AT42153B - Verfahren zur Darstellung von Nitriden. - Google Patents
Verfahren zur Darstellung von Nitriden.Info
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Description
<Desc/Clms Page number 1> Verfahren zur Darstellung von Nitriden. EMI1.1 Die Anwendung reinen Stickstoffes zur Nitriddarstellung ist bekannt ; ebenso die (gänzliche oder teilweise) Entfernung des schwereren Bestandteiles eines Gasgemisches durch Diffusion durch poröse Membranen. Die Anwendung des letzteren Verfahrens auf Luft ergäbe wegen des geringen Unterschieds in den spezifischen Gewichten der beiden Gasbestandteile stets ein Gas von noch beträchtlichem Sauerstoffgehalte. Wollte man daher die beiden eingangs erwähnten EMI1.2 Im Gegensatze hierzu liegt der Effekt des angemeldeten Verfahrens nicht in der Abtrennung des Sauerstoffs schlechtweg, sondern darin, dass der Stickstoff zeitlich und örtlich stets vor dem Sauerstoff zur Einwirkung gelangt, wodurch der schädliche Einfluss des letzteren hintangehalten wird. In der Praxis erhitzt man z. B. ein fein gepulvertes Gemisch von amorphem Silizium-Karbid (Abfall der Karborundum-Fabrikation) und Eisen (I : 2 Teile) unter Luftabschluss in geeigneten () fen, in welche Membranen aus gebranntem Ton eingebaut sind ; und in welche obige Mischung gebracht wird. Man lässt nun die Luft durch die Membranen hindurch in die Masse hineindiffundieren. Hierbei kommt, wie oben beschrieben, der Stickstoff früher zur Einwirkung und wird von obiger Mischung unter Nitridbildung gebunden. Der später eindringende Sauerstoff kann nur noch den vorhandenen Kohlenstoff ver- brennen, also nicht mehr schaden. Wie durch viele Versuche, bei verschiedenen Temperaturen 250-850"C festgestellt wurde, lassen sich z. B. bei 800-850"an obige Mischung 23 Gewichtsteile Stickstoff binden. <Desc/Clms Page number 2> . Weitere Versuche ohne Anwendung einer Membrane ergaben wesentlich'geringere Aus. beuten an gebundenem Stickstoff. Im weiteren wurde gefunden, dass, je dicker die Membrane ist, desto besser die Resultate sind ; jedenfalls darf die Membrane nicht unter 60 mm stark sein. Die Retorte, die verwendet wurde, besteht aus 5 cm starkem, zusammengeschweisstem, EMI2.1 Die Zeichnung veranschaulicht die anzuwendende Apparatur in einer Ausführungsform. In der Zeichnung bedeutet : EMI2.2 <tb> <tb> a <SEP> die <SEP> Feuerung <SEP> und <SEP> die <SEP> Heizkanäle, <tb> b <SEP> die <SEP> Retorte, <tb> c <SEP> die <SEP> Abstichöffnung, <tb> d <SEP> die <SEP> Luftzuleitungsrohre, <tb> e <SEP> die <SEP> aus <SEP> festem, <SEP> porösem <SEP> Material <SEP> bestehende <SEP> Membrane, <tb> f <SEP> das <SEP> in <SEP> den <SEP> Ofen <SEP> einzuführende <SEP> Metallgemisch. <tb>
Claims (1)
- PATENT-ANSPRUCH : Verfahren zur Darstellung von Nitriden durch Einwirkenlassen von Luft auf erhitzte, Nitrid bildende Gemische, dadurch gekennzeichnet, dass man die Luft unmittelbar vor ihrer Einwirkung auf die Gemische durch feste Membranen diffundieren lässt. EMI2.3
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AT42153T | 1906-11-17 |
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| AT42153B true AT42153B (de) | 1910-05-10 |
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ID=3561133
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|---|---|---|---|
| AT42153D AT42153B (de) | 1906-11-17 | 1906-11-17 | Verfahren zur Darstellung von Nitriden. |
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- 1906-11-17 AT AT42153D patent/AT42153B/de active
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