronics Nv filed Critical Philips Electronics Nv
Priority to BE9301236A priority Critical patent/BE1007714A3/nl
Priority to KR1019950702856A priority patent/KR100339322B1/ko
Priority to US08/481,529 priority patent/US5730635A/en
Priority to JP7513731A priority patent/JPH08507259A/ja
Priority to EP95902338A priority patent/EP0678217B1/en
Priority to PCT/NL1994/000277 priority patent/WO1995013623A1/en
Priority to DE69413947T priority patent/DE69413947T2/de
Priority to AT95902338T priority patent/ATE172322T1/de
Application granted granted Critical
Publication of BE1007714A3 publication Critical patent/BE1007714A3/nl
Priority to US08/744,160 priority patent/US5800231A/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/14Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/14Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
    • H01J9/148Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of electron emission flat panels, e.g. gate electrodes, focusing electrodes or anode electrodes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C1/00Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
    • B24C1/04Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for treating only selected parts of a surface, e.g. for carving stone or glass
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C3/00Abrasive blasting machines or devices; Plants
    • B24C3/32Abrasive blasting machines or devices; Plants designed for abrasive blasting of particular work, e.g. the internal surfaces of cylinder blocks
    • B24C3/322Abrasive blasting machines or devices; Plants designed for abrasive blasting of particular work, e.g. the internal surfaces of cylinder blocks for electrical components
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2329/00Electron emission display panels, e.g. field emission display panels
    • H01J2329/86Vessels
    • H01J2329/8625Spacing members

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Abstract

Een plaat van elektrisch isolerend, in het bijzonder hard en bros, materiaal wordt na te zijn voorzien van een (metalen) masker met een aantal in een patroon gerangschikte gaten blootgesteld aan tenminste één straal met abrasieve poederdeeltjes die relatief t.o.v. de plaat bewogen wordt. Het masker is op zijn vrij liggende oppervlak voorzien van een laag die de hoeveelheid energie die door bestraling met de poederdeeltjes in het masker wordt gedissipeerd vermindert, onder andere soft-touch lakken en kleverige lijm- of laksoorten zijn hiervoor geschikt. Het opbouwen van mechanische spanningen in het masker, aanleiding gevend tot vervormingen en/of loskomen van de ondergelegen plaat, wordt hiermee verminderd.

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



  Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van elektrisch isolerend materiaal met een patroon van gaten en/of holtes. 



   De uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van elektrisch isolerend materiaal met een aantal in een patroon gerangschikte holtes en/of gaten. 



   Dergelijke platen, die in het bijzonder van harde, brosse materialen zoals glas of keramisch materiaal kunnen zijn gemaakt, vinden in het bijzonder toepassing in electro-luminescerende gasontladingsdisplays, zoals plasmadisplays, in veldemissiedisplays, in   kathodestraa1displays   en in displays waarin electronen in kanalen met wanden van elektrisch isolerend materiaal gepropageerd worden   (z. g.   electronenfiberdisplays), waarbij de gaten of holtes dienen voor het manipuleren van electronenstromen.

   Ze kunnen uitgevoerd zijn als (multi-apertured) controleplaat en voorzien zijn van (adresseerbare) electrodes die met de gaten samenwerken, als transportplaat met een aantal evenwijdige holtes (transportkanalen), of als van gaten voorziene afstandplaat   (b. v.   tussen een controleplaat en het luminescerende scherm van een luminescerend display). 



   In US Patent 4, 388, 550 wordt een luminescerend gasontladingsdisplay beschreven. Hierin is een controleplaat nodig die de individuele beeldpunten controleert. 



  Deze controleplaat verdeelt de binnenruimte van zulke displays in twee gebieden, een plasmagebied en een naversnellingsgebied.   Hij bevat een "geperforeerde" plaat   met aan   een   zijde een   lijnenrangschikking   en aan de andere zijde een kolommenrangschikking van metalen geleiders of electrodes die de perforaties omgeven of er langs lopen. 



   Hiermee kunnen electronen selectief vanuit het plasmagebied door de gaten heen naar het naversnellingsgebied getrokken worden en het luminescerende scherm treffen. 



   Andere gasontladingsdisplays bevatten bijvoorbeeld platen met (tegenover elkaar liggende) holtes. 



   In het geval van een controleplaat wordt het aantal perforaties of gaten in een plaat van het hierboven beschreven type bepaald door het aantal gewenste 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 beeldpunten. 



   Bij hedendaagse televisielijnscan-patronen heeft men bijvoorbeeld te maken met ongeveer 500 x 700 beeldpunten met een horizontale steek van 0, 5 mm, en een verticale steek van 0, 7 mm. Deze bepalen het gatenpatroon dat in de controleplaat van elektrisch isolerend materiaal moet worden aangebracht. 



   Uit EP 0 562 670 is het bekend dat deze patronen met behulp van een van gaten voorzien masker en een poederstraalbewerking vervaardigd kunnen worden. Door het grote verschil in afnamesnelheid tussen het   maskermateriaal   en het materiaal van het voorwerp waarin een gatenpatroon moet worden aangebracht (in het bijzonder glas) is dit proces mogelijk. Een probleem dat bij het gebruik van een los (metalen) masker blijkt op te treden is echter dat het masker tijdens het stralen vervormt,   c. q. bol   gaat staan, met als gevolg   o. a.   dat het niet meer goed aanligt op het van een patroon te voorziene product, wat ten koste gaat van de nauwkeurigheid van dat patroon.

   Een ander nadeel van vervormen is dat een verandering van de absolute maten van het masker ten gevolge van vervorming maakt dat het niet meerdere malen bruikbaar is. 



   De uitvinding heeft ten doel een (bij voorkeur eenvoudige) werkwijze voor het vervaardigen van een plaat, die in het bijzonder geschikt is voor de hierboven beschreven toepassingen, te verschaffen die de genoemde problemen vermindert. 



   De werkwijze volgens de uitvinding wordt daartoe gekenmerkt doordat het patroon gemaakt wordt met behulp van de volgende stappen :   - het   produceren van tenminste een straal die abrasieve poederdeeltjes bevat ;   - het   richten van de straal op een oppervlak van de plaat ; - het beperken van de gebieden waar de straal het oppervlak treft ;   - het   uitvoeren van een relatieve beweging tussen de straal en de plaat ; waarbij voor het beperken van de gebieden waar de straal het oppervlak treft een masker wordt gebruikt dat op z'n oppervlak waar de straal op invalt is bedekt met een laag die de hoeveelheid energie die door de bestraling met de poederdeeltjes in het masker wordt gedissipeerd 

 <Desc/Clms Page number 3> 

 vermindert. 



   De uitvinding berust op het inzicht dat het vervormen,   c. q. kromtrekken,   een gevolg is van het feit dat er door de poederdeeltjes energie in het masker wordt 
 EMI3.1 
 gedissipeerd wat tot opbouw van spanningen leidt, en dat dit probleem in aanzienlijke mate kan worden verminderd indien een laag op het masker wordt aangebracht die voldoende dik en elastisch is om dissipate van energie in het masker te voorkomen. 



  Geschikte materialen voor deze laag zijn bijvoorbeeld zachte laksoorten, in het bijzonder zogenaamde soft-touch lakken. Dit kunnen bijvoorbeeld lakken op polyurethaanbasis of epoxybasis zijn. Deze kunnen op eenvoudige wijze vooraf door middel van spuiten op het masker worden aangebracht. De laag moet dik genoeg zijn om de energie van de poederdeeltjes op te kunnen nemen. In veel gevallen betekent dit dat de laag tenminste een dikte moet hebben die overeenkomt met de grootte van de poederdeeltjes. Bij gebruik van poederdeeltjes met een grootte van bijvoorbeeld 25 micron dus tenminste een dikte van ongeveer 25 micron. Wil men nauwkeurige patronen krijgen dan mag de dikte van masker + coating niet te groot worden. In het algemeen betekent dit dat de coating een dikte van 100 micron niet overschrijdt. 



   Het is van belang dat de genoemde laag een voldoende bestandheid tegen het straalproces bezit. Soft-touch lakken blijken deze bestandheid in zekere mate te bezitten. Het gebruik van een (top) laag met een kleverig oppervlak biedt extra 
 EMI3.2 
 voordelen, want de bij het straalproces gebruikte poederdeeltjes blijven dan in het kleverige oppervlak plakken en geven een extra bescherming, hetgeen de levensduur ten goede komt. Bijvoorbeeld fotolijm en andere kleverige lijmen zijn voor dit doel geschikt. 



   In plaats van op een los masker kunnen de hiervoor genoemde materialen direct op het van een patroon te voorziene voorwerp aangebracht worden en na gepatroneerd te zijn als masker dienen. 



   Zeer geschikt blijkt echter het gebruik van een geperforeerde (in het bijzonder metalen) plaat als masker te zijn. Door toepassing van de uitvinding blijven de maten behouden en kan deze een aantal malen gebruikt worden. Zonodig kan men voordat het masker een volgende maal gebruikt wordt de laag herstellen of vernieuwen. 



   Bij gebruik van een losse metalen of kunststof plaat als masker is het van voordeel om deze op de te stralen plaat vast te kleven. Hiervoor kan men een kleefmiddel gebruiken dat zich gemakkelijk laat verwijderen. (Kleefmiddelen op 

 <Desc/Clms Page number 4> 

 glucosebasis laten zieh bijvoorbeeld gemakkelijk met water verwijderen.) Een alternatief is om voor het masker een plaat uit een magnetiseerbaar metaal te gebruiken, bijvoorbeeld Fe, en deze met behulp van een aan de andere zijde van de te stralen plaat met behulp van "magneetklemmen" opgewekt magneetveld aan de te stralen plaat te laten "kleven". 



   Het vastkleven is van belang om plaatselijk loskomen van het masker tijdens het stralen, waardoor er poederdeeltjes onder kunnen komen die de niet te bestralen delen kunnen beschadigen (zogenaamd onderstralen), zoveel mogelijk te voorkomen. 



   In het geval dat het (metalen) masker met behulp van een kleefmiddel verlijmd is, kan de hechtkracht van het kleefmiddel soms te kort schieten om loskomen van het van een patroon te voorziene voorwerp (ten gevolge van het opbouwen van mechanische spanningen in het masker) volledig te voorkomen. In het bijzonder kan dit optreden bij maskers met een hoge transmissie (klein lijmoppervlak). Door het masker aan de te verlijmen zijde vooraf te voorzien van een hechtprimer (lakprimer) verbetert men de hechtkracht,   i. h. b.   in het geval van het gebruik van glucose. 



   Deze en andere aspecten van de uitvinding zullen aan de hand van de volgende uitvoeringsvoorbeelden nader worden toegelicht. 



   Fig. 1 toont een dwarsdoorsnede door een van een geperforeerd masker voorziene plaat ;
Fig. 2 toont dwarsdoorsneden door twee van een coating voorziene geperforeerde maskers ;
Fig. 3 toont een dwarsdoorsnede door een   veldemissiedisplay ;  
Fig. 4a toont een aanzicht en
Fig. 4b toont een dwarsdoorsnede van een electronenfiberdisplay ;
Fig. 5 toont een dwarsdoorsnede door een gasontladingsdisplay ;
Fig. 6 toont een exploded view van een flat panel display ;
Fig. 7 en 8 tonen schematisch het met behulp van een poederstraalinrichting aanbrengen van een gatenpatroon in een plaat. 
 EMI4.1 
 



  Voor het gebruik in verschillende soorten (electro-luminescerende) 0 

 <Desc/Clms Page number 5> 

 displays zijn elektrisch isolerende controleplaten, transportplaten en/of afstandplaten met zeer nauwkeurige gaten en/of holten patronen nodig. De plaatdikte kan liggen tussen 50 en 5000 micron, in het bijzonder tussen 50 en 700 micron. Een karakteristiek materiaal voor deze toepassingen is glas of keramiek. 



   Fig. 1 toont een dwarsdoorsnede door zo'n plaat 1 met daarop een metalen masker 2. Geschikte metalen zijn metalen die gemakkelijk etsbaar zijn, zoals Fe en Fe-legeringen. Bij voorkeur vertonen ze weinig "shot peening". Akoca is in dit opzicht een geschikt materiaal. De uitvinding geeft echter een ruimere keus aan te gebruiken materialen. In plaats van een metalen masker, kan men een lakmasker (bijvoorbeeld van een met behulp van een zeefdruktechniek aangebrachte lak) of een kunststofmasker (bijvoorbeeld van een UV-gevoelige kunststof) gebruiken. 



   Het masker 2 wordt, bijvoorbeeld door middel van een of meer sproeistappen, van een laag 4 voorzien (Fig. 2), volgens de uitvinding een soft-touch lak en/of een kleverige lijm. De laag 4 kan alleen het oppervlak van het masker 2 bedekken (links in fig. 2) of ook de wanden van de gaten (rechts in fig. 2) Eventueel bevindt zich tussen de laag 4 en het masker 2 een laag hecht primer. Een los masker kan men met behulp van een kleeflaag 5 op de plaat 1 kleven om plaatselijk loskomen tijdens het poederstraalproces tegen te gaan. De kleeflaag 5 kan een in water oplosbaar kleefmiddel (bijvoorbeeld een kleefmiddel op basis van glucose) bevatten.

   Een dergelijk kleefmiddel laat zich eenvoudig en goedkoop aanbrengen en na gebruik eenvoudig verwijderen.   (Een   alternatief is om het masker 2 van een magnetisch materiaal te vervaardigen en het met behulp van een magneetveld tegen de plaat 1 te   laten "kleven".)  
Het met behulp van glucose of een ander kleefmiddel verlijmen van het masker op een van een patroon te voorziene plaat kan men verbeteren door het masker aan de te   verlijmen   zijde vooraf te voorzien van een ten aanzien van het gebruikte kleefmiddel effectieve hechtprimer (lak primer). Daardoor kan men beter voorkomen dat het masker tijdens het straalproces (ten gevolge van de mechanische spanningen die zich in het masker opbouwen) loskomt van de plaat. 



   De met stippellijnen aangegeven gaten 3 in de plaat 1 lopen in de uitvoeringsvorm van Fig. 1 enigszins taps toe. Bij toepassing als interne vacuÜmondersteuning (afstandplaat) in veldemissiedisplays is een   dergelijke   gatvorm niet ongebruikelijk. Men kan echter ook nagenoeg cilindrische gaten, of holtes met nagenoeg evenwijdige wanden maken. Platen met cilindrische gaten zijn bijvoorbeeld 

 <Desc/Clms Page number 6> 

 geschikt om als spacer tussen een controleplaat en het luminescerende scherm in een electronenfiberdisplay te dienen. 



   Fig. 3 toont een schematische dwarsdoorsnede door een veldemissiedisplay, met een substraat 40, konusvormige emissietips 41, een afstandplaat 42 met gaten 43 en een voorwand 45 met een luminescerend scherm 44. De afstandplaat 42 kan met voor deel met behulp van de werkwijze volgens de uitvinding vervaardigd worden. 



   Fig. 4a toont een schematisch aanzicht, en Fig. 4b een dwarsdoorsnede, van een electronenfiberdisplay 6 zoals beschreven in EP-A-400 750. Hierin bevindt zieh tussen een transparante faceplaat 7 en een achterwand 14 een aantal van regelmatige gatenpatronen voorziene isolatorplaten 10a, lOb, lOc,   lord.   



   Op het binnenoppervlak van de faceplaat 7 is een luminescerend scherm 15 aangebracht. Hieraan grenst een (glazen) flu-spacerplaat   lOd,   met een karakteristieke dikte van ongeveer 0, 4 tot 1 mm en bijvoorbeeld 1 x   10   gaten die corresponderen met het aantal luminescerende gebieden (kleurendots) op het scherm 15. De kleurendots worden geadresseerd met behulp van een voorselectieplaat   lOa   en een fijnselectieplaat lOc, elk bijvoorbeeld van glas en 0, 5 mm dik. De plaat lOc heeft in dit geval een patroon van gatentripletten R, G, B. De gaten in de plaat 10c worden bijvoorbeeld rijgewijs geactiveerd met behulp van metalen fijnselectie-electrodes 13,13', 13",.... 



  Deze kunnen na het maken van de gaten zijn aangebracht, wat de mogelijkheid geeft om ook de gatwanden te metalliseren. Een alternatief is de fijnselectie-electrodes vooraf aan te brengen.   Voorselectieplaat lOa   is van fijnselectieplaat lOc gescheiden door een spacerstructuur lOb, in dit geval een plaat met (grote) gaten die elk van de b. v. 350. 000 
 EMI6.1 
 gaten 8, 8',... in de voorselectieplaat lOa verbinden met een aantal gaten in de fijnselectieplaat lOc. Op de voorselectieplaat lOa zijn voorselectie-electrodes 9, 9',... aangebracht voor het b. activeren van de gaten 8, 8',... die met electronentransportleidingen 11, 11', il",... communiceren (zie ook Fig. 4a).

   De    v. rijgewijs,transportleidingen   11, 11',   11..... zijn   in dit geval van elkaar gescheiden door elektrisch isolerende tussenwanden 12,   12',     12",.... Ben alternatief   is om de   transportleidingen   (enkele honderden in totaal,   b. v.   200 of 400) als kanaalvormige holtes met een diepte van enkele mm en breedte van bijvoorbeeld 0,5 of 1 mm in de achterwand 14 aan te brengen. Ook hiervoor is de werkwijze volgens de uitvinding toepasbaar. De achterwand 14 vormt in dat geval een   electronentransportplaat.   De 

 <Desc/Clms Page number 7> 

   transportleidingen   11, 11', 11",... werken via een geperforeerde kathodeplaat 16 (van bijvoorbeeld 1 mm dik glas) samen met een-lijnvormige-electronenbron 18.

   De gaten 17 in de kathodeplaat 16 (eveneens enkele honderden in getal, bijvoorbeeld 200 of 400) kunnen eveneens met voordeel met behulp van de werkwijze volgens de uitvinding aangebracht zijn. 



   Onder andere in verband met de zeer grote aantallen gaatjes is vervorming en/of loskomen van het masker zeer ongewenst en biedt de uitvinding een uitkomst bij de fabrieksmatige fabricage. 



   Fig. 5 toont een schematisch aanzicht van een gasontladingsdisplay zoals beschreven in DE-2 412 869. Hierin bevindt zich een van een regelmatig patroon van gaten 22 voorziene isolatorplaat 21. Over de gaten 22 lopen aan   n zijde rijengeleiders 23. Deze zijn bijvoorbeeld door middel van printen, opdampen of fotolithografie aangebracht. Over de andere zijde van de gaten 22 lopen kolomgeleiders 24. Voor de werking van een dergelijk display wordt naar DE-2 412 869 verwezen. De isolatorplaat 21 kan met voordeel met behulp van de werkwijze volgens de uitvinding vervaardigd worden. 



   Fig. 6 toont een schematisch aanzicht van een flat panel display van het beam matrix type. Hierin bevindt zich een groot aantal, van sleufvormige gaten voorziene, metalen   electronenbundel-controle-electrodes   25,   25',   25",... tussen een achterwand 26 en een luminescerend scherm 27. Door deze electrodes op een van eenzelfde gatenpatroon voorziene plaat van elektrisch isolerend materiaal aan te brengen, kunnen voordelen qua hanteerbaarheid en ophanging gerealiseerd worden. 



   Fig. 7 toont een te stralen plaat 28 die op een support 29 ligt. Het support 29 is beweegbaar in de richting van de pijl P loodrecht op het vlak van de tekening. Op de plaat 28 is een masker 30 in de vorm van een geperforeerde metalen plaat aangebracht. Het masker 30 heeft in dit voorbeeld een regelmatig patroon van ronde gaten. (Zie Fig. 8). Een inrichting 31 voor het uitvoeren van een abrasieve bewerking (poederstraalinrichting) is schematisch getoond als een straaleenheid 32 voorzien van een nozzle 33 die naar het oppervlak van de plaat 28 gericht is. Er   b. v.   van afhankelijk of er gaten of holtes gemaakt moeten worden, kan de nozzle/masker afstand liggen tussen 0, 5 en 25 cm, typisch tussen 2 en 5 cm.

   Tijdens bedrijf wordt er een straal met abrasieve poederdeeltjes,   b. v. siliciumcarbide-deeltjes, aluminiumoxyde-deeltjes,   glaskorrels, staalkorrels, of mengsels daarvan, uit de nozzle 33 geblazen. Hierbij kan 

 <Desc/Clms Page number 8> 

 een drukprincipe of een venturiprincipe gebruikt worden. Voor het doel van de uitvinding geschikte afmetingen van de abrasieve deeltjes liggen in het gebied tussen 1 en 200 micron, typisch tussen 10 en 100 micron. 



   Straaleenheid 32 met nozzle 33 is in dit voorbeeld traverseerbaar in een richting dwars op de pijl P door middel van een traverseerinrichting 34 voorzien van een spindel 35, maar ook andere manieren van bewegen zijn toepasbaar. 



   Met elektrische contacten uitgeruste eindstops worden getoond als 36 en 37 en worden verondersteld met een omkeerschakeling te zijn verbonden om de draaizin van de door een motor aan te drijven spindel 35 om te keren. 



   Tijdens bedrijf beweegt het support 29 met de plaat 28 bijvoorbeeld heen en weer evenwijdig aan de   X-as   en voert de straaleenheid 32 axiale traverseerbewegingen evenwijdig aan de Y-as uit (Fig. 8), waarbij de bewegingssnelheden zodanig op elkaar zijn afgestemd dat het complete gewenste gaten-of holtespatroon in de plaat 28 ontstaat. In plaats van   een   nozzle kan men (bijvoorbeeld om het proces te versnellen, maar in het bijzonder om de homogeniteit van het gewenste patroon te vergroten) een aantal nozzles gebruiken. Dit aantal kan 6 zijn, maar eventueel ook 100. 



  Voor een goede homogeniteit is het nuttig dat elke nozzle over elk stukje van het masker bewogen wordt. 



   Een 0, 5 mm dikke plaat van 30 bij 40 cm kan op de hierboven beschreven wijze bijvoorbeeld in 1 minuut van een zeer nauwkeurig gatenpatroon met 1 x   1Q6   gaatjes met een diameter van 600 micron worden voorzien. 



   Voor electronenfiberdisplays van het Fig. 4 type zijn geperforeerde platen nodig met gatenpatronen met aantallen gaatjes vari rend van 100 x   103   tot 10 x   1Q6.   



   Een andere toepassing van de uitvinding is het aanbrengen van een groot aantal evenwijdige langwerpige holtes in een plaat van elektrisch isolerend materiaal, welke holtes als electronentransportleidingen dienen in een electronenfiberdisplay. Het in Fig. 4a getoonde display omvat enkele honderden   (b. v.   400) van zulke electronentransportleidingholtes 11, 11', 11",... enz. 



   Kan men poederstralen op een wijze waarbij de maskers minimaal vervormen, dan is het aantrekkelijk om de maskers te voorzien van een   additioneel   gatenpatroon voor het vormen van uitrichtkenmerken in de te behandelen plaat. Dit patroon kan gelijktijdig met het gatenpatroon langs fotolithografische weg in het masker 

 <Desc/Clms Page number 9> 

 
 EMI9.1 
 aangebracht worden. Door de sjabloonwerking van het poederstraalproces wordt de nauwkeurigheid van de plaats van de uitrichtkenmerken ten opzichte van het gatenpatroon in de te behandelen plaat bepaald met de nauwkeurigheid van de fotolithografie. 



  Een uitvoeringsvorm waarbij van het bovenstaande gebruik wordt gemaakt is een additioneel gatenpatroon in de vorm van een lijnvormige spleet. Tijdens het poederstralen ontstaat hierdoor een V-vormige groef in de onderliggende plaat (Fig. 9). 



  Door in de groef een cilindrisch lichaam te plaatsen en een van een tegengroef voorziene plaat hierop te leggen, kan men twee platen nauwkeurig ten opzichte van elkaar positioneren (Fig. 10). Het cilindrische lichaam kan bijvoorbeeld een massieve fiber (Fig. 11), een massieve fiber met een verende, krimpende of vloeiende buitenmantel (Fig. 12) of een verende metalen buis (Fig. 13) zijn. Met behulp van de werkwijze volgens de uitvinding kan men ook uitrichtkenmerken (bijvoorbeeld gematteerde oppervlakken, kruisende groeven, concentrische groeven) in de te behandelen plaat aanbrengen die dienst doen bij het optisch uitrichten van de plaat. 



  Een nog niet genoemd voordeel van de coating uit een materiaal dat energiedissipatie in het masker vermindert, is nog dat men relatief dun maskermateriaal kan gebruiken zonder dat gevaar voor vervorming optreedt. Hierdoor zijn kleinere geometrien van het gatenpatroon mogelijk. Een ander voordeel is dat het abrasieve poeder minder snel slijt.

Claims (6)

  1. CONCLUSIES : 1. Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van elektrisch isolerend materiaal met een aantal in een patroon gerangschikte holtes en/of gaten, waarbij het patroon gemaakt wordt met behulp van de volgende stappen : - het produceren van tenminste een straal die abrasieve poederdeeltjes bevat ; - het richten van de straal op een oppervlak van de plaat ; - het beperken van de gebieden waar de straal het oppervlak treft ; - het uitvoeren van een relatieve beweging tussen de straal en de plaat ;
    waarbij voor het beperken van de gebieden waar de straal het oppervlak treft een masker wordt gebruikt dat op z'n oppervlak waar de straal op invalt is bedekt met een laag die de hoeveelheid energie die door de bestraling met de poederdeeltjes in het masker wordt gedissipeerd vermindert.
  2. 2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de laag een softtouch lak bevat.
  3. 3. Werkwijze volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat de laag een kleverig oppervlak heeft.
  4. 4. Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van elektrisch isolerend materiaal met een aantal in een patroon gerangschikte holtes en/of gaten, waarbij het patroon gemaakt wordt met behulp van de volgende stappen : - het produceren van tenminste een straal die abrasieve poederdeeltjes bevat ; - het richten van de straal op een oppervlak van de plaat ; - het beperken van de gebieden waar de straal het oppervlak treft ; - het uitvoeren van een relatieve beweging tussen de straal en de plaat ;
    waarbij voor het beperken van de gebieden waar de straal het oppervlak treft een van een masker wordt gebruikt dat met behulp van een kleefmiddel aan het oppervlak van de plaat van elektrisch isolerend materiaal wordt gelijmd, met het kenmerk, dat het masker aan zijn te verlijmen zijde vooraf van een hechtprimer wordt voorzien.
  5. 5. Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van elektrisch isolerend materiaal met een aantal in een patroon gerangschikte holtes en/of gaten,'waarbij het patroon gemaakt wordt met behulp van de volgende stappen : het produceren van tenminste een straal die abrasieve poederdeeltjes <Desc/Clms Page number 11> bevat ; het richten van de straal op een oppervlak van de plaat ; het beperken van de gebieden waar de straal het oppervlak treft ; het uitvoeren van een relatieve beweging tussen de straal en de plaat ; waarbij voor het beperken van de gebieden waar de straal het oppervlak treft een van een gatenpatroon voorzien masker wordt gebruikt, met het kenmerk, dat het masker van een additioneel gatenpatroon is voorzien voor het vormen van tenminste één uitrichtkenmerk in de plaat.
  6. 6. Werkwijze volgens conclusie 5, met het kenmerk, dat met behulp van het additionele gatenpatroon tenminste een groef in de plaat wordt aangebracht.
BE9301236A 1993-11-09 1993-11-09 Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van elektrisch isolerend materiaal met een patroon van gaten en/of holtes. BE1007714A3 (nl)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
BE9301236A BE1007714A3 (nl) 1993-11-09 1993-11-09 Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van elektrisch isolerend materiaal met een patroon van gaten en/of holtes.
KR1019950702856A KR100339322B1 (ko) 1993-11-09 1994-11-08 비금속재질의판또는층에패턴으로배치된복수개의공동및개구를제공하는방법
US08/481,529 US5730635A (en) 1993-11-09 1994-11-08 Method of providing a pattern of apertures and/or cavities in a plate of non-metallic material
JP7513731A JPH08507259A (ja) 1993-11-09 1994-11-08 非金属材料のプレート内に開口及び/またはキャビティのパターンを設ける方法
EP95902338A EP0678217B1 (en) 1993-11-09 1994-11-08 Method of providing a pattern of apertures and/or cavities in a plate of non-metallic material
PCT/NL1994/000277 WO1995013623A1 (en) 1993-11-09 1994-11-08 Method of providing a pattern of apertures and/or cavities in a plate of non-metallic material
DE69413947T DE69413947T2 (de) 1993-11-09 1994-11-08 Verfahren zur anbringung eines musters von öffnungen und/oder vertiefungen in einer platte aus nicht-metallischem material
AT95902338T ATE172322T1 (de) 1993-11-09 1994-11-08 Verfahren zur anbringung eines musters von öffnungen und/oder vertiefungen in einer platte aus nicht-metallischem material
US08/744,160 US5800231A (en) 1993-11-09 1996-11-12 Method of providing a pattern of apertures and/or cavities in a plate of non-metallic material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
BE9301236A BE1007714A3 (nl) 1993-11-09 1993-11-09 Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van elektrisch isolerend materiaal met een patroon van gaten en/of holtes.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BE1007714A3 true BE1007714A3 (nl) 1995-10-03

Family

ID=3887539

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BE9301236A BE1007714A3 (nl) 1993-11-09 1993-11-09 Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van elektrisch isolerend materiaal met een patroon van gaten en/of holtes.

Country Status (8)

Country Link
US (2) US5730635A (nl)
EP (1) EP0678217B1 (nl)
JP (1) JPH08507259A (nl)
KR (1) KR100339322B1 (nl)
AT (1) ATE172322T1 (nl)
BE (1) BE1007714A3 (nl)
DE (1) DE69413947T2 (nl)
WO (1) WO1995013623A1 (nl)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3719743B2 (ja) * 1995-08-09 2005-11-24 株式会社日立製作所 プラズマディスプレイパネル
JP3624992B2 (ja) * 1996-04-22 2005-03-02 富士通株式会社 表示パネルの隔壁形成方法
WO1998012726A1 (en) * 1996-09-18 1998-03-26 Philips Electronics N.V. Method of printing a pattern on plates for a flat display device
TW344696B (en) * 1996-11-22 1998-11-11 Philips Electronics Nv Powder-blasting method
GB9915925D0 (en) * 1999-07-08 1999-09-08 Univ Loughborough Flow field plates
JP2003507198A (ja) * 1999-08-18 2003-02-25 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ プレートに凹所又は開孔のパターンを形成する方法
US7033840B1 (en) 1999-11-09 2006-04-25 Sri International Reaction calorimeter and differential scanning calorimeter for the high-throughput synthesis, screening and characterization of combinatorial libraries
AU1476601A (en) 1999-11-09 2001-06-06 Sri International Array for the high-throughput synthesis, screening and characterization of combinatorial libraries, and methods for making the array
US6329015B1 (en) * 2000-05-23 2001-12-11 General Electric Company Method for forming shaped holes
US20050108869A1 (en) * 2003-05-16 2005-05-26 Shuen-Shing Hsiao Method for manufacturing teeth of linear step motors
US8821213B2 (en) * 2010-10-07 2014-09-02 Omax Corporation Piercing and/or cutting devices for abrasive waterjet systems and associated systems and methods
US9586306B2 (en) 2012-08-13 2017-03-07 Omax Corporation Method and apparatus for monitoring particle laden pneumatic abrasive flow in an abrasive fluid jet cutting system
US8904912B2 (en) 2012-08-16 2014-12-09 Omax Corporation Control valves for waterjet systems and related devices, systems, and methods
ITVE20130039A1 (it) * 2013-07-24 2015-01-25 Silca Spa Morsetto perfezionato per macchina duplicatrice di chiavi.
EP3075006A1 (de) 2013-11-27 2016-10-05 AT & S Austria Technologie & Systemtechnik Aktiengesellschaft Leiterplattenstruktur
AT515101B1 (de) 2013-12-12 2015-06-15 Austria Tech & System Tech Verfahren zum Einbetten einer Komponente in eine Leiterplatte
US11523520B2 (en) 2014-02-27 2022-12-06 At&S Austria Technologie & Systemtechnik Aktiengesellschaft Method for making contact with a component embedded in a printed circuit board
AT515447B1 (de) * 2014-02-27 2019-10-15 At & S Austria Tech & Systemtechnik Ag Verfahren zum Kontaktieren eines in eine Leiterplatte eingebetteten Bauelements sowie Leiterplatte
AU2015253239A1 (en) * 2014-04-29 2016-11-17 Corning Incorporated Abrasive jet forming laminated glass structures
US11577366B2 (en) 2016-12-12 2023-02-14 Omax Corporation Recirculation of wet abrasive material in abrasive waterjet systems and related technology
US11554461B1 (en) 2018-02-13 2023-01-17 Omax Corporation Articulating apparatus of a waterjet system and related technology
US11224987B1 (en) 2018-03-09 2022-01-18 Omax Corporation Abrasive-collecting container of a waterjet system and related technology
US11904494B2 (en) 2020-03-30 2024-02-20 Hypertherm, Inc. Cylinder for a liquid jet pump with multi-functional interfacing longitudinal ends

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0562670A1 (en) * 1992-03-23 1993-09-29 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method of manufacturing a plate of electrically insulating material having a pattern of apertures and/or cavities

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2277937A (en) * 1941-05-09 1942-03-31 George C Shryer Method of producing bas-relief on pile fabrics
DE2259360C2 (de) * 1972-12-04 1982-06-09 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zur Herstellung von dünnen Schichten auf Basis von Polyurethan-Elastomeren
DE2418041C3 (de) * 1974-04-13 1982-04-29 Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen Verfahren zur Herstellung von elastifizierten Formteilen nach Flächengebilden
NL7907489A (nl) * 1979-10-10 1981-04-14 Philips Nv Gasontladingsbeeldweergeefpaneel met holle kathoden.
DE3601632A1 (de) * 1986-01-21 1987-07-23 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Verfahren zum herstellen von extraktionsgittern fuer ionenquellen und durch das verfahren hergestellte extraktionsgitter
US5197234A (en) * 1990-02-27 1993-03-30 Gillenwater R Lee Abrasive engraving process
US5347201A (en) * 1991-02-25 1994-09-13 Panocorp Display Systems Display device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0562670A1 (en) * 1992-03-23 1993-09-29 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method of manufacturing a plate of electrically insulating material having a pattern of apertures and/or cavities

Also Published As

Publication number Publication date
JPH08507259A (ja) 1996-08-06
EP0678217B1 (en) 1998-10-14
WO1995013623A1 (en) 1995-05-18
ATE172322T1 (de) 1998-10-15
DE69413947D1 (de) 1998-11-19
US5800231A (en) 1998-09-01
US5730635A (en) 1998-03-24
KR960700517A (ko) 1996-01-20
EP0678217A1 (en) 1995-10-25
KR100339322B1 (ko) 2002-10-31
DE69413947T2 (de) 1999-05-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BE1007714A3 (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van elektrisch isolerend materiaal met een patroon van gaten en/of holtes.
BE1007894A3 (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een plaat van niet-metallisch materiaal met een patroon van gaten en/of holten.
KR100309080B1 (ko) 구멍또는공동패턴을갖는전기절연재료판의제조방법
US5486126A (en) Spacers for large area displays
US5917284A (en) Sputter-resistant conductive coatings with enhanced emission of electrons for cathode electrodes in DC plasma addressing structure
US10386731B2 (en) Shadow-mask-deposition system and method therefor
TW201807221A (zh) 蔽蔭遮罩沉積系統及其方法
US4558255A (en) Edge-out matrix light bar coupling apparatus and method using a fiber-optics plate
DE1436656B2 (de) Verfahren zum erzeugen sichtbar verbleibender schriftzeichen aus durch strahlung beeinflussten farbpartikeln
JPH09503335A (ja) 薄型パネル画像表示装置
JPH02162687A (ja) 薄膜el端部発光構造体においてピクセル・アレーを画定する方法
EP0892984B1 (en) Magnet array for magnetrons
EP0562670B1 (en) Method of manufacturing a plate of electrically insulating material having a pattern of apertures and/or cavities for use in displays
KR20060064609A (ko) 미세 구조 복제를 위한 마스터 주형 및 그 제작 방법
US5962969A (en) Sacrificial spacers for large area displays
USH872H (en) Method of applying coatings to substrates
KR19980018665A (ko) 직류 플라즈마어드레싱구조의 캐소드전극용 전자의 에미션이향상된 스퍼터내성의 도전성 코팅
JP2002056782A (ja) フラットスクリーンディスプレー用ガラス製チャネルプレート及びその製造方法
US6060219A (en) Methods of forming electron emitters, surface conduction electron emitters and field emission display assemblies
KR100778496B1 (ko) 제어 기판을 갖는 평판 디스플레이 장치 및 이 제어기판의 제조 방법
JPH01289052A (ja) 電子ビーム発生装置
Hendricks Method of applying coatings to substrates
KR20050057809A (ko) 형광체막 도포용 잉크젯 헤드
JPH11135026A (ja) プラズマディスプレイパネル
JPH0550652A (ja) 画像形成装置

Legal Events

Date Code Title Description
RE Patent lapsed

Owner name: PHILIPS ELECTRONICS N.V.

Effective date: 19951130