KR100778496B1 - 제어 기판을 갖는 평판 디스플레이 장치 및 이 제어기판의 제조 방법 - Google Patents

Abstract

개선된 구조의 제어 기판을 제공하여 고해상도 화면 구현에 유리하며, 포커스 전극의 전자 제어 특성을 향상시킬 수 있도록 한 평판 디스플레이 장치 및 이 제어 기판의 제조 방법에 관한 것으로서,

평판 디스플레이 장치는 전면 기판과, 이 전면 기판에 연결되어 진공의 밀폐 용기를 구성하는 후면 기판과, 전자를 방출하는 전자원과, 이 전자를 제공받아 발광하는 형광막과, 상기 전자원과 형광막 사이에 배치되어 전자 경로를 제어하는 제어 기판을 포함하며, 상기 제어 기판은 각 화소에 대응하는 전자 통과를 위한 다수의 홀을 형성하고, 홀 내부의 일정 면적을 포함하여 일방향의 홀 어레이를 따라 위치하는 제어 전극을 포함한다. 그리고 제어 기판의 제조 방법은 준비된 기판에 제 1경사부와 제 2경사부를 갖는 다수의 홀을 형성하는 단계와, 제 1경사부를 포함한 기판의 일면 전체에 금속 박막을 형성하는 단계와, 일방향의 홀 어레이 사이로 레이저 빔을 조사하여 금속 박막을 제어 전극으로 패터닝하는 단계를 포함한다.

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Description

제어 기판을 갖는 평판 디스플레이 장치 및 이 제어 기판의 제조 방법 {FLAT PANEL DISPLAY DEVICE HAVING CONTROL PLATE AND MANUFACTURING METHOD OF THE CONTROL PLATE}

도 1은 본 발명에 의한 평판 디스플레이 장치의 단면도.

도 2는 도 1에 도시한 제어 기판의 평면도.

도 3은 도 2에 도시한 A-A선의 확대 단면도.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 의한 제어 기판의 평면도.

도 5와 도 6은 제어 기판의 홀 형성 과정을 도시한 개략도.

도 7은 제어 전극의 레이저 식각 과정을 도시한 개략도.

도 8은 종래 기술에 의한 제어 기판의 평면도.

본 발명은 평판 디스플레이 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 개선된 구조의 제어 기판을 제공하여 고해상도 화면 구현에 유리하며, 포커스 전극의 전자 제어 특성을 향상시킬 수 있도록 한 평판 디스플레이 장치에 관한 것이다.

일반적으로 평판 디스플레이 장치(FPD; Flat Panel Display)는 큰 부피와 고 전압을 필요로 하는 음극선관과는 달리, 두께가 얇고 저전압으로 구동하는 실질적으로 평탄한 디스플레이 장치를 통칭하며, 전계 방출 표시소자(FED; Field Emission Display), 형광 표시관(VFD; Vacuum Fluorescent Display), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP; Plasma Display Panel) 및 평면 음극선관 등이 여기에 속한다.

이러한 평판 디스플레이 장치는 종류에 따라 세부적인 구조가 상이하나, 대부분의 평판 디스플레이 장치는 진공의 밀폐 용기를 기본 구성으로 하며, 그 내부에 전자원과, 전자를 제공받아 발광하는 형광막과, 전자 경로를 제어하는 수단을 구비하여 각 화소별 형광막의 발광을 제어하는 구성으로 이루어진다.

여기서, 전자 제어 수단은 필요에 따라 전자원과의 전압 차를 이용하여 전자 방출을 유도하는 역할도 하지만, 기본적으로는 전자원에서 방출된 전자를 형광막으로 가속시키거나 형광막으로의 진행을 차단하여 해당 화소의 온/오프(on/off) 및 발광 정도를 제어하는 역할을 한다.

특히 전자원과 형광막 사이 간격이 대략 1mm를 초과하는 평판 디스플레이 장치에 있어서는 전자원에서 방출된 전자가 해당 화소에 도달하지 못하고 인접 화소에 도달하여 이를 발광시키는 경우가 있으므로, 이를 방지하기 위해 전자 제어 수단에서 이를 통과하는 전자를 집속시키는 기능을 한다.

이러한 전자 제어 수단과 관련하여, 미국특허 제 4,719,388호는 어드레스 플레이트를 구비한 평면 음극선관을 개시하고 있으며, 미국특허 제 5,543,691호는 포커스 그리드를 구비한 전계 방출 표시소자를 개시하고 있다.

상기 어드레스 플레이트는 각 화소에 대응하는 위치에 전자 통과를 위한 홀 을 형성하고, 일면에 스캔 전극을, 다른 일면에 데이터 전극을 형성하여 이들 전극의 조합으로 캐소드에서 방출된 전자를 화소별 구동시키는 역할을 한다.

상기 포커스 그리드 또한 각 화소에 대응하는 위치에 전자 통과를 위한 어퍼쳐를 형성하며, 자체가 전극으로서 포커스 전압을 제공받는다. 이로서 포커스 그리드는 캐소드에서 광각(廣角)으로 발산된 전자를 차단하고, 어퍼쳐를 통과한 전자를 애노드를 향해 집속시키며, 저전압 캐소드를 고전압 애노드로부터 분리시킨다.

이와 같이 전자 제어 수단은 전자원과 형광막 사이에 배치되어 전자 흐름을 제어하는 역할을 하는데, 전술한 어드레스 플레이트와 같이 전자 통과를 위한 홀을 형성하고, 전자 제어를 위해 그 표면에 전극을 형성하는 제어 기판은, 아래 기술한 이유들에 의해 고해상도 구현에 불리한 단점을 갖는다.

즉, 도 8에 도시한 바와 같이, 공지 구조의 제어 기판(1)은 대부분의 경우 얇은 글래스 판으로 구성되며, 샌드 블라스트(sand blast) 공정을 통해 홀(1a)을 형성하고, 일방향의 홀 어레이를 따라 그 표면에 금속 페이스트를 인쇄하여 제어 전극(3)을 형성하는 과정으로 완성된다.

그런데 샌드 블라스트 공정으로 제작할 수 있는 최소한의 홀 크기는 제한적으로, 최소 200∼300 ㎛ 직경의 홀을 형성할 수 있다. 따라서 고해상도 화면에 요구되는 크기의 홀을 제작하기 어려운 한계가 있다.

게다가 제어 전극(3)이 홀 어레이를 감싸는 라인 패턴으로 형성됨에 따라, 제어 전극(3)의 폭(D)은 홀(1a) 크기에 비례한다. 그러나 인접 전극과의 쇼트 방지를 위해서 각 전극 라인 사이의 간격(w) 유지가 필수적이므로, 고해상도 화면에 대응하여 홀(1a)과 제어 전극(3)을 조밀하게 형성하기 어려운 단점이 있다.

또한 홀(1a) 주위에 형성되는 제어 전극(3)은 홀 내부를 통과하는 전자와 일정 부분 떨어져 위치하게 되므로, 전자에 대한 영향력이 감소하며, 특히 제어 전극(3)이 전자를 집속시키는 포커스 전극인 경우, 전자의 포커스 특성이 저하되는 문제를 나타낸다.

그리고 전극 형성에 이용되는 인쇄법은 공정과 설비가 단순한 장점이 있지만, 패터닝 품질이 우수하지 못하므로 고정밀 패턴 형성에 불리하고, 인접 전극과의 쇼트 발생이 우려되는 등, 고해상도 디스플레이 제작에는 적용이 불리한 한계가 있다.

따라서 본 발명은 상기한 문제점을 해소하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 개선된 구조의 제어 기판을 제공하여 고해상도 화면 구현에 유리하며, 포커스 전극의 전자 제어 특성을 향상시킬 수 있도록 한 평판 디스플레이 장치를 제공하는데 있다.

본 발명의 다른 목적은 제어 기판에 전극을 형성하는데 있어서, 고정밀 패턴 형성이 가능한 전극 형성 방법을 제공하여 고해상도 화면 구현에 보다 유리한 제어 기판의 제조 방법을 제공하는데 있다.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,

전면 기판과, 이 전면 기판에 연결되어 진공의 밀폐 용기를 구성하는 후면 기판과, 전자를 방출하는 전자원과, 이 전자를 제공받아 발광하는 형광막과, 상기 전자원과 형광막 사이에 배치되어 전자 경로를 제어하는 제어 기판을 포함하며,

상기 제어 기판은 각 화소에 대응하는 전자 통과를 위한 다수의 홀을 형성하고, 홀 내부의 일정 면적을 포함하여 일방향의 홀 어레이를 따라 위치하는 제어 전극을 포함하는 평판 디스플레이 장치를 제공한다.

또한 상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,

기판을 준비하는 단계와, 이 기판에 제 1경사면과 제 2경사면을 갖는 다수의 홀을 형성하는 단계와, 제 1경사면을 포함한 기판의 일면 전체에 금속 박막을 형성하는 단계, 및 일방향의 홀 어레이 사이로 레이저 빔을 조사하여 금속 박막을 제어 전극으로 패터닝하는 단계를 포함하는 평판 디스플레이 장치용 제어 기판의 제조 방법을 제공한다.

이하, 첨부한 도면을 참고하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 평판 디스플레이 장치의 단면도로서, 전계 방출 표시소자를 예로 하여 설명한다.

도시한 바와 같이 전계 방출 표시소자는, 전면 기판(2)과 후면 기판(4)이 사이드 글래스(6)와 함께 일체로 고정되어 진공의 밀폐 용기를 구성하며, 이들 기판 사이에 다수의 스페이서(8a, 8b)가 위치하여 표시소자의 간격을 일정하게 유지하면서 외부 압력을 지지하는 역할을 한다.

이러한 밀폐 용기 내부에는 전자를 방출하는 전자원(10)과, 전자를 제공받아 발광하는 형광막(12)과, 전자 경로를 제어하는 제어 기판(14)이 위치한다.

먼저, 전자원(10)에 대해 살펴보면, 전면 기판(2)과 마주하는 후면 기판(4)의 일면에는 라인 패턴의 캐소드 전극(16)이 형성되고, 이 캐소드 전극(16) 위에 전자 방출 물질로 이루어진 에미터(18)가 형성된다. 본 실시예에서 전자원(10)은 면전자원으로서, 에미터(18)는 카본 나노튜브 필름으로 이루어질 수 있다.

상기한 전자원(10) 구성에 대응하여, 후면 기판(4)과 마주하는 전면 기판(2)의 일면에는 애노드 전극(20)과, R, G, B 형광막 화소들로 구성된 형광막(12)이 형성된다. 이로서 형광막(12)이 전자를 제공받아 발광하여 표시를 행함에 따라, 전면 기판(2)은 투명 기판으로 이루어지고, 애노드 전극(20)은 인듐 틴 옥사이드(ITO)와 같이 투명 전극이 사용된다.

그리고 제어 기판(14)은 전자원(10)과 형광막(12) 사이에 배치되고, 적어도 일면에 제어 전극을 형성하여 전자 경로를 제어하는 역할을 하는데, 보다 구체적으로 제어 기판(14)은 각 화소 영역에 대응하여 전자 통과를 위한 다수의 홀(14a)을 형성하며, 일방향의 홀 어레이를 따라 제어 전극을 형성한다.

특히 본 실시예에서 제어 전극은 형광막(12)과 마주하는 일면에 형성되고, 홀(14a)을 통과한 전자를 집속시키는 포커스 전극(22)으로 이루어지며, 제어 기판(14)은 이 포커스 전극(22) 이외에 전자원(10)과 마주하는 일면에 포커스 전극(22)과 수직으로 교차하는 그리드 전극(24)을 더욱 형성한다.

이로서 캐소드 전극(16)과 그리드 전극(24)에 해당 전압을 인가하면, 이들 사이의 전계 형성으로 에미터(18)에서 전자를 방출하는데, 이 때 그리드 전극(24) 이 캐소드 전극(16)에 가까이 위치할수록 구동 전압을 낮출 수 있고, 계조 표시가 용이하므로, 표시소자는 제어 기판(14)을 지지하는 하부 스페이서(18b)를 상부 스페이서(18a)보다 낮게 형성하는 것이 바람직하다.

그리고 포커스 전극(22)과 애노드 전극(20)에 해당 전압을 인가하면, 에미터(18)에서 방출된 전자가 애노드 전극(20)에 인가된 고압에 의해 형광막(12)으로 유도되고, 제어 기판의 홀(14a)을 통과하면서 포커스 전극(22)에 의해 퍼짐 정도가 제어되어 해당 형광막의 중심으로 집속된다.

이 때, 상기 제어 기판(14)은 홀 내부에 포커스 전극(22)을 형성하여 전자 제어 특성을 향상시키며, 홀(14a)과 포커스 전극(22)의 조밀 패턴을 가능하게 한다.

도 2는 상기 제어 기판의 평면도이고, 도 3은 도 2에 도시한 A-A선의 확대 단면도로서, 제어 기판(14)은 전자 통과를 위한 다수의 홀(14a)을 형성하는데, 이 홀(14a)은 기판 표면에 대해 수직하게 형성되는 대신, 기판의 상부 표면에서 홀(14a) 중심을 향해 경사진 제 1경사면(26a)과, 기판의 하부 표면에서 홀(14a) 중심을 향해 경사진 제 2경사면(26b)과 함께 형성된다.

그리고 제어 기판(14)의 상부 표면에 형성되는 포커스 전극(22)은 홀(14a) 주위의 제 1경사면(26a)을 포함하여 화면의 수직 방향으로 나란히 배열된 홀 어레이를 따라 이 홀 어레이를 감싸도록 형성된다.

이와 같이 포커스 전극(22)을 제 1경사면(26a)에 형성함에 따라, 포커스 전극(22)은 제 1경사면(26a)보다 넓게 형성되지 않아도 홀(14a)에 의한 끊어짐 없이 라인 패턴을 형성할 수 있다.

다시 말해, 포커스 전극(22)은 자신의 길이 방향 전체에 걸쳐 제 1경사면(26a) 사이의 중간부(22a) 폭(D1)이 제 1경사면(26a)의 가로 방향 폭(D2)과 동일하게 형성되어도 홀(14a)에 의한 끊어짐 없이 제 1경사면(26a)을 통해 다수의 홀 어레이를 감싸는 라인 패턴으로 형성될 수 있다.

이 때, 각 포커스 전극(22)은 인접 포커스 전극과 쇼트가 일어나지 않을 최소한의 간격(w1)을 유지하면서 형성된다.

따라서 전술한 바와 같이, 제어 기판(14)에 형성 가능한 최소한의 홀 크기는 제한적이지만, 상기 포커스 전극(22)을 제 1경사면(26a)과 동일한 폭으로 형성하면, 각 포커스 전극(22) 사이에 쇼트가 일어나지 않을 최소한의 간격을 확보하면서도 홀(14a)의 수평 방향 피치(p1)를 줄일 수 있어 조밀한 패턴 형성이 가능해진다.

이에 더하여, 상기 포커스 전극(22)은 에미터(18)에서 방출된 전자가 제어 기판의 홀(14a)을 통과할 때, 전자 경로(점선으로 도시)에 보다 가까이 위치하게 되므로, 이 홀(14a)을 통과하는 전자에 대한 영향력이 확대되어 동일 포커스 전압 인가시 포커스 특성을 향상시킬 수 있다.

즉, 상기 제어 기판(14)은 실질적인 홀(14a) 사이즈를 줄이지 않고도 다수개 홀들의 수평 방향 피치(p1)를 줄이면서 전자에 대한 포커스 특성을 향상시킬 수 있기 때문에, 고해상도 디스플레이에 적합한 특징을 갖는다.

상기한 포커스 전극(22)은 두번째 실시예로서 도 4에 도시한 바와 같이, 모든 제 1경사면(26a) 위에 형성되면서, 자신의 길이 방향에 걸쳐 제 1경사면(26a) 사이의 중간부(22a) 폭(D3)이 제 1경사면의 폭(D2)보다 작게 형성된다.

이 경우, 각 포커스 전극(22) 사이의 간격(w2)이 확대되어 쇼트 방지에 더욱 효과적이다. 또한 제 1경사면(26a)에 형성된 포커스 전극(22)은 인접한 제 1경사면(26a)에 형성된 포커스 전극(22)과 간격(w3)이 축소되어도 홀(14a)을 향해 기울어진 형상 특성에 의해 쇼트 발생이 적게 일어남에 따라, 앞선 실시예와 비교하여 홀(14a)의 수평 피치(p2)를 더욱 감소시킬 수 있다.

따라서 상기 제어 기판(14)은 포커스 전극(22)을 전자 경로에 근접시켜 포커스 특성을 향상시킴과 동시에, 전자 통과를 위한 홀(14a)을 더욱 조밀하게 배치할 수 있으므로, 고해상도 화면에 요구되는 화소 크기에 적절하게 대응할 수 있는 장점을 갖는다.

다음으로, 상기 제어 기판(14)의 제조 과정에 대해 상세하게 설명한다.

제어 기판의 제조 방법은, 기판을 준비하는 단계와, 이 기판에 제 1경사면과 제 2경사면을 갖는 다수의 홀을 형성하는 단계와, 제 1경사면을 포함한 기판의 일면 전체에 금속 박막을 형성하는 단계와, 일방향의 홀 어레이 사이로 레이저 빔을 조사하여 금속 박막을 제어 전극으로 패터닝하는 단계로 이루어진다.

일례로 상기 기판은 얇은 글래스 기판으로서, 도 5에 도시한 바와 같이 기판의 양면에 드라이 필름 레지스트(DFR)를 도포하고, 도시하지 않은 마스크를 이용하여 드라이 필름 레지스트를 노광한다. 그런 다음 현상하여 홀이 형성될 부분을 노출키고, 이를 건조시켜 기판에 대한 접착력을 향상시킨다.

그리고 상기 기판을 도시하지 않은 샌드 블러스트 기계에 장착하고, 기판을 향해 모래를 고속으로 분사하여 외부를 향해 노출된 부분을 제거함으로써 전자 통과를 위한 다수의 홀(14a)을 형성한다.

다른 실시예로서, 상기 기판은 얇은 감광성 글래스 기판으로 이루어질 수 있는데, 이 경우 도 6에 도시한 바와 같이, 기판의 양면에 마스크를 위치시키고, 약 30분 동안 노광한다. 이 때, 상기 마스크는 기판에 홀이 형성될 부분에 이와 동일한 홀이 형성된 것이다.

그리고 상기 기판을 열처리용 노로 이송하여 열처리한 다음, HF 10% 에칭 용액에 10∼40분 동안 담그면, 열처리된 부분이 제거되면서 홀(14a)이 형성된다.

이와 같은 과정으로 홀이 형성된 기판은 도 3에 도시한 바와 같이, 홀(14a)을 중심으로 상부 표면에 제 1경사면(26a)과, 하부 표면에 제 2경사면(26b)이 함께 형성된다.

다음으로, 제 1경사면(26a)을 포함한 기판의 일면 전체에 박막 공정으로 금속 물질을 코팅한다. 상기 박막 공정은 기판의 표면 뿐만 아니라 제 1경사면(26a) 위에도 금속 물질을 고르게 코팅할 수 있는데, 이러한 박막 공정으로는 스퍼터링(sputtering)과 이베포레이션(evaporation)이 있다.

그리고 제어 전극에 적합한 금속 물질로는 인듐 틴 옥사이드(ITO)와 알루미늄(Al) 및 크롬(Cr) 등이 있으며, 상기한 박막 공정으로 1800 Å 정도의 두께로 금속 물질을 코팅하는 것이 바람직하다.

이어서 도 7에 도시한 바와 같이, 금속 박막이 형성된 기판을 레이저 식각 장치에 장착하고, 일방향의 홀 어레이 사이로 레이저 건(28)을 이동하면서 금속 박 막 위에 레이저 빔을 조사한다. 이로서 레이저 빔의 열에 의해 금속 박막의 일부가 증발되면서 포커스 전극(22)으로 패터닝된다.

이 때, 레이저 빔에 의해 증발되는 금속 박막의 폭, 다시 말해 각 포커스 전극(22) 사이 간격은 대략 10 ㎛ 정도가 바람직하다.

이러한 레이저 식각 과정에서, 레이저 건 진행 방향에 대해 레이저 빔의 에너지와 포커싱 정도를 동일하게 저에하면, 도 2에 도시한 바와 같이 제 1경사면(26a)을 포함한 자신의 길이 방향 전체에 걸쳐 동일한 폭을 갖는 포커스 전극(22)을 형성할 수 있다.

다른 실시예로서 레이저 건 진행 방향에 대해 레이저 빔의 에너지와 포커싱 정도를 가변하면, 도 4에 도시한 바와 같이 제 1경사면(26a) 사이 부분의 폭(D3)이 제 1경사면(26a)의 폭(D2)보다 작은 형상의 포커스 전극(22)을 형성할 수 있다.

상기한 레이저 빔에 의한 패터닝은 막품질이 우수하여 포커스 전극(22)의 기능성을 향상시키고, 고정밀 식각이 가능하므로 고해상도 구현을 위해 홀(14a)의 수평 방향 피치를 축소시켜 형성한 경우에도 포커스 전극(22)을 용이하게 패터닝할 수 있다. 또한 공지의 사진식각법과 비교하여 공정이 단순한 장점을 갖는다.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.

이와 같이 본 발명은 제어 기판에 형성되는 포커스 전극을 홀 주위의 제 1경사면에 형성함에 따라, 제어 기판에 제작 가능한 최소한의 홀 크기가 제한적인 상태에서 포커스 전극 자체의 폭과 홀 사이의 간격을 줄일 수 있다. 따라서 고해상도 화면에 요구되는 집적도로 상기 홀과 포커스 전극을 형성할 수 있으므로 고해상도 구현에 유리하다. 또한 포커스 전극의 패터닝은 레이저 식각을 이용하여 행해지므로, 고정밀 식각이 가능하며, 우수한 막품질을 얻을 수 있다.

Claims (15)

1. 전면 기판과;

   이 전면 기판에 연결되어 진공의 밀폐 용기를 구성하는 후면 기판과;

   전자를 방출하는 전자원과;

   이 전자를 제공받아 발광하는 형광막과;

   상기 전자원과 형광막 사이에 배치되며 각 화소에 대응하여 전자 통과를 위한 다수의 홀을 형성하고 상기 형광막을 향한 표면에서 상기 홀 중심을 향해 경사진 제 1경사면 및 상기 전자원을 향한 표면에서 상기 홀 중심을 향해 경사진 제 2경사면을 포함하는 제어 기판; 및

   상기 제 1경사면을 포함한 일 방향의 홀 어레이를 따라 형성되며 자신의 길이 방향에 따른 폭이 상기 홀의 최대 직경과 동일한 제어 전극

   을 포함하는 평판 디스플레이 장치.
2. 삭제
3. 삭제
4. 삭제
5. 제 1항에 있어서,

   상기 제어 전극이 자신의 길이 방향에 걸쳐 상기 홀들의 사이 부분의 폭이 상기 홀의 최대 직경보다 작은 평판 디스플레이 장치.
6. 제 1항에 있어서,

   상기 전자원이 캐소드 전극과, 이 캐소드 전극 표면에 형성되며 전자 방출 물질로 이루어진 에미터로 이루어지는 평판 디스플레이 장치.
7. 제 6항에 있어서,

   상기 제어 전극이 상기 홀을 통과한 전자빔을 집속시키는 포커스 전극으로 이루어지는 평판 디스플레이 장치.
8. 제 7항에 있어서,

   상기 제어 기판이 상기 캐소드 전극과 마주하는 일면에 상기 포커스 전극과 수직으로 교차하는 그리드 전극을 형성하는 평판 디스플레이 장치.
9. 기판을 준비하는 단계와;

   이 기판에 제 1경사부와 제 2경사부를 갖는 다수의 홀을 형성하는 단계와;

   상기 제 1경사부를 포함한 상기 기판의 일면 전체에 금속 박막을 형성하는 단계; 및

   일방향의 홀 어레이 사이로 레이저 빔을 조사하여 상기 금속 박막을 제어 전극으로 패터닝하는 단계;

   를 포함하는 평판 디스플레이 장치용 제어 기판의 제조 방법.
10. 제 9항에 있어서,

    상기 홀 형성 단계는,

    글래스 기판의 양면에 드라이 필름 레지스트를 도포하고, 이 드라이 필름 레지스트를 패터닝하여 상기 홀이 형성될 부위를 노출시킨 다음, 상기 글래스 기판에 모래를 고속으로 분사하는 것으로 이루어지는 평판 디스플레이 장치용 제어 기판의 제조 방법.
11. 제 9항에 있어서,

    상기 홀 형성 단계는,

    감광성 글래스 기판의 적어도 일면에 마스크를 배치하고, 상기 홀이 형성될 부위를 노광시키며, 열처리한 다음, 에칭하여 열처리된 부분을 제거하는 것으로 이루어지는 평판 디스플레이 장치용 제어 기판의 제조 방법.
12. 제 9항에 있어서,

    상기 금속 박막 형성 단계는 스퍼터링 또는 이베포레이션으로 이루어지는 평판 디스플레이 장치용 제어 기판의 제조 방법.
13. 제 9항에 있어서,

    상기 금속 박막은 인듐 틴 옥사이드(ITO), 크롬(Cr) 및 알루미늄(Al)으로 이루어진 군에서 선택된 물질로 이루어지는 평판 디스플레이 장치용 제어 기판의 제조 방법.
14. 제 9항에 있어서,

    상기 제어 전극의 패터닝 단계는 상기 레이저 빔의 에너지와 포커싱 정도를 균일하게 하여 상기 레이저 빔의 조사 방향으로 동일한 폭의 제어 전극을 형성하는 것으로 이루어지는 평판 디스플레이 장치용 제어 기판의 제조 방법.
15. 제 9항에 있어서,

    상기 제어 전극의 패터닝 단계는 상기 레이저 빔의 에너지와 포커싱 정도를 가변하여 상기 레이저 빔의 조사 방향으로 변화된 폭의 제어 전극을 형성하는 것으로 이루어지는 평판 디스플레이 장치용 제어 기판의 제조 방법.

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